You are on page 1of 37

LABORATORIUM KIMIA FISIKA

Percobaan Kelompok Nama 1. 2. 3. 4.

: PELAPISAN LOGAM : XA

: Davi Khoirun Najib Zandhika Alfi Pratama Rizuana Nadhifatul M. Thea Prastiwi Soedarmodjo

NRP. NRP. NRP. NRP.

2313 030 009 2313 030 035 2313 030 043 2313 030 095

Tanggal Percobaan Tanggal Penyerahan Dosen Pembimbing Asisten Laboratorium

: 11 Nopember 2013 : 18 Nopember 2013 : Nurlaili Humaidah, S.T., M.T. : Dhaniar Rulandri W

PROGRAM STUDI D3 TEKNIK KIMIA FAKULTAS TEKNOLOGI INDUSTRI INSTITUT TEKNOLOGI SEPULUH NOPEMBER SURABAYA 2013

ABSTRAK Tujuan dari percobaan pelapisan logam ini adalah untuk mengamati reaksi redoks yang terjadi pada elektroda besi (Fe) di katoda dan tembaga (Cu) di anoda. Prosedur percobaan pelapisan logam adalah mempersiapkan perangkat elektroplating lengkap dan bahan-bahan yang diperlukan untuk elektroplating, yaitu CuSO4, lempeng tembaga dan lempeng besi. Lempeng besi yang akan digunakan sebagai bahan percobaan digosok lalu dicuci permukaan lempengnya untuk dihilangkan karatnya. Setelah itu, lempeng besi ditimbang untuk mendapatkan berat awalnya. Selanjutnya, menempatkan lempeng tembaga dan besi masing-masing di anoda dan katoda. Mengamati peristiwa yang terjadi selama proses percobaan. Hasil dari pengamatan reaksi redoks yang terjadi pada elektroda besi (Fe) di katoda dan tembaga (Cu) di anoda adalah lempeng besi menjadi kasar dan warnanya berubah menjadi seperti warna tembaga. Ini dikarenakan pada saat arus mengalir, tembaga yang digunakan sebagai anoda akan mengalami oksidasi sehingga melepaskan elektronnya. Sementara lempeng besi akan mengalami reduksi sehingga akan menerima electron. Kondisi optimum percobaan terjadi pada variabel arus tetap 300 mA yaitu dengan rata-rata selisih berat sebesar 0,92 gram, sedangkan kondisi minimum terjadi pada variabel arus tetap 100 mA yaitu dengan rata-rata selisih berat sebesar 0,28 gram. Selisih berat tertinggi terjadi pada proses pelapisan logam dengan variabel waktu 20 menit yaitu sebesar 1,4 gram. Sedangkan pada proses pelapisan logam dengan variabel waktu 5 menit memiliki selisih berat terendah yaitu 0,5 gram. Kata Kunci : elektroplating, tembaga, besi

DAFTAR ISI

ABSTRAK .......................................................................................................................... i DAFTAR ISI ....................................................................................................................... ii DAFTAR GAMBAR ........................................................................................................... iii DAFTAR TABEL .............................................................................................................. iv BAB I PENDAHULUAN I.1 Latar Belakang ....................................................................................................... I-1 I.2 Perumusan Masalah ............................................................................................... I-2 I.3 Tujuan Percobaan ................................................................................................... I-2 BAB II TINAJUAN PUSTAKA II.1 Dasar Teori ............................................................................................................ II-1 BAB III METODOLOGI PERCOBAAN III.1 Variabel Percobaan ............................................................................................... III-1 III.2 Bahan yang Digunakan......................................................................................... III-1 III.3 Alat yang Digunakan ............................................................................................ III-1 III.4 Prosedur Percobaan .............................................................................................. III-1 III.5 Diagram Alir Percobaan ....................................................................................... III-2 III.6 Gambar Alat Percobaan ........................................................................................ III-3 BAB IV HASIL PERCOBAAN DAN PERHITUNGAN IV. Pembahasan ............................................................................................................ IV-1 BAB V KESIMPULAN ...................................................................................................... V-1 DAFTAR PUSTAKA ......................................................................................................... v DAFTAR NOTASI ............................................................................................................. vi APPENDIKS ....................................................................................................................... vii LAMPIRAN : Laporan Sementara Lembar Revisi

ii

DAFTAR GAMBAR
Gambar II.1 Proses Electroplating........................................................................................II-7 Gambar II.2 Skema Pelapisan Logam...................................................................................II-12 Gambar III.6 Gambar Alat Percobaan ................................................................................. III-3

iii

DAFTAR TABEL

Tabel II.1 Pengertian Reduksi dan oksidasi......................................................................... II-3 Tabel II.2 Perbedaan oksidator dan reduktor....................................................................... II-4 Tabel IV.1 Pengaruh Waktu terhadap Selisih Berat dengan Arus Tetap 100 mA............... IV-1 Tabel IV.2 Pengaruh Waktu terhadap Kuat Arus dengan Arus Tetap 100 mA................... IV-2 Tabel IV.3 Pengaruh Waktu terhadap Selisih Berat dengan Arus Tetap 300 mA............... IV-3 Tabel IV.4 Pengaruh Waktu terhadap Kuat Arus dengan Arus Tetap 300 mA.................... II-4

iv

DAFTAR GRAFIK
Grafik IV.1 Pengaruh Waktu terhadap Selisih Berat dengan Arus Tetap 100 mA ......... IV-2 Grafik IV. 2 Pengaruh Waktu terhadap Kuat Arus dengan Arus Tetap 100 mA ............. IV-3 Grafik IV.3 Pengaruh Waktu terhadap Selisih Berat dengan Arus Tetap 300 mA .......... IV-4 Grafik IV.4 Pengaruh Waktu terhadap Kuat Arus dengan Arus Tetap 300 mA .............. IV-5

BAB I PENDAHULUAN
I.1. Latar Belakang Melakukan praktikum adalah suatu kebutuhan dalam pembelajaran kimia fisika yang merupakan mata kuliah di D3 Teknik Kimia. Praktikum ini bertujuan untuk memperdalam pengetahuan dan membuktikan teori-teori yang diberikan saat bangku kuliah serta untuk mempersiapkan masing-masing individu di dunia kerja. Banyak Praktikum dalam mata kuliah kimia fisika ini, salah satunya adalah Pratikum Pelapisan Logam. Praktikum ini dilakukan karena bertujuan untuk mengetahui reaksi redoks pada proses sel elektrokimia. Tidak hanya itu, praktikum ini juga sangat bermanfaat khususnya dalam aplikasi kerja yang berhubungan dengan perawatan logam dalam skala besar. Dari praktikum ini dapat diaplikasikan di kehidupan sehari-hari, misalnya untuk pelapisan emas, besi untuk struktur bangunan rumah, dan sebagainya agar tidak mudah mengalami korosi. Karena apabila suatu logam mengalami korosi tentu menurunkan kualitas dari logam tersebut. Korosi adalah kerusakan atau degradasi logam akibat reaksi redoks antara suatu logam dengan berbagai zat di lingkungannya yang menghasilkan senyawa - senyawa yang tidak dikehendaki, biasa disebut perkaratan. Untuk itu diperlukan suatu cara untuk mengatasinya, yaitu dengan pelapisan logam. Pelapisan logam adalah cara yang dilakukan untuk memberikan sifat tertentu pada permukaan logam yang tujuannya agar logam mengalami perbaikan yang lebih baik dari hal struktur, mikro maupun tekanannya. Salah satu pelapisan logam tersebut adalah Electroplating. Electroplating merupakan proses pelapisan logam dengan menggunakan bantuan arus listrik dan senyawa kimia tertentu yang digunakan untuk memindahkan partikel logam pelapis ke material yang hendak dilapisi. Pada proses pelapisan ini banyak faktor yang mempengaruhi pembentukan pelapisan logam, antara lain pengadukan, rapat arus, temperature, pH larutan elektrolit dan waktu yang digunakan selama proses berlangsung. Tujuan pelapisan logam tidak luput dari tiga hal, yaitu untuk meningkatkan sifat teknis atau mekanisme dari suatu logam, melindungi logam, dan memperindah tampilan.

I-1

I-2

Bab I Pendahuluan I.2 Rumusan Masalah 1. Bagaimana reaksi redoks yang terjadi pada elektroda besi (Fe) di katoda dan tembaga (Cu) di anoda ?

I.3

Tujuan Percobaan 1. Mengamati reaksi redoks yang terjadi pada elektroda besi (Fe) di katoda dan tembaga (Cu) di anoda.

Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

BAB II TINJAUAN PUSTAKA

II..1 Dasar Teori Pelapisan adalah suatu cara yang dilakukan untuk memberikan sifat tertentu pada suatu permukaan benda kerja, dimana diharapkan benda tersebut akan mengalami perbaikan dalam hal struktur mikro maupun ketahanannya, dan tidak menutup kemungkinan pada perbaikan terhadap sifat fisiknya. Sementara logam adalah sebuah unsur kimia yang siap dan bisa membentuk ion/kation dan memiliki ikatan logam. Jadi, dengan demikian pelapisan logam adalah cara yang dilakukan untuk memberikan sifat tertentu pada permukaan logam yang tujuannya agar logam mengalami perbaikan yang lebih baik dari hal struktur mikro maupun tekannanya. Konsep dasar dalam melindungi logam adalah upaya agar tidak terjadi pertukaran ion antara logam dengan lingkungan. Lapisan metalik merupakan penghalang yang sinambung antara permukaan logam dan lingkungan sekelilingnya. Sifat-sifat ideal bahan pelapis dari logam ini dapat diringkaskan sebagai berikut: 1. Logam pelapis harus jauh lebih tahan terhadap pengaruh lingkungan dibandingkan logam yang dilindungi. 2. Logam pelapis tidak boleh memicu korosi pada logam yang dilindungi senandainya mengalami goresan atau pecah dipermukaannya. 3. Sifat-sifat fisik, seperti kekuatan, keuletan dan kekerasannya, harus cukup memenuhi persyaratan operasional struktur/komponen bersangkutan. 4. Tebal lapisan harus merata dan bebas dari pori-pori (persyaratan ini hampir tidak mungkin terpenuhi). Reaksi Redoks adalah reaksi yang didalamnya terjadi perpindahan elektron secara berurutan dari satu spesies kimia ke spesies kimia lainnya, yang sesungguhnya terdiri atas dua reaksi yang berbeda, yaitu oksidasi (kehilangan elektron) dan reduksi (memperoleh elektron). Reaksi ini merupakan pasangan, sebab elektron yang hilang pada reaksi oksidasi sama dengan elektron yang diperoleh pada reaksi reduksi. Masing-

II-1

II-2 Bab II Tinjauan Pustaka masing reaksi (oksidasi dan reduksi) disebut reaksi paruh (setengah reaksi), sebab diperlukan dua setengah reaksi ini untuk membentuk sebuah reaksi dan reaksi keseluruhannya disebut reaksi redoks. Elektrokimia adalah salah satu dari cabang ilmu kimia yang mengkaji tentang perubahan bentuk energi listrik menjadi energi kimia dan sebaliknya. Proses elektrokimia melibatkan reaksi redoks. Proses transfer elektron akan menghasilkan sejumlah energi listrik. Aplikasi elektrokimia dapat diterapkan dalam dua jenis sel, yaitu sel volta dan sel elektrolisis. Sebelum membahas kedua jenis sel tersebut, kita terlebih dahulu akan mempelajari metode penyetaraan reaksi redoks. Persamaan reaksi redoks biasanya sangat kompleks, sehingga metode penyeteraan reaksi kimia biasa tidak dapat diterapkan dengan baik. Dengan demikian, para kimiawan mengembangkan dua metode untuk menyetarakan persamaan redoks. Salah satu metode disebut metode perubahan bilangan oksidasi (PBO), yang berdasarkan pada perubahan bilangan oksidasi yang terjadi selama reaksi. Metode lain, disebut metode setengah reaksi (metode ion-elektron). Metode ini melibatkan dua buah reaksi paruh, yang kemudian digabungkan menjadi reaksi redoks keseluruhan. II.2 Reaksi Redoks II.2.1 Pengertian Reaksi Redoks Reaksi redoks adalah reaksi kimia yang disertai perubahan bilangan oksidasi atau reaksi yang didalamnya terdapat serah terima elektron antar zat. Reaksi redoks sederhana dapat sederhana dapat disederhanakan dengan mudah tanpa metode khusus. Akan tetapi untuk reaksi yang cukup kompleks, ada dua metode yang dapat digunakan untuk menyetarakannya yaitu : 1. Metode bilangan oksidasi, yang digunakan untuk reaksi yang berlangsung tanpa atau dalam air, dan memiliki persamaan reaksi lengkap (bukan ionik).
2. Metode setengah reksi (metode ion elektron), yang digunakan untuk reaksi yang

berlangsung dalam air dan memiliki persamaan ionik.

Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

II-3 Bab II Tinjauan Pustaka Ada tiga definisi yang dapat digunakan untuk oksidasi, yaitu kehilangan elektron, memperoleh oksigen, atau kehilangan hidrogen. Oksidasi adalah kehilangan satu atau lebih elektron yang dialami oleh suatu atom,molekul, atau ion, sementara reduksi adalah perolehan elektron. Tidak ada elektron bebas dalam sistem kimiawi selalu disertai oleh perolehan elektron pada bagian yang lainnya . istilah reaksi transfer elektron terkadang digunakan untuk reaksi-reaksi redoks Tabel II.1 Tabel pengertian Reduksi dan oksidasi Oksidasi Pengertian Klasik Reaksi antara suatu zat dengan oksigen Reduksi Reaksi antara suatu zat dengan hidrogen

Pengertian Modern

Reaksi dimana terjadi kenaikan bilangan oksidasi

Reaksi dimana terjadi penurunan bilangan oksidasi

Reaksi dimana terjadi pelepasan elektron

Reaksi dimana terjadi penangkapan elektron

Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

II-4 Bab II Tinjauan Pustaka Tabel II.2 Tabel perbedaan oksidator dan reduktor Oksidator Zat yang dalam reaksinya mengalami reduksi Reduktor Zat yang dalam reaksinya mengalami oksidasi

Zat yang dalam reaksinya mengalami Zat yang dalam reaksinya mengalami penurunan bilangan oksidasi Zat yang mampu mengoksidasi zat lain kenaikan bilangan oksidasi Zat yang mampu mereduksi zat lain

Zat yang dapat menangkap elektron dari Zat yang dapat memberikan elektron pada zat lain
(IPIEMS, 1983)

zat lain

II.2.2 Konsep-konsep dasar Redoks : 1. Oksidasi adalah peristiwa pelepasan elektron atau penambahan (kenaikan) bilangan oksidasi 2. Reduksi adalah peristiwa penangkapan elektron atau pengurangan (penurunan) bilangan oksidasi 3. Reduktor (pereduksi) adalah zat yang mengalami oksidasi atau zat yang melepaskan elektron, atau zat yang bilangan oksidasinya naik 4. Oksidator adalah zat yang mengalami reduksi atau zat yang menangkap elektron atau zat yang bilangan oksidasinya turun 5. Redoks adalah reaksi yang terdiri dari peristiwa reduksi dan oksidasi atau reaksi perubahan bilangan oksidasi 6. Reaksi disproporsionasi (autoredoks) adalah reaksi redoks dimana hanya satu jenis atom yang mengalami reduksi dan oksidasi atau reaksi redoks dimana hanya satu jenis atom yang bilangan oksidasinya berubah. Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

II-5 Bab II Tinjauan Pustaka 7. Mol elektron adalah selisih bilangan oksidasi. (Andriani) II.3 Pelapisan Logam II.3.1 Pengertian Pelapisan Logam Electroplating adalah proses pelapisan logam yang menggunakan prinsip elektrokomia. Dalam metode ini komponen bersama dengan batangan atau lempengan logam yang akan dilapisi, direndam dalam suatu larutan elektrolit yang mengandung garam-garam logam pelapis. Elektroplating dibuat dengan jalan mengalirkan arus listrik melalui larutan antara logam atau material lain yang konduktif. Dua buah plat logam merupakan anoda dan katoda dihubungkan pada kutub positif dan negatif terminal sumber arus searah (DC). Logam yang terhubung dengan kutub positif disebut anoda dan yang terhubung dengan kutub negatif disebut katoda. Ketika sumber tegangan digunakan pada elektrolit, maka kutub positif mengeluarkan ion bergerak dalam larutan menuju katoda dan disebut sebagai kation. Kutub negatif juga mengeluarkan ion, bergerak menuju anoda dan disebut sebagai anion. Larutannya disebut elektrolit. Besarnya listrik yang mengalir yang dinyatakan dengan Coulomb adalah sama dengan arus listrik dikalikan dengan waktu. Dalam pemakaian secara umum atau dalam pemakaian elektroplating satuannya adalah ampere-jam (Ampere-hour) yang besarnya 3600 coulomb, yaitu sama dengan listrik yang mengalir ketika arus listrik sebesar 1 ampere mengalir selama 1 jam. Untuk menentukan tebal pelapisan yang terjadi perlu diketahui berat jenis dari logam yang terlapis pada katoda. Efisiensi plating pada umumnya dinyatakan sebagai efisiensi arus anoda maupun katoda. Efisiensi katoda yaitu arus yang digunakan untuk pengendapan logam pada katoda dibandingkan dengan total arus masuk. Arus yang tidak dipakai untuk pengendapan digunakan untuk penguraian air membentuk gas hidrogen, hilang menjadi panas atau pengendapan logam-logam lain sebagai impuritas yang tak diinginkan. Efisiensi anoda yaitu perbandingan antara jumlah logam yang terlarut dalam elektrolit dibanding dengan jumlah teoritis yang dapat larut menurut Hukum Faraday.Kondisi plating yang baik bila diperoleh efisiensi katoda sama dengan Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

II-6 Bab II Tinjauan Pustaka efisiensi anoda, sehingga konsentrasi larutan bila menggunakan anoda aktif akan selalu tetap. Efisiensi arus katoda sering dipakai sebagai pedoman menilai apakah semua arus yang masuk digunakan untuk mengendapkan ion logam pada katoda sehingga didapat efisiensi plating sebesar 100% ataukah lebih kecil. Adanya kebocoran arus listrik, larutan yang tidak homogen dan elektrolisis air merupakan beberapa penyebab rendahnya efisiensi. Elektrolisis air merupakan reaksi samping yang menghasilkan gas hidrogen pada katoda dan gas oksigen pada anoda. Reaksi elektrolisis air dapat dituliskan sebagai berikut :

Secara praktis efisiensi plating dinyatakan sebagai perbandingan berat nyata terhadap berat teoritis endapan pada katoda. Apabila logam dimasukkan pada larutan yang mengandung ionnya sendiri akan menimbulkan beda potensial antara logam tersebut dengan larutan. Beda potensial ini disebabkan karena atom dari logam untuk menjadikan satu atau lebih muatan negatif dan lepas ke larutan dalam bentuk ion. Pada saat yang bersamaan terjadi reaksi kebalikan dalam larutan. Dua reaksi yang berlawanan tersebut berlangsung pada kecepatan yang tidak sama, maka potensial ini akan diatur oleh permukaan logam dan elekrolit yang berhubungan dengan permukaan logam. Akhirnya kondisi setimbang tercapai dimana ionisasi dan pelepasan berlangsung tepat pada kecepatan yang sama. Kesetimbangan ini disebut dengan potensial kesetimbangan atau potensial bolak-balik pada partikel logam pada laruan yang dipergunakan. Potensial elektroda standar berdasarkan skala hidrogen, dimana semua logamlogam sebelum hidrogen pada skala hidrogen mampu menggantikan hidrogen dari larutan yang mengandung ion hidrogen, dan logam-logam setelah hidrogen pada skala hidrogen biasanya tidak dapat menggantikan hidrogen secara langsung.

Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

II-7 Bab II Tinjauan Pustaka Logam seng, timah hitam dan timah putih dinamakan logam dasar karena mudah larut di dalam asam dan ditunjukkan oleh tanda potensial negatif, sedangkan kebalikan dari ketiga logam diatas adalah logam mulia seperi tembaga, perak dan emas ditunjukkan oleh tanda potensial positif.

Gambar II.1 Proses Electroplating .Pada electroplating terdapat dua buah elektroda, dimana elekroda yang dihubungkan dengan kutub positif disebut anoda dan elektroda yang dihubungkan dengan kutub negatif disebut katoda. Ciri-ciri dari elektroda tersebut adalah: a. Anoda: 1. Kutub positip 2. Terjadi reaksi oksidasi 3. Terjadi pelepasan elektron keluar sirkuit b. Katoda: 1. Kutub negatif 2. Terjadi reaksi reduksi 3. Menerima elektron dari sirkuit luar Ada dua macam Anoda yang sering digunakan dalam proses electroplating, yaitu anoda larut, yang berarti anoda yang selama proses memberikan ion-ion logamnya kepada katoda sehingga makin lama makin habis terkikis. Contohnya adalah tembaga (Cu), seng (Zn), nikel (Ni), timah putih (Sn), perak (Ag), dll. Dan ada jenis yang kedua adalah anoda yang tidak dapat larut, yang berarti selama proses berlangsung anoda ini tidak terkikis. Contohnya adalah karbon (C), platina (Pt), imah hitam (Pb), dll. Sementara katoda adalah logam yang akan dilapisi. Logam-logam dapat disususun dalam suatu deret menurut kenaikan potensial elektrodenya yang disebut Deret Volta.

Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

II-8 Bab II Tinjauan Pustaka

Li K Ba Ca Na Mg Al Mn Zn Cr Fe Ni Sn Pb H Cu Hg Ag Pt Au
Semakin ke kiri posisi logam maka potensial elektodenya makin kecil, yang menyebabkan logam mudah mengalami oksidasi. Sebaliknya, semakin kekanan posisi logam maka potensial elektrodenya makin besar, yang menyebabkan logam sulit mengalami oksidasi melainkan mengalami reduksi. Proses pelapisan elekroplating memiliki kelebihan dan kekurangan dalam penggunannya. Kelebihannya adalah: a. b. c. d. e. Temperatur proses rendah sekitar 60-70C Ketebalan lapisan mudah dikendalikan Permukaan halus dan mengkilap Laju pengendapan cepat Porositas pada lapisan relatif rendah Kekurangannya adalah: a. b. c. Terbatas pada logam dan paduannya Perlu perlakuan awal terhadap benda kerja Terbatas pada benda kerja yang bersifat konduktur

II.3.2 Macam-macam Pelapisan Logam 1. PELAPISAN TEMBAGA Dalam pelapisan tembaga digunakan bermacam-macan larutan elektrolit, yaitu : 1. 2. 3. 4. Larutan asam Larutan sianida Larutan fluoborat Larutan pyrophosphat

Diantara empat macam larutan di atas yang paling banyak digunakan adalah larutan asam dan larutan sianida (mgmpkimiabms, 2009)

Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

II-9 Bab II Tinjauan Pustaka 2. PELAPISAN TIMAH PUTIH Pelapisan timah putih pada besi dengan cara listrik (elektroplating) sudah sangat lama dilakukan untuk kaleng-kaleng makanan, minuman dan sebagainya. Pelapisan secara listrik pada umumnya sudah menggantikan pelapisan secara celup panas, karena pelapisan secara celup panas menghasilkan lapisan yang tebal dan kurang merata (kurang halus) sedangkan pelapisan secara listrik dapat menghasilkan lapisan yang tipis dan lebih merata/halus. Dengan keuntungan tersebut pada saat ini lebih banyak industri yang melakukan pelapisan timah putih secara listrik dari pada secara celup panas (mgmpkimiabms, 2009).

3. PELAPISAN SENG Seng sudah lama dikenal sebagai pelapis besi yang tahan korosi, murah harganya, dan mempunyai tampak permukaan yang cukup baik. Pelapisan senga pada besi dilaksanakan dengan beberapa cara seperti galvanizing, sherardizing, atau metal spraying. Namun pelapisan secara listrik (elektroplating) lebih disukai karena mempunyai beberapa keuntungan bila dibandingkan dengan cara-cara pelapisan yang lain, diantaranya : a. b. c. Lapisan lebih merata Daya rekat lapisan lebih baik Tampak permukaan lebih baik. Karena beberapa keuntungan itulah maka lebih banyak dilaksanakan pelapisan secara listrik daripada cara-cara lainnya. Pelapisan seng secara listrik kadang juga disebut elektro-galvanizing. Larutan elektrolit yang sering digunakan ada dua macam yaitu larutan asam dan larutan sianida. Bila kedua larutan tersebut dibandingkan maka permukaan lapisan hasil dari penggunaan larutan sianida adalah lebih baik jika dibandingkan dengan larutan asam. Namun larutan asam digunakan bila dikehendaki kecepatan pelapisan yang tinggi dan biaya yang lebih murah.Larutan lain yang sering digunakan pada pelapisan adalah larutan alkali zincat dan larutan pyrophosphate
(mgmpkimiabms, 2009).

Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

II-10 Bab II Tinjauan Pustaka 4. PELAPISAN NIKEL Pada saat ini, pelapisan nikel pada besi banyak sekali dilaksanakan baik untuk tujuan pencegahan karat ataupun untuk menambah keindahan. Dengan hasil lapisannya yang mengkilap maka dari segi ini nikel adalah yang paling banyak diinginkan untuk melapis permukaan. Dalam pelapisan nikel selain dikenal lapisan mengkilap, terdapat juga jenis pelapisan yang buram hasilnya. Akan tetapi tampak permukaan yang buram inipun dapat juga digosok hingga halus dan mengkilap. Jenis lain dari pelapisan nikel adalah pelapisan yang berwarna hitam. Warna hitam inipun tampak menarik dan digunakan biasanya untuk melapis laras senapan dan lainnya (mgmpkimiabms, 2009).

5. PELAPISAN KHROM Selain nikel, maka pelapisan khrom banyak dilaksanakan untuk mendapatkan permukaan yang menarik. Karena sifat khas khrom yang sangat tahan karat maka pelapisan khrom mempunyai kelebihaan tersendiri bila dibandingkan dengan pelapisan lainnya. Selain sifat dekoratif dan atraktif dari pelapisan khrom, keuntungan lain dari pelapisan khrom adalah dapat dicapainya hasil pelapisan yang keras. Sumber logam khrom didapat dari asam khrom, tapi dalam perdagangan yang tersedia adalah khrom oksida (Cr O3) sehingga terdapatnya asam khrom adalah pada waktu khrom oksida bercampur dengan air (mgmpkimiabms, 2009).

Pelapisan Logam Ditinjau dan Sifat Elekrokimia Bahan Pelapis A. Pelapisan Anodik Pelapisan anodik merupakan pelapisan dimana potensial listrik logam pelapis lebih anodik terhadap substrat. Keunggulan dari pelapisan ini adalah sifat logam pelapis yang bersifat melindungi logam yang dilapisi sehingga walaupun terjadi cacat pada permukaan pelapis karena sebab seperti tergores., reak, dll. B. Pelapisan Katodik Pelapisan katodik merupakan pelapisan diamna potensial listrik logam pelapis lebih katodik terhadap substrat. Contohnya pelapisan tembaga pada potensial listrik Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

II-11 Bab II Tinjauan Pustaka +0,34 Volt yang dilapisi dengan logam emas dengan potensial listrik +1,5 Volt. Karena logam emas bersifat lebih mulia dibandingkan tembaga, maka apabila logam pelapis mengalami cacat, logam yang dilapisi akan terekspos keluar lingkungan dan bersifat anodik sehingga akan terjadi korosi lokal yang intensif terhadap substrat.

II.3.3 Metode-metode Pelapisan dengan Logam 1. Pencelupan Panas (hot dipping) Dalam metode ini, sruktur dicelupkan ke dalam bak berisi lelehan logam pelapis. Pengaturan tebal lapisan dalam proses ini cukup sulit karena lapisan dalam proses ini cukup sulit karena lapisan cenderung tidak merata, yaitu tebal pada permukaan bawah tetapi tipis pada permukaan atas. Proses ini terbatas untuk logam-logam yang memiliki titik lebur rendah, misalnya timah, seng, dan aluminium. 2. Penyemprotan Logam pelapis berbentuk kawat diumpankan pada bagian depan penyembur api, dan begitu meleleleh segera dihembuskan dengan tekanan tinggi menjadi butir-butir yang halus. Butir-butir halus yang terlempar itu menjadi pipih ketika membentur permukaan logam dan melekat disitu. 3. Penempelan (clad coating) Kulit dari logam yang tahan korosi dapat dilapiskan ke logam lain yang tidak mempunyai ketahanan terhadap korosi lingkungan kerjanya. Kulit dipasang dengan cara rooling, dan membuat lapisan pengelasan di atas logam, suatu proses yang disebut buttering. 4. Pelapisan Difusi Proses ini hanya untuk benda-benda yang relatif kecil. Komponen yang hendak diproses mula-mula dibersihkan dari kotoran dan lemak, kemudian dipanaskan dalam keadaan kontak dengan tepung pelapis di udara lembab (solid route), atau dalam aliran gas senyawa mudah menguap dari logam pelapis (gaseous route).

Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

II-12 Bab II Tinjauan Pustaka 5. Pelapisan Listrik (Electroplating) Electroplating adalah proses pelapisan logam yang menggunakan prinsip elektrokomia. Dalam metode ini komponen bersama dengan batangan atau lempengan logam yang akan dilapisi, direndam dalam suatu larutan elektrolit yang mengandung garam-garam logam pelapis. Dalam metode ini ada istilah throwing power yang diartikan dengan kemampuan logam penyalut untuk menghasilkan ketebalan merata sejalan dengan terus berubahnya panjang lintasan antara anoda dan permukaan komponen selama pelapisan. Pengendapan terjadi pada benda kerja yang berlaku sebagai katoda.

Gambar II.2 Skema Pelapisan Logam Reaksi kimia yang terjadi pada proses elektroplating dapat dijelaskan sebagai berikut: 1) Pembentukan lapisan nikel (Ni) Ni2+(aq) + 2e 2) Pembentkan gas hidrogen (H) 2H+(aq) + 2e 3) Reduksi oksigen terlarut O2 (aq) + 2H+(g) H2O (g) H2 (g) Ni(s)

Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

II-13 Bab II Tinjauan Pustaka Mekanisme terjadinya pelapisan adalah dimulai dari dikelilinginya ion-ion logam oleh molekul-molekul pelarut yang mengalami polarisasi. Didekat permukaan katoda, terbentuk daerah Electrical Double Layer (EDL) yang bertindak seperti lapisan dielektrik. Adanya lapisan EDL memberi beban tambahan bagi ion-ion untuk menembusnya. Dengan gaya dorong beda potensial listrik dan dibantu oleh reaksireaksi kimia, ion-ion logam akan menuju permukaan katoda dan menangkap elektron dari sambil mendeposisikan diri dipermukaan katoda. Dalam kondisi equilibrium,

setelah ion-ion mengalami discharge menjadi atom-atom kemudian akan menempatkan diri pada permukaan katoda dengan mula-mula menyesuaikan mengikuti susunan atom dari material katoda. Salah satu tujuan plating/pelapisan ialah upaya mencegah korosi. Peristiwa korosi disebabkan oleh reaksi logam dari lingkungannya. 1. Lingkungan berwujud gas, udara dengan rentang temperatur -10C hingga +30C. Beberapa metode yang digunakan untuk mengurangi laju korosi udara bebas adalah: a. b. Menurunkan kelembaban relatif Menghilangkan komponen mudah menguap yang dihasilkan oleh bahan-bahan disekitar. c. d. Mengubah temperatur Menghilangkan kotoran, endapan yang akan membentuk katoda dan ion-ion agresif. 2. Bahan terendam di air bebas yang cukup mengandung ion untuk menjadikannya sebuah elektrolit. a. Menurunkan konduktivitas ionik b. Mengubah pH c. Secara homogen mengurangi kandungan oksigen d. Mengubah temperatur

Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

II-14 Bab II Tinjauan Pustaka II.3.4. Hukum-Hukum yang Mendasari Pelapisan Logam A. Hukum Faraday Michael Faraday menemukan hubungan antara produk suatu endapan dengan jumlah arus dan waktu yang digunakan, yaitu : 1. Berat dari logam yang diendapkan (w) pada saat berlangsung proses elektrolisa berbanding lurus dengan jumlah kuat arus (I) dan waktu (t). 2. Untuk jumlah arus yang sama, berat dari logam yang diendapkan berbanding lurus dengan ekivalen kimianya.

Pernyataan diatas dapat dirumuskan sebagai berikut : Dengan :


I t A zF

W = berat logam yang diendapkan (gr) I = arus yang digunakan (Ampere) t = waktu (detik) A = berat atom (gr/mol) z = valensi F = bilangan Faraday = 96500 Coulomb/mol Dari rumus diatas, ketebalan deposit dapat diperoleh dengan asumsi deposit sepanjang permukaan seragam (Sanders,1950:7). Untuk mengetahui ketebalan deposit maka kita harus mengetahui volume dari logam, dan hubungan tersebut sebagai berikut: Dengan :
Density= Kerapatan Logam

Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

II-15 Bab II Tinjauan Pustaka Ketebalan endapan dapat ditentukan sebagai berikut:

Hukum Faraday dapat menjelaskan pengaruh penambahan waktu pada proses pelapisan logam dengan listrik. Semakin lama waktu yang digunakan, maka deposit logam yang dihasilkan juga semakin besar (Anonim, 2011).

Andriani, D. (t.thn.). Reaksi Redoks. Dipetik November 11, 2013, dari Pembelajaran Kimia: http://dessykimiapasca.wordpress.com/kimia-xii/reaksi-redoks/pengertian/

Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

II-16 Bab II Tinjauan Pustaka


Anonim. (2011). Dipetik November 11, 2013, dari http://www.repository.usu.ac.id IPIEMS. (1983). Dalam Edumedia. Surabaya. mgmpkimiabms. (2009). Pelapisan Logam (Elektroplating). Dipetik November 11, 2013, dari MGMP KIMIA KABUPATEN BANYUMAS: http://mgmpkimiabms.wordpress.com/2009/11/05/pelapisan-logam-elektroplating/

Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

BAB III METODOLOGI PERCOBAAN

III.1 Variabel Percobaan a) Variabel Bebas : Waktu Arus : 4 menit, 8 menit, 12 menit, 16 menit, dan 20 menit : 100 mA dan 300 mA

b) Variabel Kontrol Volume CuSO4 III.2 Alat 1. 2. 3. 4. Amperemeter Penjepit Voltmeter Lempengan Tembaga

III.3 Bahan 1. 2. 3. 4. 5. Logam Cu Lempengan Besi CuSO4 0,1 N HCl Aquades

III.4 Prosedur percobaan Tahap persiapan 1. Menyiapkan alat dan bahan yang dibutuhkan 2. Membersihkan logam besi (Fe) yang akan dilapisi dengan menggosok menggunakan amplas dan mencelupkan logam besi dalam larutan HCl 3. Menimbang logam besi yang telah kering satu persatu sebagai berat awal (W0) dengan menggunakan neraca analitik 4. Kemudian mencatatnya dalam tabel Tahap percobaan 1. Percobaan pertama menggunakan variabel kuat arus 100 mA dan variabel waktu yaitu 4 menit,8 menit, 12 menit, 16 menit, 20 menit. 2. Tembaga ditempatkan di anoda dan besi ditempatkan katoda.

III-1

III-2

BAB III METODOLOGI PERCOBAAN

3. Percobaan kedua menggunakan variabel kuat arus 300 mA dan variabel waktu yaitu 4 menit, 8 menit, 12 menit, 16 menit, 20 menit. 4. Tembaga ditempatkan di anoda dan besi ditempatkan katoda. 5. Menimbang berat masing- masing logam besi setelah melalui proses elektroplating (pelapisan logam menggunakan listrik). Kemudian mencatatnya dalam tabel sebagai berat akhir (Wt). 6. Mengulang percobaan tersebut sesuai variabel percobaan. III.5 Diagram Alir Mulai

Menggosok permukaan lembeng besi dengan menggunakan amplas dan mencelupkannya ke dalam larutan HCl

Menimbang logam besi (Fe) yang telah kering sebagai berat awal (W0)

Memasang logam besi (Fe) yang dilapisi katoda (-)

Elekktroplating logam Cu sebagai lapisannya

Keringkan logam kemudian timbang sebagai berat akhir (Wt)

Selesai

Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

III-3

BAB III METODOLOGI PERCOBAAN

III.6 Gambar Alat

Penjepit

Beaker Glass Skala ampere

Terminal negative (-)

Terminal positif (+)

Stopwatch

Amperemeter

kaca Piringan (pan) neraca Tombol power on/off

Layar LCD

Neraca analitik

Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

BAB IV HASIL PERCOBAAN DAN PEMBAHASAN


IV. Pembahasan Electroplating adalah proses pelapisan suatu logam dengan logam lain yang lebih tahan terhadap korosi. Pada praktikum ini, logam yang dilapisi yaitu lempeng besi dengan logam pelapis tembaga. Yang mana sifat dari besi yang mudah mengalami korosi ketika kontak dengan udara. Oleh karena itu perlu adanya pelapisan dengan logam lain agar besi tidak mudah mengalami korosi. Sebelum dilakukan praktikum, lempeng tersebut dibersihkan untuk dihilangkan karatnya agar lapisan yang terbentuk relatif lebih kuat dan tidak mudah mengelupas. Proses pembersihan lempeng besi dilakukan dalam dua tahap yaitu pembersihan karat dan pencucian karat. Proses pembersihan karat dilakukan dengan menggunakan amplas yang bertujuan untuk menghilangkan sebagian karat dan juga memperhalus permukaan lempeng. Penghilangan karat pada tahap ini hanya sebagian saja yang bisa dihilangkan. Oleh karena itu pada tahap selanjutnya akan dibersihkan lagi. Tahap selanjutnya yaitu pencucian karat dengan larutan pencuci 0,3 N HCl. Pada tahap ini peristiwa yang bisa diamati adalah larutan menjadi warna keruh akibat karat besi yang terlepas dari lempeng besi. Setelah dilakukan tahap persiapan, didapatkan lempeng besi yang halus kemudian ditimbang sebagai berat awal (W0) sebelum dilapisi logam. Telah didapatkan berat awal lempeng besi yaitu 12,5 gram dan 8,5 gram, selanjutnya lempeng besi tersebut telah siap untuk dilapisi dengan tembaga. Pada tahap percobaan, kami menyiapkan dua wadah yang berisi masing-masing 0,1 N CuSO4. Wadah satu digunakan untuk pelapisan lempeng besi 12,5 gram yang dialiri arus 100 mA, sedangkan wadah lain digunakan untuk pelapisan lempeng besi 8,5 gram yang dialiri arus 300 mA. Lempeng besi ditempatkan pada posisi katoda dan tembaga pada posisi anoda yang menyebabkan terbentuknya lapisan pada bagian katoda. Tahap percobaan dilakukan dengan variable yang telah ditentukan dan tahap ini dilakukan bersamaan. Pada saat arus mengalir, tembaga yang digunakan sebagai anoda akan mengalami oksidasi sehingga melepaskan elektronnya. Sementara lempeng besi akan mengalami reduksi sehingga akan menerima electron. Tabel IV.1 Pengaruh waktu terhadap selisih berat dengan arus tetap 100 mA t(menit) 4 8 12 16 20 W0(gr) 12,5 12,5 12,5 12,5 12,5 Wt(gr) 12,6 12,6 12,8 12,9 13 W (gr) 0,1 0,1 0,3 0,4 0,5

IV-1

IV-2 Hasil Percobaan dan Pembahasan

0,5 0,4 0,3

W (gram)

0,2 0,1 0 4 8 12 16 20

t (menit) Grafik IV.1 Pengaruh waktu terhadap selisih berat dengan arus tetap 100 mA Berdasarkan Grafik dapat dilihat bahwa selisih berat mengalami kenaikan seiring dengan bertambahnya waktu. Hal ini sesuai dengan teori yang menyebutkan, semakin lama waktu pelapisan maka semakin berat pula hasil pelapisan logam yang dihasilkan. Kenaikan selisih berat terjadi pada waktu 12 menit, 16 menit, dan 20 menit. Sedangkan pada waktu 8 menit selisih berat tidak mengalami perubahan. Dalam percobaan ini larutan yang digunakan tetap CuSO4. Pertambahan berat disebabkan oleh pengendapan Cu pada besi. Hal ini sesuai dengan Hukum Faraday yang menyebutkan bahwa Banyaknya zat yang dihasilkan pada elektroda sebanding dengan jumlah arus yang dialirkan pada zat tersebut

Tabel IV.2 Pengaruh waktu terhadap Kuat arus dengan arus tetap 100 mA t(menit) 4 8 12 16 20 W0(gr) 12,5 12,5 12,5 12,5 12,5 Wt(gr) 12,6 12,6 12,8 12,9 13 W (gr) 0,1 0,1 0,3 0,4 0,5 I(mA) 74 76 80 82 86

Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

IV-3 Hasil Percobaan dan Pembahasan

86 84 82

I (mA)
80 78 76 74 4 8 12 16 20

t (menit) Grafik IV.2 Pengaruh waktu terhadap Kuat arus dengan arus tetap 100 mA Berdasarkan Grafik diatas kuat arus yang didapat mengalami kenaikan disetiap variabel waktu yaitu pada 8,12,16, dan 20 menit Semakin lama waktu pelapisan maka nilai W semakin besar. Hal ini dikarenakan proses electroplating berlangsung lebih lama, sehingga elektroda Cu teroksidasi semakin banyak untuk melapisi logam Fe. Hal ini sesuai dengan teori yang ada bahwa massa zat (m) yang timbul berbanding lurus dengan jumlah listrik yang mengalir (I). Tabel IV.3 Pengaruh waktu terhadap selisih berat dengan arus tetap 300 mA t(menit) W0(gr) Wt(gr) W (gr) 4 8 12 16 20 8,5 8,5 8,5 8,5 8,5 9,1 9,3 9,3 9,5 9,9 0,6 0,8 0,8 1 1,4

Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

IV-4 Hasil Percobaan dan Pembahasan

1,4

1,2

W (gram)
1

0,8

0,6 4 8 12 16 20

t (menit) Grafik IV.3 Pengaruh waktu terhadap selisih berat dengan arus tetap 300 mA Berdasarkan Grafik dapat dilihat bahwa selisih berat mengalami kenaikan pada variabel waktu 8,16, dan 20 menit. Hal ini sesuai dengan teori yang menyebutkan, semakin lama waktu pelapisan maka semakin berat pula hasil pelapisan logam yang dihasilkan. Dalam percobaan ini larutan yang digunakan tetap CuSO4. Dari hasil percobaan, semakin lama waktu yang digunakan maka pertambahan berat pada besi semakin besar. Pertambahan berat disebabkan oleh pengendapan Cu pada besi. Hal ini sesuai dengan Hukum Faraday yang menyebutkan bahwa Banyaknya zat yang dihasilkan pada elektroda sebanding dengan jumlah arus yang dialirkan pada zat tersebut Tabel IV.4 Pengaruh waktu terhadap kuat arus dengan arus tetap 300 mA t(menit) W0(gr) Wt(gr) I (mA) W (gr) 4 8 12 16 20 8,5 8,5 8,5 8,5 8,5 9,1 9,3 9,3 9,5 9,9 0,6 0,8 0,8 1 1,4 267 265 265 280 280

Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

IV-5 Hasil Percobaan dan Pembahasan


280

275

I (mA)
270

265

260 4 8 12 16 20

t (menit) Grafik IV.3 Pengaruh waktu terhadap kuat arus dengan arus tetap 300 mA Berdasarkan Grafik diatas dapat diketahui hubungan waktu dan kuat arus pada proses elektroplating mengalami kenaikan pada waktu 16 menit dan 20 menit. Sedangkan penurunan pada waktu 8 menit. Dalam proses pelapisan logam, lapisan menjadi kasar dan mudah terlepas akibat ketidaksesuaiannya kondisi-kondisi sistem. Semakin lama waktu pelapisan maka nilai W semakin besar. Hal ini dikarenakan proses electroplating berlangsung lebih lama, sehingga elektroda Cu teroksidasi semakin banyak untuk melapisi logam Fe. Hal ini sesuai dengan teori yang ada bahwa massa zat (m) yang timbul berbanding lurus dengan jumlah listrik yang mengalir (I).

Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

BAB V KESIMPULAN
1. Kondisi optimum percobaan terjadi pada variabel arus tetap 300 mA yaitu dengan rata-rata selisih berat sebesar 0,92 gram, sedangkan kondisi minimum terjadi pada variabel arus tetap 100 mA yaitu dengan rata-rata selisih berat sebesar 0,28 gram. 2. Semakin besar variabel arus tetap (I), maka semakin besar selisih berat (W) yang dihasilkan. 3. Selisih berat tertinggi terjadi pada proses pelapisan logam dengan variabel waktu 20 menit yaitu sebesar 1,4 gram. Sedangkan pada proses pelapisan logam dengan variabel waktu 5 menit memiliki selisih berat terendah yaitu 0,5 gram. 4. Semakin lama proses pelapisan logam, maka lapisan yang terbentuk semakin banyak dan permukaan menjadi semakin kasar.

V-1

DAFTAR PUSTAKA

Dessykimiapasca. reaksi-redoks. Diakses di (dessykimiapasca.wordpress.com/kimiaxii/ reaksi-redoks/pengertian/) pada tanggal 12 November 2013 Mgmpkimiabms. 2009. Pelapisan logam (elektroplating). Diakses di (mgmpkimiabms. wordpress.com/2009/11/05/pelapisan-logam-elektroplating/) pada tanggal 12 November 2013 Repository. 2011. Chapter II. Diakses di (repository.usu.ac.id/bitstream/123456789/ 29125/4/Chapter%20Iipdf) pada tanggal 12 November 2013. IPIEMS. 1983. Edumedia. Surabaya: IPIEMS group

DAFTAR NOTASI
Simbol W0 Wt W Keterangan Berat Awal Berat Akhir Selisih Berat Satuan Gram Gram Gram

vi

APPENDIKS Selisih berat logam dengan arus 100 mA


t1=4 menit => W1 = Wt - W0 = 12,6 12,5 = 0,1 gram t2=8 menit => W2 = Wt - W0 = 12,6 12,5 = 0,1 gram t3=12 menit => W3 = Wt - W0 = 12,8 12,5 = 0,3 gram t4=16 menit => W4 = Wt - W0 = 12,9 12,5 = 0,4 gram t5=20 menit => W5 = Wt - W0 = 13,0 12,5 = 0,5 gram

Selisih berat logam dengan arus 300 mA


t1=4 menit => W1 = Wt - W0
=

9,1 8,5

= 0,6 gram

vii

t2=8 menit

=>

W2 = Wt - W0 = 9,3 8,5 = 0,8 gram

t3=12 menit

=>

W3 = Wt - W0 = 9,3 8,5 = 0,8 gram

t4=16 menit

=>

W4 = Wt - W0 = 9,5 8,5 = 1,0 gram

t5=20 menit

=>

W5 = Wt - W0 = 9,9 8,5 = 1,4 gram