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A
ABIOS(Advanced Basic I/O System)
PC
BIOS
, ABIOS
.
Abrasive
PKG
.Absorption Constant (
흡수상수
) 
.Absorption Dichroism (
) 
축성액정에 있어서 광의 편광 방향에 의해 광의 흡수정도가 다른 현상으로 직선 편광의 진동 방향의 차
 
이에 의해 흡수계수가 다 른 직선 이색성 또는 선광성을 나타내는 용액등에 있어서 죄우 원편광의 흡수
 
.
Accel Mode
(
32-200KeV.)
AC Characteristic
Device
Timimg
.
Acceptable Quality Level
합격품질수준
. Sampling
에서
,
만족할 만한 공정평균으로 생각할 수 있는
Lot
혹은
Batch
내의 최대
 
변동수
(variant unit)
를 말 한다
.
변동수
(variant unit)
라는 말은 이상 정도 또는 결함
(
불량
)
정도라
 
.
Acceptance Sampling
.
부판정을위한
Sampling
검사
, Sampling
,
판정
 
.Acceptance Tests (
인수시험
) 
.
Acceptor 
3
가의 불순물을 실리콘에 주입하면 공유결합에 의해 홀
(hole;
정공
)
을 만드는데 이때
3
가의 불순물을
 Acceptor
한다
.Acceptor Level(Acceptor
준위
)
반도체 속에 불순물로서 혼입된 원자에 의해서
Hole
이 생겨 반도체가
P
형으로 되는 불순물 원자를 엑
 
셉터라고 하며 이 상태를 에너지대의 그림으로 나타냈을 때 엑셉터에 의해서 금지대속에 생긴 에너지
 Level
Acceptor Level
.
ACI (After Cleaning Inspection)
 
식각공정중 건식
,
습기 및 감광액 제거후 현미경 및 측정장치를 이용해 식각의 정확성
,
이물질의 잔존
,CD(Critical Dimension :
임계치수
)
.Active Matrix Drive (
) 
주사전극신호전극매트리스 교점화소마다 스위소자필요따라 축전지를 축적하여
 
 
contrast
response
등의 소자 성능을 향상시키는 구동방식으로 스위칭 매트리스 구동이라고 한다
.
 
.
Accumulation
MOS
Gate
가해지는
Bias
silicon surface Gate
아래에
Majority Carrier(
,substrate
같은
Carrier)
Density
.
Accuracy
정확도
,
.Active Element (
능동소자
) 
비선형부극적으로이용하는
.
진공관과트랜지스터가대표적이
.
ADART (Automatic Distribution Analysis in Real Time)
 
자동분석
Program,
.
A/D Converter (Analog to Digital Converter)
 
연속계량으로변화하는신호계수호인
"1"
"0"
.
흔히
ADC
.Additive Process (
애디티브
工法
;
附着工法
) 
.
Address Pre-Decoder 
Row/Column Address Decoding
Address Buffer
로부터의
internalAddress AN, / AN
Decoding
.Addressing Technology (
어드기술
) 
액정 표시 소자에 원하는 표시를 나타내기 위하여 전극형성과 전극이 형성된 액정표시소자를 구동시키
 
LCD-Addressing
방법이라한다
.
Adhesion
 
WF
WF
기판간의접착
. (
)
ADI(After Development Inspection)
 
, Pattern
, CD
.Agitation(
교반
) 
WF
 
AGV
(Automatic Guided Vehicle,
자동반송시스
)Intra-bay
내에서
cassette
를 반송하는
6
. LCD
공정량의기판리를
 
lot
의 중량 및 결점발생을 고려하여 공정단계별 기판유지를 이동시킬 때 자동으로 운송시켜 주는 시스템
.
AH (Absolute Humidity)
 
공기중의절대습도말한
.
 
AHU (Air Handling Unit)
 
공기정온
,
습도조절하고
,
공기중
Particle
.
Air Gun
 
압축공기이용
,
찌꺼
.
Air Shower 
FAB Line
출입시 방진
,
방진화에 부착된
지나 이 물질을 제거하기 위한 장치로서
밀폐
box
 
깨끗
하고
.
Alignment
 
사진공정단계
WF
mask 
.
 
Ali gner(
렬노
광기
)
.
Alignment Mark
 
되는
Align
공정에서정확
Align
.
Alloy
Si
AI
.
ALPG (Algorithmic Pattern Generator)
메모리
Device
시험사용되는
Data
,
instruction
Coding
하는
Alpha-particle
 
방사물질
붕괴
He
원자
()
U
Th
원소로부터
 trace contamination
되어
IC
에 존재할 수 있는데
, sillicon
과 전기적으로 상호 작용하여 에너지를
 
hole-electron pairs
Soft error
발생시킨
.
Al-Target
Wafer
표면에
Al(
루미
)
Al
어리
.
Ambient
 
또는
Carrier Gas
(N2, O2, H2
)
AMLCD (Active Matrix Liquid Crystal Display)
 
화면을 수만
여 각를 제을 이
 
.
Amorphous
 
원자
배열
Silicon
 
있다
.
Amplification
(
도체자를용하
)
.
Analog
 
연속적인
.
of 00

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