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Objetivo:
Dar a conocer otro tipo de transistores, como los de efecto de campo, de la variedad de
compuerta aislada. ISOLATED GATE BIPOLAR TRANSISTOR o IGBT o MOSFET
Metal Oxido Semiconductor FIELD EFFECT TRANSISTOR.
Establecer el mtodo de polarizacin y detreminar la ganancia, as como obtener las curvas
de salida y de transferencia.
Materiales y Equipo:
1 Fuente DC + cables
1 protoboard
1 osciloscopio c/2 cables
1 multmetro
1 Generador de funciones
Procedimiento:
Vo
240K
b) Polarizar el circuito y medir las tensiones de cada terminal del MOSFET respecto a tierra:
VG = _____________
VS = _____________
VD = _____________
c) Variar la resistencia R2 para obtener los voltajes VD y VG del cuadro siguiente, el que
nos muestra diferentes puntos de operacin del MOSFET
VDS
12v
Si es necesario, cambiar la resistencia RD, de acuerdo a las caractersticas del Transistor
f) Trazar las curvas de transferencia ID VGS
ID
VD
VDS-VGS
VGS
VGS
g) Considerando una resistencia R2, de tal valor que mantenga VD casi a la mitad de la
fuente, aplicar en Vin una seal de 25 mV a la frecuencia de 1 KHz y medir la seal de
salida Vo. Determinar la ganancia del MOSFET
Vo = .
Av(MOSFET) = .
Vo(max) s/d = .
Cuestionario:
1. Analizar la fsica de conduccin del Transistor MOS FET, tanto de cana N como de
canal P
Un transistor de efecto de campo metal-xido-semiconductor (MOSFET) se basa en
controlar la concentracin de portadores de carga mediante un condensador MOS
existente entre los electrodos del sustrato y la compuerta.
Comparado con el condensador MOS, el MOSFET incluye dos terminales
adicionales (surtidor y drenador), cada uno conectado a regiones altamente
dopadas que estn separadas por la regin del sustrato. Estas regiones pueden ser
de tipo p o n, pero deben ser ambas del mismo tipo, y del tipo opuesto al del
sustrato.
cuando se aplica una tensin de compuerta suficiente, el borde de la banda de valencia se
aleja del nivel de Fermi, y los huecos presentes en el sustrato son repelidos de la