Welcome to Scribd, the world's digital library. Read, publish, and share books and documents. See more
Download
Standard view
Full view
of .
Look up keyword
Like this
11Activity
0 of .
Results for:
No results containing your search query
P. 1
Fabrikasi Filamen Pemanas Dari Lapisan Tipis Emas

Fabrikasi Filamen Pemanas Dari Lapisan Tipis Emas

Ratings: (0)|Views: 538|Likes:
Published by Noor Yudhi

More info:

Published by: Noor Yudhi on Mar 04, 2009
Copyright:Attribution Non-commercial

Availability:

Read on Scribd mobile: iPhone, iPad and Android.
download as PDF, TXT or read online from Scribd
See more
See less

11/07/2012

pdf

text

original

 
PROSIDING SEMINAR NASIONALPENELITIAN DAN PENGELOLAAN PERANGKAT NUKLIR 
Pusat Teknologi Akselerator dan Proses Bahan
 Yogyakarta, 19 September 2006
ISSN 1410 - 8178
J. Karmadi
24
FABRIKASI FILAMEN PEMANAS DARI LAPISAN TIPIS EMASPADA SUBSTRAT ALUMINA (AL
2
O
3
) UNTUK PEMANAS SENSOR GAS LAPISAN TIPIS ZnO
J.
 
Karmadi
 PTAPB – BATAN 
ABSTRAK
FABRIKASI FILAMEN PEMANAS DARI LAPISAN TIPIS EMAS PADA SUBSTRAT  ALUMINA (Al 
O
3
 ) UNTUK PEMANAS SENSOR GAS LAPISAN TIPIS ZnO.
 
Telahdilakukan fabrikasi filamen pemanas dari lapisan tipis emas pada substrat alumina(Al 
O
3
 ) ukuran panjang 5 cm, lebar 1 cm tebal 1 mm. Untuk maksud tersebut, terlebihdahulu dibuat mal dari bahan SS ukuran 8,5 cm, dari bahan SS tersebut dibuat mal  pemanas dengan ukuran 1 mm. Untuk membuat lapisan tipis emas pada substrat alumina digunakan DC Sputtering. Proses sputtering dilakukan pada kondisi :tegangan elektroda = 2 kV, P = 2,5 x 10 
-2 
torr. Jarak elektroda 2,5 cm dan daya 100 watt. Dari hasil pengujian diperoleh hasil bahwa untuk tegangan pemanas 1,5 volt dicapai temperatur 59°C, untuk tegangan pemanas 3 volt dicapai temperatur 168°C,untuk tegangan pemanas 4,5 volt dicapai temperatur 295°C, untuk tegangan 6 volt dicapai temperatur 391°C, untuk tegangan 7,5 volt dicapai temperatur 520°C,sedangkan untuk tegangan pemanas 9 volt lapisan tipis pemanas mengelupas(rusak). Oleh karena sensor ZnO beroperasi antara 280°C hingga 300°C, maka cukupdiperlukan tegangan pemanas dari batery 4,5 volt.
 Kata kunci 
: Sputtering , Alumina, Filamen pemanas
ABSTRACT
FABRICATION OF GOLD (Au) THIN FILM HEATER ON ALUMINA (Al 
O
3
 )SUBSTRATE FOR HEATING OF ZnO THIN FILM GAS SENSOR.
 
It has beenfabricated gold (Au) thin film heater an Alumina (Al 
O
3
 ) substrate for heating of ZnOthin film gas sensor. The dimension of substrate is 5 cm length, 1 cm width and 1 mmthickness. For the purpose, the first step is to fabricate the mall made of SS withdimension 8,5 cm, diameter and 2 mm thickness, from this material is then fabricated mall with dimension 1 mm width. The Au thin film on Alumina (Al 
O
3
 ) substrate can becarried out using DC sputtering technique. The conditions of sputtering process areelectroda voltage = 2 kV, P = 2,5 x 10 
-2 
torr, electrode distance = 2,5 cm and power 100 watt. From the tested done, it can be concluded that for 1,5 volt, 3 volt, 4,5 volt, 6 volt, 7,5 volt. Volt heater voltage, the temperature that can be achieved is 59°C,168°C, 295°C, 391°C, 7,5 volt 520°C respectively, while for heater voltage 9 volt thegold thin film spallation. Since the working temperature of ZnO thin film is in order of 280°C up 300°C, the 4,5 volt batery is enough to supply of the sensor.
 
 Key word 
: Sputtering, Alumina, Heater filament 
PENDAHULUAN
ejak tahun 2002 Bidang Akselerator PTAPB-BATAN telah memulai riset dalam febrikasisensor gas dari lapisan tipis berbasis MOS
(Metal Oxide Semiconductor).
Kelemahan utama sensor lapisan tipis dari bahan metal oksida semikonduktor (MOS,
metal oxide semiconductor 
) seperti CeO
2
,SnO, SnO
2
, TiO
2
, ZnO maupun ZnO
2
yang dihadapiselama ini adalah bahwa suhu operasinya yangcukup tinggi yaitu dalam kisaran 250°C hingga400°C serta ketidak stabilan resistansinya.Selama ini untuk menumbuhkan lapisantipis dari bahan MOS, substrat yang digunakan
S
 
 
PROSIDING SEMINAR NASIONALPENELITIAN DAN PENGELOLAAN PERANGKAT NUKLIR 
Pusat Teknologi Akselerator dan Proses Bahan
 Yogyakarta, 19 September 2006
J. Karmadi
ISSN 1410 – 8178
 
25
adalah kaca preparat dan sumber pamanasnyaterpisah. Kelemahan substrat kaca adalah biladioperasikan pada suhu tinggi maka kaca tersebutakan mudah retak sehingga akan merusak lapisantipis yang terbentuk, dengan demikian unjuk kerjadari sensor akan berubah dan menjadi jelek. Sedangdengan pemanas terpisah maka akan diperlukandaya yang tinggi pula dan kurang praktis.Berbagai upaya telah dilakukan untuk mengatasi masalah tersebut. Untuk sensor yangukuran portabel maka diperlukan sumber daya pemanas yang rendah pula. Yang menjadi masalahadalah bagaimana mendisain pemanas dengankonsumsi daya rendah. Untuk maksud tersebut telahdidesain dan dikontruksi suatu pemanas dari lapisantipis emas (Au) dengan ukuran tebal dalam orde µmdan lebar 1 mm di atas substrat alumina (Al
2
O
3
) berukuran panjang 5 cm, lebar 1 cm dan ketebalan 1mm. adapun skema dari lapisan tipis pemanas yangdidesain dan telah dibuat disajikan pada gambar 1.Gambar 1. Skema Sistem Pemanas di atas SubtratAlumina (Al
2
O
3
)
TEORI SPUTTERING
Metode deposisisi lapisan tipis secara garis besar dapat dibagi menjadi dua, yaitu proses PVD(Physical Vapor Deposition) dan proses CVD(Chemical Vapor Deposition). Proses PVD dibagimenjadi dua kategori yaitu evaporasi termal dan
 sputtering 
, proses CVD juga terdiri dari duakategori yaitu plasma CVD dan laser CVD.Sistem
 sputtering 
pada umumnya berupatabung lucutan pijar yang didalamnya terpasangelektrode (anode dan katode), di mana targetdipasang pada katode dan substrat diletakkan padaanode, dilengkapi dengan sistem vakum, sistemmasukan gas, sistem pendingin target serta sistem pemanas substrat dan catu daya (DC atau RF).Dalam sistem
 spputering 
, apabila suatu permukaan padatan (target) ditumbuk oleh partikel–partikeldengan energi tertentu maka atom–atom permukaantarget terhambur balik atau terhambur keluar sepertiditunjukkan dalam gambar 2. Fenomena ini disebut back-spputering atau disederhanakan spputering.Apabila suatu keping tipis ditumbuk dengan partikel–partikel berernergi, maka beberapa atomyang terhambur bertransmisi melalui keping, danfenomena ini disebut dengan
transmission sputtering 
.Gambar 2. Proses sputtering secara fisisBeberapa sistem
 sputtering 
telah diajukanuntuk proses deposisi lapisan tipis dan diantarasistem tersebut, model sederhana adalah sistem
 sputtering 
diode DC. Sistem
 sputtering 
DC tersebutterdiri dari sepasang elektrode planar. Satu darielektrode adalah katode dingin dan lainnya adalahanode. Material target yang akan didepositkanterpasang pada katode, dan substrat diletakkan padaanode. Tabung sputtering diisi dengan gassputtering, pada umumnya adalah gas argon ( Ar )dengan tekanan operasi 0,1 Torr.Lucutan pijar dipertahankan denganmemberi tegangan DC antara elektrode. Ion-ionargon yang dihasilkan di dalam lucutan pijar dipercepat pada
cathode fall (sheath)
dan atom– atom target yang tersputter didepositkan pada permukaan substrat. Dalam sistem sputtering DC initarget terdiri dari metal atau metal paduan, karenalucutan pijar (yaitu aliran arus) harus dipertahankanantara elektrode metalik.
TATA KERJA
Tahapan dalam pembuatan filamen pemanas dari lapisan tipis adalah sebagai berikut :1.
 
Pemotongan substrat dari alumina2.
 
Alumina ukuran 25 cm x 25 cm x 0,1 cmdipotong menjadi ukuran 5 cm x 1 cm x 0,1 cmmenggunakan gergaji intan kecepatan rendah.3.
 
Kemudian potongan-potongan alumina tersebutdicuci dengan alkohol menggunakan penggetar 
ultrasonic cleaner 
.4.
 
Potongan alumina tadi kemudian diletakkan diatas mal (pola) dan selanjutnya diletakkan pada
 
PROSIDING SEMINAR NASIONALPENELITIAN DAN PENGELOLAAN PERANGKAT NUKLIR 
Pusat Teknologi Akselerator dan Proses Bahan
 Yogyakarta, 19 September 2006
ISSN 1410 - 8178
J. Karmadi
26
tempat yang telah tersedia pada tabungsputtering (elektroda bagian atas) anoda.5.
 
Target
 sputtering 
emas (Au) ukuran diameter 60cm dan tebal 3 mm diletakkan pada katoda(elektroda bagian bawah).6.
 
Kemudian tabung
 sputtering 
dihampakandengan pompa vakum rotari.7.
 
Setelah tabung
 sputtering 
cukup hampa,kemudian dilakukan eksperimen awal dengancara mengatur parameter proses sputteringseperti tekanan gas sputter (Argon), jarak elektrode, tegangan elektrode, dan pemanassubstrat yang di lengkapi dengan kontroll suhu.8.
 
Tujuan dari eksperimen awal ini dimaksudkanuntuk mengetahui kondisi optimum dari parameter proses. Indikator dari kondisioptimum paramater proses tersebut ditandaidengan nyala plasma yang terang dan homogen.9.
 
Setelah kondisi tersebut dipenuhi, maka proses
 sputtering 
baru dilakukan dengan memberitegangan negativ pada katode dan untuk mengatur ketebalan lapisan tipis dapatdilakukan dengan mengatur lamanya prosesdeposisi lapisan tipis.10.
 
Dalam eksperimen ini kondisi
 sputtering 
yang bagus adalah tegangan elektrode 2 kV, tekananoperasi 2,5 x 10
-2
mBar, jarak elektroda 2,5 cmdan suhu pemanas 250°C.Untuk mengetahui keberhasilam pembuatanfilamen pemanas dari lapisan tipis emas (Au) padasubstrat alumina, maka dilakukan pengujian darilapisan tipis emas (Au) dengan berbgai tegangancatu daya.
HASIL DAN PEMBAHASAN
Hasil pengujian dari lapisan tipis emasuntuk pemanas dengan variasi tegangan catu dayadisajikan pada tabel 1.Tabel 1. Uji tegangan filamen pemanas dengan variasi tegangan catu daya
Tegangancatu daya(Volt)Temperatur padapengukuranmenit pertama(°C)Temperatur padapengukuranmenit kedua(°C)Temperatur padapengukuranmenit ketiga(°C)Temperatur padapengukuran menitkeempat(°C)Temperatur padapengukuranmenit kelima(°C)1,5 53 53 57 56 593 156 165 164 165 1684,5 276 274 276 278 2956 376 376 380 381 3917,5 504 505 509 509 5209 Filamen mengelupas
Dari tabel 1 terlihat bahwa untuk masing-masing catu daya yang berbeda memberikankemampuan pemanasan yang berbeda pula, semakinmeningkat catu daya yang diberikan semakinmeningkat pula temperatur yang dicapai. Untuk catudaya 9 volt ternyata lapisan tipis justru mengelupas,hal ini karena terlalu panas. Dan oleh karena sensor dengan bahan MOS
(Metal Oxide Semiconductor)
  biasanya beroperasi antara 280°C hingga 350°C,maka untuk memanasi filamen cukup digunakan batery 4,5 volt atau untuk amannya digunakan batery 6 volt. Dan konsumsi daya sebesar itu cukuprendah dan banyak dijual di pasaran.
KESIMPULAN
Dari hasil pembuatan filamen pemanas darilapisan tipis emas pada substrat alumina(Al
2
O
3
)untuk pemanasa sensor gas lapisan tipis ZnOdapat disimpulkan sebagai berikut:1.
 
Sistem pemanas lapisan tipis dari bahan emas(Au) dapat melekat lebih kuat pada permukaansubstrat alumina2.
 
Suhu maksimum yang dicapai oleh filamen pemanas sebesar 520°C, kondisi ini dicapai padategangan catu daya sebesar 7,5 Volt.3.
 
Untuk memanasi sensor gas dari bahan ZnOdiperlikan suhu operasi antara 280 °C hingga350 °C kondisi ini dicapai pada tegangan 4,5Volt. Keberhasilan ini merupakan langkah majudalam mengatasi masalah sistem pemanas sensor gas.
UCAPAN TERIMA KASIH
Dengan telah selesainya penelitian ini kamimengucapkan banyak terima kasih kepada Bapak Drs. Darsono, MSc., APU, Drs. BA. Tjipto Sujitno,MT., APU dan Bapak Sayono, ST atas segala bantuan yang telah diberikan.

Activity (11)

You've already reviewed this. Edit your review.
1 hundred reads
1 thousand reads
Zulmi Kurniawan liked this
Noor Yudhi liked this
Praludi Ludy liked this
Indra Pardede liked this
ribut_bd liked this
Heri Kiswanto liked this

You're Reading a Free Preview

Download
scribd
/*********** DO NOT ALTER ANYTHING BELOW THIS LINE ! ************/ var s_code=s.t();if(s_code)document.write(s_code)//-->