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NANOFABRICACIN
Introduccin
La Nanofabricacin implica la generacin y manipulacin de estructuras con dimensiones caractersticas menores de 1 m (40 pulg); nano quiere decir 10-9.
Si bien se han producido durante dcadas dispositivos del orden de micrmetros, los procesos a nano escala prometen proporcionar grandes mejoras y revolucionarios dispositivos en pequea escala.
Ventajas
Muchos de los procesos de nanofabricacin son versiones ms exactas y precisas de los que se usan en la manufactura de circuitos integrados, como la fotolitografa, litografa y procedimientos relacionados. Se puede hacer litografa limitada en un microscopio de fuerza atmica (MFA; en ingles AFM, de atomic forc microscope) que permite manipular hasta tomos individuales.
Desventajas
Con las dimensiones extremadamente pequeas y las tolerancias dimensionales estrechamente asociadas que se deben mantener en la fabricacin de estructuras en nano escala, no se pueden aplicar el ataque qumico o el ataque hmedo. Por su tendencia a socavar debajo de una mscara protectora. Por esta razn, las estructuras extremadamente finas se producen con ataque con ion reactivo o ataque a seco.
En este proceso, un plasma de gas ionizado se dirige con radiofrecuencias hacia la superficie (por lo general metlica) de la pieza. Esto hace que el metal salpique y pueda generar grabados de muy alta calidad, con relaciones muy alta de profundidad a ancho. El procedimiento DRIE de In Reactivo permite la realizacin de formas inusuales en tamaos muy pequeos y con enorme precisin. Las tolerancias quedan reducidas a la mitad con respecto a las tcnicas tradicionales.
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Fig. 1 Oblea de silicio de 100 mm de dimetro y medio mm de grosor. En una oblea de estas medidas caben unas 250 piezas.
El proceso LIGA
Litografa Galvanoplstica, una tcnica de produccin que se remonta a principios de los aos 80. Combina la fotolitografa con el electromodelado. Al principio se utiliz en medicina pero en nuestros das esta tecnologa mixta se utiliza para crear microcomponentes de alta calidad con un excelente acabado superficial, muy indicado para pequeas piezas en movimiento. Permite la innovacin en trminos de forma y funcin de los diversos componentes.
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El proceso LIGA
Litografa a nanoescala
En la litografa a nanoescala se han usado microscopios de fuerza atmica, y hay gran potencial para ataque de superficies en pequea escala. Esos microscopios se usan principalmente como herramientas de visualizacin de superficie. Sin embargo, cuando tienen el voladizo adecuado, pueden hacer litografa con resolucin atmica, y hasta se han usado para manipular molculas y tomos individuales en las superficies.
Litografa a nanoescala
Fig. 3 Nanolitografa plasmnica, que ofrecer la posibilidad de fabricar microprocesadores y discos duros de ultra-alta densidad cuya capacidad puede superar en ms de 100 veces a las actuales.
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Aplicaciones
Entre las aplicaciones potenciales de esos materiales y dispositivos incluyen la electrnica, dosificacin de medicamentos, dispositivos mecnicos revolucionarios, sensores y sistemas de diagnstico mdico. La nanofabricacin tiene el potencial para revolucionar muchas industrias, incluyendo el almacenamiento de informacin, manufactura en circuitos integrados y sistemas de dosificacin de medicinas.
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Aplicaciones
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Aplicaciones
Fig. 5 Pieza de silicio diminuta de un reloj realizado por el proceso DRIE de in reactivo
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Aplicaciones
Fig. 6 El Tourbillon Manufacture de Frdrique Constant con rueda de escape en silicio fabricado por el proceso DRIE de in reactivo
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Bibliografia
http://www.ntc.upv.es/nanofabricacion.html http://www.imm.cnm.csic.es/castell/memoria2000/l3
http://www.horalatina.com/articulos/249-larevolucion-del-silicio.html#.UO4U3uR2TAM
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