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DEPOSICIN QUMICA EN FASE DE VAPOR o CVD

CIENCIA E INGENIERA DE MATERIALES


Recubrimientos metlicos

L. Guerra
03 de mayo de 2017

Resumen.-. La optimizacin de los tratamientos condiciones del proceso, con los que se depositan una
superficiales y en especial la creciente aplicacin de los variedad de compuestos gaseosos [1].
recubrimientos metlicos, a las piezas y herramientas en
general que requieren mayores exigencias, permiten obtener
resultados considerados en sus propiedades y
caractersticas. El objetivo de este artculo es informar sobre
las capas C.V.D., su principio, generacin, sus beneficios
que se estn obteniendo mediante su aplicabilidad, sus
caractersticas, sus aplicaciones industriales y su correcta
eleccin.

DEFINICIN
Fig. 2 Esquema de un proceso CVD
Fuente: (Gomez. J, 2009)

En estos procesos la activacin de los gases puede llevarse a


cabo trmicamente, mediante fotones o con la utilizacin de un
plasma.

1. Activacin trmica: cuando se hace por calentamiento


directo de los reactivos [2].
- Convencional
- A baja presin
Fig. 1 Micrografa de una capa de obtenida por proceso CVD. - Organometlico
Fuente: (Dobkin & Zuraw, 2003) - Con filamento caliente
- Por Pack cementation
La deposicin qumica en fase de vapor CVD, es un proceso - Reactor de lecho fluidizado
de recubrimiento termoqumico que implica la interaccin entre
una mezcla de gases y la superficie de un sustrato calentado, 2. Activacin por plasma.- mediante una descarga
lo que provoca la descomposicin qumica de algunas de las elctrica o plasma de tipo luminosa las cuales crean
partes del gas y la formacin de una pelcula slida en el lugares con radicales en los cuales reaccionan
sustrato para enriquecer la superficie del componente. Las productos qumicos facilitando la adhesin de
reacciones ocurren en una cmara de reaccin sellada. Existen superficies no reactivas [2].
numerosos procesos de CVD, dependiendo del campo de - Por plasma
aplicacin. Estos procesos se diferencian en el medio por que
se inician las reacciones qumicas (activacin) y las 3. Activacin por fotones.- se produce mediante la
excitacin de las molculas reactivas por iluminacin
con fotones de energa elevada (luz ultravioleta) o de Ventajas de los recubrimientos CVD.
intensidad elevada (radiacin laser) [2]. El CVD es un sistema que ofrece las siguientes ventajas:
- Foto CVD
- CVD asistida por plasma - La principal ventaja de la CVD frente a otras tcnicas
de deposicin de recubrimientos es su capacidad de
Aspectos bsicos de las reacciones de CVD. envolver y penetrar piezas con geometras muy
complejas.
La reaccin de uno o varios compuestos en forma de gas o
- Mayor calidad, se pueden producir materiales
vapor para dar un producto slido (recubrimiento), hay dos
altamente densos y puros.
tipos de reaccin, se muestra en la Figura1 [2]:
- Pelculas o capas delgadas uniformes con buena
reproducibilidad y adhesin.
- Homognea: Fase gas - Polvo cermico.
- Mediante el estudio de los parmetros del proceso es
- No homognea (heterognea): Superficie-
posible controlar la estructura cristalina, la morfologa
Recubrimiento.
de la superficie y la orientacin de los productos del
Cmo se generan los recubrimientos CVD. CVD.
En un proceso CVD estndar el sustrato se expone a uno o - Permite obtener capaz ms gruesas.
ms precursores voltiles, que reaccionan o se descomponen - Velocidades elevadas.
en la superficie del sustrato para producir el depsito deseado.
Donde adems se producen subproductos voltiles, que son Desventajas de los recubrimientos CVD.
eliminados por medio de un flujo de gas que pasa a travs de
- Riesgos qumicos y seguridad, debido a que
la cmara de reaccin. Las capas creadas mediante este
precursores utilizados suelen ser, txicos, corrosivos,
proceso, estn en el intervalo de temperaturas entre 500 y 750
inflamables, y/o explosivos. Sin embargo, stos han
C, que confieren buenas propiedades tecnolgicas y
sido minimizados usando variantes en el CVD
tribolgicas a una amplia gama de materiales. Los procesos de
mtodos que emplean precursores menos
microfabricacin CVD se emplean ampliamente para depositar
contaminantes.
materiales en diversas formas, incluyendo: monocristalinos,
- Control y ajuste sobre las variables.
policristalinos, amorfo, y epitaxial. Estos materiales incluyen:
- Los costos del proceso son altos. Actualmente existen
silicio, fibra de carbono, nanofibras de carbono, tungsteno,
variantes del proceso que pueden ser una buena
carburo de silicio, nitruro de silicio, El proceso de CVD se utiliza
alternativa para la aplicacin de recubrimientos con
tambin para producir diamantes sintticos [3].
costos de produccin ms bajos.

Beneficios del recubrimiento CVD.


Materiales adecuados para el tratamiento con CVD.
Los beneficios que ofrecen los recubrimientos CVD al
Todos los aceros de alta y baja aleacin y los metales duros se
emplearlo en equipos recubiertos con esta tcnica son
pueden recubrir con el proceso de CVD. Casi todos los
considerables, porque hace a los equipos ms fiables,
materiales como los metales, plsticos y cermicas se pueden
prolongando la vida til, por su alta resistencia al desgaste y
revestir con el proceso CVD.
excelente adherencia al metal duro. Recubrimientos CVD ms
modernos combinan MT-Ti(C, N), Al2O3 y TiN. Donde las
propiedades del recubrimiento se han mejorado de forma Propiedades generales y caractersticas de los
continua en cuanto a adherencia, tenacidad mejor resistencia a recubrimientos CVD.
la deformacin plstica, desgaste mediante optimizacin - Alta resistencia al desgaste
microestructural y tratamiento posterior. Todo esto gracias a las - Gran dureza
caractersticas que brinda de esta tcnica: versatilidad, - Conductividad elctrica mejorada de las superficies
compatibilidad con otros tratamientos y procesos, posibilidad - Gran precisin dimensional
de controlar la composicin del producto y obtener capas de - Mayor nivel de pureza en sus capas
composicin prefijada y su homogeneidad de espesor obtenido - Propiedades pticas mejoradas
[4]. - Propiedades antifriccin ptimas
Las propiedades de este tipo de recubrimientos CVD dependen - Optimizacin de las propiedades adhesivas
significativamente de la qumica del material base, - Resistencia excelente a la corrosin
especialmente en el caso de los recubrimientos de alta
actividad [5].
Aplicaciones de la tcnica CVD.
Las aplicaciones de la deposicin qumica de vapores (CVD)
se pueden clasificar segn las caractersticas funcionales de
los productos obtenidos [6]:
- Aplicaciones elctricas
- Opto-elctricas
- pticas
- Mecnicas y
- Qumicas

Clasificacin que corresponde a las diversas reas de la


industria, tales como: la industria electrnica, ptica, de las
herramientas, y la industria qumica. Las aplicaciones de la
tcnica CVD tambin se clasifican por la forma de los
productos obtenidos como recubrimientos, polvos, fibras y
composites.

Figura 3. Herramientas con tratamiento CVD.


Fuente: (Alcotanes. CL, 2010)

Referencias.

[1] J.-T. Wang (2017). Chapter 7 Chemical Vapor Deposition


and Its Applications in Inorganic Synthesis, Modern [6] Alcotanes, CL. (2010). Recubrimientos Metlicos mediante
Inorganic Synthetic Chemistry, 167- CVD. Recuperado de www.trateriber.es
188.doi.org/10.1016/B978-0-444-63591-4.00007-0

[2] Dobkin & Zuraw (2003). Principles of Chemical Vapor


Deposition. Kluwer. ISBN 978-94-017-0369-7

[3] Gomez, J. (2009). La Deposicin Qumica en fase de Vapor


o CVD. Recuperado de
https://es.scribd.com/doc/232387491

[4] Sherman, A. (1987), Chemical Vapor Deposition for


Electronics, Noyes Publications, Park Ridge, NJ

[5] Llus Carreras. Sandra Bueno. Francesc Montalherman, A.


(1998), Recubrimientos duros obtenidos por procesos
C.V.D., T.R.D.D., P.V.D. Recuperado de
http://www.grupttc.com/treballs/trabajocongresonacion
alingmet1998.pdf