P. 1
V. Procese de depunere în plasmă cu arc catodic (plasmatron)

V. Procese de depunere în plasmă cu arc catodic (plasmatron)

|Views: 66|Likes:
Published by Diana Nistoran
Procese de depunere în plasmă cu arc catodic (plasmatron)
Procese de depunere în plasmă cu arc catodic (plasmatron)

More info:

Categories:Types, School Work
Published by: Diana Nistoran on Jul 09, 2013
Copyright:Attribution Non-commercial

Availability:

Read on Scribd mobile: iPhone, iPad and Android.
download as DOC, PDF, TXT or read online from Scribd
See more
See less

05/07/2015

pdf

text

original

V.

Procese de depunere în plasmă cu arc catodic (plasmatron) Metoda de depunere în straturi subţiri prin arc catodic aparţine familiei proceselor de placare ionică, care include tehnici de depuneri prin evaporare şi pulverizare ionică. Procesul depunerilor cu arc catodic sau plasmatron este relativ nou şi totodată unic prin de 30%-90% a materialului evaporat, astfel încât energia cinetică a ionilor transportaţi poate ajunge până la 100 eV. O caracteristică specială a straturilor depuse este reprezentată de proprietăţile acestora, cum ar fi: o bună aderenţă, rezistenţă ridicată la uzură şi coroziune. Tehnica arcului catodic a înregistrat un succes fără precedent în aplicaţiile de prelucrare prin aşchiere a pieselor, reprezentând o nouă descoperire cu foarte multe aplicaţii în rezistenţa la coroziune şi la eroziune sau straturi decorative şi arhitecturale. În procesul de depunere în plasmă, materialul, utilizat ca sursă, este adus în stare de vapori prin acţiunea unui singur, sau mai multor arcuri electrice cu descărcare luminiscentă, introduse într-o cameră vidată. Alimentarea cu energie electrică se face în funcţie de materialul catodului, tensiunea de alimentare fiind inclusă în intervalul 15- 50 V, iar curentul specific acestui tip de arc se încadrează între 30- 400 A. Atunci când sunt utilizaţi curenţi de înaltă intensitate spotul incandescent generat de arcul electric se ramifică în mai multe spoturi ce se distribuie pe suprafaţa catodului, iar numărul acestora depinde de materialul catodului. În cazul de faţă, utilizând titanul ca sursă, vom obţine un curent generat de arcul electric per spot, într-o medie aproximativă de 75 A. Aceste spoturi se deplasează aleator pe suprafaţa catodului cu o viteză de ordinul zecilor de metri pe secundă. Procesul de depuneri în plasmă (CAPD) este diferit de cel al depunerilor în vapori (PVD) prin următoarele: -materialul în plasmă este generat de unul sau mai multe spoturi ale arcului electric; -materialul vaporizat este ionizat în proporţie de 30% - 100%; -atomii materialului sunt ionizaţi de mai multe ori, de exemplu, titanul, Ti +, Ti2+, Ti3+ ;

-ionii au energii forte înalte cuprinse între 10 – 100 eV. Aceste diferenţe ilustrează unele avantaje ale procesului CAPD: -stratul depus este de înaltă calitate; -viteză mare de depunere pentru metale, aliaje şi compuşi în straturi cu uniformitate excelentă; -reţinerea aliajelor din sursă pentru depunere. V.1. Descrierea instalaţiei Instalaţia pilot pentru depuneri de straturi dure de nitrură de titan, aşa cum se prezintă la momentul actual, după faza de pregătire pentru experimente, este compusă dintr-o cameră de depunere, sistemul de vid, sistemul de măsurare a presiunii scăzute, sursele de alimentare electrică a sistemului şi blocul electric de comandă şi control a sistemului. Camera de depunere este cilindrică cu diametrul de 700 mm şi înălţimea de 700 mm, fiind prevăzută cu un suport central pentru substraturile ce urmează să fie depuse. De asemenea, camera mai este prevăzută cu o uşă cu deschidere pe toată înălţimea acesteia pentru a se efectua comod operaţiile de încărcare – descărcare a substraturilor. În partea opusă uşii de acces se află racordul la agregatul de vid care este acoperit pentru a împiedica accesul materialelor evaporate în camera spre clapeta principală a pompei de difuzie. Suportul central este etanş la vid, putând avea o mişcare de rotaţie în jurul unei axe centrale sau o mişcare de rotaţie de tip planetar (pentru îmbunătăţirea uniformităţii straturilor depuse). De asemenea suportul poate suporta atât înalta tensiune care se aplică pe substraturi în perioada premergătoare depunerii (pentru curăţarea lor în plasmă) cât şi aplicarea tensiunii de polarizare a substraturilor în timpul depunerii. Suportul substraturilor este poziţionat pe flanşa inferioară a cilindrului camerei de depunere. Plasmatroanele sunt dispuse astfel: unul pe generatoarea camerei cilindrice şi al doi-lea pe capacul superior al camerei cilindrice. Fluxurile de material evaporat sunt proiectate astfel încât să acopere cât mai uniform zona centrală a camerei de lucru în care se rotesc substraturile.

SP2. Fig. sursa de înaltă tensiune SIT (1000V. cu scopul protejării la manevre grele. Blocul electric de comandă şi control conţine relee şi cartele pentru intercondiţionarea logică a funcţionării instalaţiei. PVP (60m 3/h). Sursele de alimentare electrică cuprind sursele de alimentare a plasmatroanelor SP1. o pompă Roots PR (250m3/h). Sistemul de vacuumetre pentru măsurarea presiunilor scăzute este dotat cu vacuumetre pentru vid preliminar (traductor Pirani P1. 300A). 2A) pentru curăţarea substraturilor înainte de depunere şi sursa de polarizare a substraturilor SPS (250V. o capcană cu azot lichid LN (care poate fi folosit opţional) şi toate racordurile necesare pentru integrarea sistemului şi conectarea sa cu camera de depunere.Sistemul de vid este compus dintr-o pompă de vid preliminar.V. P2. o pompă de difuzie PD (4000 l/s). Vacuumetrele conţin susţin sursele de alimentare a traductoaerle cu care sunt compatibile şi al căror semnal îl afişează. Imaginea instalaţiei de lucru .1. P3) şi pentru vid înalt (traductor Penning TP1. 3A). TP2). SP3 (80V.

pentru depunerea de straturi subţiri de nitrură de titan se foloseşte un catod de Ti. DETERMINAREA CARACTERISTICILOR PLASMATRONULUI UTILIZAT Pentru o cunoaştere aprofundată a proceselor legate de depunerea de straturi subţiri de nitrură de titan (TiN) folosind descărcarea în arc catodic . Fiind vorba de un arc catodic.1. Rata de evaporare . se realizează topirea locală a catodului. dar curenţii au valori mari.procedeul plasmatron. ioni de titan (cu starea de ionizare 1+ până la 4+) şi atomi neutri de titan. se foloseşte un sistem de mişcare dirijată a arcului electric pe suprafaţa catodului.1. in figura 3 este prezentat schematic plasmatronul utilizat. Câmpul magnetic este creat de un solenoid. Descrierea procesului fizic implicat în depunerea plasmatron a straturilor subţiri Depunerea straturilor subţiri de nitrură de titan prin procedeul plasmatron presupune existenţa unui mediu vidat.1. care foloseşte un câmp magnetic rotitor. În cazul nostru. Ionii metalici sunt produşi prin evaporarea unui catod care lucrează în regim de arc electric (evaporare catodică în arc). Pentru ca arcul să nu se localizeze pe o anumită arie a suprafeţei catodului. V. fiind indicate şi particulele care sunt implicate. tensiunile aplicate sunt mici.V. Presiunea în camera de depunere în timpul procesului este în domeniul 10 1 Pa.A. Prin topirea locală a catodului din suprafaţa acestuia sunt evaporate macroparticule (identificate mai apoi ca “picături” sau “microstructuri” pe suprafaţa depusă). Fizic. au fost investigate caracteristicile acestuia şi comparate cu cele din literatura de specialitate. Pentru exemplificare.1. azotul fiind introdus în cameră ca gaz de reacţie. care este realizat din materialul a căror ioni vor fi implicaţi în procesul de depunere. În figura 2 este prezentată explicit o ilustrare a procesului.

Phys. Au fost obţinute date asemănătoare cu cele raportate în literatura de specialitate [ 8H.. ceea ce atesta faptul ca plasmatronul utilizat are parametri funcţionali optimi. 50 (1989)7958] de 50 g. . comparativ cu valoarea de referinţa obţinuta de Kubonja [T.C. 0 fracţie atât de mare de particule ionizate va determina. fracţia de ioni dublus sau triplu ionizaţi scade în favoarea celor simplu ionizaţi. ceea ce reprezintă o valoare competitivă.AIIp. În tab.h-1 pentru I=120A cu catod de Cu. sa determinat energia şi starea de ionizare a ionilor de titan emişi din catod. la o distanţă de 10 cm de acesta. 52 (1982) 883]. utilizând un analizor de energie electrostatic.1 Energia şi starea de ionizare a ionilor de titan emişi Diferentele obţinute pot fi datorate geometriei catodului si condiţiilor specifice de descărcare.Phys. Se observă că la creşterea presiunii. J. prin polarizarea substratului şi deci bombardarea acestuia cu particule energice. Sursa P(mbar) U(arc) E(Ti+) n(Ti+) n(Ti2+) (%) 67 63 55 n(Ti3+) (%) 6 5 2 (V) (eV) (%) Literatura8 25 76 27 5⋅10-5 -5 Experiment 30 82 32 5⋅10 -2 Experiment 72 43 5⋅10 (N2) 28 Tab.h-1 pentru un curent de I=100 A. Acest lucru se datorează scăderii drumului liber mijlociu al particulelor în plasma datorită creşterii presiunii.h-1 pentru un curent de I=300A sau 55 g. În fig. o densificare a stratului în creştere. deci va permite obţinerea unor straturi compacte si cu duritate mărita. fără adaos de azot în camera de descărcare.. J.AppIi.V 1 sunt prezentate spectrele obţinute prin spectroscopie optica de emisie prin vizarea regiunii catodului (a) si a substratului (b). Starea de ionizare a ionilor metalici emişi În cazul catodului de titan folosit.A fost măsurată rata de evaporare pentru catodul de Ti prin măsurarea directa a masei.Miller. Analizorul electrostatic a fost poziţionat normal faţă de catod. prin introducerea de azot în camera de descărcare. 1 sunt prezentate rezultatele obţinute. Se observă o scădere a intensităţii relative a liniilor Ti2+ şi o creştere a intensităţii relative a liniilor Ti + în zona substratului faţă de zona catodului.Kubono. deci densităţii de particule. Determinarea a fost făcută la p=5⋅10-3 Pa. dar sunt în limite rezonabile. S-a obţinut o valoare de 12 g.

Fig.1. S-a observat că intensitatea câmpului magnetic aplicat pe catod pentru dirijarea controlată a mişcării spotului catodic influenţează mărimea medie a picăturilor depuse pe substrat. existând şi o porţiune de suprapunere . V.B.1. Acest lucru are probabil ca efect micşorarea dimensiunii microparticulelor emise. de unde pleacă microparticulele având cele mai mari dimensiuni. REALIZAREA DEPUNERILOR DE STRATURI DURE DE TIN PE CARBURI METALICE SINTERIZATE .1 Spectrele obţinute prin spectroscopie optică de emisie prin vizarea regiunii catodului (a) şi a substratului (b). V. acestea fiind poziţionate unul în vecinătatea celuilalt. care permite achiziţionarea spectrului direct pe calculator (prin intermediul unui sistem de achiziţie de date specializat). cu evidenţierea liniilor titanului Determinările prin spectroscopie optica de emisie s-au realizat utilizând un monocromator CVI laser. Micşorarea mărimii microparticulelor emise de catod Pentru micşorarea mărimii medii a particulelor care ajung pe substrat s-au utilizat 3 metode: Ecranarea laterala a catodului. dimensiunea acestora crescând odată cu creşterea unghiului faţă de normală (modelul este analog celui al picăturilor ce se ridică de pe suprafaţa unui lichid la impactul cu un obiect solid). Creşterea presiunii în incinta de depunere. S-a dovedit că particulele emise la unghiuri mici faţă de normala la catod au dimensiunile cele mai mici. Variaţia intensităţii câmpului magnetic pe catod. Având în vedere ca se urmăreşte obţinerea de straturi de TiN. prezenţa unei atmosfere de azot este necesară în camera de depunere. Valoarea acestei presiuni se stabileşte în principal astfel încât să se obţină un compus stoichiometric. În acelaşi timp se observă că prezenţa câmpului magnetic face ca mărimea spoturilor catodice să fie redusă.

rectificarea şi lustruirea finală a suprafeţelor ce urmează a fi depuse. K20). descărcarea luminiscentă fiind aprinsă între pereţii incintei şi substrat. . inclusiv tratament termic iniţial).s. ce urmează a fi depuse.s-urilor nu exista probleme de decălire ale materialului substratului).s . Înainte de depunere substraturile au fost lustruite (pentru reducerea rugozităţii suprafeţei) şi spălate în solvenţi în baie de ultrasunete.s.) din punct de vedere al caracteristicilor (compoziţie.m. caracteristici mecanice. polarizat la -1000 V c. curăţare în baie de ultrasunete cu solvenţi.Straturile subţiri de TiN au fost obţinute folosind un catod de Ti şi atmosfera de N2 (cu puritatea de 99.m.98%). inspectare optică iniţială a suprafeţelor din c. deoarece în cazul c. (P30.m.c. prelucrarea c. Substraturile au fost încălzite utilizând dispozitivul de încălzire al substraturilor si bombardate cu ioni pentru curăţare.m. care determină caracteristicile de baza ale straturilor depuse au fost variaţi în următoarele domenii de valori: presiunea totala a gazului: debitul de azot: densitatea de curent pe substrat curent de descărcare (arc) tensiunea de polarizare a substratului: temperatura substratului: durata depunerii: de completat cu datele concrete Etapele operaţiei de depunere Pe parcursul operaţiei de depunere prin tehnologia plasmatron a straturilor dure de nitrură de titan au fost respectate etapele prefigurate ale lanţului de operaţii specifice si anume: identificarea componentei ce urmează a fi depusă (c. Parametrii de depunere.450° C. G30. realizare suporturi de substraturi pentru introducere şi poziţionare ansamblu în camera de depunere.m. presiunea reziduală în camera de depunere fiind de 3⋅10-6 mbar.s. Depunerea s-a făcut pe substraturi din c. Depunerea s-a făcut la temperaturi de depunere în domeniul 100 .

certificat de analiză/ testare /calitate.inspecţie optică finală a suprafeţelor din c. răcirea treptată a ansamblului. introducere aer în camera de depunere. scoaterea din incintă de vid a pieselor depuse. întreruperea arcului electric şi a introducerii de azot. teste asupra pieselor depuse. Parametrii de proces . vidare cu pompa de difuzie până la p≤5⋅10-5 mbar citită pe un vacuumetru folosind traductorul Penning. introducerea apei calde prin pereţii camerei de depunere.m.s. iniţierea arcului şi depunerea de nitrură de titan. introducere şarjă în incinta de depunere. alimentarea rezistenţelor de încălzire a substraturilor şi pereţilor camerei până la T=250 . oprirea pompei de difuzie. continuarea vidării cu pompa de difuzie. ce urmează a fi depuse. folosind atmosfera reziduala din camera de depunere. menţinerea pe palier a parametrilor până la expirarea timpului stabilit pentru depunere. aplicarea înaltei tensiuni pe suportul de substraturi şi curăţarea substraturilor prin bombardament ionic. vidare cu PVP şi pompă Roots până la o presiune p ≤2⋅10-3 mbar citită pe un vacuumetru folosind traductorul Pirani. introducere prin comandarea deschiderii valvei automate a azotului până la p=4 ⋅ 10-3 mbar citit cu un traductor Pirani. temperatura citită cu un termocuplu şi un voltmetru. oprirea pompei Roots şi a PVP. citirea temperaturii pieselor folosind termocuplul şi introducerea gazului de răcire (azot).550° C. inspecţie optică a pieselor depuse. poziţionare piese pe suporturile specifice ale substraturilor. atingerea unei presiuni p=5⋅10-3 mbar citit cu un traductor Penning.

) . t . Parametrii de depunere: pN2 . împărţite în 3 serii. 1.1. presiunea atmosferei de azot din incinta de depunere. temperatura piesei în timpul depunerii. care stabileşte compoziţia fazică şi textura depunerii. intensitatea curentului de arc. de tensiunea de polarizare a substratului şi de curentul de arc. Straturile au fost obţinute în condiţii diferite (tabel). tipul de interacţiune sau natura particulelor emise sau împrăştiate definesc metoda de analiză.tensiunea pe substrat. CARACTERIZAREA STRATURILOR DE NITRURĂ DE TITAN Proprietăţi microchimice şi microstructurale Tehnicile de analiză microchimică şi microstructurală a straturilor subţiri necesită preparări adecvate ale probelor şi eventuale calibrări cu probe standard. probei pN2 (Pa) Vs (V) Ia (A) T (°C) t (min. S-a urmărit în ce măsură grosimea de strat sau temperatura influenţează natura fazelor şi textura. timpul de procesare şi timpul de depunere. urmărindu-se dependenţa compoziţiei fazice şi a texturii în funcţie de presiunea de azot.durata depunerii Seria de Nr. fotoni). presiunea reziduală în incinta de vid. Tabel 1. au rezultat următorii parametri de proces. T . Difractometrie de raze X.presiunea de azot. Natura fasciculului. Ia .curentul de arc. Vs . Analizele microchimice se bazează pe excitarea materialului stratului de către un fascicul de particule incidente (electroni. Analiza prin difracţie de raze X a constituit principala metodă de investigaţie microchimică şi microstructurală a stratului de TiN.temperatura substratului.În urma realizării operaţiei de depunere a straturilor dure de nitrura de titan folosind metoda plasmatron prin parcurgerea etapelor prezentate. intensitatea curentului arcului catodic. ioni. analizaţi mai jos: caracteristicile materialelor depuse.

nu se observă faza Ti2N.probe A A A A A A B B B C C 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 0 7⋅10-3 2⋅10-2 7⋅10-2 3⋅10-1 7⋅10-1 2⋅10-2 2⋅10-2 2⋅10 -2 120 120 120 120 120 120 15 50 225 225 225 225 60 60 60 60 60 60 60 60 60 90 130 90 180 180 180 180 180 180 160 170 205 205 200 340 15 15 15 15 15 15 15 15 15 12 8 40 2⋅10-2 2⋅10-2 Rezultate obţinute pentru depunerile de TiN au câteva caracteristici generale mai importante: liniile de difracţie observate aparţin fazelor TiN şi Ti din strat. Influenţa tensiunii de polarizare a substratului (15 . arătând un raport al intensităţilor ce depind de condiţiile de depunere. de mică intensitate.225V) poate fi examinată în graficul următor. titanul apare într-o mică proporţie numai pentru straturile depuse la presiuni mici şi tensiuni mari per substrat. . se observă o trecere de la o textură fără o orientare preferenţială la una cu orientare de tip (111) pronunţată la tensiuni de peste 100V. pentru faza TiN. Această fază se formează la un raport N/Ti subunitar. Pentru condiţiile noastre experimentale. precum şi carburilor WC şi TiC din substrat. pentru o presiune şi un curent de arc de 2 ⋅10-2 Pa şi 60A. cea mai interesantă caracteristică a difractogramelor este dată de absenţa Ti 2N. deşi în asemenea condiţii. la alte procedee PVD se formează acest compus. chiar la presiuni scăzute de N2 şi tensiuni ridicate pe substrat. A fost detectată doar linia (011). pentru compusul TiN singurele linii de difracţie sunt (111) şi (200). Odată cu creşterea presiunii.

Tabel: Compoziţia fazică şi textura funcţie de parametrii depunerii de stratul TiN Seria de probe A A A A A B B B B C C C Condiţii de depunere pN2 (Pa) Vs Ia 7⋅10-3 2⋅10-2 7⋅10-2 3⋅10-1 7⋅10-1 2⋅10-2 2⋅10-2 2⋅10-2 2⋅10-2 2⋅10-2 2⋅10-2 2⋅10-2 (V) 120 120 120 120 120 15 50 120 225 225 225 225 (A) 60 60 60 60 60 60 60 60 60 60 90 130 Compoziţia fazică şi textura Ti TiN (011) (111) 6 0 0 0 0 0 0 0 4 4 0 5 14 75 72 64 95 23 38 75 83 83 42 31 (200) 7 10 4 6 14 19 7 10 9 9 7 8 . Faza Ti2N nu este detectabilă nici la temperatura maximă obţinută. Exceptând scăderea semnificativă a intensităţii liniilor de difracţie ale carburilor din substrat cu creşterea grosimii stratului nu sunt de notat deosebiri între difractogramele celor două probe.Dependenţa texturii de curentul de arc este remarcată printr-o lărgire a liniei principale (111) şi o scădere a intensităţilor liniilor (111) şi (200) indicând formarea unor cristalite de dimensiuni mai mici cu orientare nepreferenţială. de 340°C.

3*10.7*103 2 2 1 1 Presiunea (Pa) N2 Dependenta texturii TiN in functie de presiunea N2 14 12 10 Textura TiN (200) 8 6 4 2 0 7*10-3 2*10-2 2*10-2 3*10-1 7*10-1 Presiunea N2 (Pa) .2*10.2*10.Dependenta texturii de presiunea N2 100 80 Textura TiN (111) 60 40 20 0 7*10.

Dependenta texturii TiN de tensiune 250 200 Textura 150 TiN (111) 100 50 0 1 2 3 4 Tensiunea Vs (volti) Dependenta texturii TiN de tensiunea de substrat 250 200 Textura 150 TiN (200) 100 50 0 1 2 3 4 Tensiunea de substrat Vs Dependenta texturii TiN de curentul de arc 150 Textura 100 TiN (111) 50 0 1 2 3 Curentul de arc (amperi) .

Determinarea microdurităţilor Vickers a straturilor de TiN depuse pe carburi metalice s-a făcut cu ajutorul unui microdurimetru Wolpert. la o distanţă probăcatod de 35 cm.03 ale straturilor de TiN Seria de probe A A A A A A Condiţii de depunere pN2 (Pa) Vs (V) -3 120 7⋅10 2⋅10-2 5⋅10-2 8⋅10-2 2⋅10-1 4⋅10 -1 HV0. Microdurităţile straturilor obţinute în diverse condiţii sunt prezentate mai jos. utilizând o sarcină de apăsare de 30 g.Dependenta texturii TiN de curentul de arc 150 Textura Ti 100 50 N (200) 0 1 2 3 Curentul de arc (amperi) Caracteristici mecanice Microduritatea Microduritatea constituie.03 Ia (A) 60 60 60 60 60 60 3180 2850 2750 2810 2780 2690 120 120 120 120 120 . deci comportarea în exploatare a reperelor acoperite. Probele din carburi metalice au fost fixate astfel încât suprafaţa lor plană să fie paralelă cu cea a catodului plasmatronului. S-a urmărit determinarea influenţei principalilor parametrii ai procesului de depunere asupra microdurităţii. Tabel: Microdurităţile HV0. alături de aderenţă principala caracteristică mecanică prin care se poate aprecia rezistenţa la uzură a straturilor dure.

pentru care valorile optime ale microdurităţii se obţin pentru un domeniu critic destul de îngust al presiunii de azot.A A B B B B B C C C C 7⋅10-1 9⋅10-1 2⋅10-2 2⋅10-2 2⋅10-2 2⋅10-2 2⋅10-2 2⋅10-2 2⋅10-2 2⋅10-2 2⋅10-2 120 120 15 50 120 150 225 225 225 225 225 60 60 60 60 60 60 60 60 80 100 130 2060 1980 2190 2810 2850 2850 2980 2980 3060 3060 3180 Câteva concluzii mai importante: pentru un domeniu destul de larg de variaţie al presiunii de azot valorile microdurităţii sunt practic constante. aceasta deosebind procedeul utilizat de alte sisteme de depunere PVD (magnetron. . placare ionică).

Microduritatile HV ale strtului de TiN 3500 3000 2500 2000 1500 1000 500 0 7* 10 -3 2* 10 -2 5* 10 -2 8* 10 -2 2* 10 -1 4* 10 -1 7* 10 -1 9* 10 -1 HV P .

03) .Microduritatile HV in functie de tensiune 4000 HV (0.03) 3000 2000 1000 0 1 2 3 V (volti) 4 5 Microduritatile HV ale straturilor TiN in functie de curentul de arc 3200 3150 3100 3050 3000 2950 2900 2850 1 2 I (amperi) 3 4 Hv (0.

cu mărirea curentului de arc de la 60 la 130 A are loc o creştere a microdurităţii puţin importantă.7. În acest scop epruvetele au fost fixate pe un braţ de susţinere rotitor.7 sunt date în tabelul de mai jos. Aceasta constituie un avantaj în exploatarea industrială a instalaţiei. T=260°C. t=20 min. condiţiile de depunere fiind similare celor unor şarje de piese. Vs=225 V.003 2520 2410 2410 2850 2380 2190 2190 1 2 3 4 5 6 7 . Valorile microdurităţiilor în punctele 1 . Parametrii de depunere sunt: pN2=2⋅10-2 Pa. Este de subliniat faptul că procedeul de depunere cu arc catodic permite obţinerea unor straturi de TiN cu microdurităţi ridicate (peste 2700 HV). printre cele mai mari valori întâlnite în literatură. Pe lângă experimentele prezentate a fost determinată şi distribuţia valorilor microdurităţii pe suprafaţa unei probe având geometria şi dimensiunile unei piese de interes industrial (freza).pentru tensiuni de polarizare a substratului între 50 şi 150 V microduritatea nu se modifică. valori mai mici (circa 2200 HV) s-au obţinut la tensiuni reduse (15 V). Ia=90 A. Aceste valori rămân practic constante pentru domenii destul de largi de variaţie a parametrilor de lucru. iar valoarea cea mai ridicată (3060 HV) s-a măsurat la tensiunea de 225 V. Tabel: Distribuţia valorilor microdurităţii pe suprafaţa unei probe în rotaţie Punctul de măsură HV0. Valorile microdurităţii s-au determinat în punctele 1 .

perpendiculară pe strat. şlefuite şi atacate cu Nital 2%) sunt prezentate în tabelul de mai jos.Distributia microduritatilor pe suprafata unei probe in rotatie HV (0.11 0. Tabel: Grosimea de strat şi rata de depunere Nr.7 6 0.6 1. Grosimea de strat şi rata de depunere Grosimea depunerilor de TiN s-a determinat prin examinarea cu ajutorul unui microscop optic. Depunerile s-au făcut pe substraturi de oţel OL45.03) 3000 2000 1000 0 1 2 3 4 5 6 7 Punctul de masura Se remarcă faptul că valoarea cea mai mare este de 2850 HV şi se găseşte în vârful piesei ceea ce este un fapt pozitiv aceasta fiind zona cea mai solicitată în funcţionarea piesei.11 0. pentru care probele pot fi preparate adecvat (secţionate şi acoperite cu un strat de nichel.7 2⋅10-2 2⋅10-2 2⋅10-2 2⋅10-2 .21 15 225 225 225 225 60 60 90 90 130 15 15 40 40 8 (µm) 1. înglobate în bachelită. a unei secţiuni şlefuite.15 0.023 0. Valorile obţinute sunt suficient de ridicate pentru a putea aprecia că acoperirea cu stratul de TiN va duce la o îmbunătăţire sensibilă a performanţelor pieselor. probă Condiţii de depunere pN2 (Pa) Vs (V) Grosime Ia (A) t (min) de strat (medie) 6 7 20a 20b 8 2⋅10 -2 Rata de depunere (µm/min) 0.9 1.

Se remarcă faptul că şi pe suprafaţa ce nu vizează catodul plasmatronului (proba 20b) există o depunere de TiN cu o grosime mult mai mică (circa de 7 ori mai subţire). iar grosimea a fost măsurată în punctele: 1. ce provin din plasma ce înconjoară întreg substratul.1 3 1.8 Distributia grosimii de strat pe suprafata unei probe in rotatie Grosimea de strat (μm) 3 2 1 0 1 2 3 Punctul de masura 4 5 . Deoarece presiunea de lucru este prea scăzută pentru ca atomii de Ti să ajungă pe această suprafaţă. Efectul este important deoarece pot fi acoperite şi repere cu geometrie mai complicată.suprafaţa probei ce vizează direct suprafaţa catodului . Pentru a determina distribuţia grosimii de strat pe suprafaţa unei piese de interes industrial (freză) proba a fost secţionată după un plan determinat de axul ei de simetrie şi de axul braţului de susţinere.suprafaţa opusă Se constată că rata de depunere creşte cu curentul de arc deoarece acesta determină rata de evaporare a titanului şi deci presiunea parţială a vaporilor de titan în incinta de depunere. Tabel: Distribuţia grosimii de strat pe suprafaţa unei probe în rotaţie: Punctul de măsură Grosime de strat (µm) 1 1.a b . 3. 5 şi 7. depunerea se formează datorită bombardamentului stratului cu ioni de titan (în număr apreciabil).1 4 2 5 1 7 0. 4.

Un strat mai gros se obţine în vârful piesei deoarece această zonă vizează direct în tot timpul depunerii catodul plasmatronului.Se poate observa o uniformitate destul de bună a grosimii depunerii pe suprafaţa laterală a probei. O uniformitate şi mai bună s-ar obţine dacă se va dovedi necesar. printro rotire a pieselor şi în jurul propriilor axe. .

You're Reading a Free Preview

Download
scribd
/*********** DO NOT ALTER ANYTHING BELOW THIS LINE ! ************/ var s_code=s.t();if(s_code)document.write(s_code)//-->