Anlisis de Reactores Qumicos

Dr. Alejandro Gonzlez lvarez

Cdigo: 215314141
Gmez Martnez Juan Jos

Rate analysis of chemical vapor deposition by use of the thin tubular reactor
(Motoaki Kawase, Kouichi Miura)
El artculo nos habla del anlisis de la velocidad de deposicin de vapor qumico utilizando
un reactor tubular delgado bajo condiciones isotrmicas y no isotrmicas.
Comnmente el anlisis de velocidad de una reaccin CVD (Chemical Vapor Deposition)
presenta los siguientes problemas: (i) las reacciones de CVD son rpidas y son
controladas por la transferencia de masa, (ii) las reacciones de CVD estn conformadas
por reacciones en fase gaseosa y reacciones superficiales tanto en serie como en
paralelo, y (iii) el reactivo de una reaccin CVD a veces sufre reacciones en fase gaseosa
independientemente de crecimiento de la pelcula. Para poder evitar estos problemas, se
sugiri y aplico el uso de un reactor tubular delgado para el anlisis de la velocidad de
reaccin CVD. Mediante el anlisis de la velocidad de un reactor tubular, es posible juzgar
si el camino dominante de la reaccin ser la reaccin en fase gaseosa o la reaccin de
superficie. Esto se logr examinando el efecto del dimetro del tubo en la velocidad de
crecimiento. El objetivo de este estudio es demostrar un mtodo de anlisis de la
velocidad de CVD mediante el uso de un reactor tubular delgado bajo condiciones
diferenciales. Un anlisis de un reactor diferencial es ms conveniente cuando la forma de
la ecuacin de velocidad de reaccin es compleja y cuando la selectividad de deposicin
es baja debido a reacciones secundarios que forman productos gaseosos. Se usara la
CVD de carbono piroltico a partir de etileno para examinar la reaccin en la superficie,
mientras que la CVD de almina del aluminio triisopropxido (ATI), se utilizara para
examinar la reaccin en fase gaseosa. Se hicieron experimentos para reactores
isotrmicos y no isotrmicos, para los isotrmicos, las temperaturas de las secciones del
horno se controlaron de manera que la distribucin de la temperatura en el reactor fuera
uniforme. Para los experimentos no isotrmicos, se diseo para que la distribucin de la
temperatura en el reactor fuera intencionadamente no uniforme. Despus de realizar la
experimentacin se concluyo lo siguiente, la corta longitud de difusin en el tubo delgado
reduce la resistencia de la transferencia de masa. Esto se verific midiendo el efecto de
la presin total sobre la velocidad de crecimiento de la pelcula. Dado que la composicin
del gas es conocida, es posible obtener simultneamente los datos de la velocidad de
crecimiento a diferentes temperaturas en el reactor no isotrmico. La resistencia de
transferencia de masa se examin midiendo el efecto de presin total sobre la velocidad
de deposicin. El corto tiempo de residencia cre una composicin de gas prcticamente
uniforme en el reactor y permiti la medicin de la reaccin primaria del reactivo de forma
independiente de las reacciones secundarias. Fue posible juzgar el camino de reaccin
dominante, ya sea de la reaccin en fase gaseosa o de la reaccin en la superficie,
mediante el examen de la dependencia de la velocidad de crecimiento de la pelcula en el
dimetro del reactor.
Este mtodo fue aplicado con xito en el anlisis de la velocidad CVD de carbono
piroltico apartir de etileno y se llego a la conclusin que el camino de reaccin dominante
es el de la reaccin en la superficie. En el caso de CVD almina a partir de ATI, se
encontr que el camino de reaccin dominante es la reaccin en la fase gaseosa .El
reactor tubular delgado demostr ser una conveniente y herramienta experimental de bajo
costo para el anlisis de la velocidad de deposicin trmica de vapor qumico.