SCANNING ELECTRON MICROSCOPY (SEM)

A. Sejarah SEM SEM pertama kali diperkenalkan di Jerman (1935) oleh M. Knoll.Konsep standar dari SEM modern dibangun oleh von tahun 19() ketika beker*a untuk +, itu0semakin ban"ak bermun#ulan rdenne pada tahun 193! "ang ditambahkan s#an -aboratories di kontribusi merika Serikat.$esain kembali "ang mengoptimalkan kumparan ke mikroskop elektron transmisi.$esain SEM dimodi%ikasi oleh &'or"kinpada direka"asa oleh ,. pada tahun 19(! seorang pro%esor di /niversitas ,ambridge.Se*ak signi%ikan perkembangan modern mikroskop elektron.

B. Pengertian SEM(Scanning Electron Micro co!") SEM adalah salah satu *enis mikroskop elektron "ang menggunakan berkas elektron untuk menggambar pro%il permukaan benda. SEM memiliki resolusi "ang lebih tinggi dari pada mikroskop optik. 1al ini disebabkan oleh pan*ang gelombang de 2roglie "ang dimiliki elektron lebih pendek daripada gelombang optik. Makin ke#il pan*ang gelombang "ang digunakan maka makin tinggi resolusi mikroskop. 3an*ang gelombang de 2roglie elektron adalah 45 h/p0 dengan h konstanta 3lan#k dan p adalah elektron. Momentum elektron dapat ditentukan dari energi kinetik melalui hubungan K5p2/2m0 dengan K energi kinetik elektron dan m adalah massan"a. $alam SEM berkas elektron keluar dari %ilamen panas lalu diper#epat pada potensial tinggi V. kibat per#epatan tersebut0 akhirn"a elekton memiliki energ" kinetik ele#tron sebagai p5 0

K5eV. $engan demikian kita dapat menulis momentum dan pan*ang gelombang de 2rogile 45 h6

0. /mumn"a tegangan "ang

digunakanalah puluhan kilovolt. Sebagai ilutrasi0 misalkan SEM dioperasikan pada tegangan )7 k8 maka pan*ang gelombang de 2roglie elektron sekitar 9 9 17:1) m.

SEM (S#anning Ele#tron Mi#ros#ope) adalah salah satu *enis mikroskop ele#tron "ang menggunakan berkas ele#tron untuk menggambarkan bentuk permukaan dari material "ang dianalisis. C. Prin i! #erja SEM 3rinsip ker*a SEM adalah menembakkan permukaan benda dengan berkas elektron bernergi tinggi.3ermukaan benda "ang dikenai berkas akan memantulkan kembali berkas tersebut atau menghasilkan elektron sekunder ke segala arah. ;etapi ada satu arah di mana berkas dipantulkan dengan intensitas tertinggi. $etektor di dalam SEM mendeteksi elektron "ang dipantulkan dan menentukan lokasi berkas "ang dipantulkan dengan intensitas tertinggi. rah tersebut memberi in%ormasi pro%il permukaan benda seperti seberapa landai dan ke mana arah kemiringan. 3ada saat dilakukan pengamatan0 lokasi permukaan benda "ang ditembak dengan berkas elektron di:s#an ke seluruh area daerah pengamatan. Kita dapat membatasi lokasi pengamatan dengan melakukan <oon:in atau <oom:out. 2erdasarkan arah pantulan berkas pada berbagai titik pengamatan maka pro%il permukan benda dapat dibangun menggunakan program pengolahan gambar "ang ada dalam komputer.

=ambar 1 $alam SEM berkas elektron bernergi tinggi EM memiliki resolusi "ang lebih tinggi mengenai permukaan material. Elektron pantulan dan elektron sekunder dipan#arkan kembali dengan sudut "ang bergantung pada pro%il permukaan material.

S"arat agar SEM dapat menghasilkan #itra "ang ta*am adalah permukaan benda harus bersi%at sebagai pemantul elektron atau dapat melepaskan elektron sekunder ketika ditembak dengan berkas elektron. Material "ang memiliki si%at demikian adalah logam. Jika permukaan logam diamati di ba'ah SEM maka pro%il permukaan akan tampak dengan *elas. gar pro%il permukaan bukan logam *elas dengan SEM maka permukaan material tersebut harus dilapisi dengan logam.>ilm tipis logam dibuat pada permukaan material tersebut sehingga dapat memantulkan berkas elektron. Metode pelapisan "ang umumn"a dilakukan adalah evaporasi dan sputtering .

=ambar ) permukaan isolator perlu dilapisi logam agar dapat diamati dengan *elas diba'ah SEM 3ada metode evaporasi0 material "ang akan diamati permukaan"a ditempatkan dalam satu ruang (#hamber) dengan logam pelapis. +uang tersebut dapat divakumkan dan logam pelapis dapat dipanaskan hingga mendekati titik leleh. -ogam pelapis diletakkan di atas %ilamen pemanas. Mula:mula #hamber divakumkan "ang dikuti dengan pemanasan logam pelapis. tom:atom menguap pada permukaan logam. Ketika sampai pada permukaan material "ang memiliki suhu lebih renda0 atom:atom logam terkondensasi dan membetuk lapisan %ilm tipis di permukaan material. Ketebalan lapisan dapat dikontrol dengan mengatur lama 'aktu evaporasi. rendah. -ogam pelapis "ang umumn"a digunakan adalah emas. gar proses ini dapat berlangsung e%esien maka logam pelapis "ang digunakan harus "ang memiliki titik lebur

=ambar 3.1 3artikel($ ?% )

=ambar 3.) @anotube(& ?%)

=ambar 3.3 3artikel "ang terorganisasi($'' n%) 3rinsip ker*a sputtering mirip dengan evaporasi. @amun sputtering dapat berlangsung pada suhu rendah (suhu kamar) 3ermukaan logam ditembak dengan ion gas berenergi tinggi sehingga terpental keluar dari permukaan logam dan mengisi ruang di dalam #hamber. Ketika mengenai permukaan sample0 atom:atom logam tersebut memmebtuk %ase padat dalam bentuk %ilm tipis. Ketebalan lapisan dikontrol dengan

mengatur lama 'aktu sputtering. 3ada saat pengukuran dengan SEM0 lokasi di permukaan sample tidak boleh terlalu lama dikenai berkas. elektron "ang berenergi tinggi pada berkas dapat men#abut atom:atom di permukaan sample sehingga permukaan tersebut akan rusak dengan #epat. >ilm tipis di permukaan sample akan menguap dan kembali men*adi isolator. khirn"a ba"angan "ang terekam tiba:tiba men*adi hitam.

(. Ga%)ar In tr*%en SEM

E. #e*ngg*lan +an #e,*rangan SEM Keunggulan $a"a pisah tinggi $apat ditin*au dari *alann"a berkas media0 SEM dapat digolongkan dengan optik metalurgi prinsip re%leksi0 "ang diarti sebagai permukaan spesimen "ang memantulkan berkas media. Menampilkan data permukaan spesimen ;eknik SEM pada hakekatn"a merupakan pemeriksaan dan analisis permukaan. $ata atau tampilan "ang diperoleh adalah data dari permukaan atau

lapisan "ang tebaln"a sekitar )7 mikro meter dari permukaan. Sin"al lain "ang penting adalah ba#k s#attered elektron "ang intensitasn"a bergantung pada nomor atom0 "ang unsurn"a men"atakn permukaan spesimen. $engan #ara ini diperoleh gambar "ang men"atakan perbedaan unsur kimia "ang lebih tinggi pada nomor atomn"a. Kemampuann"a "ang beragam membuat SEM popular dan luas penggunaann"a0 tidak han"a dibidang material melainkn *uga dibidang biologi0 pertanian0 kedokteran0 elektronika0 mikroelektronika dan lain:lain. Kemudahan pen"iapan sampel Spesimen untuk SEM dapat berupa material "ang #ukup tebal0 oleh karena itu pen"iapann"a sangat mudah. /ntuk pemeriksaan permukaan patahan (%raktogra%i)0 permukaan diusahakan tetap seperti apa adan"a0 namun bersih dari kotoran0 misaln"a debu dan min"ak. 3ermukaan spesimen harus bersi%at kondukti%. Aleh karena itu permukaan spesimen harus bersih dari kotoran dan tidak terkontaminasi oleh keringat. /kuran sample "ang relati% besar +entang perbesaran "ang luasB 3C :1570777C Kekurangan $ibanding ;EM resolusin"a lebih rendah $igunakan vakum 1an"a permukaan "ang teramati $iperlukan #oating dg u

Membrane Si# (3erbesaran 57 C)

Membrane Si# (3erbesaran )77 C)

,erami# >oam(3erbesaran )7 C)

,erami# >oam(3erbesaran 177 C)

,erami# >oam(3erbesaran 577 C)

,erami# >oam(3erbesaran )777 C)

,erami# >oam(3erbesaran 5777 C) >. plikasi SEM 3roses pembuatan komposit polimer superabsorben dimulai dengan proses intercalating monomer a#rilamida dengan struktur permukaan mineral <eolit alam "ang komponen utaman"a silikat. Mineral alam mempun"ai struktur pori:pori permukaan "ang dapat dibuka atau diakti%kan sehingga memungkinkan molekul monomer dapat masuk dalam struktur tersebut. ,ampuran monomer dengan mineral lokal kemudian diiradiasi dengan Mesin 2erkas Elektron sehingga ter*adi polimerisasi simultan seperti ditun*ukkan padaB

=ambar 3. 3roses 3embuatan Komposit3olimer Superabsorben

=ambar ( menun*ukkan hasil analisis SEM pada sampel komposit superabsorben polia#rilamida:<eolit.