Interaction lumire-matire

Acclration laser de particules

dans un plasma
Les lasers et les plasmas remplaceront peut-tre un jour les acclrateurs actuels pour produire
les faisceaux de particules de trs haute nergie utiliss par les physiciens des particules
lmentaires dans leur qute des constituants fondamentaux de la matire et des forces
qui les gouvernent. Un faisceau laser de puissance agit sur les particules charges qui constituent
un plasma. En sparant un petit peu les lectrons ngatifs des ions positifs, il gnre un champ
de charge despace trs suprieur aux champs produits dans les cavits radiofrquence utilises
actuellement. Au cours dune exprience runissant des physiciens des lasers, des plasmas
et des particules lmentaires, nous avons acclr des lectrons de 3 MeV dnergie initiale
en leur communiquant une nergie supplmentaire de 1,4 MeV dans un champ dune amplitude
proche du gigavolt par mtre et sur une longueur de quelques millimtres. Cette premire tape
annonce de nouveaux dveloppements dans le domaine de lacclration laser de particules.

la recherche des particules

lmentaires et des forces
qui les rgissent, les physiciens utilisent des faisceaux de particules de trs haute nergie. Lnergie dans le centre de masse leve
des particules en interaction est ncessaire pour produire et tudier des
objets lourds (E = mc2 ), comme les
bosons de jauge de linteraction lectrofaible Z0(91 GeV/c2),
W(80 GeV/c2), et plus rcemment
le quark top (170 GeV/c2). Il est
aussi possible de tester llmentarit des particules jusqu de trs
courtes distances, (1018 m actuellement pour llectron). Lnergie
maximale atteinte dans un acclrateur dlectrons circulaire est limite
par le rayonnement synchrotron,

Cet article correspond un travail ralis

en collaboration avec J.R. Marqus,
F. Moulin (LULI, Ecole Polytechnique),
Ph. Min, F. Jacquet, A.E. Specka
(LPNHE, Ecole polytechnique), J. Morillo
(SESI, Ecole polytechnique), P. Mora
(CPTH, Ecole polytechnique), B. Cros,
G. Matthieussent (LPGP, Orsay), C. Stenz
(GREMI, Orlans), A. Modena, Z. Najmudin (Imperial College, Londres).

rayonnement mis par les particules

charges le long de leur trajectoire
courbe : le prochain collisionneur
e+ e sera linaire. Lnergie maximale dun acclrateur de longueur
donne est alors dtermine simplement par le champ acclrateur disponible. Lalliance entre un laser de
puissance et un plasma permet de
produire des champs lectriques acclrateurs bien suprieurs au
GV/m. Ce mariage constituera peuttre loutil de lavenir de la physique des particules.
Un plasma chaud est constitu de
particules charges ngativement,
les lectrons, et positivement, les
ions. Obtenu par ionisation dun gaz
ou dun solide, ce plasma est globalement neutre. Toutefois, en sparant un peu les lectrons des ions,
on cre un champ lectrique de
charge despace qui tend ramener
les particules vers leur position
dquilibre. Livrs eux-mmes, les
lectrons oscillent la manire dun
oscillateur harmonique une frquence caractristique, la frquence
plasma, qui ne dpend que de leur
densit (cf. encadr 1). Les ions
plus lourds restent immobiles. La
vitesse de phase de cette onde
plasma dpend de sa longueur

donde et peut, en particulier, tre

trs proche de la vitesse de la
lumire. La perturbation de la densit lectronique sexprime sous la
forme ne = neo d cos (xp t kp x)
o neoest la densit moyenne en
lectrons par cm3, et o la pulsation
plasma est donne par xp =

=neoe2/me0. Le champ maximum

correspondant une perturbation

damplitude relative d est obtenu
partir de lquation de Poisson
E/x = ene /e0. Il scrit
Emax = mcxp d/e
soit
Emax @ GV/m # = 30 d =neo /10

17

o on a suppos que xp = kp c.
Pour un plasma de densit gale
1017 e/cm3, correspondant 2 mbar
de deutrium compltement ionis,
et une perturbation de densit relativement faible proche de 3 %, le
champ lectrique vaut 1 GV/m.
Comment utiliser ce champ pour
acclrer des particules ? Un lectron inject dans une onde plasma
une vitesse proche de sa vitesse de
phase reste longtemps dans une
arche acclratrice et le gain dnergie accumul le long du trajet est
trs lev (cf. encadr 2). Dans le
61

Encadr 1

ONDE PLASMA LECTRONIQUE

En prsence dune perturbation de densit lectronique, le
champ de charge despace E exerce une force de rappel F qui
fait osciller les lectrons avec une pulsation

xp = =neo e /meo , appele frquence plasma, qui ne dpend

que des paramtres lectroniques : neo la densit lectronique
lquilibre, e et m la charge et la masse de llectron. Dans
un trs large domaine, la frquence doscillation des lectrons
dpend peu de la longueur donde des perturbations et reste
trs proche de la frquence plasma.
2

Les perturbations de densit lectronique se propagent dans le

plasma sous la forme dondes progressives. La vitesse de
phase mu dune onde monochromatique de pulsation xp est
donne par : mu = xp /kp = xp kp /2 p. On sintresse ici des
ondes de vitesse de phase relativiste pour lesquelles la
longueur donde est proche de 2 pc/xp.

Trois courbes des temps successifs montrant le dplacement la

vitesse de phase de la structure du champ lectrique.

cas recherch o llectron est dj

ultra-relativiste (de vitesse proche
de c), la distance dacclration, calcule dans lencadr 2, est donne
2
par l = c kP. Le gain dnergie
maximum est alors gal :
_ Wmax = eEmax . ~ 2/p ! . l =
4 c mc d 2 c d @ MeV #
2

Pour une onde de facteur relativiste

c = 100 et une longueur donde
plasma kp = 100 m, le gain
dnergie
maximum
est
de
DWmax = 20 GeV sur une distance
l = 1 m ; encore faut-il savoir produire ces champs sur une telle longueur.
Comment crer ces ondes
plasma ? Lingrdient qui permet de
transfrer une partie de lnergie
dun faisceau laser de puissance
une onde plasma acclratrice est
la force pondromotrice. Dans un
champ lectromagntique, une particule charge est soumise la force
de Lorentz q~ E + m B !. Au
mouvement doscillation transverse
la frquence du champ E, se rajoute, dans le cas dun champ inhomogne, un mouvement non-linaire
de drive vers les zones de champ
faible. A ce mouvement moyen sont
62

associes une nergie potentielle

2
2
effective ~ eE0 ! /4 mx0 et une
force, la force pondromotrice
2
2
Fp = ~ eE0 ! /4 mx0 o E0
est lamplitude locale du champ
lectrique et x0 sa pulsation.
Comme cette force agit prfrentiellement sur les lectrons plus lgers,
elle a tendance les regrouper dans
les zones de champ faible en laissant immobiles les ions plus lourds.
Deux mthodes principales sont
proposes pour utiliser cet effet afin
de crer une onde plasma : le battement dondes et le sillage.
Dans le premier cas, le battement
de deux faisceaux laser de frquences proches cre une structure inhomogne qui agit de faon priodique sur les lectrons (cf. encadr 3).
Si la frquence de battement est
proche de la frquence naturelle
doscillation des lectrons, le champ
de charge despace lie cette oscillation crot progressivement. Au
contraire, dans le cas du sillage, une
impulsion laser ultra-brve pousse
les lectrons une fois vers lavant et
une fois vers larrire. Les lectrons
oscillent alors librement dans le
sillage du paquet de photons. Dans
les deux cas, la vitesse de phase mu
de londe plasma est gale la

vitesse de groupe mg des ondes

lectromagntiques qui, comme le
plasma de faible densit est presque du vide , est trs proche de la
vitesse de la lumire. Le facteur relativiste associ est donn par :
c = 1/=1 mu /c = x/xp .
2

Dans lexprience dveloppe

lEcole polytechnique, nous avons
tudi la mthode du battement
dondes. Deux impulsions laser
1,0530 m et 1,0642 m sont focalises dans une enceinte remplie de
deutrium la pression de rsonance, telle que x1 x2 = xp,
proche de 2 mbar. Les faisceaux laser, dont les dures mi-intensit
sont respectivement 90 ps et 160 ps,
sont focaliss (cf. figure 1) dans un
diamtre mi-hauteur de 60 m
un flux de quelques 1014W/cm2. Ils
ionisent le gaz puis excitent une
onde plasma lectronique la
frquence de battement. Un faisceau dlectrons de 3 MeV est inject et focalis dans lenceinte au
mme endroit et dans la mme direction que les faisceaux lumineux.
1 000 lectrons/picoseconde entrent
ainsi dans la rgion dinteraction
avec un diamtre mi-hauteur de
100 m. Les lectrons acclrs

Interaction lumire-matire

Encadr 2

ACCLRATION DANS UNE ONDE PROGRESSIVE

Un lectron de vitesse me (de facteur relativiste ce ! inject
dans une onde de vitesse de phase m (de facteur relativiste c !
est acclr tant quil reste dans une arche acclratrice, soit
sur une distance kp /2. La longueur de dphasage
correspondante dans le repre du laboratoire est donne par
l = me kp /2 u me m u . Dans le cas dune onde relativiste et dun
2
lectron ultra-relativiste cette longueur vaut l = c kp. Dans le
2
cas contraire dun lectron plus lent que londe, l = ce kp.

La figure prsente une mme arche acclratrice trois

instants diffrents. Un lectron de facteur relativiste ce est
inject dans une onde dont la phase a un facteur relativiste c.
Entr au dbut du plasma au temps t1, llectron avance
progressivement dans la zone acclratrice pour en sortir au
temps t3 lextrmit du plasma.

Encadr 3

BATTEMENT DONDES ET SILLAGE LASER

La force pondromotrice pousse les lectrons vers les zones de
champ faible.
Battement dondes : le battement entre deux faisceaux laser de
frquences proches x1et x2 produit une force priodique la
frquence x1 x2 et de vecteur donde k1 k2. Cette force
est rsonante avec les oscillations naturelles de plasma si
x1 x2 xp. La vitesse de phase de londe plasma excite
est x1 x2 /k1 k2 qui est aussi la vitesse de groupe des
ondes lectromagntiques transverses. A partir de leur relation
2
2 2
2
de dispersion dans un plasma x = xp + k c , on obtient la
2 1/2
2
vitesse de groupe mg = c . ~ 1 xp /x ! . Dans le cas dun
plasma de faible densit o x @ xp, on retrouve la relation
de dispersion dans le vide x kc et la vitesse de groupe est
trs proche de c. De plus la longueur donde de la
perturbation est

Carr du champ lectrique E en prsence de deux ondes lectromagntiques de longueurs dondes proches : la force pondromotrice est
lie lenveloppe de loscillation haute frquence. Lensemble se dplace la vitesse de groupe mg.

Sillage : pousss par limpulsion laser brve une fois vers

lavant et une fois vers larrire, les lectrons oscillent ensuite
librement dans son sillage. Leffet est optimum quand la
longueur de limpulsion est proche dune demi-longueur
donde plasma : kp /2 = pc/xp.

kp = 2 p/~ k1 k2 ! 2 pc/~ x1 x2 ! 2 pc/xp.

Reprsentation du carr du champ lectrique laser, de la force pondromotrice associe son enveloppe et du champ lectrique de
sillage.

sont analyss laide dun spectromtre magntique et mesurs par un

dtecteur compos de 10 ensembles
scintillateur-photomultiplicateur.

Les rsultats obtenus sont rsums sur la figure 2. Le gain dnergie dpend de lamplitude du champ
d, de la longueur de la zone accl-

ratrice et de lnergie des lectrons

injects. Les deux paramtres exprimentaux que nous avons modifis
sont la longueur focale de la lentille
63

et londe acclratrice. La vitesse

de phase de londe acclratrice
@ c = 94,5 # reste, dans notre cas,
plus leve que la vitesse des lectrons tout au long du plasma @ ce ne
dpasse pas 9]. La longueur de
dphasage est alors donne par :
2
2
l ce kp = cce k0, o k0 est la
longueur donde laser, et est proche
de 3,6 mm, une valeur comparable
la longueur dinteraction entre les
lasers et le plasma. Si le plasma est
trop long, comme dans le cas dune
focale longue, ou lnergie initiale
trop faible, llectron voit successivement des zones acclratrices et
dclratrices ; le gain dnergie est
alors fortement diminu.

Figure 1 - Schma du montage exprimental de lexprience dacclration dlectrons par battement dondes laser lEcole polytechnique.

Figure 2 - Spectres en nergie des lectrons acclrs.

Nombre dlectrons acclrs par canal de dtection. A gauche : spectres obtenus avec les deux longueurs focales. A droite : spectres obtenus avec la courte focale et trois nergies dinjection. Les
courbes en pointill sont les rsultats des simulations avec une longueur L = 2,8 mm, une amplitude
maximum dmax = 2,4 %, et un champ constant pendant 3 ps.

de focalisation des faisceaux laser

qui dtermine par la limite de diffraction la largeur de la tache focale
et donc lintensit laser maximum et
lamplitude de perturbation d, et la
longueur de la zone de gnration
de londe de battement , et lnergie dinjection du faisceau dlectrons. Nous avons utilis deux longueurs focales, une longue de
1,5 m et une courte de 1,2 m et
nous avons fait varier lnergie dinjection de 2,5 MeV 3,3 MeV, ner64

gie maximum fournie par linjecteur. Dans tous les cas, on observe
un grand nombre dlectrons acclrs. Avec la focale longue et une
nergie dinjection de 3 MeV, le
gain dnergie maximum mesur est
de 0,8 MeV. Avec la focale courte,
le gain dnergie passe 1,3 MeV,
et atteint 1,4 MeV pour une nergie
dinjection de 3,3 MeV. Ces chiffres
mettent en vidence un effet dominant dans ces expriences : le dphasage entre les lectrons injects

Lanalyse des diffrents spectres

de la figure 2 permet de remonter
aux paramtres longueur caractristique dacclration L et amplitude de la perturbation de densit
lectronique dmax. Le calcul tient
compte des caractristiques relles
du faisceau dlectrons (mittance,
taille du faisceau focalis), et de la
tache focale mesure du faisceau
laser. En faisant lhypothse dune
onde plasma prsentant un profil
transverse gaussien et un profil longitudinal lorentzien de largeur mihauteur L (cf. figure 3), laccord est
obtenu
pour
une
longueur
L = 2,8 mm et une perturbation de
densit dmax = 2,4 %, soit un
champ
lectrique
maximum
Emax 0,7 GV/m. Le nombre total
dlectrons mesurs correspond
une dure de vie de londe acclratrice de lordre de 3 ps. La valeur
de lamplitude est compatible avec
lestimation (0,5-5 %) obtenue prcdemment par lobservation de la
diffusion Thomson cohrente dun
faisceau laser sonde sur les ondes
plasma.
Quels sont les mcanismes physiques qui dterminent les valeurs de
la longueur L, de lamplitude dmax
et de la dure de vie de londe acclratrice ? Ils sont de deux sortes :
perte de la condition de rsonance
dune part, et transfert dnergie entre diffrents modes propres doscillation du plasma dautre part.

Interaction lumire-matire

Figure 3 - Gomtrie du laser et de londe

acclratrice.
Le faisceau laser incident de profil radial gaussien est focalis par une lentille. Le profil longitudinal de londe acclratrice est alors
lorentzien sur laxe, et son profil transverse est
gaussien. L est la longueur mi-hauteur de la
zone dacclration. Elle est lie la limite de
diffraction du faisceau focalis, qui dpend du
diamtre initial du faisceau laser et de la longueur focale de la lentille de focalisation.

Lexcitation de londe plasma par le

battement dondes est un phnomne rsonnant, et toute modification de la frquence naturelle doscillation des lectrons xp entrane
un dphasage par rapport au terme
dexcitation la diffrence de frquence entre les deux faisceaux
x1 x2. Cette modification peut
provenir dun changement de la
densit lectronique : les faisceaux
laser et londe acclratrice ellemme creusent un trou dans le
plasma par lintermdiaire de la
pression de radiation. Elle se produit galement lorsque le mouvement lectronique dans londe
plasma devient relativiste.
Un plasma est un milieu qui supporte diffrents types dondes : lectromagntiques, lectrostatiques ioniques ou lectroniques. La longueur donde de ces dernires peut
galement varier dans un domaine
trs large correspondant des vitesses de phase trs faibles ou, au
contraire, comme londe acclratrice, relativistes. Toute onde intense
a tendance se dcomposer en
dautres ondes par lintermdiaire
de mcanismes instables. Dans le
cas des ondes plasma engendres
par le battement dondes, elles se
dcomposent en ondes ioniques et

en ondes lectroniques de vitesses

de phase faibles et, par consquent,
inefficaces pour lacclration de
particules. Le temps caractristique
de croissance de ce couplage est
proche de la priode doscillation
ionique qui vaut, dans le cas du
deutrium une densit proche de
1017 e/cm3, environ 3 ps.
Limportance de chacun de ces
mcanismes, variation de densit ou
instabilits, dpend des caractristiques des lasers utiliss, frquence,
intensit et longueur donde, et de la
densit du plasma. Il est en gnral
difficile de dgager un seul mcanisme responsable de larrt de la
croissance de londe acclratrice.
Dans notre cas le calcul et lexprience montrent que leffet dominant
est la gnration dondes acoustiques ioniques basse frquence qui,
en modulant le profil de densit
dans le plasma, rendent impossible
un bon couplage rsonnant entre les
lasers et londe plasma acclratrice. Dans le cas des expriences
ralises avec des lasers gaz carbonique des longueurs donde
proches de 10 m et une densit
plasma 10 fois plus faible de
1016 e/cm3, londe lectronique de
battement atteint des niveaux plus
levs et le dphasage relativiste est
la cause dominante de saturation.
Lamplitude peut alors atteindre
dmax 30 % et le champ lectrique est de quelques GV/m. Dans
ces conditions, des lectrons injects ont t acclrs jusqu une
nergie de 30 MeV. La vitesse de
phase est toutefois plus faible
~ c 30 !, limitant le gain dnergie maximum dans le cas dlectrons ultra-relativistes.
Lensemble des rsultats obtenus
a permis de confirmer le principe de
lacclration de particules par battement dondes et de mieux cerner
les mcanismes physiques interve-

nant dans la croissance et la saturation des ondes. Lobtention de

champs plus levs passe par la production dimpulsions laser plus
courtes, de lordre de quelques picosecondes, et dune intensit plus
leve.
La mthode du sillage, fonde
sur lutilisation dimpulsions subpicosecondes, engendre le champ
acclrateur quasi instantanment
(cf. encadr 3). Cette mthode est
en principe plus simple que le battement dondes, car elle nutilise
quun faisceau laser et ne ncessite
pas un accord trs fin entre la densit lectronique et la dure de limpulsion. Pour obtenir des champs
acclrateurs levs, il faut, par
contre, disposer de faisceaux laser
ultra-brefs et ultra-intenses. Le dveloppement rapide de ce type de
lasers rend maintenant possibles des
expriences dacclration de faisceaux par sillage.
Lavenir de lacclration laser de
particules va se jouer dans les annes qui viennent. Technique efficace dacclration de faisceaux
ultra-relativistes pour la physique
des particules, ou simple priptie
passionnante ayant uni pour un
temps diffrentes communauts ?
Lavenir nous le dira.
POUR EN SAVOIR PLUS
Dawson (J.) Les acclrateurs de particules plasma, Pour la Science (Mai
1989).
Advanced Accelerator Concepts, dit
par Paul Schoessow, AIP Conference
Proceedings 335 (AIP, New York
1995).
Amiranoff (F.) et al., Phys. Rev. Lett.
68, 3710 (1992).
Amiranoff (F.) et al., Phys. Rev. Lett.
74, 5220 (1995).
Clayton (C.E.) et al., Phys. Rev. Lett.
70, 37 (1993).

Article propos par : Franois Amiranoff et Denis Bernard, tl. : 01 69 33 48 03,

01 69 33 31 60.

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