Fakultet elektrotehnike, strojarstva i brodogradnje

Sveučilišta u Splitu
Dr. sc. Ivan Zulim, red. prof.
ELEKTRONIKA
Prvi dio
( predavanja )
Privremeno izdanje
samo za internu uporabu
Split, ožujak 2003.
1. ČVRSTA TVAR
1.1. Definicija i opća svojstva
Zbog toplinskog gibanja, sve čestice čvrste tvari (čvrstog tijela) titraju oko svog središnjeg
položaja, tzv. ravnotežnog položaja u kojem je rezultantna sila na promatranu česticu od
susjednih čestica jednaka ništici. Kad se čestica pomakne iz svoga ravnotežnog položaja na
nju počinje djelovati sila od susjednih čestica koja ju vrača u prvotni ravnotežni položaj. U
tom smislu može se izreći i prirodna definicija čvrstog tijela kao sustava u kojemu čestice
zadržavaju stalan međusobni položaj i orijentaciju.
Osnovni kriterij razlikovanja ustrojstva takvih sustava je stupanj uređenosti. U skladu s tim
kriterijem podjela čvrste tvari može se shematski prikazati kao na slici 1.1.1.
Slika 1.1.1: Podjela čvrste tvari s obzirom na stupanj strukturne uređenosti.
U kristalima je uređenost dugog dosega jer su atomi, odnosno molekule u pravilnom
unutrašnjem geometrijskom rasporedu koji se periodički ponavlja. U monokristalu je
uređenost u cijeloj tvari, a karakterizirana je periodičkim ponavljanjem osnovnog
geometrijskog oblika s pravilnim rasporedom atoma u kristalnoj rešetci. U polikristalu postoji
uređenost u manjim područjima koja se nazivaju zrnima. Kristalna zrna su nepravilne veličine
i međusobno su različito orijentirana, a odijeljena su granicama zrna.
Značajka amorfnih tvari je uređenost kratkog dosega; elementarna struktura nema stalan
oblik ni veličinu, ali zadržava iste sastavne dijelove.
Na slici 1.1.2. je usporedbe radi prikazano kristalno ustrojstvo molekula kristala kvarca i
kvarcnog stakla,(SiO
2
). Dok su u kristalu kvarca atomi silicija i kisika raspoređeni u pravilne
šesterokute (osnovni geometrijski oblik) s periodičkim ponavljanjem u cijelom kristalu, u
kvarcnom staklu nema takve pravilne uređenosti na velike razdaljine jer se osim šesterokuta
pojavljuju još peterokuti i sedmerokuti.
2

Slika 1.1.2: Kristalno i amorfno ustrojstvo molekula SiO
2
prikazano u dvije dimenzije.
Ustrojstvo osnovnog geometrijskog oblika određeno je veličinom atoma ili molekula te
silom vezivanja. Prema vrsti sile vezivanja (kemijske veze) razlikuju se četiri skupine kristala:
− kristali nemetali,
− ionski kristali,
− molekularni kristali
− kovalentni kristali.
U poluvodičkoj elektronici, s obzirom na praktičnu primjenu, mogu se istaknuti kovalentni
kristali silicij i germanij, gdje se pod pojmom kovalentni podrazumijeva kristalna veza
pomoću para valentnih elektrona izmrđu dva susjedna atoma, sl. 1.1.3.
Slika 1.1.3: Kristalno veza između atoma silicija simbolički prikazana u dvije dimenzije.
Na kovalentnoj vezi temelji se dijamantna struktura koju imaju četverovalentni elementi kao
što je ugljik, silicij i germanij. U dijamantnoj strukturi središnji je atom okružen s četiri
susjedna atoma koji leže u vrhovima tetraedra (tijela omeđenog sa četiri istostranična trokuta),
slika 1.1.4.
3

Slika 1.1.4: Dijamantna (tetraedarska) struktura.
4
1.2. Električna svojstva kristala
S obzirom na električnu provodnost ili otpornost, kristali se mogu podijeliti u tri skupine:
kovine (vodiči), poluvodiči i izolatori. Na sobnoj temperaturi električna otpornost ρ za
kovine je reda veličine 10
-8
Ω m, za izolatore dosiže vrijednost od 10
14
Ω m, a za poluvodiče
vrijednost za ρ je u granicama od 10
-5
do 10
4
Ω m. Razlika u električnim svojstvima između
kovina, elementarnih poluvodiča i izolatora proistječe iz ustrojstva energijskih vrpci.
Struktura energijskih vrpci čistih poluvodiča slična je onima u izolatoru, slika 1.2.1. a) i b), a
razlika je u udaljenosti između vodljive i valentne vrpce, tj. u širini energijskoga procjepa
(zabranjene vrpce). Na niskim temperaturama valentna vrpca je potpuno popunjena
elektronima, a vodljiva prazna, zbog čega je električna vodljivost onemogućena. O širini
zabranjene vrpce ovisi na kojoj će temperaturi nastati elektron-šupljina parovi, a time i
gibanje naboja pod djelovanjem električnog polja. U kovinama I skupine najgornja energijska
vrpca nije potpuno zaposjednuta elektronima (slika 1.2.1c). Za II skupinu elemenata, također
kovina, svojstveno je preklapanje dviju najgornjih energijskih vrpci, čime je opet postignuta
djelomična zaposjednutost dopuštenih energijskih stanja elektronima (slika 1.2.1d). Upravo to
omogućava struju elektrona i pri malim iznosima priključenoga električnog polja.
Slika 1.2.1: Energijska ustrojstva za:
a) izolator,
b) poluvodič,
c) kovinu s dopuštenom energijskom vrpcom djelomično popunjenom
elektronima (npr. Na),
d) kovinu gdje dolazi do preklapanja energijskih vrpci; niža energijska
vrpca potpuno popunjena elektronima (npr. Mg).
5
2. POLUVODIČI
2.1. Intrinsični poluvodiči
Poluvodič koji ne sadrži atome drugih elemenata naziva se intrinsični (čisti) poluvodič.
Takav poluvodič je praktički nemoguće proizvesti pa se umjesto idealizirane (teorijske)
definicije češće izriče realnija definicija: intrinsični poluvodič je kristal u kojem jedan strani
atom dolazi na 10
9
atoma elementarnog poluvodiča.
Na temperaturi apsolutne ništice čisti poluvodič ima svojstva izolatora jer nema slobodnih
nosilaca naboja; valentna vrpca je popunjena, a vodljiva vrpca je prazna. Za poluvodiče
energijski procijep ima relativno mali iznos (E
G
≈ 1 eV za silicij), tako da se već pri sobnim
temperaturama, zbog toplinske pobude, neki elektroni mogu prebaciti iz valentne vrpce u
vodljivu. U vođenju struje u poluvodičima sudjeluju negativni elektroni i pozitivne šupljine.
Prazna stanja u valentnoj vrpci su šupljine, slika 2.1.1.
Slika 2.1.1: Raspodjela nosilaca naboja u čistom poluvodiču.
Slika 2.1.2: Struje elektrona i šupljina u kristalu silicija.
Pri određenoj temperaturi postoji vjerojatnost slabljenja valentnih veza te prebacivanja
elektrona iz valentne veze u prostor između atoma. Ti elektroni imaju veću energije od onih u
valentnoj vezi, mogu sudjelovati u vođenju struje pa se nazivaju vodljivim elektronima (zbog
djelovanja vanjskog električnog polja elektroni dobivaju energiju i prelaze u viša energijska
stanja). Iznos dobivene energije je vrlo malen, te je prijelaz moguć samo s nižeg u više
energijsko stanje unutar jedne energijske vrpce. Ti prijelazi se odvijaju se u energijskim
6
stanjima na dnu vodljive (struja elektrona) i pri vrhu valentne vrpce (struja šupljina), slika
2.1.2. Koliko elektrona prijeđe u vodljivu vrpcu toliko šupljina ima u valentnoj, slika 2.1.1.
Termičkom pobudom u čistom poluvodiču nastaje ravnotežna gustoća elektrona n
0
u
vodljivoj vrpci i šupljina p
0
u valentnoj. Te gustoće su jednake pa su označene zajedničkom
oznakom za čistu (intinsičnu) gustoću (koncentraciju):
n =p =n
0 0 i
(2.1.1)
Broj vodljivih elektrona u energijskom intervalu dE dobije se množenjem gustoće energijskih
stanja ρ
C
(E) s vjerojatnošću zaposjednuća f
FD
(E) tih stanja. Ukupan broj valentnih elektrona
može se odrediti s pomoću integrala:
n E E dE
C
E
E
C
C
0
= f
FD
( ) ( )
'
⋅ ⋅

ρ (2.1.2)
s granicama integracije po ukupnoj širini vodljive vrpce (slika 2.1.1). Gustoća kvantnih stanja
ρ
C
(E) u vodljivoj vrpci određena je izrazom:
( ) ρ π
C
E E ( ) =4
2 m
h
- E
C
2 C
⋅ ⋅
⋅ |
.

`
,


3
2
1
2 (2.1.3)
u kojemu je m
C
efektivna masa elektrona, a h Planckova konstanta.
Efektivna masa, za razliku od mase slobodnog elektrona, nema stalnu vrijednost i ovisi o
energiji elektrona te o energijskoj vrpci u kojoj se elektron nalazi.
Funkcija f
FD
(E) je Fermi-Diracova vjerojatnost kojom se iskazuje zaposjednuće kvantnih
stanja pri temperaturi T:
[ ]
f E
kT
FD
( )
)/
=
1
1+exp (E - E
fi
(2.1.4)
gdje je E
fi
Fermijeva energija u čistom poluvodiču, k je Boltzmannova konstanta, a umnožak
k⋅ T = E
T
je energijski temperaturni ekvivalent. T je oznaka za termodinamičku temperaturu u
stupnjevima Kelvina.
Pri temperaturi T = 0K i E ≤ E
fi
sukladno izrazu (2.1.4), Fermi-Diracova vjerojatnost
iznosi f
FD
(E) = 1. Za E ≥ E
fi
je f
FD
(E) = 0 što znači da su pri temperaturi T = 0 K sve
dopuštene energijske razine popunjene. Na temperaturi T > 0K vjerojatna je zaposjednutost
energijskih razina E > E
fi
na račun termičke pobude elektrona s razina ispod E
f
. Iz slike 2.1.3.
vidi se da koliko opadne vjerojatnost zaposjednuća energijskih razina npr. E - E
fi
= -0.2 eV
toliko naraste vjerojatnost zaposjednuća razina E - E
fi
= +0.2 eV. Stoga se Fermijeva energija
E
fi
definira kao razina s vjerojatnošću zaposjednuća f
FD
(E) = 0.5 [16].
7
Slika 2.1.3: Fermi-Diracova funkcija vjerojatnosti zaposjednuća kvantnih stanja.
Ako se za Boltzmannovu konstantu uvrsti njena vrijednost, (prilog 1.)
k = 1.381⋅ 10
-23
JK
-1
= 8.620⋅ 10
-5
eVK
-1
,
gdje je
( )
1 1602 10 1602 10 1602 10 1602 10
19 19 19 19
eV · ⋅ ⋅ · ⋅ · ⋅ ⋅
− − − −
. . . . C 1V AsV Ws = J
,
dobiva se praktičan izraz za računanje energije E
T
:
E
eV
K
T
T
=8.620 10 =
T
11605

eV
K
-5
⋅ ⋅ ⋅
. (2.1.5)
Pri sobnoj temperaturi (T = 300 K), E
T
= 0.0259 eV.
Uvrštavanjem (2.1.3) i (2.1.4) u (2.1.2) dobiva se izraz za ravnotežnu gustoću slobodnih
elektrona u vodljivoj vrpci kao funkcija energije E:
( )
( )
[ ]
n n
m
h
E
kT
dE
i
C
E
E
C
C
= =
- E
+ exp E- E
C
fi
0
2
3
2
1
2
4
2
1
⋅ ⋅
⋅ |
.

`
,

⋅ ⋅

π
/
'
(2.1.6)
Uz uvjet E - E
fi
≥ 3⋅ k⋅ T može se zanemariti jedinica u nazivniku izraza za f
FD
(E), pa Fermi-
Diracova funkcija vjerojatnosti prelazi u klasičnu Maxwell-Boltzmannovu vjerojatnost:
f
k T
FD
(E) exp
E - E
fi


|
.

`
,
(2.1.7)
Gornja se granica integrala (2.1.6) može zamijeniti s graničnom vrijednošću E
C
' →∞ zbog
eksponencijalnog opadanja funkcije f
FD
(E).
Uvođenjem približnog izraza (2.1.7) u (2.1.6) dobiva se:
( ) n n
E m
h
E dE
i
E
C
C
= =
- E
k T
- E
fi
C 0 2
3
2
1
2
4
2
exp −

|
.

`
,

⋅ ⋅
⋅ |
.

`
,

⋅ ⋅


π . (2.1.8)
Nakon supstitucije x = (E - E
C
)/k⋅ T i promjene granica integracije od 0 do ∞, izraz (2.1.8)
poprima oblik
dx x x
E
h
T k
n n
C
i
⋅ − ⋅ ⋅
,
`

.
|

− ⋅
,
`

.
| ⋅ ⋅ ⋅
⋅ ⋅


) exp(
T k
E -
exp
m 2
4 = =
0
2
1
fi
2
3
2
C
0
π (2.1.9)
8
u kojem je:
x x dx
1
2
0


⋅ − ⋅ exp( ) =
2
π
. (2.1.10)
Za ravnotežnu gustoću n
0
konačno se može pisati izraz:
n n
k T
h
E
i
C
= =2
2 m - E
k T
C fi
0 2
3
2

⋅ ⋅ ⋅ ⋅ |
.

`
,

⋅ −

|
.

`
,

π
exp
, (2.1.11)
ili u skraćenom obliku
n n N
E
i
C
= =
- E
k T
C
fi
0
⋅ −

|
.

`
,

exp , (2.1.12)
gdje je
N
k T
h
C
=2
2 m
C

⋅ ⋅ ⋅ ⋅ |
.

`
,

π
2
3
2
(2.1.13)
oznaka za efektivnu gustoću kvantnih stanja u vodljivoj vrpci.
Vjerojatnost nalaženja šupljina na energijskoj razini E je 1 - f
FD
(E), a to je vjerojatnost
nepostojanja elektrona u valentnoj vrpci i jednaka je:
( )
[ ]
1-f =
1
1+exp E - E
FD
fi
( )
/
E
k T ⋅
(2.1.14)
Gustoća šupljina u valentnoj vrpci dana je integralom:
( )
( )
[ ]
p p
m
h k T
dE
i
V
= =
E - E
1+exp E - E
0
V
fi E
-E
V
V
'
4
2
2
3
2
1
2

⋅ |
.

`
,




π
/
, (2.1.15)
koji se može riješiti primjenom postupka jednakom onom za određivanje gustoće n
0
. Nakon
integracije funkcije (2.1.15) dobiva se formula
p p N
E
i
fi
= =
- E
k T
V
V
0
⋅ −

|
.

`
,

exp (2.1.16)
u kojoj je
N
k T
h
V
= 2
2 m
V

⋅ ⋅ ⋅ ⋅ |
.

`
,

π
2
3
2
(2.1.17)
izraz za efektivnu gustoću kvantnih stanja, a m
V
oznaka za efektivnu masu šupljina, u
valentnoj vrpci.
Raspodjela elektrona i šupljina po energijama u čistom poluvodiču prikazana je na slici
2.1.4.
9
Slika 2.1.4: Gustoća elektrona i šupljina u čistom poluvodiču.
Iz uvjeta n
0
= p
0
može se odrediti položaj Fermijeve razine u odnosu prema rubu valentne E
V
i vodljive E
C
vrpce:
N N
C V


|
.

`
,



|
.

`
,

exp -
E - E
k T
= exp -
E - E
k T
C fi fi V
. (2.1.18)
Iz (2.1.18) proizlazi izraz za Fermijevu razinu u čistom poluvodiču:
E
N
N
fi
V
C
=
E +E
+
k T
2
C V
2

⋅ ln
. (2.1.19)
Ako se E
fi
promatra u odnosu prema E
C
, izraz (2.1.19) može se pisati kao:
E - =
E - E
+
k T
2
C
C V
E
N
N
fi
C
V
2

⋅ ln
(2.1.20)
ili kao
E - =
E - E
+
4
k T
C
C V
E
m
m
fi
C
V
2
3
⋅ ⋅ ⋅ ln
. (2.1.21)
Fermijeva se razina u čistom poluvodiču nalazi približno na sredini zabranjene vrpce, slika
2.1.5.
Slika 2.1.5: Položaj Fermijeve energije u čistom poluvodiču.
Prema izrazu (2.1.21) može se zaključiti da se Fermijeva razina E
fi
u čistom poluvodiču nalazi
točno na sredini zabranjene vrpce jedino na temperaturi apsolutne ništice. Pri temperaturi
različitoj od apsolutne ništice Fermijeva razina može biti na sredini zabranjene vrpce uz uvjet
istovrijednosti efektivnih masa elektrona i šupljina, m
C
= m
V
. Za silicij je m
V
nešto veće od m
C
[12], pa je Fermijeva razina pomaknuta od sredine zabranjene vrpce prema rubu vodljive
vrpce za mali iznos energije
3
4
⋅ ⋅ ⋅ k T ln
m
m
V
C
(npr. pri T=300K taj iznos je ∼ 0.01eV).
10
2.2. Zakon termodinamičke ravnoteže
Umnožak ravnotežnih gustoća vodljivih elektrona i šupljina u čistom je poluvodiču na nekoj
temperaturi stalan i jednak kvadratu intrinsične gustoće:
n N
E
N
E
C
T
C
T
0 0 i
2
V
C V
V
G
p =n =N
E - E
=N
E
⋅ ⋅ ⋅ −
|
.

`
,
⋅ ⋅ −
|
.

`
,
exp exp
. (2.2.1)
Umnožak n
0
⋅ p
0
u jednadžbi (2.2.1) određuje brzinu poništavanja parova elektron-šupljina, a
desna strana te jednadžbe je brzina stvaranja parova. Stoga se sukladno jednadžbi (2.2.1)
zakon termodinamičke ravnoteže može formulirati kao:
brzina poništavanja parova elektron-šupljina, proporcionalna umnošku gustoće elektrona
i šupljina, jednaka je brzini stvaranja parova elektron-šupljina, koja je određena širinom
zabranjene energijske vrpce i temperaturom.
Ako se u (2.2.1) uvrste izrazi za efektivne gustoće kvantnih stanja N
C
i N
V
, dobiva se oblik
kojim je u cijelosti iskazana ovisnost intrinsične gustoće o temperaturi:
( ) ( ) ( )
( )

,
`

.
|

− ⋅ ⋅

,
`

.
| ⋅

,
`

.
| ⋅ ⋅ ⋅

T E
T E
T
m
T m T m
n
T
G V C
i
2
exp
h
m k 2
2 =
2
3
4
3
2
0
2
3
2
0
π
. (2.2.2)
m
0
je masa elektrona u mirovanju, a m
C
(T) i m
V
(T) su efektivne mase elektrona i šupljina
naznačene kao funkcije temperature. Širina zabranjene vrpce E
G
(T) je također funkcija
temperature, kao i energijski temperaturni ekvivalent E
T
(T) = k⋅ T. U području sobnih
temperatura promjene efektivnih masa elektrona i šupljina su relativno malene za silicij, pa se
može računati s tabličnim vrijednostima određenima pri temperaturi T = 300 K (tablica
2.2.1.).
m
m
C
0
m
m
V
0
1.18 0.81
Tablica 2.2.1: Vrijednosti efektivnih masa elektrona i šupljina za silicij normirane na
vrijednost mase mirovanja pri T = 300 K.
2.3. Širina zabranjene vrpce
U energijskom dijagramu poluvodiča područje između valentne i vodljive vrpce energija
naziva se energijski procjep ili zabranjena vrpca, slika 2.3.1:
Slika 2.3.1: Energijski dijagram za čisti poluvodič.
O širini zabranjene vrpce ovise mnoga svojstva materijala. Za poluvodič ona iznosi
E eV
G
≈1
. Pri temperaturi apsolutne ništice E
G
ima najveći iznos i lagano opada s porastom
temperature. U stručnoj se literaturi može naći nekoliko empirijskih izraza pomoču kojih se
11
može odrediti širina zabranjene vrpce na nekoj temperaturi. Za silicij su određena dva
empirijska izraza, za dva različita temperaturna područja [3]:
( ) E T T T
G
=1.170 -1.059 10 -6.05 10 za T 170 K
-5 -7
⋅ ⋅ ⋅ ⋅ ≤
2
(2.3.1)
( ) E T T T
G
=1.1785 -9.025 10 -3.05 10 za T 170 K
-5 -7
⋅ ⋅ ⋅ ⋅ >
2
. (2.3.2)
2.5. Ekstrinsični poluvodič
Dodavanjem atoma drugih elemenata (primjesa) intrinsičnom (čistom) poluvodiču nastaje
ekstrinsično (primjesno) poluvodičko ustrojstvo kojemu su električna svojstva određena
brojem atoma primjesa. Element kojemu se dodaju primjese (matični element) je
četverovalentni silicij ili germanij dok primjese mogu biti peterovalentni elementi (dušik,
fosfor, arsen, antimon) ili trovalentni elementi (bor, aluminij, galij, indij). Primjese se unose u
matični element odgovarajućim tehnološkim postupkom.
2.5.1. Poluvodič n-tipa
Dodavanjem peterovalentne primjese matičnom elementu nastaje n-tip poluvodiča. Četiri
elektrona matičnog elementa i četiri elektrona primjesnog tvore četiri kovalentne veze. Na T
= 0 K peti elektron ostaje vezan uz svoj atom zbog privlačne sile svoje jezgre. Energija ove
veze znatno je slabija od kovalentne pa se pri T ≠ 0 K ovaj elektron lako oslobodi iz atoma.
Na T = 0 K na prikazu energijskih vrpci, sl. 2.5.1.1, taj elektron se nalazi na energijskoj razini
E
D
znatno višoj od energije valentnih elektrona, dok je na višim temperaturama (T ≠ 0 K),
zbog toplinske pobude na energijskim razinama na dnu vodljive vrpce. Zbog toga što
peterovalentna primjesa daje elektrone u vodljivu vrpcu koji se mogu slobodno gibati kroz
kristal, naziva se donor. U raspodjelu energija unosi se dodatna energijska razina u zabranjenu
vrpcu, tzv. donorska razina E
D
u blizini dna vodljive vrpce, slika 2.5.1.1.
Slika 2.5.1.1: Energijski dijagram za n-tip poluvodiča pri temperaturi T = 300K
kada su svi donori ionizirani.
2.5.2. Poluvodič p-tipa
Dodavanjem trovalentnih primjesa (akceptora) četverovalentnom matičnom elementu
nastaje p-tip poluvodiča. Trovalentnoj primjesi nedostaje jedan elektron za tvorbu četvrte
kovalentne veze, pa se ona tvori elektronom iz valentne vrpce četverovalentnoga matičnog
elementa. Trovalentni atom postaje negativni ion, a u valentnoj vrpci atoma matičnoga
elementa nastaje šupljina. Akceptorske primjese unose dodatnu akceptorsku energijsku razinu
E
A
u zabranjenu vrpcu koja se nalazi u blizini valentne vrpce, slika 2.5.2.1.
12
Slika 2.5.2.1: Energijski dijagram za p-tip poluvodiča pri temperaturi T = 300K
kad su svi akceptori ionizirani.
2.5.3. Degenerirani poluvodič
Pri gustoćama primjesa u poluvodičima približno iznad 10
17
cm
-3
udaljenosti između atoma
primjese nisu više tako velike te se diskretne energijske razine donora, odnosno akceptora
cijepaju u vrpce energija. Tako se diskretna donorska razina E
D
cijepa u vrpce energija širine
∆ E
D
, slika 2.5.3.1.
Slika 2.5.3.1: Donorski pojas energijske širine ∆ E
D
u degeneriranom poluvodiču.
Energija ionizacije E
I
je smanjena u odnosu prema nedegeneriranom poluvodiču, a pokusom
je utvrđeno da pri gustoćama donora približno 1.8⋅ 10
18
cm
-3
energija ionizacije u potpunosti
nestaje.
Pojava cijepanja diskretnih razina u vrpcu energija popraćena je i suženjem zabranjene
energijske vrpce u odnosu prema širini procjepa nedegeneriranog poluvodiča. Za umjereno
visoke gustoće primjesa (∼ 10
19
cm
-3
) suženje zabranjene vrpce može se odrediti prema
teorijskoj relaciji koju su izveli Lanyon i Tuft [1]:
∆E
q N
k T
G
·

⋅ ⋅

⋅ ⋅
3
16
3
π ε ε
(2.5.3.1)
u kojoj je N gustoća primjesa (donorskih ili akceptorskih), a ε permitivnost poluvodiča
(silicija).
Za gustoće primjese iznad približno 10
20
cm
-3
suženje ∆ E
G
više ne ovisi o temperaturi pa se
može primijeniti izraz:
[ ]
∆E
N
G
· ⋅
|
.

`
,

0 62
10
20
1
6
. eV
. (2.5.3.2)
Osim navedenih relacija za određivanje suženja zabranjene vrpce u stručnoj literaturi mogu se
naći i izrazi izvedeni na osnovi drugačijih pretpostavki i drugog teorijskog pristupa. Tako su
polazeći od eksperimentalnih rezultata Slotboom i De Graaff [2] dobili izraz koji se može
primijeniti za n tip silicija s gustoćama donora do 10
21
cm
-3
:
13
∆E E
N
N
N
N
G0 1
1
2
1
05 · ⋅ + +

]
]
]
ln ln .
(2.5.3.3)
u kojemu je:
E
1
= 9 m eV
N
1
= 10
19
cm
-3
N = gustoća primjesa.
2.5.4. Određivanje gustoće elektrona i šupljina
Ako poluvodič nije degeneriran, za određivanje ravnotežnih gustoća vodljivih elektrona n
0
i
šupljina p
0
mogu se upotrijebiti izrazi izvedeni za čisti poluvodič, ali se uvodi oznaka E
f
za
Fermijevu razinu umjesto oznake E
fi
:
n
E
C
0
=N
- E
k T
C
f
⋅ −

|
.

`
,

exp
, (2.5.4.1)
p
E
f
0
=N
- E
k T
V
V
⋅ −

|
.

`
,

exp
, (2.5.4.2)
odnosno
E
C
- E =k T
N
n
f
C
0
⋅ ⋅
|
.

`
,

ln
, (2.5.4.3)
E
f
- E =k T
N
p
V
V
0
⋅ ⋅
|
.

`
,

ln
. (2.5.4.4)
Dijeljenjem jednadžbe (2.5.4.1) s jednadžbom za intrinsičnu gustoću (2.1.12) dobiva se izraz
za gustoću slobodnih elektrona u ovisnosti o intrinsičnoj gustoći i razlici Fermijevih razina
ekstrinsičnog i intrinsičnog poluvodiča:
n n
E E
k T
i
f fi
0
· ⋅


|
.

`
,

exp
. (2.5.4.5)
Iz (2.5.4.5) i zakona o termodinamičkoj ravnoteži može se odrediti ravnotežna gustoća p
0
:
p n
E E
k T
i
fi f
0
· ⋅


|
.

`
,

exp
. (2.5.4.6)
Umnožak ravnotežnih gustoća n
0
i p
0
jednak je kvadratu intrinsične gustoće i ne ovisi o
Fermijevoj energiji:
n
E
C
0
⋅ ⋅ ⋅ −

|
.

`
,

p =n =N N
- E
k T
0 i
2
C V
V
exp
, (2.5.4.7)
što znači da pri nekoj temperaturi jedna od ravnotežnih gustoća raste dok druga pada da bi
njihov umnožak ostao stalan.
U ravnotežnom stanju svaki poluvodič ima jednak iznos pozitivnog i negativnog naboja
(zakon električne neutralnosti):
N
D
+p =N +n
0 A 0
. (2.5.4.8)
14
Za n-tip poluvodiča, uz uvjet N
A
= 0, izraz (2.5.4.8) poprima oblik:
n = +p
0 0
N
D
. (2.5.4.9)
Uz zamjenu
p
0
=
n
n
i
2
0
dobiva se:
n
0
=
N
2
+
N +4 n
2
D D
2
i
2

. (2.5.4.10)
Ako je N
D
2
>> 4 n
i
2
⋅ , tada je n
0
≈ N
D
i
p
0
=
n
N
i
2
D
.
U n-tipu poluvodiča elektroni su većinski (glavni ili majoritetni), a šupljine manjinski
(sporedni ili minoritetni) nosioci naboja. U skladu sa zakonom o termodinamičkoj ravnoteži,
gustoća šupljina opada s porastom gustoće elektrona (potiskivanje manjinskih nosilaca).
Položaj Fermijeve razine u odnosu prema dnu vodljive vrpce određen je izrazom:
E
C
- E =k T
N
N
f
C
D
⋅ ⋅
|
.

`
,

ln
, (2.5.4.11)
prema kojemu je u dijagramu energija za n-tip poluvodiča položaj Fermijeve energije blizu
dna vodljive vrpce, slika 2.5.4.1., jer je N
C
≈ 10
19
cm
-3
, a N
D
≈ 10
16
cm
-3
.
Slika 2.5.4.1: Fermijeva razina u n-tipu poluvodiča.
Za p-tip poluvodiča, uz uvjet N
D
= 0, izraz (2.5.4.8) poprima oblik:
p = +n
0 0
N
A
. (2.5.4.12)
Uz zamjenu
n
0
=
n
p
i
2
0
dobiva se:
p
0
=
N
2
+
N +4 n
2
A A
2
i
2

. (2.5.4.13)
U p-tipu poluvodiča šupljine su većinski nosioci, a elektroni manjinski. Dodavanjem
akceptora raste gustoća šupljina, a opada gustoća elektrona.
Ako je N
A
2
>> 4 n
i
2
⋅ , tada je p
0
≈ N
A
i
n
0
=
n
N
i
2
A
.
Položaj Fermijeve razine određen je izrazom:
E
f
- E =k T
N
N
V
V
A
⋅ ⋅
|
.

`
,

ln
. (2.5.4.14)
15
U dijagramu energija za p-tip poluvodiča Fermijeva se razina nalazi blizu vrha valentne
vrpce, slika 2.5.4.2., jer je N
V
≈ 10
19
cm
-3
, a N
A
≈ 10
12
cm
-3
.
Slika 2.5.4.2: Fermijeva razina u p-tipu poluvodiča.
U temperaturnom području nepotpune ionizacije (T < 200K) svi primjesni atomi nisu
ionizirani, što znači da svi donori nisu dali elektron u vodljivi pojas, a svi akceptori nisu
primili elektron iz valentnog pojasa. Za ove temperature gustoća elektrona n(T<200K) u
vodljivoj vrpci jednaka je broju ioniziranih donora N
D
+
. On se može izračunati ako se
ukupnom broju donora oduzmu donori zaposjednuti elektronima:
n T K N N
D D
( ) < · − ⋅
|
.

`
,

·
|
.

`
,

+
200 =N
1
1+exp
E - E
E
N
1+exp
E - E
E
D
D f
T
D
f D
T
. (2.5.4.15)
Slično se gustoća šupljina p(T<200K) može odrediti iz gustoće ioniziranih akceptora N
A

:
N
A

|
.

`
,

=
N
1+exp
E - E
E
A
A f
T
, (2.5.4.16)
Izjednače li se izrazi (2.5.4.1) i (2.5.4.15) dobije se položaj Fermijeve razine u n-tipu
poluvodiča na niskim temperaturama
N
E E
k T
N
E E
k T
C
C f D
f D
⋅ −


|
.

`
,

·
+


|
.

`
,

exp
exp 1
. (2.5.4.17)
Kako je za T < 200 K E
f
- E
D
> kT, jedinica se u nazivniku desne strane može zanemariti, pa
slijedi:
N
E E
k T
N
E E
k T
C
C f
D
f D
⋅ −


|
.

`
,

· ⋅ −


|
.

`
,

exp exp
E
E E k T N
N
f
C D D
C
·
+
+


2 2
ln
. (2.5.4.18)
Analogno, ako se izjednače izrazi (2.5.4.2) i (2.5.4.16) dobiva se jednadžba za određivanje
Fermijeve razine u p-tipu poluvodiča:
E
E E k T N
N
f
V A A
V
·
+



2 2
ln
. (2.5.4.19)
16
2.7. Driftno gibanje nosilaca
Gibanje nosilaca u poluvodiču na koji nije priključen napon (unutar poluvodiča nema
električnoga polja), je neusmjereno (stohastičko) s prosječnom termičkom brzinom koja se
mijenja u ovisnosti o temperaturi prema izrazu:
v
t
=
3 E
m
T
*

(2.7.1)
u kojem je E
T
temperaturni ekvivalent energije, a m
*
efektivna masa elektrona (šupljina).
Zbog utjecaja priključenoga napona u poluvodiču nastaje električno polje koje usmjerava
gibanje nosilaca u smjeru svog djelovanja. Pri tome se prosječnoj termičkoj brzini pribraja
(superponira) brzina zbog djelovanja električnoga polja, tzv. driftna brzina. Ona je
proporcionalna jakosti električnoga polja F i pokretljivosti nosilaca µ :
v
d
= F µ⋅
, (2.7.2)
gdje je µ oznaka za pokretljivost nosilaca.
Na slici 2.7.1 prikazano je usmjereno gibanje nosilaca (elektrona i šupljina) u poluvodiču
duljine w, pod utjecajem električnoga polja iznosa F = U/w.
Slika 2.7.1: Usmjereno gibanje nosilaca u poluvodiču.
Gustoća struje je prema Ohmovom zakonu proporcionalna jakosti električnoga polja, a
konstanta proporcionalnosti je električna provodnost:
J
U
R S
U
w
=
I
S
= F ·

·


σ
σ
(2.7.3)
Za pozitivni smjer struje prema dogovoru uzima se smjer gibanja pozitivnoga naboja
(šupljina). Kako je gibanje elektrona isto što i gibanje šupljina u suprotnom smjeru, te dvije
struje se zbrajaju i čine ukupnu struju I u strujnom krugu, slika 2.7.1.
Električna provodnost poluvodiča je jednaka zbroju električne provodnosti zbog gibanja
elektrona σ
n
i električne provodnosti šupljina σ
p
:
( )
σ σ σ µ µ µ µ = + =q n +q p =q n +p
n p n p n p
⋅ ⋅ ⋅ ⋅ ⋅ ⋅ ⋅
(2.7.4)
gdje je µ
n
oznaka za pokretljivost elektrona, a µ
p
za pokretljivost šupljina.
U n-tipu poluvodiča gustoća elektrona je mnogo veća od gustoće šupljina (n>>p), pa je
električna provodnost približno jednaka elektronskoj provodnosti σ
n
≈ q⋅ n⋅ µ
n
, dok je za
p-tip poluvodiča prevladavajuća šupljinska provodnost σ
p
≈ q⋅ p⋅ µ
p
.
Električnu provodnost čistog poluvodiča karakterizira njegova intrinsična gustoća n
i
:
17
( )
σ µ µ
i n p
=q n +
i
⋅ ⋅
. (2.7.5)
2.8. Difuzijsko gibanje naboja u poluvodiču
Ako u poluvodiču postoji nejednolika gustoća pokretnih nosilaca naboja, tada i bez vanjskog
utjecaja (npr. električnog polja) nastaje gibanje naboja iz područja veće ka područjima manje
gustoće naboja i traje do uspostave jednake raspodjele naboja u cijelom obujmu poluvodiča.
Takav prirodan proces koji se odvija u svakom prostoru gdje postoji nejednolika gustoća bilo
kojih pokretnih čestica naziva se difuzija. Npr. difuzijom se širi plin, miris, kap tinte u vodi
itd.. U prosjeku se jednak broj čestica širi u svakom smjeru nekog izotropnog prostora. Ali,
ako je određeni prostor podijeljen na više dijelova (podprostora) s obzirom na gustoću čestica,
npr. tako da idući od lijeva na desno gustoća opada, tada će rezultantno gibanje tih čestica biti
u smjeru desne strane. Za ilustraciju prikazan je jednodimenzijski prostor podijeljen na šest
dijelova, slika 2.8.1.
Slika 2.8.1: Ilustracija pojave difuzije u jednodimenzijskom prostoru
s nejednolikom gustoćom čestica.
U prostoru označenom brojem 1, od 12 čestica njih šest se giba udesno, a šest ulijevo. U
prostoru broj 2, pet čestica se giba ulijevo, a pet udesno, itd. Dakle samo se jedna polovina
čestica svakog dijela prikazanoga jednodimenzijskog prostora giba u pozitivnom, polovina u
negativnom smjeru osi x. Za trodimenzijski prostor umjesto konstante
1
2
treba računati s
vrijednošću
1
6
zbog više smjerova gibanja (lijevo-desno, gore-dolje, naprijed-natrag). Kako
je promjena gustoće čestica po dijelovima prostora prikazanog na slici 2.8.1. jednaka -2
(opadajuća gustoća prema pozitivnom smjeru osi x) difuzijska struja iznosi:
( ) I
d
· − ⋅ − ·
1
2
2 1
(2.8.1)
Neto difuzijska struja je jedna čestica u pozitivnom smjeru osi x. Dobiveni se rezultat može
uočiti i bez računa. Npr. između dijelova 1 i 2 od šest čestica dijela 1 koje se gibaju udesno i
pet čestica dijela 2 koje se gibaju ulijevo samo se jedna čestica giba udesno. Isto razmatranje
vrijedi za preostale dijelove obujma.
Općenito se za difuzijsku struju čestica u jednom smjeru vrijedi izraz:
I D
dn
dx
d
· −
(2.8.2)
u kojem je D difuzijska konstanta, a
dn
dx
promjena (gradijent) gustoće u smjeru osi x.
Ako su čestice nabijene (elektroni ili šupljine) tada se za elektrone koji su nosioci negativnog
naboja izraz za gustoću struje (struja po jedinici površine presjeka) može pisati u obliku:
dx
dn
D q J
n n
⋅ ⋅ + ·
, (2.8.3)
18
a za šupljine
dx
dp
D q J
p p
⋅ ⋅ − ·
. (2.8.4)
U izrazima (2.8.3) i (2.8.4) D
n
i D
p
su difuzijske konstante za elektrone, odnosno za šupljine, a
q je naboj elektrona.
Difuzijska konstanta obično se određuje mjerenjem pri nekoj temperaturi, a može se i
izračunati ako su poznati određeni parametri. Njeno fizikalno značenje može se razjasniti npr.
analizom neprekinute difuzijske raspodjele uskog impulsa elektrona u jednodimenzijskom
prostoru, slika 2.8.2.
Slika 2.8.2: Difuzijska raspodjela impulsa elektrona.
Brzina difuzije elektrona npr. u pozitivnom smjeru osi x, može se odrediti iz raspodjele n(x)
podijeljene po dijelovima širine koja odgovara dužini srednjeg slobodnog prevaljenog puta 
(nema sudara s drugim elektronima), slika 2.8.3.
Slika 2.8.3: Podjela difuzijske raspodjele elektrona po dijelovima dužine .
Elektronima u dijelu 1 pripisuje se jednaka vjerojatnost gibanja lijevo i desno, a u srednjem
slobodnom vremenu τ jedna polovina tih elektrona dospjet će u dio 2. Isti zaključak i
razmatranje može se primijeniti na dio 2. Rezultantni broj elektrona koji prelaze područje s
lijeve i desne strane od točke x
0
iznosi:
19
( ) ( )
1
2
1
2
1 2
⋅ ⋅ ⋅ − ⋅ ⋅ ⋅ n A n A  
(2.8.5)
gdje je A površina presjeka kroz koji prolaze elektroni.
Brzina protjecanja elektrona po jedinici površine u smjeru osi +x jednaka je:
( ) φ
τ
n
x n n ( ) ·

⋅ −

2
1 2
(2.8.6)
Budući da je srednji slobodni put upravo mala diferencijalna dužina, razlika u gustoći
elektrona n
1
- n
2
može se izraziti u obliku derivacije:
n n n x n x x
x
1 2

·
− +

( ) ( ) ∆

. (2.8.7)
Za male priraste ∆ x (tj. male vrijednosti srednjeg slobodnog puta prije raspršenja zbog
međusobnog sudaranja) relacija (2.8.6.) može se pisati u obliku:
( ) ( )
φ
τ τ
n
x
x
n x n x x
x
dn x
dx
( ) lim
( ) ( ) ( )
·


− +
·−



 
2
0
2
2 2



. (2.8.8)
Veličina
( )

2
2⋅τ
u izrazu (2.8.8.) označava se kao difuzijska konstanta (za elektrone) D
n
. U
slučaju gibanja u tri dimenzije, difuzijska konstanta u +x smjeru ima manju vrijednost.
Gustoća struje elektrona jednaka je umnošku brzine gibanja elektrona i naboja koji nose:
J q D
dn
dx
q D
dn
dx
ndif n n
· − − ⋅ ⋅
|
.

`
,

· + ⋅ ⋅
. (2.8.9)
Za difuzijsku gustoću struje šupljina može se napisati sličan izraz:
J q D
dp
dx
q D
dp
dx
pdif p p
· − ⋅ ⋅
|
.

`
,

· − ⋅ ⋅
. (2.8.10)
U izrazima (2.8.9.) i (2.8.10.) uočava se suprotan predznak struje šupljina i elektrona upravo
zbog suprotnog naboja koji te čestice nose.
2.9. Difuzijsko i driftno gibanje
Ako se na poluvodič u kojemu postoji nejednolika raspodjela gustoće elektrona i šupljina
priključi i električno polje, nastaje difuzijska i driftna struja elektrona i šupljina. Ukupna
struja jednaka je zbroju driftne i difuzijske sastavnice. Na slici 2.9.1. prikazana je raspodjela
gustoće elektrona n(x) i šupljina p(x) s opadajućim vrijednostima u pozitivnom smjeru osi x i
priključenim električnim poljem u smjeru osi +x, te su ujedno ucrtani smjerovi odgovarajućih
sastavnica struje, slika 2.9.1.
Slika 2.9.1: Smjerovi driftne i difuzijske sastavnice struje šupljina i elektrona
u poluvodiču.
20
Prema prihvaćenom dogovoru o pozitivnom smjeru električne struje (smjer gibanja čestica
koje nose pozitivan naboj), te prema ucrtanom smjeru vektora električnog polja, driftna i
difuzijska struja šupljina imaju pozitivan smjer. Elektroni se pod utjecajem električnog polja
gibaju u smjeru suprotnom onom od gibanja šupljina. Kako smjeru gibanja negativnog naboja
odgovara suprotan smjer gibanja pozitivnog naboja, driftna sastavnica elektrona ima isti smjer
kao i driftna sastavnica šupljina. Difuzijska struja elektrona ima suprotan smjer od onoga koji
ima difuzijska struja šupljina zbog toga što su isti smjerovi difuzijskog gibanja elektrona i
šupljina.
Sukladno slici 2.9.1. mogu se napisati jednadžbe za gustoću ukupne struje elektrona i
šupljina:
J x q n x E x q D
dn x
dx
n n n
( ) ( ) ( )
( )
· ⋅ ⋅ ⋅ − ⋅ ⋅ µ
(2.9.1)
J x q p x E x q D
dp x
dx
p p p
( ) ( ) ( )
( )
· ⋅ ⋅ ⋅ + ⋅ ⋅ µ
(2.9.2)
Sukladno slici 2.9.1., zbog negativnog gradijenta gustoća, difuzijska i driftna sastavnica
struje šupljina se zbrajaju, a te iste sastavnice struje elektrona se oduzimaju. Pri tome ukupna
struja može biti struja elektrona ili struja šupljina što ovisi o odnosu veličina njihovih gustoća,
o iznosu i smjeru električnog polja te o gradijentu gustoća šupljina i elektrona.
2.10. Pokretljivost nosilaca
Na pokretljivost nosilaca u poluvodiču utječu različiti efekti zbog međusobnog djelovanja
nosilaca s ioniziranim atomima primjesa (ionsko raspršenje), s kristalnom rešetkom (fononsko
raspršenje), te međusobnih sudara samih nosilaca.
Analiza pokretljivosti nosilaca može se provesti po njenim sastavnicama, a pri tome se svaka
sastavnica odnosi na odgovarajući efekt raspršenja. Uglavnom se razmatraju tri sastavnice
pokretljivosti:
-pokretljivost određena fononskim raspršenjem
-pokretljivost određena ionskim raspršenjem u međusobnom djelovanju nosilaca i ioniziranih
primjesa
-pokretljivost određena raspršenjem koje je posljedica međusobnih sudara nosilaca
Za određivanje pokretljivosti elektrona i šupljina, ako se razmatra samo utjecaj gustoće
primjesa pri temperaturi T = 300 K, može se upotrijebiti izraz naveden u literaturi [5]:
µ
µ µ
µ
α
=
-
+
N
N
+
maks min
ref
min
1
|
.

`
,

(2.10.1)
u kojemu je N ukupna gustoća svih ioniziranih primjesa, a vrijednost parametara µ
min
, µ
maks
,
α i N
ref
dane su u tablici 2.10.1. [6].
nosilac
[ ]
N cm
ref
−3
[ ]
µ
maks
cm V s
2 1 1 − −
[ ]
µ
min
cm V s
2 1 1 − −
α
elektron
1.12⋅ 10
17
1430 80 0.72
šupljina
2.23⋅ 10
17
460 45 0.72
21
Tablica 2.10.1: Parametri za određivanje pokretljivosti nosilaca u siliciju u ovisnosti o
gustoći primjesa, T = 300 K.
2.12. Einsteinova relacija; odnos pokretljivosti nosilaca i difuzijske konstante
Relacija koja povezuje pokretljivost nosilaca naboja i difuzijsku konstantu može se dobiti
analizirajući gibanje naboja u poluvodiču u kojem gustoća primjesa nije jednoliko
raspodijeljena (nehomogeni poluvodič), a položaj Fermijeve razine u zabranjenoj vrpci nije
stalan. Na slici 2.12.1. prikazane su energijske razine za nedegenerirani nehomogeni
poluvodič n-tipa u kojemu je gustoća donora na lijevom kraju (x=0) veća od one na desnome
kraju (x=w), N
D0
> N
DW
.
Slika 2.12.1: Energijske razine u nehomogenom poluvodiču n-tipa u ravnoteži.
Zbog gradijenta gustoće u nehomogenom poluvodiču postoji električno polje čiji je smjer
djelovanja suprotan difuzijskom gibanju nosilaca.
U uvjetima ravnoteže ukupna struja u nehomogenom poluvodiču je jednaka ništici:
J q n F q D
dn
dx
n n n
· ⋅ ⋅ ⋅ + ⋅ ⋅ ·
0
0
0 µ (2.12.1)
J q p F q D
dp
dx
p p p
· ⋅ ⋅ ⋅ + ⋅ ⋅ ·
0
0
0 µ . (2.12.2)
Ravnotežna gustoća elektrona n
0
, u homogenom nedegeneriranom poluvodiču n-tipa određena
je izrazom:
n N
E E
k T
C
C f
0
· ⋅ −


|
.

`
,

exp
, (2.12.3)
koji se može primijeniti i na nehomogeni poluvodič, a razlika energijskih razina E
C
- E
f
se
izrazi u ovisnosti o koordinati x s pomoću potencijalne energije elektrona:
E E q U x
C f
− · − ⋅ ( )
(2.12.4)
gdje je (-q) naboj elektrona, a U(x) električni potencijal, slika 2.12.2.
22
Slika 2.12.2: Energijske razine u nehomogenom poluvodiču n-tipa.
Izraz (2.12.3) može se, dakle, prikazati u obliku:
n N
q U x
k T
C 0
· ⋅ −


|
.

`
,

exp
( )
(2.12.5)
iz kojega proizlazi i gradijent gustoće n
0
po koordinati x:
dn
dx
q
k T
N
q U x
k T
dU x
dx
n
q
k T
dU x
dx
C
0
0
·

⋅ ⋅


|
.

`
,

⋅ · ⋅

⋅ exp
( ) ( ) ( )
. (2.12.6)
Uvrštavanjem izraza (2.12.6) u (2.12.1), te zamjenom polja F negativnom derivacijom
potencijala po udaljenosti,
F
dU x
dx
· −
( )
, (2.12.7)
dobiva se jednadžba:
q n
dU x
dx
q D n
q
k T
dU x
dx
n n
⋅ ⋅ ⋅ −
|
.

`
,

+ ⋅ ⋅ ⋅

⋅ ·
0 0
0 µ
( ) ( )
, (2.12.8)
iz koje, nakon kraćenja istovrsnih veličina, proistječe poznata Einsteinova relacija,
k T
q
D
n n

⋅ · µ
, (2.12.9)
kojom je iskazana međusobna povezanost karakterističnih parametara za dva mehanizma
provođenja struje u poluvodičima: drifta (preko pokretljivosti nosilaca) i difuzije (preko
difuzijske konstante).
Veličina k⋅ T/q = U
T
ima dimenziju volt pa se naziva naponski temperaturni ekvivalent. U
T
je po brojčanoj vrijednosti jednak energijskom temperaturnom ekvivalentu E
T
; naravno,
razlika je u jedinicama: U
T
se iskazuje u voltima, a E
T
u elektronvoltima. Pri temperaturi T
= 300K naponski temperaturni ekvivalent iznosi U
T
= 25.9mV.
Na isti način izvodi se Einsteinova relacija za šupljine:
k T
q
D
p p

⋅ · µ
. (2.12.10)
Promatra li se raspodjela potencijala u nehomogenom poluvodiču u ravnotežnom stanju s
energijskim razinama prikazanim na slici 2.12.2., u točki x = 0, ravnotežna gustoća elektrona
iznosi n
00
, a u točki x = w, n
0w
. Za potencijal u točki x = w može se uzeti vrijednost nula (ako
se ta točka odabere kao ishodišna ili uzemljenje), a u točki x = 0 neka je vrijednost potencijala
U
0
. Prema tome definirane su granice integracije izraza (2.12.6):
23
k T
q
dn
n
dU x
U n
n
w

⋅ ·
∫ ∫
0
0
0
0 00
0
( )
(2.12.11)
iz kojeg proistječe vrijednost za potencijal U
k
:
U
k T
q
n
n
D n
n
k
W
n
n w
·

⋅ · ⋅ ln ln
00
0
00
0
µ
. (2.12.12)
Sukladno primijenjenom postupku može se napisati izraz za potencijal na bilo kojem mjestu x
duž poluvodiča:
U
D n
n
x
n
n
x
w
· ⋅
µ
ln
0
0
. (2.12.13)
Na slici 2.12.3. prikazana je raspodjela potencijala po cijeloj dužini poluvodiča.
Slika 2.12.3: Raspodjela potencijala u nehomogenom poluvodiču.
Potencijal u točki x = 0 je pozitivan prema vrijednosti u točki x = w koja je uzemljena, jer su
neki elektroni zbog gradijenta gustoće difuzijom prešli na desni kraj poluvodiča. Daljnja
difuzija elektrona je zaustavljena uspostavljenim električnim poljem koje djeluje suprotno
njihovom gibanju tako da je struja u poluvodiču jednaka ništici.
Dakle, iako je nehomogeni poluvodič u ravnotežnom stanju prema vani električki neutralan, u
njemu je između bilo kojih dviju točaka uspostavljena potencijalna razlika, koja ovisi o
gustoći istovrsnih nosilaca u tim točkama. Što je razlika (prijelaz) u gustoći veća to je i
potencijalna razlika veća. Najveća vrijednost potencijalne razlike postiže se naglim prijelazom
iz područja n-tipa u područje p-tipa poluvodiča. Za takvo nehomogeno poluvodičko
ustrojstvo, poznato pod nazivom pn spoj može se reći da je temelj svekolike poluvodičke
elektronike.
2.14. Vrijeme života i poništavanje (rekombinacija) nosilaca
Ako se poluvodič, u kojemu je ravnotežna gustoća vodljivih nosilaca n
0
i p
0
, obasja
svjetlošću određene energije h⋅ ν (ν je frekvencija fotona, a h Planckova konstanta) koja je
približno jednaka širini zabranjene vrpce dolazi do fotogeneracije elektron-šupljina parova.
Posljedica te pojave je povećana gustoća vodljivih nosilaca u poluvodiču. Uklanjanjem izvora
svjetla, nastala povećana gustoća s vremenom opada u procesu međusobnog poništavanja, tzv.
rekombinacije elektrona i šupljina, težeći prvobitnoj ravnotežnoj gustoći n
0
odnosno p
0
.
Nastajanje (generacija) i nestajanje (rekombinacija) fotogeneriranih (ekscesnih) nosilaca
može se razmatrati odvojeno za šupljine, a odvojeno za elektrone. Npr. u poluvodiču n-tipa,
djelovanjem svjetlosne energije, gustoća manjinskih šupljina porast će od ravnotežne
vrijednosti
p
n 0
na p
0n
, slika 2.14.1., a glavnih od n
0n
na
n
n 0
. Broj fotogeneriranih
24
elektrona
n n
n n 0 0

zanemariv je prema broju n
0n
u poluvodiču n-tipa, pa se može smatrati da
je ravnotežna gustoća glavnih nosilaca naboja ostala nepromijenjena.
Slika 2.14.1: Poluvodič n-tipa pod utjecajem svjetla.
Nakon prestanka djelovanja svjetla fotogenerirane manjinske šupljine rekombiniraju se
okružene velikim brojem elektrona. Višak gustoće šupljina,
p p
n n 0 0

, opada po
eksponencijalnom zakonu s vremenskom konstantom τ
p
koja se zove vrijeme života šupljina,
slika 2.14.2.
p p p p
t
n n n n
p
− · − ⋅ −
|
.

`
,

0 0 0
( ) exp
τ
. (2.14.1)
Slika 2.14.2: Poništavanje fotogeneriranih šupljina u ovisnosti o vremenu
u poluvodiču n-tipa.
Ista zakonitost raspodjele vrijedi i za ekscesne manjinske elektrone u poluvodiču p-tipa:
n n n n
t
n n n n
n
− · − ⋅ −
|
.

`
,

0 0 0
( ) exp
τ
. (2.14.2)
Parametar τ
n
je vrijeme života manjinskih elektrona u poluvodiču p-tipa.
Deriviranjem izraza (2.14.1) dobiva se brzina promjene gustoće ekscesnih manjinskih šupljina
u poluvodiču n-tipa:
dp
dt
p p t p p
n n n
p p
n n
p
· −

⋅ −
|
.

`
,

· −

0 0 0
τ τ τ
exp
. (2.14.3)
Predznak (-) u izrazu (2.14.3) označava opadanje gustoće, odnosno poništavanje ili
rekombinaciju šupljina.
Vrijeme života manjinskih nosilaca nije stalna veličina već ovisi o gustoći primjesa u
poluvodiču. Na temelju provedenih mjerenja za silicijski poluvodič [8] izvedene su empirijske
relacije za određivanje vremena života manjinskih nosilaca.
Za šupljine u poluvodiču n-tipa:
τ
τ
p
p
D
D
N
N
·
+
0
0
1
, (2.14.4)
25
gdje je τ
p0
= 3.52⋅ 10
-5
s, N
0D
= 7.1⋅ 10
15
cm
-3
(T = 300 K).
Za elektrone u poluvodiču p-tipa:
τ
τ
n
n
A
A
N
N
·
+
0
0
1
, (2.14.5)
gdje je τ
n0
= 1.7⋅ 10
-5
s, N
0A
= 7.1⋅ 10
15
cm
-3
(T = 300 K).
2.15. Jednadžba kontinuiteta
Načelna dinamička svojstva vodljivih nosilaca naboja u poluvodiču su: gibanje pod
utjecajem električnog polja (drift), gibanje od područja visoke gustoće prema mjestu niske
gustoće (difuzija), te nestajanje nosilaca (rekombinacija). Promjena gustoće nosilaca u
jedinici vremena dana je jednadžbom kontinuiteta koja uključuje sva tri navedena efekta
preko pripadajućih karakterističnih parametara: vrijeme života, difuzijske konstante i
pokretljivosti nosilaca.
Za generirane šupljine u poluvodiču n-tipa jednadžba kontinuiteta ima oblik:

∂ τ


µ


p
t
p p
D
p
x
F
p
x
n n n
p
p
n
p
n
· −

+ ⋅ − ⋅ ⋅
0
2
2
, (2.15.1)
koji se u određenim uvjetima može svesti na jednostavnije diferencijalne jednadžbe. Npr. ako
se pretpostavi da u poluvodiču nema električnog polja, (F = 0), te ako je gustoća šupljina
stalna s obzirom na koordinatu x, (


p
x
n
·0), izraz (2.15.1) svodi se na (2.15.3) s rješenjem
(2.15.2). Ako se poluvodič razmatra u stacionarnom ravnotežnom stanju (nema promjene
gustoće s obzirom na vremensku varijablu, (


p
t
n
·0), te ako se zanemari utjecaj električnog
polja, (F = 0), dobiva se diferencijalna jednadžba (2.15.2) koja uključuje efekt rekombinacije i
difuzije.
d p
dx
p p
D
n n n
p p
2
2
0
·

⋅ τ
. (2.15.2)
Netočna bi bila pretpostavka da je električno polje jednako ništici, (F = 0), jer ako postoji
gradijent gustoće u poluvodiču, postoji i električno polje. Ali utjecaj uspostavljenog
električnog polja može se zanemariti u odnosu prema utjecaju difuzije na manjinske šupljine
u poluvodiču n-tipa:
Opće rješenje jednadžbe (2.15.2) koja se naziva difuzijska jednadžba je oblika:
p p A
x
L
A
x
L
n n
p p
− · ⋅
|
.

`
,

+ ⋅ −
|
.

`
,

0 1 2
exp exp
, (2.15.3)
gdje je oznaka L
p
uvedena za izraz
D
p p
⋅τ
, a označava difuzijsku dužinu šupljina.
Konstante A
1
i A
2
nužno je odrediti iz rubnih uvjeta za poluvodičko ustrojstvo koje se
razmatra.
Isti izraz vrijedi i za elektrone u poluvodiču p-tipa:
n n B
x
L
B
x
L
p p
n n
− · ⋅
|
.

`
,
+ ⋅ −
|
.

`
,

0 1 2
exp exp
, (2.15.4)
26
gdje je oznaka L
n
uvedena za izraz D
n n
⋅ τ , a označava difuzijsku dužinu elektrona, a
konstante B
1
i B
2
su definirane rubnim uvjetima koji vrijede za dotični poluvodič.
3. PN SPOJ
3.1 Uvod
Izrazita nehomogenost poluvodiča postiže se tako da se monokristalu u jednom dijelu dodaje
primjesa akceptora, a drugom primjesa donora. Ta dva dijela odvojena su graničnom plohom
(ravninom kompenzacije) koja se zove pn spoj ili pn prijelaz, slika 3.1.1.
Slika 3.1.1: Prikaz pn spoja.
Netočna bi bila tvrdnja da se pn spoj može načiniti jednostavnim spajanjem poluvodiča p i n
tipa, kao što bi se moglo pomisliti na temelju slike 3.1.1. Dodir (kontakt) p i n tipa poluvodiča
moguće je jedino ostvariti posebnim tehnološkim metodama odnosno postupcima planarne
tehnologije na siliciju. Tri su standardna postupka planarne tehnologije:
− epitaksijalni rast,
− difuzija primjesa,
− ionska implantacija.
Epitaksijalni rast (kraće epitaksija) je tehnološki postupak rasta monokristalnog sloja na
monokristalnoj podlozi. Potom slijedi postupak termičke oksidacije kako bi se stvorio tanki
zaštitni sloj silicijevog dioksida SiO
2
, slika 3.1.2.
27
Slika 3.1.2: pn spoj dobiven epitaksijalnim rastom n tipa na podlozi p tipa.
Kada su epitaksijalni sloj i podloga od istog materijala tada je to homoepitaksijalni,
autoepitaksijalni ili izoepitaksijalni rast. Ako je podloga različita od epitaksijalnog sloja tada
je to heteroepitaksijalni rast. Za pokretanje procesa epitaksijalnog rasta potrebna je energija
od 1.6 do 1.9 eV (aktivacijska energija), a brzina samog rasta ovisi o temperaturi.
Difuzija primjesa je osnovni tehnološki postupak dobivanja pn spoja koji se obavlja na
visokoj temperaturi u zatvorenom sustavu (difuzijskim pećima). Za razliku od epitaksijalnog
rasta difuzija primjesa je selektivan proces jer se obavlja na točno odabranim mjestima na
poluvodiču kroz otvor (prozore) u oksidnom sloju na površini silicija. Na slici 3.1.3. prikazan
je tipičan pn spoj dobiven difuzijom primjesa donora u podlogu p tipa.
Slika 3.1.3: pn spoj dobiven difuzijom primjesa.
Ionska implantacija je niskotemperaturan tehnološki postupak koji se obavlja uz potencijalnu
razliku (∼ 100 kV) pri kojoj je omogućeno prodiranje iona kroz površinu čvrstog tijela. Pri
tome implantirani ioni oštećuju kristalnu rešetku, a nastala oštećenja se mogu ukloniti
kaljenjem na određenoj temperaturi (npr. za silicij temperatura iznosi oko 600
o
C).
Raspodjela (profil) primjesa u blizini ravnine kompenzacije ovisi o postupku planarne
tehnologije a redovito je neka složena matematička funkcija. Npr. raspodjela primjesa u
difuzijskom procesu može se opisati funkcijom pogreške i Gaussovom normalnom funkcijom.
Teorijska razmatranja obično se aproksimiraju skokovitim i linearno-postupnim pn
prijelazom.
3.2. Skokoviti pn prijelaz
Izrazita nejednolikost (nehomogenost) raspodjele primjesa u poluvodiču postiže se naglim
prijelazom iz područja p-tipa u područje n-tipa, slika 3.2.1.
Slika 3.2.1: Skokoviti pn prijelaz.
28
P strana je jednoliko onečišćena atomima akceptora, a n strana atomima donora, a na prijelazu
između ta dva homogena područja razlika u gustoći donora i akceptora mijenja se skokovito.
Ravnotežne gustoći nosilaca na p strani su p
0p
i n
0p
, a na n strani su p
0n
i n
0n
, slika 3.2.2.
Slika 3.2.2: Zamišljeno neravnotežno stanje pn spoja.
U zamišljenom neravnotežnom stanju pn spoja, Fermijeve razine na p i n strani nisu
izjednačene. Lijevo i desno od granične ravnine, (x = 0), velika je razlika u gustoći istovrsnih
nosilaca p
0p
i p
0n
, te n
0n
i n
0p
. Posljedica je difuzijsko gibanje šupljina iz p u n stranu, a
elektrona iz n u p stranu. Ravnotežno stanje nastaje kada se uspostavi kontaktna energetska
barijera E
k
, a Fermijeve razine izjednače na jednoj i drugoj strani pn spoja, slika 3.2.3.
Slika 3.2.3: Energijski dijagram pn spoja u ravnoteži.
Sukladno slici 3.2.3. potencijalna energija na barijeri može se izraziti kao:
E q U q q
k k n p
· ⋅ · ⋅ − ⋅ Φ Φ
(3.2.1)
Kontaktna se barijera uspostavlja zbog difuzijskoga gibanja šupljina iz p strane u n stranu, a
elektrona iz n strane u p stranu. U okolišu granične ravnine pn spoja nastaje područje koje
zbog pojave poništavanja oskudijeva slobodnim nosiocima, a postoje samo nepokretni ioni
akceptora s negativnim nabojem i donora s pozitivnim nabojem. To područje, ovisno o
gustoći primjesa, zadire nesimetrično u p i n stranu i naziva se pn barijera, prijelazni sloj,
dvosloj ili osiromašeno područje, a sjedne i druge strane omeđeno je neutralnim područjima p
i n strana, sl. 3.2.4.
29
Slika 3.2.4: Područje barijere pn spoja u ravnoteži.
Uspostavljeno električno polje F ima smjer od pozitivnih atoma donora prema negativnim
akceptorima i zaustavlja prijelaz većinskih nosilaca tj. elektrona u p stranu i šupljina u n
stranu, ali istodobno omogućava prijelaz manjinskih nosilaca (za njih barijera ne postoji), tj.
elektrona iz p strane u n stranu i šupljina iz n strane u p stranu. Budući da je za pn spoj u
ravnoteži ukupna struja elektrona, odnosno šupljina, jednaka ništici, uspostavljeno električno
polje omogućava protjecanje difuzijske struje većinskih šupljina iz p strane, I
Dp
, koja
poništava driftnu struju manjinskih šupljina iz n strane, I
Sn
. Isto tako driftna sastavnica
manjinskih elektrona iz p strane, I
Sp
, poništava difuzijsku struju većinskih elektrona iz n strane
I
Dn
, slika 3.2.3. Takvo ravnotežno dinamičko stanje definirano je jednadžbama:
I I
Dn Sn
+ · 0
, (3.2.2)
I I
Dp Sp
+ ·0
. (3.2.3)
3.2.1. Kontaktni potencijal
Između neutralne n strane i neutralne p strane je prijelazno područje u kojem postoji
intrinsična ravnina
1
. U toj ravnini, koja se za nesimetričan pn spoj ne poklapa s ravninom pn
spoja, ispunjen je uvjet q⋅ Φ = 0 i intrinsična Fermijeva razina je jednaka Fermijevoj razini
kroz prijelazno područje, slika 3.2.1.1.
Slika 3.2.1.1: Uz definiciju područja barijere pn spoja.
Kontaktna energijska barijera proporcionalna je kontaktnom potencijalu (razlici potencijala
između p i n strane pn spoja u ravnotežnim uvjetima):
E q U
k k
· − ⋅
. (3.2.1.1)
Iznos kontaktnog potencijala U
k
može se odrediti iz uvjeta termičke ravnoteže (npr. za
gustoću struje elektrona, J
n
= 0):
11
P. Biljanović, Poluvodički elektronički elementi, Školska knjiga Zagreb 1996. str. 191.
30
neutralno
područje
neutralno
područje
0
0
0
· ⋅ ⋅ ⋅ + ⋅ ⋅ q n F q D
dn
dx
n n
µ , (3.2.1.2)
− ·

⋅ F
D
n
dn
dx
n
n
µ
0
0
, (3.2.1.3)
− · ·


⋅ F
d
dx
k T
q n
dn
dx
Φ
0
0
. (3.2.1.4)
Integraciju diferencijalne jednadžbe (3.2.1.4) potrebno je provesti u granicama koje određuje
područje barijere: od x = -x
p
do od x = x
n
, slika 3.2.1.1.
Φ Φ ( ) ( ) ln
( )
( )
x x
k T
q
n x
n x
n p
n
p
− − ·



0
0
. (3.2.1.5)
Ako su svi donori i akceptori ionizirani izraz (3.2.1.5) može se pisati u obliku:
Φ Φ ( ) ( ) ln x x U
k T
q
N N
n
n p k
A D
i
− − · ·



2
, (3.2.1.6)
gdje je:
n x N
n D 0
( ) ≈
i
n x N
p A 0
( ) − ≈
.
3.2.2. Širina barijere
Širina barijere pn spoja u ravnotežnom stanju ovisi o gustoći primjesa N
D
i N
A
, a može se
odrediti rješenjem Poissonove jednadžbe koja uz zanemarenje gustoća slobodnih elektrona i
šupljina u odnosu prema gustoćama ioniziranih donora i akceptora ima oblik:
− · ·
d
dx
dF
dx
x
2
2
Φ ρ
ε
( )
, (3.2.2.1)
u kojoj je ρ (x) gustoća naboja u području barijere, a ε permitivnost (dielektrička konstanta)
materijala.
Za područje barijere od -x
p
do 0 Poissonova se jednadžba može pisati u obliku:
− · −
⋅ d
dx
q N
A
2
2
Φ
ε
, (3.2.2.2)
a za područje od 0 do x
n
:
− ·
⋅ d
dx
q N
D
2
2
Φ
ε
. (3.2.2.3)
Integriranjem jednadžbe (3.2.2.2) dobiva se:
F x
q N
x K
A
( ) · −

⋅ +
ε
1
. (3.2.2.4)
Uz rubni uvjet F(-x
p
) = 0, konstanta K
1
iznosi:
31
K
q N x
A p
1
· −
⋅ ⋅
ε
, (3.2.2.5)
te se (3.2.2.4) može pisati u obliku:
F x
d
dx
q N
x x
A
p
( ) ( ) · − · −

⋅ +
Φ
ε
. (3.2.2.6)
Za područje od 0 do x
n
, jakost električnoga polja dana je izrazom:
F x
d
dx
q N
x x
D
n
( ) ( ) · − ·

⋅ −
Φ
ε
. (3.2.2.7)
U točki x = 0 električno polje ima maksimalnu vrijednost:
F
q N x
q N x
m
D n
A p
·
⋅ ⋅
·
⋅ ⋅
ε ε
. (3.2.2.8)
Integriranjem izraza (3.2.2.6) i (3.2.2.7) dobiva se funkcija raspodjele potencijala u području
barijere:
Φ·

⋅ + ⋅
|
.

`
,
+
q N x
x x K
A
p
ε
2
2
2
, (3.2.2.9)
Φ·
− ⋅
⋅ − ⋅
|
.

`
,
+
q N x
x x K
D
n
ε
2
3
2
. (3.2.2.10)
Ako se odabere jedna strana barijere kao ishodišna (npr. Φ (-x
p
) = Φ
p
= 0), za konstante K
2
i
K
3
dobiva se:
K
q N
x
K
A
p
2
2
3
2
·

⋅ ·
ε
. (3.2.2.11)
Konstante integracije K
2
i K
3
su jednake jer je funkcija raspodjele potencijala neprekinuta
(kontinuirana).
Vrijednost potencijala u točki x = x
n
iznosi:

Φ Φ ( ) x
q N x q N
x
n n
D n A
p
· ·

⋅ +


ε ε
2
2
2 2
(3.2.2.12)
i jednaka je kontaktnom potencijalu U
k
.
Uz uvjet:
N x N x
D n A p
⋅ · ⋅
(3.2.2.13)
kojim se izriče električna neutralnost cjeline pn spoja, mogu se odrediti širine barijere x
n
i x
p
:
x
U
q
N
N N N
n
k A
D A D
·
⋅ ⋅

⋅ +
2 ε
( )
, (3.2.2.14)
x
U
q
N
N N N
p
k D
A A D
·
⋅ ⋅

⋅ +
2 ε
( )
. (3.2.2.15)
Ukupna širina barijere jednaka je:
32
d x x
U
q
N N
N N
B n p
k A D
A D
· − − ·
⋅ ⋅

+

( )
( ) 2 ε
. (3.2.2.16)
Iz uvjeta neutralnosti
N x N x
D n A p
⋅ · ⋅
, izravno proistječe zaključak: ako je jedna strana pn
spoja više onečišćena, barijera se proteže na slabije onečišćenu stranu (jednostrani pn spoj).
Npr ako je N
A
>>N
D
, širina barijere je:
d x
U
q N
B n
k
D
≈ ·
⋅ ⋅

2 ε
. (3.2.2.17)
Provedeni postupak rješavanja jednodimenzijske Poissonove jednadžbe za područje barijere
pn spoja ilustriran je crtežom 3.2.2.1. :
Slika 3.2.2.1: Ilustracija rješenja Poissonove jednadžbe za pn spoj.
3.2.3. PN spoj s priključenim naponom
Širina područja barijere pn spoja može se mijenjati promjenom iznosa i polariteta
priključenog napona, slika 3.2.3.1.
33
Slika 3.2.3.1: Polarizacija pn spoja.
Promjena širine područja barijere pn spoja izravna je posljedica promjene napona na barijeri
U
B
, koji je jednak kontaktnom naponu U
k
i njemu superponiranom vanjskom naponu U. U
uvjetima propusne polarizacije napon na barijeri je umanjen upravo za iznos priključenog
napona U:
U U U
B k
· −
, (3.2.3.1)
a pri nepropusnoj polarizaciji je povećan, slika 3.2.3.2.
U U U
B k
· +
, (3.2.3.2)
Slika 3.2.3.2: Promjena visine barijera (napona U
B
) u ovisnosti
o polaritetu priključenog napona U.
Djelovanjem priključenog napona pn spoj prelazi iz ravnotežnog u neravnotežno stanje. Pri
propusnoj polarizaciji većinski nosioci pojačano prelaze barijeru na onu stranu gdje su u
manjini (šupljine iz p strane na n stranu, a elektroni iz n strane na p stranu), stoga se taj proces
naziva utiskivanje (injekcija) manjinskih nosilaca. Gustoća utisnutih nosilaca uz rubove
barijere ovisi o iznosu priključenog napona (povećana je u odnosu prema ravnotežnoj
manjinskoj gustoći) i postupno se smanjuje prema krajevima p i n strane, zbog efekta
rekombinacije, težeći ravnotežnim manjinskim gustoćama, slika 3.2.3.3.
Slika 3.2.3.3: Gustoća manjinskih nosilaca u uvjetima propusne polarizacije pn spoja.
Dakle, stalno postoji gradijent gustoće s posljedicom difuzijske struje u pn spoju. U uvjetima
nepropusne (reverzne) polarizacije većinski nosioci ne mogu prelaziti barijeru pa teče struja
manjinskih nosilaca (šupljina iz n strane i elektrona iz p strane). Gustoće tih nosilaca uz
34
rubove barijere su manje od ravnotežnih, ali prema krajevima p i n strane teže ravnotežnim
razinama, slika 3.2.3.4.
Slika 3.2.3.4: Gustoća manjinskih nosilaca u uvjetima nepropusne polarizacije pn spoja.
U ravnotežnom stanju pn spoja zamišljene se struje difuzije i drifta međusobno poništavaju
(J
n
= 0, J
p
= 0). Iznosi gustoća tih struja su za nekoliko redova veličina veče od gustoće struje
polariziranog (propusno ili nepropusno) pn spoja. Pritom su naponi propusne polarizacije
umjerenih vrijednosti, a neravnotežno stanje pn spoja može se smatrati približno ravnotežnim
(kvaziravnotežnim), te se mogu primjeniti i uvjeti ravnoteže: J
n
= 0, J
p
= 0:
J q n F q D
dn
dx
n n n
· · ⋅ ⋅ ⋅ + ⋅ ⋅ 0 µ
. (3.2.3.3)
Uz pretpostavku da je cijeli narinuti vanjski napon U na samoj barijeri pn spoja, ukupni napon
barijere pri propusnoj polarizaciji jednak je U
B
= U
k
- U. Razlika potencijala u točkama -x
p
i x
n
,
slika 3.2.3.5., iznosi:
Φ Φ Φ Φ ( ) ( ) ln
( )
( )
− − · − ·



x x
k T
q
n x
n x
p n p n
p
n
. (3.2.3.4)
Slika 3.2.3.5: Uz definiciju potencijala na rubovima barijera pn spoja.
Budući da je:
Φ Φ
p n k
U U − · −
(3.2.3.5)
za priključeni napon U može se pisati izraz:
U
k T
q
n x
n x
k T
q
N N
n
p
n
A D
i
·



+



ln
( )
( )
ln
2
(3.2.3.6)
U uvjetima niske injekcije (gustoća manjinskih nosilaca mnogo je manja od ravnotežne
gustoće većinskih nosilaca), odnos ravnotežne gustoće manjinskih elektrona i većinskih
šupljina na p strani dan je relacijom:
n x n
n
N
p p
i
A
0 0
2
( ) − · ·
(3.2.3.7)
pa se (3.2.3.6) može pisati kao:
35
U
k T
q
n x
k T
q
n x
k T
q
N
k T
q
n
p n D p
·

⋅ − −

⋅ +

⋅ −

⋅ ln ( ) ln ( ) ln ln
0 . (3.2.3.8)
Ako se pritom uzme u obzir jednakost oznaka:
n x n N
n x n
n n D
p p
( )
( )
· ·
− ·
0
0
(3.2.3.9)
dobiva se relacija koja povezuje ravnotežnu gustoću manjinskih nosilaca (elektrona), gustoću
elektrona uz rub barijere -x
p
i narinuti vanjski napon U:
n n
q
k T
U
p p 0 0
· ⋅


|
.

`
,

exp
. (3.2.3.10)
Za šupljine uz rub barijere x
n
vrijedi ista veza s ravnotežnim manjinskim šupljinama na n
strani:
p p
q
k T
U
n n 0 0
· ⋅


|
.

`
,

exp
. (3.2.3.11)
Relacije (3.2.3.10) i (3.2.3.11) značajne su pri određivanju rubnih vrijednosti gustoća uz
barijeru pn spoja u uvjetima niske injekcije.
3.2.5. Barijerni (tranzitni) kapacitet; kapacitet dvosloja
U području barijere pn spoja gustoće nosilaca su malene (osiromašeno područje), a
dominiraju nepokretni negativni ioni akceptora na p strani i pozitivni donori na n strani. Cijeli
taj prostor ima karakteristike dielektrika na koji se s obje strane nastavljaju relativno dobro
vodljiva neutralna p i n područja, tvoreći tako ustrojstvo sa svojstvom kapacitivnosti
analognoj kapacitivnosti pločastog kondenzatora. Zbog nepropusne polarizacije ioniziraju se
akceptori i donori, širi se područje barijere i mijenja barijerni kapacitet. Kapacitet po jedinici
površine određen je izrazom:
C
dQ
dU
T
·
, (3.2.5.1)
gdje je Q naboj po jedinici površine, a U je narinut napon na barijeri pn spoja.
Na n strani Q iznosi:
Q q N x
D n
· ⋅ ⋅
. (3.2.5.2)
Uvrštavanjem izraza
x
U U
q
N
N N N
n
k A
D A D
·
⋅ ⋅ −

⋅ +
2 ε ( )
( )
(3.2.5.3)
u jednadžbu (3.2.5.2) dobiva se:
Q q N
q
N
N N N
U U
D
A
D A D
k
· ⋅ ⋅


⋅ +
⋅ −
2 ε
( )
( )
(3.2.5.4)
iz čega, sukladno definicijskom izrazu (3.2.5.1) proistječe relacija za barijerni kapacitet pn
spoja:
C
q N N
U U N N
T
A D
k A D
·
⋅ ⋅ ⋅
⋅ − ⋅ +
ε
2 ( ) ( )
, (3.2.5.5)
36
koja se može pisati u skraćenom obliku:
C
C
U
U
T
T
k
·

0
1
(3.2.5.6)
gdje je:
C
q N N
U N N
T
A D
k A D
0
2
·
⋅ ⋅ ⋅
⋅ ⋅ +
ε
( )
. (3.2.5.7)
Kombinirajući izraz za širinu područja barijere:
d
q
U U
N N
N N
B k
A D
A D
2
2
·

⋅ − ⋅
+

ε
( )
(3.2.5.8)
s relacijom (3.2.5.5) dobiva se jednostavan izraz:
C
d
T
B
·
ε
, (3.2.5.9)
koji je upravo jednadžba za određivanje kapaciteta po jedinici površine pločastoga
kondenzatora. Dakle, prema dobivenom izrazu (3.2.5.9), može se povući formalna analogija
između pločastog kondenzatora i područja barijere pn spoja.
Relacija za C
T
(3.2.5.5) izvedena je na temelju određenih aproksimacija koje vrijede za pn
barijeru u uvjetima nepropusne polarizacije, a koje su sadržane u pretpostavci nepokrivenosti
nepokretnog naboja (osiromašenosti područja barijere) i protežnosti priključenoga napona
isključivo na područje barijere (zbog zanemarivo malog pada napona izvan područja barijere).
Pri propusnoj polarizaciji navedene su pretpostavke približno točne (npr. može se uzeti da je
veći dio napona na barijeri iako postoji pad napona, zbog protjecanja struje, i izvan područja
barijere), te se izraz (3.2.5.5) može upotrijebiti uz određeni oprez. Npr. pri naponu U = U
k
dobiva se za C
T
neizmjeran iznos, ali to ne odgovara izmjerenoj vrijednosti na karakteristici
C
T
= f(U) na slici 3.2.5.1.:
Slika 3.2.5.1: Ovisnost barijernoga kapaciteta o naponu:
a) teorijska karakteristika,
b) izmjerena karakteristika.
37
3.2.7. Odnos struje i napona pn spoja
Uz priključeni napon U kojim je pn spoj propusno polariziran, povećava se koncentracija
šupljina na rubu barijere n strane i elektrona na rubu barijere p strane, slika 3.2.7.1.

Slika 3.2.7.1: Rubne vrijednosti povećanih gustoća nosilaca uz barijeru.
Povišene gustoće ekscesnih nosilaca iznose:
n x n x n x n x
q U
k T
p p p p
'( ) ( ) ( ) ( ) exp − · − − − · − ⋅


|
.

`
,

]
]
] 0 0
1
, (3.2.7.1)
p x p x p x p x
q U
k T
n n n n
'( ) ( ) ( ) ( ) exp · − · ⋅


|
.

`
,

]
]
]
0 0
1
. (3.2.7.2)
Izrazi (3.2.7.1) i (3.2.7.2) mogu se upotrijebiti kao rubni uvjeti pri određivanju gustoće struje
elektrona u p strani i šupljina u n strani pn spoja. Drugi rubni uvjet je iznos gustoće na
krajevima pn spoja: p'(x
cn
) = 0; n'(-x
p
) = 0.
Opće rješenje jednadžbe kontinuiteta za ekscesne šupljine u području od x
n
do x
cn
ima oblik:
p x A
x
L
B
x
L
p p
'( ) exp exp · ⋅
|
.

`
,

+ ⋅ −
|
.

`
,

. (3.2.7.3)
Uvrštavanjem rubnih uvjeta u (3.2.7.3) dobiva se:
p x A
x
L
B
x
L
x
n
p
n
p
'( ) exp exp · ⋅
|
.

`
,

+ ⋅ −
|
.

`
,

, (3.2.7.4)
0· ⋅
|
.

`
,

+ ⋅ −
|
.

`
,

A
x
L
B
x
L
cn
p
cn
p
exp exp
. (3.2.7.5)
Iz sustava jednadžbi (3.2.7.4) i (3.2.7.5) mogu se odrediti konstante A i B, te izraz za p'(x):
p x
p x sh
x x
L
sh
x x
L
q U
k T
n
cn
p
cn n
p
'( )
( )
exp ·


|
.

`
,


|
.

`
,




|
.

`
,

]
]
]
0
1
. (3.2.7.6)
Gustoća struje šupljina na n strani određena je njenom difuzijskom sastavnicom:
J q D
dp x
dx
q D
dp x
dx
p p p
· − ⋅ ⋅ · − ⋅ ⋅
( ) '( )
, (3.2.7.7)
38
gdje je
dp x
dx
dp x
dx
( ) '( )
·
. (3.2.7.8)
Jednakost (3.2.7.8) proistječe iz relacije p(x) = p'(x) + p
on
, slika 3.2.7.2.
Slika 3.2.7.2: Gustoća šupljina na n strani pn spoja.
Uvrštavanjem (3.2.7.6) u (3.2.7.7) dobiva se izraz za gustoću struje šupljina na n strani pn
spoja:
J x
q p x D ch
x x
L
L sh
x x
L
q U
k T
p
n p
cn
p
p
cn n
p
( )
( )
exp ·
⋅ ⋅ ⋅

|
.

`
,



|
.

`
,




|
.

`
,

]
]
]
0
1
. (3.2.7.9)
U točki x = x
n
gustoća te struje jednaka je:
J x
q p x D
L th
x x
L
q U
k T
p n
n p
p
cn n
p
( )
( )
exp ·
⋅ ⋅


|
.

`
,




|
.

`
,

]
]
]
0
1
. (3.2.7.10)
Gustoća difuzijske struje elektrona u točki x = -x
p
jednaka je:
J x
q n x D
L th
x x
L
q U
k T
n p
p n
n
cp p
n
( )
( )
exp − ·
⋅ − ⋅


|
.

`
,




|
.

`
,

]
]
]
0
1
. (3.2.7.11)
Ukupna gustoća struje je, dakle:
J J x J x
p n n p
· + − ( ) ( )
, (3.2.7.12)
odnosno
J
q n x D
L th
x x
L
q p x D
L th
x x
L
q U
k T
p n
n
cp p
n
n p
p
cn n
p
·
⋅ − ⋅

− |
.

`
,


⋅ ⋅


|
.

`
,

]
]
]
]
]
]
]



|
.

`
,

]
]
]
0 0
1
( ) ( )
exp
. (3.2.7.13)
39
Ako se u (3.2.7.13) uvedu supstitucije:
n x
n
N
x
n
N
x w x w
p
i
A
n
i
D
p p n n 0
2 2
( ) ( ) − · · − · − · ; p ; x ; x
0 cp cn
,
dobiva se izraz:
J q n
D
L N th
w
L
D
L N th
w
L
q U
k T
i
n
n A
p
n
p
p D
n
p
· ⋅
⋅ ⋅
|
.

`
,


⋅ ⋅
|
.

`
,

]
]
]
]
]
]
]



|
.

`
,

]
]
]
2
1 exp
, (3.2.7.14)
koji se obično piše u jednostavnijem obliku poznatom kao Shockleyjeva jednadžba:
I I
U
U
s
T
· ⋅
|
.

`
,

]
]
]
exp 1
(3.2.7.15)
gdje je
I J S ;
k T
q
· ⋅ ·

U
T , a I
s
reverzna struja zasićenja:
I q n S
D
L N th
w
L
D
L N th
w
L
s i
n
n A
p
n
p
p D
n
p
· ⋅ ⋅
⋅ ⋅
|
.

`
,


⋅ ⋅
|
.

`
,

]
]
]
]
]
]
]
2
. (3.2.7.16)
Reverzna struja zasićenja sastoji se od manjinskih nosilaca i proporcionalna je njihovim
gustoćama. Ukupna struja kroz pn spoj je u svakom njegovom presjeku ista, a određena je
zbrojem difuzijske struje elektrona i šupljina u dvjema različitim točkama (J = J
p
(x
n
) + J
p
(-
x
p
)). Pritom je pretpostavljeno da je neposredno iza barijere na n strani struja šupljina ista kao
i na rubu barijere na p strani, a to vrijedi i za struju elektrona koji ulaze na p stranu. Od ruba
barijere prema dubini p i n područja difuzijske struje I
Dp
i I
Dn
opadaju i nakon udaljenosti koja
odgovara difuzijskoj dužini poprimaju male iznose, ali se pojačava struja većinskih nosilaca
I
Fp
i I
Fn
, tako da ukupna struja kroz pn spoj ima stalnu vrijednost, slika 3.2.7.3.
Slika 3.2.7.3: Struja i njene sastavnice propusno polariziranog pn spoja.
Ako su širine neutralnih područja w
p
i w
n
p i n strane velike u odnosu prema difuzijskim
dužinama L
n
i L
p
(široka p i n strana), vrijednosti tangensa hiperbolnog približno su jednake
jedinici:
th
w
L
w
L
p
n
n
p
≈ ≈ 1 1 ; th
,
pa se izraz (3.2.7.16) svodi na jednostavniji oblik:
I q n S
D
N L
D
N L
s i
n
A n
p
D p
· ⋅ ⋅ ⋅



|
.

`
,

2
. (3.2.7.17)
40
Za w
p
<<L
n
i w
n
<<L
p
(uska p i n strana), funkcija tangens hiperbolni može se aproksimirati
argumentom:
th
w
L
w
L
w
L
w
L
p
n
p
n
n
p
n
p
≈ ≈ ; th
,
pa izraz (3.2.7.16) poprima oblik:
I q n S
D
N w
D
N w
s i
n
A p
p
D n
· ⋅ ⋅ ⋅



|
.

`
,

2
. (3.2.7.18)
Shockleyjeva jednadžba (3.2.7.15) opisuje strujno-naponsku karakteristiku idealnoga pn
spoja, slika 3.2.7.4., i u skladu je s izmjerenim vrijednostima za realni pn spoj tj.
poluvodičku diodu, poglavito u području negativnih i umjereno pozitivnih napona.
Slika 3.2.7.4: Strujno-naponska karakteristika poluvodičke diode.
Reverzna struja zasićenja I
s
, teoretski je asimptota funkcije (3.2.7.15) kad napon U→ ∞, a
praktički ona poprima konačan iznos već pri negativnim naponima od nekoliko volti.
U području propusne polarizacije, struja u početku polagano raste do napona koljena (U
γ
=
0.5V za silicijski pn spoj), a zatim naglo raste poprimajući sve veće vrijednosti.
Da bi Shockleyjeva jednadžba što bolje opisivala strujno-naponsku karakteristiku stvarne
poluvodičke diode, uvodi se korekcijski parametar m, čija vrijednost ovisi o struji kroz diodu,
a obično se nalazi u granicama od 1 do 2.
I I
U
m U
s
T
· ⋅

|
.

`
,

]
]
]
exp 1
. (3.2.7.19)
3.2.9. Akumulirani naboj manjinskih nosilaca
Na slici 3.2.9.1. prikazan je nagomilani (akumulirani) naboj manjinskih šupljina na širokoj n
strani pn spoja. U uvjetima niske injekcije struja šupljina ima difuzijska svojstva, a njihova
gustoća p
n
(x) opada od ruba barijere x
n
prema kraju poluvodiča x
cn
, po eksponencijalnom
zakonu:
p x p p p
x x
L
n n n n
n
p
( ) ( ) exp · + − ⋅ −

|
.

`
,

0 0 0
, (3.2.9.1)
gdje je
p p x
n n n 0
≡ ( ).
41
Slika 3.2.9.1: Akumulirani naboj na širokoj n strani pn spoja.
Za široku stranu pn spoja vrijedi uvjet x
cn
- x
n
= w
n
>> L
p
, slika 3.2.9.1. Akumulirani naboj
šupljina Q
p
na n strani određen je izrazom:
[ ]
Q q S p x p dx
p n n
x
x
n
cn
· ⋅ ⋅ − ⋅

( )
0
. (3.2.9.2)
Uvrštavanjem izraza (3.2.9.1) u (3.2.9.2) dobiva se:
Q q S p p
x x
L
dx
q S p p L
x x
L
q S p p L
x x
L
x x
L
q S p p L
p n n
n
p x
x
n n p
n
p
x
x
n n p
cn n
p
n n
p
n n p
n
cn
n
cn
· ⋅ ⋅ − ⋅ −

|
.

`
,

⋅ ·
· ⋅ ⋅ − ⋅ − ⋅ −

|
.

`
,

·
· ⋅ ⋅ − ⋅ − ⋅ −

|
.

`
,


− −

|
.

`
,

]
]
]
]
]
]
·
· ⋅ ⋅ − ⋅

( ) exp
( ) ( ) exp
( ) ( ) exp exp
( )
0 0
0 0
0 0
0 0
0
1 2 4 4 3 4 4
.
(3.2.9.3)
Struja šupljina jest difuzijska struja određena izrazom:
I x q S D
dp x
dx
dp n p
n
x x
n
( )
( )
·− ⋅ ⋅ ⋅
·
. (3.2.9.4)
Uvrštavanjem (3.2.9.1) u (3.2.9.4) dobiva se izraz:
I x
q S D
L
p p
x x
L
dp
p
p
n n
n
p
( ) ( ) exp ·
⋅ ⋅
⋅ − ⋅ −

|
.

`
,

0 0
(3.2.9.5)
U točki x = x
n
struja I
dp
(x) iznosi:
I x
q S D
L
p p
Q
dp
p
p
n n
p
p
( ) ( ) ·
⋅ ⋅
⋅ − ·
0 0
τ
, (3.2.9.6)
gdje je τ
p
vrijeme života manjinskih šupljina na n strani.
Na uskoj n strani x
cn
- x
n
<< L
p
, raspodjela manjinskih šupljina približno je linearna, slika
3.2.9.2.
42
Slika 3.2.9.2: Akumulirani naboj na uskoj n strani pn spoja.
Jednadžba pravca koji je jednoznačno definiran točkama T
2
(x
n
,p
n0
) i T
1
(x
cn
,p
0n
) glasi:
p x p
p p
x x
x x
n n
n n
n cn
cn
( ) ( ) − ·


⋅ −
0
0 0
. (3.2.9.7)
Akumulirani naboj Q
p
može se odrediti prema izrazu (3.2.9.2):
[ ]
Q q S p p p x p dx
q S
p p
x x
x x dx
q S
p p
x x
x
x x
q S w
p p
p n n n n
x
x
n n
n cn
cn
x
x
n n
n cn
cn
x
x
n
n n
n
cn
n
cn
n
cn
· ⋅ ⋅ − ⋅ − ⋅ ·
· ⋅ ⋅


⋅ − ⋅ ·
· ⋅ ⋅


⋅ − ⋅
|
.

`
,

·
⋅ ⋅
⋅ −


( ) ( )
( )
( )
( )
( )
0 0 0
0 0
0 0
2
0 0
2 2
.
(3.2.9.8)
Difuzijska struja šupljina jednaka je:
I q S D
dp x
dx
q S D
p p
w
Q
t
pd p
n
p
n n
n
p
pr
· − ⋅ ⋅ ⋅ · ⋅ ⋅ ⋅

·
( )
0 0
, (3.2.9.9)
gdje je t
pr
vrijeme proleta manjinskih šupljina kroz usku n stranu:
t
w
D
pr
n
p
·

2
2
. (3.2.9.10)
3.2.11. Ovisnost reverzne struje zasićenja o temperaturi
U relaciji za reverznu struju zasićenja:
I q S n
D
L n
D
L p
s i
p
p n
n
n p
· ⋅ ⋅ ⋅

+

|
.

`
,

2
0 0
, (3.2.11.1)
temperaturna je ovisnost uglavnom sadržana u kvadratu intrisične gustoće n
i
2
, dok se
temperaturne promjene ostalih parametara (D
p
, D
n
, L
p
, L
n
) mogu zanemariti u odnosu prema
n
i
2
, pa se (3.2.11.1) može prikazati kao umnožak neke stalne veličine koja ne ovisi o
temperaturi i intrinsične gustoće:
I k n
i
· ⋅ '
2
(3.2.11.2)
Iz izraza (3.2.11.2) može se izvesti relativna promjena reverzne struje zasićenja o temperaturi:
43
ln ln ' ln I k n
s i
· + ⋅ 2
, (3.2.11.3)
dI
I
dn
n
E
E
dT
T
s
s
i
i
G
T
· ⋅ · +
|
.

`
,

⋅ 2 3
0
. (3.2.11.4)
3.2.12 Ovisnost struje pn spoja o temperaturi
Ovisnost struje o naponu pn spoja dana je Shockleyjevom jednadžbom:
I I
U
m U
s
T
· ⋅

|
.

`
,

]
]
]
exp 1
, (3.2.12.1)
koja se u području propusne polarizacije, uz uvjet U>>U
T
, može prikazati u približnom
obliku:
I I
U
m U
K T
E q U
m k T
s
T
G
· ⋅

|
.

`
,
≅ ⋅ ⋅ −
− ⋅
⋅ ⋅
|
.

`
,

exp exp
3 0
. (3.2.12.2)
Uz stalan napon U, deriviranjem jednadžbe (3.2.12.2) po temperaturi, proistječe izraz za
strujni temperaturni koeficient:
dI
dT
E
E
U
m U
I
T
G
T T
· + −

|
.

`
,

⋅ 3
0
. (3.2.12.3)
3.2.13. Ovisnost napona pn spoja o temperaturi
U području propusne polarizacije pn spoja, uz uvjet U >> U
T
, za napon U može se pisati
relacija:
U m
k T
q
I
I
s
· ⋅

⋅ ln
, (3.2.13.1)
iz koje se, deriviranjem po temperaturi, dobiva izraz za naponski temperaturni koeficient:
dU
dT
m k
q
I
I
m k T
q I
dI
dT
s s
s
·

⋅ +
⋅ ⋅
⋅ −
|
.

`
,

⋅ ln
1
. (3.2.13.2)
3.3. Linearno-postupan pn prijelaz
Za razliku od skokovitog pn prijelaza koji odgovara idealiziranoj predodžbi raspodjele
naboja u području barijere, linearno-postupan pn prijelaz je bliže stvarnoj raspodjeli naboja
posebno kod prijelaza dubljih pn spojeva.
Gustoća primjesa na p i n strani linearno-postupnog prijelaza može se približno prikazati s
pravcem određenim jednadžbom:
N N a x
D A
− · ⋅
, (3.3.1)
u kojoj je a nagib raspodjele gustoće, slika 3.3.1.
44
Slika 3.3.1: Raspodjela primjesa u linearno-postupnom pn prijelazu.
3.3.1. Kontaktni potencijal
Kontaktni potencijal za linearno-postupan pn prijelaz može se odrediti na sličan način kao i
za skokoviti pn prijelaz. Budući da nagib raspodjele gustoće primjesa ima istu vrijednost na p
i n strani, to su i širine barijera p i n strane jednake pa je to simetrični pn spoj, slika 3.3.1.1.
Slika 3.3.1.1: Širina barijere linearno-postupnog pn prijelaza.
Sukladno slici 3.3.1.1., širina barijere p i n strane iznosi:
x x
d
p n
B
· ·
2
, (3.3.1.1)
a pripadajuće gustoće primjesa su:
N N
d a
D A
B
− ·

2
(3.3.1.2)
pa se kontaktni potencijal može odrediti izravnim uvrštavanjem izraza (3.3.1.2) u izraz za
kontaktni potencijal skokovitog pn prijelaza:
U U
N N
n
U
a d
n
k T
D A
i
T
B
i
· ⋅

· ⋅


|
.

`
,
ln ln
2
2 2
2
4
. (3.3.1.3)
3.3.2. Raspodjela električnog polja i potencijala
Za osiromašeno područje linearno-postupnog pn prijelaza u kojemu se gustoća slobodnih
elektrona i šupljina može zanemariti u odnosu prema gustoći ioniziranih akceptora i donora,
Poissonova jednadžba ima oblik:
45
d
dx
a
x
2
2
φ ρ
ε
· −

⋅ . (3.3.2.1)
Integriranjem jednadžbe (3.3.2.1) u području
− ≤ ≤
d
x
d
B B
2 2
(3.3.2.2)
uz uvjet
F
d
dx
d
B
· − · t
φ
0
2
za x= (3.3.2.3)
dobiva se izraz za jakost električnog polja kao funkcija od x, slika 3.3.2.1 b),
F x
a q
x
d
F
x
d
B
maks
B
( ) ·


⋅ −
|
.

`
,
· ⋅ −

|
.

`
,

2 2
1
4
2
2 2
2
ε
(3.3.2.4)
gdje je F
maks
maksimalna jakost električnog polja:
F
q a d
maks
B
· −
⋅ ⋅

2
8 ε
. (3.3.2.5)
Nakon integracije izraza 3.3.2.4 uz rubni uvjet φ (x)=0 za x=0, dobiva se raspodjela
potencijala:
φ
ε
( ) x
q a d
x
x
B
· −


⋅ ⋅ −
|
.

`
,

2 4 3
2 3
. (3.3.2.6)
Na rubovima barijere, tj u točki x
d
B
·
2
, potencijal iznosi:
φ φ
ε
d q a d
B
n
B
2 24
3
|
.

`
,

· ·
⋅ ⋅

, (3.3.2.7)
a u točki x
d
B
· −
2
φ φ
ε

|
.

`
,

· · −
⋅ ⋅

d q a d
B
p
B
2 24
3
. (3.3.2.8)
Razlika potencijala u tim točkama upravo je izraz za kontaktni potencijal, slika 3.3.2.1 c)
U
q a d
k n p
B
· − ·
⋅ ⋅

φ φ
ε
3
12
. (3.3.2.9)
Iz sustava jednadžbi 3.3.1.3 i 3.3.2.9 može se odrediti širina područja barijere d
B
i kontaktni
potencijal U
k
.
46
Slika 3.3.2.1: Raspodjelau linearno-postupno, pn prijelazu:
a) naboja, b) električnog polja, c) potencijala
Iz jednadžbi 3.3.1.3. i 3.3.2.9. određena je ovisnost kontaktnog potencijala o nagibu
raspodjele gustoće te grafički prikazana na slici 3.3.2.2.
Slika 3.3.2.1: Kontaktni potencijal u ovisnosti o nagibu raspodjele gustoće za
Si pri T=300K.
Ako je na pn spoj narinut vanjski napon U tada je ukupni iznos napona potencijalne barijere
određen relacijom:
U U U
B K
· −
, (3.3.2.10)
a širina barijere d
B
je dana izrazom:
47
( ) d
q a
U U
B k
·


⋅ −

]
]
]
12
1
3
ε
. (3.3.2.11)
3.3.3. Prijelazni kapacitet C
T
Ukupan naboj osiromašenog područja linearno-postupnog pn prijelaza iznosi:
Q
q d a d q a d
B B B
· ⋅
|
.

`
,


⋅ |
.

`
,

·
⋅ ⋅
2 2 2 8
2
. (3.3.3.1)
U skladu s općom definicijom kapaciteta (derivacija naboja po naponu) prema jednadžbi
3.3.3.1 dobiva se izraz za prijelazni kapacitet C
T
:
C S
dQ
dU
q S a d dd
dU
T
B B
· ·
⋅ ⋅ ⋅

|
.

`
,

4
(3.3.3.2)
u kojemu se diferencijalni kvocijent
dd
dU
B
može odrediti iz jednadžbe 3.3.2.11, pa je za
kapacitet barijernog područja izvedena relacija:
( )
C S
q a
U U
S
d
T
k B
· ⋅
⋅ ⋅
⋅ −

]
]
]
· ⋅
ε
ε
2
1
3
12
. (3.3.3.3)
3.4. PN spoj dobiven difuzijom primjesa
Difuzija primjesa je fizikalno identična difuziji slobodnih nosilaca (elektrona i šupljina).
Jedina je razlika u masi čestica i uvjetima odvijanja samog procesa. Kako je masa atoma
primjesa mnogo veća od mase slobodnih elektrona (šupljina) i njihova pokretljivost je manja.
Stoga je nužno atomima primjesa dati dodatnu vanjsku energiju potrebnu za odvijanje procesa
difuzije. Ta dodatna energija je u obliku topline u toplinskim pećima gdje se pločice silicija
nalaze u plinovitom oblaku primjesa na temperaturi između 900 i 1200
o
C. Broj atoma
primjese ograničen je najvećim mogućim brojem atoma koji je moguće zamjeniti u kristalnoj
rešetki silicija na zadanoj temperaturi (topljivost primjese), slika 3.4.1.
48
Slika 3.4.1: Ovisnost topljivosti primjesa u siliciju o temperaturi.
Difuzija primjese se obavlja na odabranim mjestima na površini silicija kroz otvore (prozore)
načinjene na oksidnom sloju SiO
2
kojim je presvučena cijela ploha, slika 3.4.2.
Slika 3.4.2: Difuzija primjese u silicij kroz otvor u silicijskom dioksidu.
Gustoća primjese u ovisnosti o trajanju difuzije i udaljenosti od površine silicija određena je
Fickovim zakonima (prvi i drugi Fickov zakon difuzije). Za difuziju samo u smjeru osi x prvi
Fickov zakon glasi:
[ ]
f x t D
N x t
x
s ( , )
( , )
·− ⋅



cm
-2 1
(3.4.1)
gdje je:
f(x,t) broj atoma primjese koji prođu u jedinici vremena kroz centimetar četvorni površine
silicija,
D difuzijska konstanta za atome primjese,
N(x,t) gustoća primjese na udaljenosti x od površine silicija nakon vremena t od početka
difuzije.
Drugi Fickov zakon proistječe iz difuzijske jednadžbe slobodnih nosilaca u kojoj je
izostavljen član za rekombinaciju i generaciju nosilaca jer te pojave ne postoje u procesu
difuzije primjesa:
49
[ ]




N x t
t
D
N x t
x
s
( , ) ( , )
· ⋅ ⋅

2
2
1
cm
-3
. (3.4.2)
Difuzijski proces može teći uz stalnu površinsku gustoću primjese na površini silicija. To je
difuzija iz neograničenog izvora ili difuzija uz stalnu površinsku gustoću.
Drugi tip je difuzija iz ograničenog izvora pri kojoj nastaje prostorna preraspodjela
(redistribucija) atoma primjese predhodno unešenih u silicij u prvom koraku difuzije
(predepoziciji).
3.4.1. Difuzija iz neograničenog izvora
Gustoća atoma primjese kao funkcija udaljenosti od površine kristala i vremena trajanja
difuzije, pri difuziji iz neograničenog izvora, može se odrediti pomoću drugog Fickovog
zakona. Ako se kao rubni uvjet u rješavanju parcijalne diferencijalne jednadžbe (3.4.2) uzme
neograničena protežnost kristala u x smjeru dobiva se izraz:
N x t N erfc
x
D t
( , ) · ⋅
⋅ ⋅
0
2
(3.4.1.1)
gdje je N
0
površinska gustoća koja ujedno odgovara i topivosti primjese, a erfc je oznaka za
komplementarnu funkciju pogrešake, prilog 2. Veličina D je difuzijska konstanta određena
Arrheniusovim zakonom:
D D
E
k T
A
· ⋅ −

|
.

`
,

0
exp (3.4.1.2)
gdje su parametri D
0
i E
A
dani u tablici 3.4.1.1. za različite primjese koje se postupkom
difuzije unose u silicij. D
0
je hipotetska vrijednost od D pri termodinamičkoj temperaturi
T→∞, a E
A
je aktivacijska energija za određenu primjesu.
Primjesa fosfor arsen kositar bor aluminij galij indij
D
0
[cm
2
/s]
10.50 0.32 5.60 10.50 8.00 3.60 16.50
E
A
[eV]
3.69 3.56 3.96 3.69 3.47 3.51 3.90
Tablica 3.4.1.1: Vrijednosti parametara D
0
i E
A
za različite primjese.
Veličina D t ⋅ u izrazu (3.4.1.1) ima dimenziju dužine, stoga se naziva difuzijska dužina
primjese. Funkcija f(x,t) iz prvog Fickovog zakona može se odrediti uvrštavanjem izraza
(3.4.1.1) u diferencijalnu jednadžbu (3.4.1) te se dobiva tok atoma primjese po Gaussovoj
funkciji raspodjele:
[ ]
f x t
N D
D t
x
D t
s ( , ) exp ·

⋅ ⋅
⋅ −
⋅ ⋅
|
.

`
,

− 0
2
1
4
π
cm
2
. (3.4.1.3)
Isto tako se može odrediti s pomoću izraza (3.4.1.1) i ukupan broj atoma primjese koji prođu
kroz jediničnu površinu (1 cm
2
) poluvodiča do trenutka t:
[ ]
Q t N x t dt
N
D t ( ) ( , ) · ⋅ ·

⋅ ⋅


2
0
0
π
cm
-2
. (3.4.1.4)
3.4.2. Difuzija iz ograničenog izvora
50
Ukoliko je ukupan broj atoma primjese određen izrazom (3.4.1.1) početni (ograničeni) izvor
iz kojeg primjesa prodire dublje u obujam poluvodiča, tada se prvi korak difuzije kojim je
unešena količina Q(t) naziva predepozicija. Da bi količina primjese Q(t) ostala
nepromjenjena, površina silicija se prekriva slojem silicijevog dioksida SiO
2
kako bi se
onemogućilo isparavanje primjese u okolni prostor. Nakon oksidacije poluvodič se stavlja u
difuzijsku peć u kojoj pri temperaturi od oko 1000
o
C primjesa prodire (difundiraja) dublje u
obujam poluvodiča. To je drugi korak difuzije primjese ili redistribucija. Raspodjela gustoće
primjese kao funkcija udaljenosti x od površine poluvodiča i trajanja difuzije t određena je
Gaussovom raspodjelom koja se dobiva rješenjem jednadžbe drugog Fickovog zakona:
N x t
Q
D t
x
D t
( , ) exp ·
⋅ ⋅
⋅ −
⋅ ⋅
|
.

`
,

π
2
4
. (3.4.2.1)
3.4.3. Dubina pn spoja
Određivanje dubine pn spoja dobivenog difuzijom primjese razmotrit će se na siliciju s
jednolikom (uniformnom) gustoćom primjese donora N
D
, u koji se difuzijom unose atomi
akceptora s raspodjelom gustoće N(x,t), slika 3.4.3.1.
Slika 3.4.3.1: Prikaz određivanja dubine pn spoja x
j
.
Na mjestu spoja x
j
raspodjela gustoća N
A
(x,t) i N
D
su jednake:
N x t N
A D
( , ) ·
. (3.4.3.1)
Ako je difuzija primjese akceptora iz neograničenog izvora tada se položaj x
j
pn spoja može
odrediti iz uvjeta:
N erfc
x
D t
N
A
j
D 0
2

⋅ ⋅
·
, (3.4.3.2)
gdje je N
A0
gustoća akceptora na površini silicija.
Rješenjem jednadžbe (3.4.3.2) dobiva se:
x D t erfc
N
N
j
D
A
· ⋅ ⋅ ⋅

2
1
0
, (3.4.3.3)
gdje je erfc
-1
oznaka za inverznu komplementarnu funkciju pogreške.
Na isti način izveden je izraz za dubinu pn spoja dobivenog difuzijom primjese iz
ograničenog izvora:
x D t
Q
N D t
j
A
D
· ⋅ ⋅ ⋅
⋅ ⋅ ⋅
2 ln
π
. (3.4.3.4)
4. BIPOLARNI TRANZISTOR
4.1 Definicija i tehnološka izvedba
51
Naziv tranzistor nastao je kao složenica od dvije engleske riječi: transfer resistor što u
prijevodu znači prenjeti otpor. U nazivu bipolarni tranzistor sadržana je osnovna značajka
ovog elektroničkog elementa, njegovo aktivno djelovanje (prijenos otpora) koje se temelji na
sudjelovanju obaju tipova nosilaca naboja (bipolarnih nosilaca tj. elektrona i šupljina).
Bipolarni spojni tranzistor (skračenica BJT od engl. bipolar junction transistor) može se u
načelu shvatiti kao ustrojstvo dvaju pn spojeva, tj. kao poluvodička cjelina pnp ili npn tipa u
kojoj se središnji sloj naziva baza (oznaka B), a druga dva sloja su emiter (oznaka E) i
kolektor (oznaka C), slika 4.1.1.
Slika 4.1.1: Ustrojstvo i simbol za bipolarni spojni tranzistor:
a) pnp tip, b) npn tip.
S obzirom na tri priključka (emiter, baza i kolektor) postoji mogućnost i više načina
polarizacije odnosno rada tranzistora. Ako tranzistor radi kao pojačalo tada je spoj emiter-
baza propusno polariziran, a spoj kolektor-baza nepropusno. Pri tome se promjenom napona
na propusno polariziranom pn spoju, odnosno promjenom struje kroz taj spoj, mijenja i struja
kroz nepropusno polarizirani pn spoj. Ta pojava nazvana tranzistorski efekt ili bipolarno
međudjelovanje dvaju pn spojeva preko zajedničkog uskog područja baze temelji se na
mehanizmu utiskivanja (injekcije) manjinskih nosilaca iz emitera, prijenosa (tranzita) tih
nosilaca kroz bazu i sakupljanja (kolekcije) na kolektoru.
Propusno polariziranim spojem emiter-baza omogućeno je utiskivanje manjinskih nosilaca iz
područja emitera u područje baze i obrnuto (ako se radi o npn tranzistoru tada su to elektroni
iz emitera i šupljine iz baze). Kao posljedica tehnološkog postupka izvedbe tranzistora velika
je razlika u gustoći primjesa između emitera i baze pa je ukupna struja praktički jednaka struji
manjinskih nosilaca iz emitera. Kako je širina baze relativno malena (manja od difuzijske
dužine manjinskih nosilaca u bazi), manji dio utisnutih nosilaca se poništi (rekombinira) u
bazi, a veći dio dospije u područje kolektora privučen potencijalom nepropusno polariziranog
spoja kolektor baza, tvoreći tako glavnu sastavnicu struje u kolektorskom području.
U ravnotežnom stanju (uvjeti kada nema priključenog vanjskog napona) na spoju emiter-
baza i spoju kolektor-baza postoje samo energetske barijere zbog kontaktnog potencijala, a
Fermijeva razina je kroz cijelu kristalnu strukturu izjednačena, slika 4.1.2. a). Kako je
pretpostavljena gustoća primjese u emiteru iznad 5⋅ 10
18
cm
-3
, emiter je degenerirani n tip
poluvodiča pa Fermijeva razina zadire u vodljivu energijsku vrpcu. Za područje baze koja je p
tip poluvodiča, Fermijeva razina je blizu valentne vrpce, a u području kolektora je ispod
vodljive vrpce što odgovara n tipu poluvodiča s umjerenom gustoćom donorske primjese.
U uvjetima normalne polarizacije (spoj emiter-baza je propusno, a spoj kolektor-baza
nepropusno polariziran), visina potencijalne barijere je umanjena na emiterskom spojištu
upravo za potencijalnu energiju određenu naponom propusne polarizacije q⋅ U
BE
, a na
kolektorskom spojištu je uvećana za q⋅ U
CB
, slika 4.1.2. b).
52
Slika 4.1.2: Energijski i potencijalni dijagrami za npn tranzistor:
a) i d) u ravnotežnom stanju,
b) i c) u stanju normalne polarizacije.
Širina osiromašenog područja na emiterskom i kolektorskom spojištu mijenja se u ovisnosti
o iznosu priključenog napona i njegovu polaritetu. Stoga su efektivne širine pojedinih
područja w
E
, w
B
i w
C
različite od tehnoloških dimenzija w
E0
, w
B0
i w
C0
, a najizraženije su
promjene u području baze na spojištu kolektor-baza zbog nepropusne polarizacije tog spojišta,
slika 4.1.3.
Slika 4.1.3: Definicija područja emitera, baze i kolektora
normalno polariziranog npn tranzistora.
Tehnološka izvedba bipolarnih spojnih tranzistora može biti u diskretnom (jedan tranzistor)
ili u integriranom obliku (više tranzistora ili jedan i više tranzistora s drugim elementima na
istoj silicijskoj pločici), slika 4.1.4.
53
Slika 4.1.4: Diskretna izvedba planarnog npn tranzistora.
Proizvodnja planarnih tranzistora temelji se na metodama planarne tehnologije na siliciju.
Na jako vodljivoj n
+
monokristalnoj silicijskoj podlozi (pločici) formira se epitaksijalnim
rastom n sloj (epitaksijalni sloj). Zatim se cijela struktura podvrgava procesu oksidacije
(nanošenje sloja silicijeva dioksida), te se kroz male otvore (prozore) difuzijom iz
ograničenog izvora unosi primjesa tj. atomi akceptora formirajući tako p područje (područje
baze). Potom se kroz novi otvor (E) difuzijom iz neograničenog izvora formira n
+
područje
emitera. Kao materijal za kontakt s pojedinim područjima upotrebljava se aluminij jer se
dobro vezuje s oksidnim slojem, dobro odvodi toplinu i ne stvara sa silicijem ispravljački
spoj. Aluminijski spoj s n
+
područjem, zbog velike gustoće primjese (iznad 5⋅ 10
18
cm
-3
) ima
omski karakter, kao i aluminijski spoj s područjem baze koje je poluvodič p tipa. Područje
emitera obično ima veću gustoću primjesa u odnosu prema bazi, a baza u odnosu prema
kolektoru. Područje kolektora je n tip poluvodiča, ali je spojeno na aluminijski kontakt preko
n
+
područja kako bi se uklonilo ispravljačko djelovanje na spoju metal-poluvodič.
Tipična raspodjela (profil) primjese za pojedina područja bipolarnog spojnog tranzistora
prikazana je na slici 4.1.5., gdje je uz stvarnu nejednoliku raspodjelu primjese prikazana i
idealizirana jednolika raspodjela sa skokovitim prijelazima.
Slika 4.1.5: Profil primjese u bipolarnom npn tranzistoru:
a) stvarna raspodjela, b) idealizirana sa skokovitim pn prijelazima.
54
4.2. Profili manjinskih nosilaca i područje rada tranzistora
U stacionarnom stanju raspodjela elektrona u bazi npn tranzistora može se odrediti rješenjem
jednadžbe kontinuiteta (2.14.1) koja napisana za manjinske elektrone u bazi, uz uvjet


n
t
B
· 0, prelazi u oblik:
D
n
x
n n
n
B B B
nB
⋅ −

·

∂ τ
2
2
0
0
(4.2.1)
gdje je n
B
gustoća elektrona u bazi, a n
B0
je toplinska ravnotežna gustoća:
n
n
N
B
i
AB
0
2
·
. (4.2.2)
Rješenje jednadžbe (4.2.1.) potrebno je odrediti uz uvjete:
( ) n x n
U
U
B E B
BE
T
· ⋅
|
.

`
,

0
exp
(4.2.3)
( ) n x w n
U
U
B E B B
BC
T
+ · ⋅
|
.

`
,

0 0
exp
(4.2.4)
u kojima su zanemarene širine osiromašenih područja emiterskog i kolektorskog spojišta, tj.
za efektivnu širinu emitera, baze i kolektora uzete su njihove tehnološke širine w
E0
, w
B0
i w
C0
,
slika 4.1.3.
Sukladno ovim oznakama rješenje jednadžbe poprima oblik:
n x n A
x x
L
A
x x
L
B B B
E
nB
B
E
nB
( ) exp exp · + ⋅
− |
.

`
,

− ⋅ −
− |
.

`
,

0 1 2
(4.2.5)
gdje je:
( ) ( )
A
n x w n x
w
L
sh
w
L
B
B E B B E
B
nB
B
nB
1
0
0
0
2
·
+ − ⋅ −
|
.

`
,


|
.

`
,

∆ ∆ exp
, (4.2.6)
( ) ( )
A
n x w n x
w
L
sh
w
L
B
B E B B E
B
nB
B
nB
1
0
0
0
2
·
+ − ⋅
|
.

`
,


|
.

`
,

∆ ∆ exp
, (4.2.7)
( ) ( ) ∆n x w n x w n
B E B B E B B
+ · ⋅ + −
0 0 0
, (4.2.8)
( ) ( ) ∆n x n x n
B E B E B
· ⋅ −
0
. (4.2.9)
Ako je spoj emiter-baza propusno, a spoj kolektor-baza nepropusno polariziran, tada se mogu
pisati sljedeće relacije:
55
n x n
U
U
B E B
BE
T
( ) exp · ⋅
|
.

`
,

0
, (4.2.10)
n x w
B E B
( ) + ·
0
0
. (4.2.11)
Budući da je za tranzistorski efekt nužan uvjet uske baze, tj. treba biti:
w
L
B
nB
0
1 <<
(4.2.12)
rješenje jednadžbe (4.2.5) može se aproksimirati linearnim rješenjem nakon razvoja u
Taylorov red članova
exp
x x
L
E
nB
− |
.

`
,
i
exp −
− |
.

`
,

x x
L
E
nB
:
n x n x
w x x
w
B B E
B E
B
( ) ( ) · ⋅
+ −
0
0
. (4.2.13)
Na slici 4.2.1. prikazana je linearna raspodjela manjinskih elektrona u bazi npn tranzistora
sukladno relaciji (4.2.13) i nelinearna sukladno relaciji (4.2.5).
Slika 4.2.1: Raspodjela utisnutih elektrona u bazi npn tranzistora
za dvije vrijednosti omjera
w
L
B
nB
0
.
Gustoća šupljina u emiterskom i kolektorskom području može se odrediti rješenjem
jednadžbe kontinuiteta za ta područja:
D
p
x
p p
p
E E E
pE
⋅ −

·

∂ τ
2
2
0
0
(4.2.14)
D
p
x
p p
p
C C C
pC
⋅ −

·

∂ τ
2
2
0
0
(4.2.15)
gdje je τ
pE
vriojeme života šupljina u emiteru, a τ
pC
vrijeme života šupljina u kolektoru.
Termičke ravnoteže gustoća određene su izrazima:
p
n
N
E
i
DE
0
2
·
;
p
n
N
C
i
DC
0
2
·
. (4.2.16)
56
Uz rubne uvjete:
p p
E E
( ) 0
0
·
, (4.2.17)
p x p
U
U
E E E
BE
T
( ) exp · ⋅
|
.

`
,

0
, (4.2.18)
p x w p
U
U
C E B C
BC
T
( ) exp + · ⋅
|
.

`
,

0 0
, (4.2.19)
p x w x p
C E B C C
( ) + + ·
0 0
. (4.2.20)
Rješenja jednadžbi (4.2.14) i (4.2.15) su:
p x p p
U
U
sh
x
L
sh
x
L
E E E
BE
T
pE
E
pE
( ) exp · + ⋅
|
.

`
,

]
]
]

|
.

`
,

|
.

`
,

0 0
1
, (4.2.21)
p x p p
U
U
sh
x w x x
L
sh
x
L
C C C
BE
T
E B C
pC
C
pC
( ) exp · + ⋅
|
.

`
,

]
]
]

+ + −
|
.

`
,

|
.

`
,

0 0
0
1
, (4.2.22)
Ovisno o polaritetu napona priključenog između emitera i baze, te kolektora i baze, u načelu
se razlikuju tri područja rada tranzistora:
1. normalno aktivno područje (spoj emiter-baza je propusno, a spoj kolektor-baza nepropusno
polariziran),
2. područje zasićenja (spoj emiter-baza i spoj kolektor-baza su propusno polarizirani),
3. zaporno područje (spoj emiter-baza i spoj kolektor-baza su nepropusno polarizirani).
Uz navedena tri područja teorijski se razmatra i četvrto područje koji je obrnuto (inverzno) u
odnosu prema normalnom aktivnom području (spoj emiter-baza je nepropusno, a spoj
kolektor-baza propusno polariziran).
Raspodjela utisnutih manjinskih nosilaca u područje emitera, baze i kolektora mogu se
grafički prikazati na temelju jednadžbi (4.2.5), (4.2.21) i (4.2.22). Na slici 4.2.2 prikazane su
raspodjele za sva četiri područja rada.
57
Slika 4.2.2: Raspodjela utisnutih manjinskih nosilaca u područje
emitera, baze i kolektora za:
a) normalno aktivno područje, b) područje zasićenja,
c) zaporno područje, d) inverzno aktivno područje.
U normalnom aktivnom području prema slici 4.2.2. veća gustoća primjese iz emitera rezultira
u većem utiskivanju nosilaca u područje baze.
U području zasićenja je utiskivanje elektrona iz kolektora u suprotnom smjeru od utiskivanja
iz emitera. Stoga je struja koja je proporciionalna nagibu raspodjele elektrona u bazi manja u
odnosu prema struji u normalnom aktivnom području. Kvalitativan prikaz ove pojave
prikazan je na slici 4.2.3.
58
Slika 4.2.3: Raspodjela utisnutih elektrona u bazi npn tranzistora u području zasićenja:
a) iz emitera, b) iz kolektora, c) ukupna raspodjela.
U zapornom području teku male zaporne struje jer se mali broj nosilaca utisne u bazu.
U inverznom aktivnom području se veći broj šupljina utisne u kolektorsko područje nego
elektrona u bazu, što rezultira u vrlo malom strujnom pojačanju, pa se ovo područje samo
teorijski razmatra pri određivanju parametara tranzistora.
4.3. Struje normalno polariziranog tranzistora
Tranzistor ima tri izvoda (elektrode) stoga tri elektrodne struje: emitera, baze i kolektora,
sastavljene od pripadnih šupljinskih i elektronskih sastavnica (slika 4.3.1.). Za prikazani pnp
tranzistor ucrtani su stvarni smjerovi struja koji odgovaraju smjeru gibanja pozitivnog naboja
(šupljina).
Slika 4.3.1: Struje normalno polariziranog pnp tranzistora.
Struja emitera I
E
je struja propusno polariziranog spoja emiter-baza, a sastoji se od dvije
sastavnice:
59
1. struje šupljina I
pE
(šupljine utisnute iz emitera u bazu),
2. struje elektrone I
nE
(elektroni utisnuti iz baze u emiter).
I I I
E pE nE
· +
(4.3.1)
Sastavnice struje kolektora I
C
su:
1. struje šupljina I
pC
(struja I
pE
umanjena za rekombinacijsku struju I
R
),
2. reverzne struje zasićenja I
CB0
(struja manjinskih nosilaca nepropusno polariziranog spoja
kolektor-baza).
I I I
C pC CB
· +
0 (4.3.2)
Struja baze I
B
sastoji se od tri sastavnice:
1. struje elektrona I
nE
(utisnuta struja iz emitera u bazu),
2. rekombinacijske struje I
R
, koja je posljedica rekombinacije elektrona u bazi i dijela
šupljina iz emitera,
I I I
R pE pC
· −
(4.3.3)
3. reverzne struje zasićenja spojišta kolektor-baza I
CB0
.
I I I I
B nE R CB
· + −
0
(4.3.4)
Struja emitera jednaka je zbroju struje kolektora i struje baze:
I I I
E C B
· +
(4.3.5)
Za npn tranzistor, slika 4.3.2. sve struje teku u suprotnom smjeru u odnosu prema strujama
pnp tranzistora.
Slika 4.3.2: Struje normalno polariziranog npn tranzistora.
Struje normalno polariziranog npn tranzistora dane su jednadžbama:
I I I
E nE pE
· +
(4.3.6)
I I I
C nC CB
· +
0
(4.3.7)
I I I
R nE nC
· −
(4.3.8)
I I I I
B pE R CB
· + −
0 (4.3.9)
I I I
E C B
· +
(4.3.10)
Pri normalnoj polarizaciji npn tranzistora, zbog linearne raspodjele gustoće injektiranih
elektrona u bazi, difuzijska struja elektrona ima praktički stalnu vrijednost i približno je
jednaka emiterskoj, odnosno kolektorskoj struji:
I q S D
dn
dx
I I
q D n
w
U
U
nE n
B
E C
n B
B
BE
T
· ⋅ ⋅ ⋅ ≈ ≈ ≈
⋅ ⋅

|
.

`
,

0
0
exp
. (4.3.11)
Približne jednakosti u jednadžbi (4.3.1) znače da se skoro svi elektroni injektirani iz emitera u
područje baze difuzijom prenesu do kolektorskog spojišta, a odatle do vanjskog priključka
kolektora djelovanjem jakoga električnog polja (zbog nepropusnog napona između kolektora i
baze). Struja baze je uglavnom određena strujom šupljina I
pE
koja teče iz područja baze u
emiter.
60
To je difuzijska struja šupljina koja teče u n tip emitera kao što teče difuzijska struja elektrona
u p tip baze. Stoga se struja baze može izraziti relacijom:
I I q D S
dp
dx
x x w
q D S p
w
U
U
B pE p
E
E E
p E
E
BE
T
≈ · ⋅ ⋅ ⋅
· ·
·
⋅ ⋅ ⋅

|
.

`
,

0
0
0
exp
, (4.3.12)
gdje je
p
n
N
E
i
DE
0
2
·
.
Tehnološka širina emitera w
E0
mnogo je manja od difuzijske dužine šupljina u emiteru
(transparentni emiter), tj. može se pisati nejednakost w
E0
<< L
pE
. Obično je w
E0
istog reda
veličine kao i tehnološka širina baze w
B0
, ali je redovito u emiteru mnogo veća gustoća
primjese nego u bazi (p
E0
<< n
B0
) što znači da je struja baze mnogo manja od struje emitera.
4.4. Parametri tranzistora
4.4.1. Djelotvornost emitera
Djelotvornost (efikasnost) emitera definirana je omjerom struje većinskih nosilaca, šupljina za
pnp, odnosno elektrona za npn tranzistor, i ukupne struje emitera:
γ ·
+
·
I
I I
I
I
pE
pE nE
pE
E
(za pnp tranzistor) (4.4.1.1)
γ ·
+
·
I
I I
I
I
nE
nE pE
nE
E
(za npn tranzistor) (4.4.1.2)
4.4.2. Prijenosni (transportni) faktor
Mjera kvalitete prijenosa definirana je omjerom struje većinskih nosilaca kolektora i struje
većinskih nosilaca emitera:
β
*
· · −
I
I
I
I
pC
pE
R
pE
1
(za pnp tranzistor) (4.4.2.1)
β
*
· · −
I
I
I
I
nC
nE
R
nE
1
(za npn tranzistor) (4.4.2.2)
4.4.3. Strujno pojačanje
Omjer struje većinskih nosliaca kolektora i ukupne struje emitera jednak je umnošku
djelotvornosti i faktora prijenosa, a definira se kao strujno pojačanje tranzistora u spoju
zajedničke baze:
I
I
I
I
I
I
pC
E
pC
pE
pE
E
· ⋅ · ⋅ · β γ α
*
(za pnp tranzistor) (4.4.3.1)
I
I
I
I
I
I
nC
E
nC
nE
nE
E
· ⋅ · ⋅ · β γ α
*
(za npn tranzistor) (4.4.3.2)
Sukladno definiciji za strujno pojačanje α , jednadžba (4.3.1), odnosno (4.3.7) može se pisati
kao funkcija I
C
= f(I
E
):
I I I
C E CB
· ⋅ + α
0
(4.4.3.3)
61
Uvrštavanjem izraza za struju emitera, I
E
= I
C
+ I
B
u relaciju (4.4.3.3) dobiva se funkcija I
C
=
f(I
B
):
I I
I
I I
C B
CB
B CB
·

⋅ +

· ⋅ + + ⋅
α
α α
β β
1 1
1
0
0
( ) (4.4.3.4)
u kojoj je β faktor strujnog pojačanja tranzistora u spoju zajedničkog emitera.
4.6. Djelotvornost emitera
Djelotvornost emitera na npn tranzistor definirana je kao:
γ · ·
+
·
+
I
I
I
I I
I
I
nE
E
nE
nE pE
pE
nE
1
1
. (4.6.1)
Struja emitera, tj. struja diode emiter-baza dana je Shocklyjevom jednadžbom:
I I
q U
k T
E sE
BE
· ⋅


|
.

`
,

]
]
]
exp 1 , (4.6.2)
u kojoj je I
sE
struja manjinskih nosilaca spoja emiter-baza, određena izrazom:
( )
( )
I q n S
D
N L th w L
D
N L th w L
sE i
nB
AB nB B nB
pE
DE pE E pE
· ⋅ ⋅ ⋅
⋅ ⋅
+
⋅ ⋅

]
]
]
]
2
. (4.6.3)
Jednadžba (4.6.3) je jednadžba reverzne struje zasićenja pn spoja, s pridodanim slovima B i E
u oznakama odgovarajućih parametara za područje baze, odnosno emitera.
Budući da je I
E
= I
pE
+ I
nE
, faktor djelotvornosti jednak je:
( )
( )
γ ·
+
⋅ ⋅
⋅ ⋅
1
1
D
N L th w L
D
N L th w L
pE
DE pE E pE
nB
AB nB B nB
, (4.6.4)
odnosno
( )
( )
γ · +
⋅ ⋅ ⋅
⋅ ⋅ ⋅

]
]
]
]

1
1
D N L th w L
D N L th w L
pE AB nB B nB
nB DE pE E pE
. (4.6.5)
Iako je u pravilu kod stvarnih planarnih tranzistora emiter uska n strana, transparentni emiter,
teorijski se može razmatrati i slučaj kada je emiter široka n strana (w
E
/L
pE
>> 1), a baza uska p
strana (w
B
/L
nB
<< 1). Tada vrijede sljedeće aproksimacije:
th w L
E pE
( ) ≈1
, (4.6.6)
th w L
w
L
B nB
B
nB
( ) ≈
, (4.6.7)
te se izraz izraz za djelotvornost pnp tranzistora svodi na jednostavniji oblik:
62
γ · +
⋅ ⋅
⋅ ⋅

]
]
]
]

1
1
D N w
D N L
nE DB B
pB AE nE
. (4.6.8)
S pomoću Einsteinove relacije (2.11.9) i (2.11.10), djelotvornost emitera može se prikazati
kao funkcija električne provodnosti emitera i baze:
γ
σ
σ
·
+


1
1
B B
E nE
w
L
. (4.6.9)
Djelotvornost emitera je veća što je veća njegova električna provodnost σ
E
, stoga je gustoća
dodanih primjesa u emiteru uvjek veća od gustoće primjesa u bazi.
4.7. Prijenosni faktor baze
Za normalno polarizirani npn tranzistor gustoće utisnutih elektrona uz rubove barijera x
BE
i
x
BC
(slika 4.1.3) dane su izrazima:
n x n
q U
k T
BE B
BE
'( ) exp · ⋅


|
.

`
,

]
]
] 0
1 (4.7.1)
n x n
q U
k T
BC B
BC
'( ) exp · ⋅


|
.

`
,

]
]
] 0
1 (4.7.2)
u kojima je n
0B
ravnotežna gustoća elektrona u području baze, slika 4.7.1.:
Slika 4.7.1: Raspodjela elektrona u bazi normalno polariziranog npn tranzistora.
Spoj kolektor-baza je nepropusno polariziran naponom koji je po iznosu mnogo veći od
vrijednosti k⋅ T/q stoga je n'(x
CB
) približno jednako ravnotežnoj koncentraciji n
0B
, odnosno
može se uzeti da je n'(x
BC
) ≈ 0.
Opće rješenje jednadžbe kontinuiteta za područje baze od ruba barijere x
BE
do x
BC
je:
n x A
x
L
B
x
L
n n
'( ) exp exp · ⋅
|
.

`
,
+ ⋅ −
|
.

`
,
, (4.7.3)
gdje su A i B konstante određene rubnim uvjetima:
n'(x
BC
) ≈ 0, (4.7.4)
63
za x = x
BE
, n x n x n
q U
k T
BE B
BE
'( ) '( ) exp · · ⋅


|
.

`
,

]
]
] 0
1 (4.7.5)
Uvrštavanjem navedenih rubnih uvjeta u jednadžbu (4.7.3) dobiva se:
[ ]
n x
n sh x x L
sh w L
q U
k T
B BC nB
B nB
BE
'( )
( )
( )
exp ·
⋅ −



|
.

`
,

]
]
]
0
1 . (4.7.6)
Deriviranjem izraza za n'(x) dobiva se gradijent gustoće:
[ ]
[ ]
dn x
dx
n ch x x L
L sh w L
q U
k T
B BC nB
nB B nB
BE
'( )
( )
( )
exp ·
⋅ −




|
.

`
,

]
]
]
0
1
, (4.7.7)
kojim je za x = x
BC
određena difuzijska struja I
nC
:
( )
I q S D
dn x
dx
q S D
n
L sh w L
q U
k T
nC nB
x x
nB
B
nB B nB
BE
BC
· ⋅ ⋅ ⋅
|
.

`
,

·
· ⋅ ⋅ ⋅




|
.

`
,

]
]
]
·
'( )
exp
0
1
, (4.7.8)
a za x = x
BE
, difuzijska struja I
nE
:
( )
( )
I q S D
dn x
dx
q S D
n ch w L
L sh w L
q U
k T
nE nB
x x
nB
B B nB
nB B nB
BE
BE
· ⋅ ⋅ ⋅
|
.

`
,

·
· ⋅ ⋅ ⋅





|
.

`
,

]
]
]
·
'( )
exp
0
1
. (4.7.9)
Omjerom struja I
nC
/I
nE
definiran je faktor prijenosa:
β
*
·
|
.

`
,

·
|
.

`
,

1
ch
w
L
sch
w
L
B
nB
B
nB
. (4.7.10)
Uz uvjet w
B
<< L
nB
(usko područje baze), za faktor prijenosa može se pisati približan izraz:
β
*
·
+

≈ − ⋅
|
.

`
,

1
1
2
1
1
2
2
2
2
w
L
w
L
B
nB
B
nB
. (4.7.11)
Što je baza uža u odnosu prema difuzijskoj dužini manjinskih nosilaca, to je prijenos nosilaca
iz emitera kroz bazu do kolektora djelotvorniji, pa se može kazati da je kvaliteta prijenosa
nosilaca, uz utiskivanje iz emitera i sakupljanje na kolektoru, bitna značajka tranzistora.
Dakle, za postizanje tranzistorskog efekta treba biti ispunjen uvjet w
B
<< L
n
(za npn
tranzistor) iz kojeg proistječe i granična (najmanja) vrijednost širine baze. Za w
B
>>
L
nB
, faktor prijenosa prema izrazu (4.7.10) poprima male vrijednosti, a to znači da mali dio
utisnutih elektrona dolazi na kolektorsko spojište, te u graničnom slučaju kada β
*
→0,
tranzistorski efekt prestaje, a tranzistor se može prikazati kao dvije nasuprot spojene diode,
slika 4.7.2.
64
Slika 4.7.2: Prikaz tranzistora s dvije diode kad je širina
baze veća od difuzijske dužine nosilaca.
4.8. Faktor strujnog pojačanja β
Prema relacijama (4.3.11) i (4.3.12)definiran je faktor strujnog pojačanja β kao omjer struje
kolektora i struje baze kad je tranzistor spojen na način da mu je emiter zajednička elektroda,
tj. u spoju zajedničkog emitera:
β · ·
⋅ ⋅
⋅ ⋅
I
I
D N w
D N w
C
B
n DE E
p AB B
. (4.8.1)
Budući da je N
DE
>> N
AB
redovito je faktor β >> 1. Omjer D
n
/D
p
može se izraziti kao omjer
pokretljivosti elektrona i šupljina µ
n

p
. Kako je pokretljivost elektrona veća od
pokretljivosti šupljina (∼ 2.5 puta za silicij) to je i faktor β npn tranzistora veći od faktora β
pnp tranzistora. Prema relaciji (4.8.1) može se zaključiti da se veći β postiže povećanjem
razine gustoće primjese u emiteru N
DE
. Nažalost, takav zaključak se u praksi pokazao
netočnim što se tumači degeneriranim svojstvima poluvodiča. Naime pri gustoćama primjese
veličine od oko 10
19
cm
-3
i većima mijenjaju se fizikalna svojstva materijala, tj. smanjuje se
energijski procijep za iznos ∆ E
G
koji se može odrediti pomoću izraza (2.4.3.1).
Smanjenjem energijskog procijepa nastaje povećanje intrinsične gustoće u emiteru n
i deg
koja
se može odrediti iz izraza (2.2.1) za intrinsičnu gustoću nedegeneriranog poluvodiča u koji je
uvršteno smanjenje energijskog procijepa:
, exp exp
exp
2
2
deg
T k
E
n
T k
E
T k
E
N N
T k
E E
N N n
G
i
G G
C V
G G
C V i


⋅ ·
,
`

.
|



,
`

.
|

− ⋅ ⋅ ·
·
,
`

.
|

∆ −
− ⋅ ⋅ ·
(4.8.2)
gdje je n
i
intrinsična gustoća nedegeneriranog poluvodiča.
Budući da je gustoća utisnutih šupljina u područje emitera proporcionalna veličini n
ideg
/N
DE
za
faktor strujnog pojačanja β može se pisati izraz koji uključuje efekt degeneriranog emitera:

,
`

.
|


− ⋅
⋅ ⋅
⋅ ⋅
·
T k
E
w N D
w N D
G
B AB p
E DE n
exp β
. (4.8.3)
Ovisnost faktora strujnog pojačanja β o razini gustoće primjese N
DE
za određenu vrijednost
gustoće N
AB
prikazana je na slici 1. za temperaturu T = 300 K i T = 280 K.
65
Slika 4.8.1: Ovisnost faktora strujnog pojačanja β o gustoći primjese u emiteru.
4.9. Vrijeme proleta nosilaca kroz bazu
Raspodjela gustoća manjinskih nosilaca u bazi tranzistora može se zbog uskog područja baze
približno prikazati pravcem, slika 4.9.1.
Slika 4.9.1: Raspodjela manjinskih nosilaca u bazi npn tranzistora.
Sukladno slici 4.9.1., pravac kroz točke T
1
i T
2
jednoznačno je određen jednadžbom:
n x n x
n x n x
x x
x x
BC
BE BC
BE BC
BC
'( ) '( )
'( ) '( )
( ) − ·


⋅ −
. (4.9.1)
Linearna funkcija raspodjele (4.9.1) može se, sukladno uvjetu n'(x
BE
) >> n'(x
BC
) ≈ 0, svesti na
jednostavniji oblik:
n x n x
n x
x x
x x
n x
w
x x
BC
BE
BE BC
BC
BE
B
BC
'( ) '( )
'( )
( )
'( )
( ) − ·

⋅ − ·

⋅ −
. (4.9.2)
Gustoća difuzijske struje elektrona u bazi tranzistora dana je izazom:
66
J q D
dn x
dx
q D
dn x
w
q n x v x
nB nB nB
BE
B
· ⋅ ⋅ ≈ − ⋅ ⋅ · − ⋅ ⋅
'( ) '( )
'( ) ( )
, (4.9.3)
u kojemu je v(x) brzina nosilaca kroz bazu.
U skladu s definicijom za brzinu
v x
dx
dt
( ) ·
može se odrediti vrijeme proleta nosilaca kroz
bazu:
t
dx
v x
pr
x
x
BE
BC
·

( )
. (4.9.4)
Uvrštavanjem izraza za brzinu iz (4.9.3)
v x
D
w
n x
n x
D
x x
nB
B
BE nB
BC
( )
'( )
'( )
· ⋅ · −

(4.9.5)
u (4.9.4) dobiva se:
t
x x
D
dx
x
D
x
D
x
x
D
x
D
x
D
x x
D
x x
D
w
D
pr
BC
nB x
x
nB
x
x
BC
nB
x
x
BC
nB
BE
nB
BC
nB
BC BE
nB
BC BE
nB
B
nB
BE
BC
BE
BC
BE
BC
· −

⋅ · −

+ ⋅ ·
· −

+





·


·


2
2 2 2 2 2
2
2 2 2 2 2
( )
(4.9.6)
Dobiveni izraz za vrijeme proleta nosilaca kroz bazu identičan je izrazu izvedenom za usku n
stranu pn spoja.
4.10. Earlyjev efekt
Porastom napona nepropusne polarizacije na pn spoju povećava se širina područja barijere
koja se u pravilu širi na slabije onečišćenu stranu. Isti efekt nastaje u bipolarnom tranzistoru
na nepropusno polariziranom spoju kolektor-baza. Ako je spoj emiter-baza propusno
polariziran naponom stalne vrijednosti, povećanjem napona nepropusne polarizacije na spoju
kolektor-baza, područje barijere na kolektorskom spojištu se povećava, tj smanjuje se
efektivna širina baze. Ta promjena efektivne širine ili modulacija baze naziva se Earlyjev
efekt. Primjer za npn tranzistor prikazan je na slici 4.10.1.
Slika 4.10..1: Prikaz Earlyjevog efekta za npn tranzistor.
67
Pri većim iznosima napona nepropusne polarizacije kolektor-baza U
CB
, efektivna širina baze
može poprimiti iznos nula pri ćemu nastaje naponski proboj tranzistora (engl. punch-
through).
Posljedica Earlyjevog efekta očituje se u promjeni gustoće i nagibu raspodjele gustoće
manjinskih nosilaca naboja u bazi. Smanjenjem efektivne širine baze umanjuje se i
vjerojatnost poništavanja manjinskih nosilaca u bazi pa prema tome i rekombinacijska
sastavnica struje baze, što izravno utječe na povećanje faktora strujnog pojačanja (jednadžba
4.8.1.). Nadalje povećava se nagib (gradijent) raspodjele gustoće manjinskih nosilaca u bazi
(elektrona, ako se radi o npn tranzistoru), te se povećava elektronska sastavnica struje emitera
koja je proporcionalna nagibu raspodjele gustoće. Navedene se pojave mogu iskazati
jednadžbama:
I I I
R nE nC
· −
(4.10.1)
I I I
w
L
R nE nE
B
nB
· ⋅ − · ⋅ ⋅
|
.

`
,

( )
*
1
1
2
2
β (4.10.2)
I
S q n D
w
nE
B nB
B
·
⋅ ⋅ ⋅
0
(4.10.3)
Uvrštavanjem jednadžbe (4.10.3) u (4.10.2) izraz za rekombinacijsku sastavnicu struje baze
poprima oblik:
I
S q n D
w
w
L
S q n w Q
R
B nB
B
B
nB
B B
nB
nB
nB
·
⋅ ⋅ ⋅
⋅ ⋅ ·
⋅ ⋅ ⋅ ⋅

·
0
2
0
1
2 2 τ τ
(4.10.4)
4.11. Ebers-Mollove jednadžbe i model tranzistora
Ebers-Mollov nadomjesni sklop tranzistora sastiji se od dvije diode i dva zavisna strujna
izvora. Na slici 4.11.2. prikazan je tzv. injekcijski Ebers-Mollov model u kojemu su struje
strujnih izvora proporcionalne strujama kroz diode.
.
Slika 4.11.2: Injekcijski Ebers-Mollov model za pnp tranzistor.
Sklop na slici 4.11.2. opisan je jednadžbama:
I I I
E I R F
+ ⋅ − · α 0
, (4.11.19)
I I I
C N F R
+ ⋅ − · α 0
, (4.11.20)
I I
U
U
F ES
EB
T
· ⋅
|
.

`
,

]
]
]
exp 1
, (4.11.21)
68
I I
U
U
R CS
CB
T
· ⋅
|
.

`
,

]
]
]
exp 1
. (4.11.22)
Faktor α
I
(alfa inverzno) je strujno pojačanja tranzistora u spoju zajedničke baze kad
tranzistor radi u inverznom aktivnom području (spoj emiter baza je nepropusno polariziran, a
spoj kolektor baza propusno). α
N
(alfa normalno) je strujno pojačanje tranzistora u spoju
zajedničke baze za normalno aktivno područje.
Iz sustava jednadžbi od (4.11.19) do (4.11.22) mogu se struje I
E
i I
C
izraziti kao funkcije
napona U
EB
i U
CB
:
I I
U
U
I
U
U
E ES
EB
T
I CS
CB
T
· ⋅
|
.

`
,

]
]
]
− ⋅ ⋅
|
.

`
,

]
]
]
exp exp 1 1 α
, (4.11.23)
I I
U
U
I
U
U
C N ES
EB
T
CS
CB
T
· − ⋅ ⋅
|
.

`
,

]
]
]
+ ⋅
|
.

`
,

]
]
]
α exp exp 1 1
. (4.11.24)
Ebers-Mollov model u kojemu su struje strujnih izvora proporcionalne vanjskim
(elektrodnim) strujama tranzistora prikazan je na slici 4.11.3.
Slika 4.11.3: Ebers-Mollov model pnp tranzistora.
Sklop na slici 4.11.3. može se opisati jednadžbama:
I I I
E I C
+ ⋅ − · α ' 0
, (4.11.28)
I I I
C N E
+ ⋅ − · α '' 0
, (4.11.29)
I I
U
U
EB
EB
T
' exp · ⋅
|
.

`
,

]
]
] 0
1
, (4.11.30)
I I
U
U
CB
CB
T
'' exp · ⋅
|
.

`
,

]
]
] 0
1
. (4.11.31)
Iz sustava jednadžbi (4.11.28)-(4.11.31) mogu se struje I
C
i I
E
izraziti kao funkcije napona U
EB
i U
CB
:
I
I U
U
I U
U
E
EB
N I
EB
T
I CB
N I
CB
T
·
− ⋅

|
.

`
,

]
]
]


− ⋅

|
.

`
,

]
]
]
0 0
1
1
1
1
α α
α
α α
exp exp
, (4.11.32)
69
I
I U
U
I U
U
C
N EB
N I
EB
T
CB
N I
CB
T
· −

− ⋅

|
.

`
,

]
]
]
+
− ⋅

|
.

`
,

]
]
]
α
α α α α
0 0
1
1
1
1 exp exp
. (4.11.33)
Uspoređujući jednadžbe (4.11.32) i (4.11.33) s (4.11.23) i (4.11.24) mogu se napisati relacije
koje međusobno povezuju različito definirane reverzne struje zasićenja emiterskog i
kolektorskog spojišta tranzistora:
I
I
ES
EB
N I
·
− ⋅
0
1 α α
, (4.11.34)
I
I
CS
CB
N I
·
− ⋅
0
1 α α
, (4.11.35)
U Ebers-Mollovom modelu npn tranzistora strujni izvori i struje dioda imaju suprotan
predznak u odnosu prema strujama pnp tranzistora, a zbog npn ustrojstva promjenjeni su i
polariteti napona na spoju emiter-baza i kolektor-baza, slika 4.11.4.
Slika 4.11.4: Ebers-Mollov model npn tranzistora.
Sukladno sklopu prikazanom na slici 4.11.4. mogu se napisati Ebers-Mollove jednadžbe za
npn tranzistor:
I I
U
U
I
U
U
E ES
BE
T
I CS
BC
T
· − ⋅
|
.

`
,

]
]
]
+ ⋅ ⋅
|
.

`
,

]
]
]
exp exp 1 1 α
, (4.11.36)
I I
U
U
I
U
U
C N ES
BE
T
CS
BC
T
· ⋅ ⋅
|
.

`
,

]
]
]
− ⋅
|
.

`
,

]
]
]
α exp exp 1 1
. (4.11.37)
4.12. Područja rada tranzistora
Naponima na emiterskom i kolektorskom spojištu određene su i gustoće manjinskih nosilaca
na rubovima barijere tih spojišta. Stoga se, s obzirom na polaritet tih napona, mogu zorno
prikazati četiri područja rada raspodjelom gustoća manjinskih nosilaca u bazi tranzistora, slika
4.12.1.
70
Slika 4.12.1: Područja rada npn tranzistora:
"1" - normalno aktivno, "2" - inverzno aktivno,
"3" - zasićenje, "4" - zapiranje.
Sukladno Ebers-Mollovim jednadžbama prikazana četiri područja rada tranzistora mogu se
odrediti analitičkim izrazima:
1. Za normalno aktivno područje, iz jednadžbi za npn tranzistor (4.11.36) i (4.11.37), uz
uvjet U
BE
>> U
T
; U
BC
< 0, dobivaju se relacije:
I I
U
U
I
E ES
BE
T
I CS
· − ⋅
|
.

`
,

]
]
]
− ⋅ exp 1 α
, (4.12.1)
I I
U
U
I
C N ES
BE
T
CS
· ⋅ ⋅
|
.

`
,

]
]
]
+ α exp 1
, (4.12.2)
pomoću kojih se može odrediti funkcija I
C
= f(I
E
) za normalno aktivno područje:
I I I
C N E CS N I
· − ⋅ + ⋅ − ⋅ α α α ( ) 1
, (4.12.3)
odnosno
I I I
C N E CB
· − ⋅ + α
0
. (4.12.4)
2. Za inverzno aktivno područje izvedena je relacija iz Ebers-Mollovih jednadžbi uz uvjet
U
BE
< 0 i U
BC
>> U
T
,:
I I I
E I C EB
· − ⋅ + α
0
. (4.12.5)
3. Područje zasićenja definirano je naponima kojima su propusno polarizirana oba spojišta,
U
BE
> 0 i U
BC
> 0. Sukladno tim uvjetima iz relacija (4.11.36) i (4.11.37) izvedeni su izrazi
za napone U
BE
i U
BC
:
U U
I I I
I
BE T
E I C EB
EB
· ⋅
+ ⋅ −

ln
α
0
0
, (4.12.6)
U U
I I I
I
BC T
C N E CB
CB
· ⋅
+ ⋅ −

ln
α
0
0
. (4.12.7)
Napon između kolektora i emitera U
CE
jednak je razlici napona U
BE
i U
BC
, slika 4.12.2.:
71
Slika 4.12.2: Orijentacija napona za npn tranzistor u zasićenju.
U U
I I I
I I I
CE T
E I C EB N
C N E CB I
· ⋅
+ ⋅ − ⋅
+ ⋅ − ⋅
ln
( )
( )
α α
α α
0
0
. (4.12.8)
4. Zaporno područje definirano je naponima kojima su nepropusno polarizirana spojišta
emiter baza i kolektor baza, U
BE
< 0, U
BC
< 0. Uz te uvjete, iz Ebers-Mollovih jednadžbi
za npn tranzistor proistječu relacije za struje I
C
i I
E
:
I
I
E
EB
N I
N
·
− ⋅
⋅ −
0
1
1
α α
α ( )
(4.12.9)
I
I
C
CB
N I
I
·
− ⋅
⋅ −
0
1
1
α α
α ( )
, (4.12.10)
koje pokazuju da unatoč nepropusnoj polarizaciji oba spojišta teku male struje emitera i
kolektora. Stoga se zaporno područje definira uvjetom I
E
= 0 i U
BC
< 0, a pritom je struja
kolektora I
C
jednaka struji I
CB0
. Uvrštavanjem uvjeta I
E
= 0 i I
C
= I
CB0
u Ebers-Mollovu
jednadžbu (4.11.36) dobiva se izraz za napon U
BE
:
U U
BE T N
· ⋅ − ln( ) 1 α
.
(4.12.11)
Npr. za vrijednost α
N
= 0.9 pri T = 300 K, emitersko je spojište nepropusno polarizirano
naponom iznosa U
BE
= -59.5 mV.
Ebers-Mollove jednadžbe izvedene su uz napone emiter-baza i kolektor baza za tranzistor sa
zanemarivim serijskim otporima emitera, baze i kolektora. Tako npr. serijski otpor emitera
sastoji se od otpora priključka metalnog kontakta na emiter i tijela emitera. Na isti način
definiraju se serijski otpori baze i kolektora. Za realni tranzistor u račun je potrebno uključiti i
vrijednosti tih otpora. Nadomjesni sklop za realni tranzistor može se prikazati kao idealni
tranzistor s uključenim serijskim otporima r
bb'
, r
cc'
i r
ee'
, slika 4.12.3. Kako je emiter najjače
onečišćeno područje njegova električna provodnost je velika pa se serijski otpor r
ee'
obično ne
uključuje u račun. Područje baze je relativno usko sa znatnom električnom otpornošću pa se
serijski otpor s tipičnim iznosima od 10 Ω do 100Ω najčešće uključuje u račun. Pri većim
strujama kolektora pad napona na serijskom otporu r
cc'
može značajno utjecati na rad
tranzistora.
72
Slika 4.12.3: Nadomjesni sklop realnog npn tranzistora
(za područje zasićenja).
U skladu s orijentacijom struja i padova napona u nadomjesnom sklopu na slici 4.12.3., mogu
se napisati jednadžbe naponske ravnoteže:
U I r U I r
BE B bb BE E ee
− ⋅ − + ⋅ ·
' ' ' '
0 (4.12.12)
U I r U I r
BC B bb BC C cc
− ⋅ − + ⋅ ·
' ' ' '
0. (4.12.13)
Pažljiv će čitatelj odmah uočiti nedosljednost u oznakama za napone realnog i idealnog
tranzistora. Prema slici 4.12.3. oznake U
B'E'
i U
B'C'
odnose se na idealan tranzistor stoga
odgovaraju oznakama U
BE
i U
BC
u Ebers-Mollovim jednadžbama, dok se oznake U
BE
i U
BC
odnose na realan tranzistor.
4.13. Izlazne karakteristike tranzistora
4.13.1. Spoj zajedničke baze
Baza tranzistora je zajednička elektroda ulaznom i izlaznom krugu tranzistora, slika 4.13.1.1.
Slika 4.13.1.1: npn tranzistor u spoju zajedničke baze.
Struja I
C
i napon U
CB
pripadaju izlaznom, a I
E
i U
BE
ulaznom krugu tranzistora. Izlazne su
karakteristike dane kao funkcija I
C
= f(U
CB
) pri stalnoj vrijednosti struje I
E
za pojedinu
karakteristiku, slika 4.13.1.2.
73
Slika 4.13.1.2: Izlazne karakteristike npn tranzistora u spoju zajedničke baze.
U normalnom aktivnom području rada tranzistora u spoju zajedničke baze karakteristike su
približno vodoravni pravci, a mali porast struje I
C
koji nastaje s povećanjem napona U
CB
tumači se kao posljedica Earlyjevog efekta. Pri propusnom polaritetu napona kolektor-baza, (-
U
CB
), tranzistor radi u području zasićenja koje je karakterizirano naglim padom struje
kolektora što se tumači smanjenjem gradijenta gustoće elektrona u bazi.
Stalna vrijednost struje emitera I
E
pri promjeni (povećanju apsolutne vrijednosti) napona U
CB
može se održati promjenom (smanjenjem) napona U
BE
tako da je gradijent gustoće elektrona u
bazi tranzistora stalan, slika 4.13.1.3.
Slika 4.13.1.3: Definicija stalnog gradijenta gustoće nosilaca (elektrona) u bazi npn
tranzistora pri promjeni napona U
CB
.
4.13.2. Spoj zajedničkog emitera
U spoju zajedničkog emitera, emiter je zajednička elektroda ulaznom i izlaznom krugu
tranzistora, slika 4.13.2.1.
Slika 4.13.2.1: npn tranzistor u spoju zajedničkog emitera.
Izlazne karakteristike tranzistora u spoju zajedničkog emitera dane su kao funkcija I
C
=
f(U
CE
) pri stalnoj vrijednosti struje baze za pojedinu karakteristiku (slika 4.13.2.2.).
74
Slika 4.13.2.2: Izlazne karakteristike npn tranzistora u spoju zajedničkog emitera.
U skladu s jednadžbom U
CE
= U
BE
- U
BC
za aktivno područje nužno treba biti ispunjen uvjet
U
CE
> U
BE
da bi spoj kolektor-baza bio nepropusno polariziran naponom U
CB
. Povećanjem
napona U
CE
povećava se i apsolutni iznos napona U
CB
, a smanjuje se efektivna širina baze. Da
bi pritom struja baze zadržala stalnu vrijednost potrebno je povećati gustoću manjinskih
nosilaca (elektrona) n
0B
na rubu barijere emiterskog spojišta, odnosno povećati napon
propusne polarizacije U
BE
spoja emiter-baza, slika 4.13.2.3.
Slika 4.13.2.3: Prikaz utjecaja promjene efektivne širine baze na izlazne karakterisike npn
tranzistora u spoju zajedničkog emitera.
75
5. UNIPOLARNI TRANZISTOR (TRANZISTOR S DJELOVANJEM
ELEKTRIČNOG POLJA)
U vođenju struje kod unipolarnih tranzistora sudjeluju većinski nosioci naboja (elektroni ili
šupljine), a jakost te struje može se mijenjati vanjskim naponom. Zbog toga što se promjena
vodljivosti poluvodiča, a time i jakosti struje, postiže djelovanjem poprečnoga
(transverzalnoga) električnoga polja koje je posljedica upravo priključenog vanjskog napona
na poluvodič, uz naziv unipolarni tranzistor obično se upotrebljava skraćeni naziv tranzistor s
efektom polja. Dio poluvodiča kroz koji teče struja naziva se kanal, a ovisno o tome koji je tip
nosilaca naboja u kanalu, unipolarni tranzistori mogu biti p-kanalni ili n-kanalni. Prvi
unipolarni tranzistori su spojni tranzistori s efektom polja sa skraćenim nazivom JFET (engl.
junction field effect transistor). Za razliku od ustrojstva spojnog tranzistora, upravljačka
elektroda kojom se upravlja protjecanjem struje kroz kanal, može biti odvojena od kanala
izolacijskim slojem silicijevog dioksida. Takav tranzistor pripada skupini tranzistora s
efektom polja s izoliranim vratima, a skraćeni mu je naziv IGFET (engl. insulated gate field
effect transistor) ili MOSFET (engl. metal-oxide-semiconductor field effect transistor) zbog
ustrojstva kojega čini silicij kao ishodišni materijal i silicijev dioksid kao izolacijski sloj ispod
metalne elektrode (vrata).
5.1. Tranzistor s efektom polja (JFET)
Na slici 5.1.1.a) prikazan je presjek za simetrični n-kanalni spojni FET s označenim
elektrodama (priključnicama): uvod S (engl. source), odvod D (engl. drain) i vrata G (engl.
gate). Priključenim naponima između odgovarajućih elektroda određena je radna točka
tranzistora, a sukladno tim naponima označen je i smjer struje odvoda (struja između uvoda i
odvoda) koji odgovara smjeru gibanja pozitivnog naboja (šupljina).
Slika 5.1.1: a) n-kanalni spojni FET, b) simbol za n-kanalni spojni FET.
Dio poluvodiča označen kao kanal je vodljivi dio omeđen dvjema simetričnim barijerama
uspostavljenima naponom nepropusne polarizacije U
GS
između p
+
poluvodiča (p-tip
poluvodiča s relativno velikom gustoćom akceptorske primjese) i n-tipa poluvodiča s
gustoćom donorske primjese manjom u odnosu prema gustoći akceptora u p
+
području, slika
5.1.1.a). Struja teče od uvoda prema odvodu zbog priključenog napona U
DS
. Sukladno analizi
provedenoj za pn spoj, barijera se širi na slabije onečišćenu stranu pn spoja. Stoga će se
porastom apsolutne vrijednosti napona U
GS
širina kanala smanjivati, a time i njegova
vodljivost.
Pri naponu U
DS
= 0 i U
GS
= 0, ako se zanemare osiromašena područja koja nastaju zbog
djelovanja kontaktnog potencijala, kanal tranzistora ima najveću širinu iznosa 2a (širina
potpuno otvorenog kanala), slika 5.1.2.
76
Slika 5.1.2: Širina potpuno otvorenog kanala pri U
DS
= 0 i U
GS
= 0.
U skladu sa slikom 5.1.2. vodljivost potpuno otvorenog kanala određena je izrazom:
G
R
q N a w
L
a w
L
n D
0
0
1 2 2
· ·
⋅ ⋅ ⋅ ⋅
· ⋅
⋅ µ
σ
. (5.1.1)
Pri nekom naponu U
GS
i naponu U
DS
= 0 širina kanala se jednako po cijeloj njegovoj dužini
smanji na stalnu vrijednost 2b, slika 5.1.3.
Slika 5.1.3: Širina kanala pri nekom naponu U
GS
i naponu U
DS
= 0.
U skladu s jednadžbom izvedenom za širinu područja barijere jednostranog pn spoja, može se
napisati izraz za širinu barijere:
a b
U U
q N
k GS
D
− ·
⋅ ⋅ −

2 ε ( )
. (5.1.2)
Napon U
GS
pri kojemu je širina kanala jednaka ništici (b = 0), označen je kao napon dodira
U
GS0
(engl. pinch-off voltage):
a
U U
q N
k GS
D
2 0
2
·
⋅ ⋅ −

ε ( )
, (5.1.3)
odnosno
U U
a q N
GS k
D
0
2
2
· −
⋅ ⋅
⋅ ε
. (5.1.4)
Iz jednadžbi (5.1.2) i (5.1.4) može se izraziti poluširina kanal u ovisnosti o naponu U
GS
i U
GS0
:
77
b a
U U
U U
k GS
k GS
· ⋅ −


|
.

`
,
1
0
. (5.1.5)
Pri naponu U
DS
≠ 0 i U
GS
≠ 0 kroz kanal teče struja odvoda stvarajući pad napona duž kanala.
Napon između uvoda i bilo koje točke u kanalu funkcija je koordinate x, U(x), pa je i napon
nepropusno polariziranog pn spoja vrata-kanal funkcija koordinate x. Posljedica toga je da
širina kanala više nije stalna već se mijenja duž kanala, slika 5.1.4.
Slika 5.1.4: Širina kanala pri naponu U
GS
≠ 0 i U
DS
≠ 0.
Polazeći od izraza za širinu barijere pn spoja (5.1.2) poluširina kanala u ovisnosti o
udaljenosti x može se prikazati kao funkcija:
b x a
U U U x
U U
k GS
k GS
( )
( )
· ⋅ −
− +

|
.

`
,
1
0
. (5.1.6)
Struja u kanalu je u svakom njegovom presjeku ista. Stoga se izraz za struju odvoda I
D
može
pisati u obliku:
I x I b x w q N
dU x
dx
D D D
( ) ( )
( )
· · ⋅ ⋅ ⋅ 2
. (5.1.7)
Kako presjek kanala od uvoda prema odvodu 2b(x)⋅ w postaje sve manji, slika 5.1.4.,
električno polje treba biti sve veće da bi struja imala stalnu vrijednost I
D
.
Uvrštavanjem izraza (5.1.6) u (5.1.7) dobiva se:
I a w q N
U U U x
U U
dU x
dx
D D n
k GS
k GS
· ⋅ ⋅ ⋅ ⋅ ⋅ −
− +

|
.

`
,
⋅ 2 1
0
µ
( ) ( )
, (5.1.8)
odnosno
I dx a w q N
U U U x
U U
dU x
D D n
k GS
k GS
⋅ · ⋅ ⋅ ⋅ ⋅ ⋅ −
− +

|
.

`
,
⋅ 2 1
0
µ
( )
( )
. (5.1.9)
Ako se uvod S uzme kao ishodišna i referentna točka, integraciju lijeve strane jednadžbe treba
provesti u granicama od x = 0 do x = L, a desne od napona vrijednosti 0 do U
DS
. Tako se
dobiva izraz:
78
( ) ( )
I G U
U U U U U
U U
D DS
k GS DS k GS
k GS
· ⋅ − ⋅
− + − −

]
]
]
]
]
0
3
2
3
2
0
2
3
, (5.1.10)
gdje je G
0
vodljivost potpuno otvorenog kanala:
G
a w q N
L
D n
0
2
·
⋅ ⋅ ⋅ ⋅ µ
. (5.1.11)
Funkcija (5.1.10) poprima maksimalnu vrijednost u točki U
DS
= U
GS
- U
GS0
, a zatim opada s
porastom napona U
DS
. Takav tok funkcije ne odgovara stvarnoj (izmjerenoj) karakteristici. Na
izmjerenim karakteristikama utvrđeno je da nakon vrijednosti U
DS
= U
GS
- U
GS0
struja blago
raste s porastom napona U
DS
(praktički ima stalnu vrijednost). Pri naponu U
DS
= U
GS
- U
GS0
,
napon odvod-vrata, U
DG
, jednak je naponu dodira -U
GS0
, a to znači da dodir barijera nastaje na
strani odvoda. Smanjivanje širine kanala kao i dodir barijera nastaju zbog pada napona duž
kanala. Kako je pad napona posljedica protjecanja struje kroz kanal, pri dodiru barijera
prestala bi teći i struja, te bi nestao i uzrok dodira barijera. Stoga je zaključak da širina kanala
na mjestu dodira barijera nije jednaka ništici, već ima mali iznos δ koji se pri prekoračenju
napona dodira proteže prema uvodu, slika 5.1.5.
Slika 5.1.5: Širina kanala uz naponu U
DS
>U
GS
- U
GS0
.
Uvrštavanjem uvjeta U
DS
= U
GS
- U
GS0
u izraz (5.1.10) dobiva se jednadžba koja vrijedi za
područje zasićenja:
( ) ( )
I G U U
U U U U
U U
Dzas GS GS
k GS k GS
k GS
· ⋅ − − ⋅
− − −

]
]
]
]
]
0 0
0
3
2
3
2
0
2
3
. (5.1.12)
Dio karakteristike opisan jednadžbom (5.1.10) pripada triodnom području.
Geometrijsko mjesto točaka određeno uvjetom U
DS
= U
GS
- U
GS0
na izlaznim karakteristikama
za pojedini napon U
GS
, jest granična crta između triodnog područja i područja zasićenja, slika
5.1.6.
79
Slika 5.1.6: Izlazne karakteristike FETa. Definicija triodnog područja i
područja zasićenja.
5.1.1. Dinamički parametri FETa
Derivacija struje I
D
po naponu U
GS
pri nekoj stalnoj vrijednosti napona U
DS
definira se kao
strmina:
g
I
U U konst
m
D
GS DS
·
·

∂ .
. (5.1.1.1)
U triodnom području definiciju za strminu treba primijeniti na izraz (5.1.10), a u području
zasićenja na izraz (5.1.12). Tako se dobiva:
g G
U U U U U
U U
m
k GS DS k GS
k GS
· ⋅
− + − −

0
0
, (5.1.1.2)
g G
U U
U U
m
k GS
k GS
· ⋅ −


|
.

`
,

0
0
1
. (5.1.1.3)
Izlazna dinamička vodljivost definirana je derivacijom struje I
D
po naponu U
DS
pri nekoj
stalnoj vrijednosti napona U
GS
. Tako je za triodno područje izveden izraz:
g G
U U U
U U
d
k GS DS
k GS
· ⋅ −
− +

]
]
]
0
0
1
. (5.1.1.4)
Za određivanje dinamičke vodljivosti u području zasićenja može se upotrijebiti empirijski
izraz kojim je iskazan lagan porast struje I
D
s porastom napona U
DS
:
I I U
D Dzas DS
· ⋅ + ⋅ ( ) 1 λ , (5.1.1.5)
gdje je λ parametar koji može imati vrijednost između 0.1 i 0.001 V
-1
. U skladu s relacijom
(5.1.1.5) izlazna dinamička vodljivost može se odrediti s pomoću izraza:
g I
dzas Dzas
· ⋅ λ
. (5.1.1.6)
Faktor pojačanja definiran je derivacijom napona U
DS
pri nekoj stalnoj vrijednosti struje I
D
:
µ






· · ⋅ · · ⋅
U
U
U
I
I
U
g
g
r g
DS
GS
DS
D
D
GS
m
d
d m
. (5.1.1.7)
5.1.2. p-kanalni FET
80
Ustrojstvo p-kanalnog spojnog FETa (kanal je p tipa, a područje vrata n
+
tipa) je takvo da
naponi napajanja U
GS
i U
DS
, te struja I
D
, imaju suprotan predznak od onog za n-kanalni FET,
slika 5.1.2.1.
Slika 5.1.2.1: a) p-kanalni spojni FET. b) simbol za p-kanalni spojni FET.
Stoga u svim jednadžbama izvedenim za n-kanalni FET treba promjeniti predznak uz
veličine: U
DS
, U
GS
, U
GS0
i I
D
:
a b
U U
q N
k GS
A
− ·
⋅ ⋅ +

2 ε ( )
, (5.1.2.1)
U
a q N
U
GS
A
k 0
2
2
·
⋅ ⋅


ε
, (5.1.2.2)
b a
U U
U U
k GS
k GS
· ⋅ −
+
+
|
.

`
,
1
0
. (5.1.2.3)
Triodno područje:
( ) ( )
− · ⋅ − − ⋅
+ − − +
+

]
]
]
]
]
I G U
U U U U U
U U
D DS
k GS DS k GS
k GS
0
3
2
3
2
0
2
3
. (5.1.2.4)
Granični uvjet između područja zasićenja i triodnog područja treba pisati u obliku apsolutnih
vrijednosti:
U U U
DS GS GS
· −
0 . (5.1.2.5)
Područje zasićenja:
( ) ( )
− · ⋅ − + − ⋅
+ − +
+

]
]
]
]
]
I G U U
U U U U
U U
Dzas GS GS
k GS k GS
k GS
0 0
0
3
2
3
2
0
2
3
. (5.1.2.6)
81
5.1.3. Statičke karakteristike FETa
Izlazne karakteristike spojnog FETa dane su za triodno područje jednadžbom (5.1.10), a za
područje zasićenja jednadžbom (5.1.12). U podrućju zasićenja funkcija I
D
= f(U
GS
) je ujedno i
prijenosna karakteristika koja se može približno prikazati paraboličnom funkcijom:
I I
U
U
D DSS
GS
GS
· ⋅ −
|
.

`
,

1
0
2
(5.1.3.1)
u odsječku određenom točkama U
GS0
i I
DSS
(struja I
D
pri naponu U
GS
= 0). Dio parabole izvan
tog područja nema fizikalnoga značenja, slika 5.1.3.1.
Slika 5.1.3.1: Statičke karakteristike n-kanalnog FETa.
5.2. MOSFET
MOS unipolarni tranzistor može biti izveden kao n-kanalni na p-podlozi ili kao p-kanalni
na n-podlozi, obogaćenog ili osiromašenog tipa. Podloga je silicij s relativno malom
gustoćom primjese na koju se nanosi tanki sloj silicijeva dioksida SiO
2
debljine t
0x
≈ 0.1 µ m.
Zatim se određenim planarnim postupkom (fotolitografski postupak) otvaraju "difuzijski
prozori" u oksidnom sloju kroz koje se difuzijom unosi primjesa, oblikujući tako područje
uvoda i odvoda u podlozi. Gustoća primjese u području uvoda i odvoda je relativno velika.
Dio poluvodiča između uvoda i odvoda označen je kao kanal kroz koji struja može teći jedino
ako su u njemu nosioci naboja istog tipa kao i većinski nosioci područja uvoda i odvoda. To
znači da je za n-kanalni MOSFET uz površinu između p-podloge i izolatora (u kanalu) nužno
stvoriti višak elektrona, odnosno uspostaviti inverzijski sloj između uvoda i odvoda. To je
temeljni preduvjet za vođenje MOSFETa.
Inverzijski sloj može nastati pod utjecajem priključenog napona odgovarajućeg polariteta
između vrata i uvoda, U
GS
. Tako npr. za p kanalni MOSFET pozitivni napon U
GS
izvlači
elektrone iz dubine podloge te ih gomila uz spoj podloge i izolacijskog sloja obogaćujći tako
područje kanala elektronima, slika 5.2.1. Što je veći pozitivni napon U
GS
to je veća i
vodljivost kanala, te je uz stalan napon između odvoda i uvoda U
DS
veća i struja I
D
između
njih. Struja I
D
može teći uz priključeni napon U
DS
samo ako je napon U
GS
pozitivan i veći od
određene vrijednosti koja se naziva napon praga U
GS0
. S obzirom na iznesene značajke takav
n-kanalni MOSFET pripada skupini obogaćenog tipa.
82
Slika 5.2.1: Presjek n-kanalnog MOSFETa.
Drugi tip n-kanalnog MOSFETa moguće je oblikovati tako da se između uvoda i odvoda
posebnim tehnološkim postupkom unese uzak kanal n-tipa s relativno malom gustoćom
primjese, slika 5.2.2. a). Značajka je tog n-kanalnog MOSFETa što struja I
D
može teći i pri
naponu U
GS
= 0.
Uz negativan napon U
GS
u izolacijskom sloju dolazi do gomilanja pozitivnog naboja uz
metalni spoj upravljačke elektrode i izolatora, a negativnog naboja uz spoj izolatora i kanala.
Nagomilani negativni naboj odbija slobodne elektrone u dijelu kanala u blizini spoja s
izolacijskim slojem, te se u kanalu stvara sloj koji je osiromašen slobodnim nosiocima naboja,
slika 5.2.2. b), odnosno smanjena je vodljivost kanala. Upravo zbog svojstva što se vodljivost
područja između uvoda i odvoda može mjenjati osiromašenjem kanala elektronima ovakav
tranzistor spada u skupinu tranzistora osiromašenog tipa. Pozitivnim naponm U
GS
postiže se
isti učinak kao i kod tranzistora obogaćenog tipa: elektroni se izvlače iz dubine podloge i
gomilaju se u kanalu povećavajući tako njegovu vodljivost.
Slika 5.2.2: Presjek n-kanalnog MOSFETa osiromašenog tipa:
a) uz napon U
GS
= 0, b) uz napon U
GS
< 0.
Napon U
GS
pri kojem kanal praktički prestaje biti vodljiv naziva se napon praga U
GS0
. Za n-
kanalni MOSFET osiromašenog tipa U
GS0
je negativan, a za obogaćeni tip je pozitivan, slika
5.2.3.
83
Slika 5.2.3: Prijenosne karakteristike n-kanalnog MOSFETa.
Značajka je n-kanalnog MOSFETa osiromašenog tipa što struja I
D
može teći i pri negativnim
naponima U
GS
, pri čemu treba biti U
GS0
< U
GS
< 0 (rad u osiromašenom modu) te pri
pozitivnim naponima U
GS
(rad u obogaćenom modu). Za razliku od tranzistora osiromašenog
tipa, kroz kanal tranzistora obogaćenog tipa struja može teći samo uz pozitivne napone U
GS
pri čemu treba biti U
GS
> U
GS0
, tj. tranzistor može raditi samo u obogaćenom modu.
Za p-kanalni MOSFETa podloga je silicijski poluvodič n-tipa, a područja uvoda i odvoda p
+
-
tipa. Napon praga p-kanalnog MOSFETa obogaćenog tipa je negativan, a tranzistor može
raditi jedino u obogaćenom modu uz negativan napon U
GS
. Za osiromašeni tip napon praga
U
GS0
je pozitivan, a tranzistor može raditi u osiromašenom modu pri U
GS
> 0 i obogaćenom
modu pri U
GS
< 0, slika 5.2.4.

Slika 5.2.4: Prijenosne karakteristike p-kanalnog MOSFETa.
5.2.1. Izlazne karakteristike MOSFETa
Osnovni preduvjet za rad MOSFETa je stvaranje inverzijskog sloja na površini podloge uz
izolacijski sloj, odnosno nastajanje pokretnog (površinskog) naboja gustoće σ
m
, koja je pri
naponu U
DS
= 0, određena izrazom
σ
ε ε
m
x
x
GS GS
t
U U ·

⋅ −
0 0
0
0
,
( )
, (5.2.1.1)
budući da je napon U
GS
, pri kojemu nastaje inverziski sloj, upravo jednak naponu praga U
GS0
.
84
Uz priključeni napon U
DS
teče i struja između uvoda i odvoda. Posljedica je pad napona duž
kanala, odnosno nejednolika širina kanala, slika 5.2.1.1. Pad napona duž kanala je funkcija
udaljenosti x od ishodišne, odnosno referentne točke (elektrode), pa izraz za površinsku
gustoću naboja treba također prikazati kao funkciju udaljenosti x:
σ
ε ε
m
x
x
GS GS
x
t
U U x U ( ) ( ( ) )
,
·

⋅ − −
0 0
0
0
. (5.2.1.2)
S pomoću relacije (5.2.1.2) može se odrediti vodljivost jedinične dužine kanala G(x):
G x x w
nk m
( ) ( ) · ⋅ ⋅ µ σ
, (5.2.1.3)
gdje je µ
nk
pokretljivost elektrona u kanalu, a w dubina kanala, slika 5.2.1.1.
Slika 5.2.1.1: Geometrijsko ustrojstvo MOSFETa.
Pokretljivost nosilaca u kanalu je manja od pokretljivosti u dubini podloge. Smanjenje
pokretljivosti nastaje zbog djelovanja električnog polja u kanalu, te raspršenjem nosilaca na
međupovršini SiO
2
-Si.
U skladu s relacijom (5.2.13) struja u kanalu ima stalan iznos I
D
, a može se prikazati kao
umnožak dviju promjenljivih veličina: vodljivosti G(x) i jakosti električnog polja dU(x)/dx:
I G x
dU x
dx
D
· ⋅ ( )
( )
. (5.2.1.4)
S pomoću relacija (5.2.1.2) i (5.2.1.3) izraz (5.2.1.4) može se prikazatiti u obliku integrala
I dx
t
w U U U x dU
D
L
nk x
x
GS GS
U
DS
0
0 0
0
0
0
∫ ∫
·
⋅ ⋅
⋅ − −
µ ε ε
,
( ( )) (5.2.1.5)
iz kojega nakon provedene integracije lijeve i desne strane u odgovarajućim granicama,
proistječe jednadžba za struju I
D
:
I K U U U U
D GS GS DS DS
· − ⋅ − ⋅

]
]
]
( )
0
2
1
2
, (5.2.1.6)
gdje je
K
w
t
nk x
x
·
⋅ ⋅ ⋅ µ ε ε
0 0
0
,
. (5.2.1.7)
Funkcija (5.2.1.6) ima minimum u točki U
DS
= U
GS
- U
GS0
, kojim je ujedno označeno i
područje zasićenja struje I
D
:
I
K
U U
Dzas GS GS
· ⋅ −
2
0
2
( )
. (5.2.1.8)
85
Jednadžba (5.2.1.6) opisuje triodno područje, a (5.2.1.8) područje zasićenja polja izlaznih
karakteristika n-kanalnog MOSFETa, slika 5.2.1.2.
Slika 5.2.1.2: Izlazne karakteristike n-kanalnog MOSFETa.
a)obogaćeni tip; b)osiromašeni tip.
Kod stvarnih, izmjerenih karakteristika postoji mali porast struje I
D
s porastom napona U
DS
, te
se za područje zasićenja može primijeniti empirijska relacija
I I U
D Dzas DS
· ⋅ + ⋅ ( ) 1 λ
(5.2.1.9)
u kojoj je λ parametar koji može imati vrijednost između 0.01 i 0.001V
-1
.
Jednadžbe (5.2.1.6) i (5.2.1.8), iako su izvedene za n-kanalni MOSFET obogaćenog tipa s
definiranim predznacima napona u skladu sa slikom 5.2.1.3., vrijede i za sve ostale tipove
MOSFETova, vodeći pritom računa o predznacima odgovarajućih električnih veličina.
Slika 5.2.1.3: Definicija polariteta napona i smjera struje za n-kanalni MOSFET obogaćenog
tipa.
5.2.2. Parametri MOSFETa
U triodnom se području MOSFET može upotrijebiti u elektroničkim sklopovima kao linearni
otpornik čiji se iznos može mijenjati naponom U
GS
, slika 5.2.2.1. Linearna se ovisnost struje
I
D
i napona U
DS
postiže, sukladno jednadžbi (13.3.1.6), uz uvjet U
DS
< U
GS
- U
GS0
:
[ ]
I K U U U U K U U U
D GS GS DS DS GS GS DS
· ⋅ − ⋅ − ≈ ⋅ − ⋅ ( ) ( )
0
2
0
. (5.2.2.1)
86
Slika 5.2.2.1: MOSFET kao promjenjivi linearni otpornik.
Dinamički su parametri definirani kao i za spojni FET. Primjenom njihovih definicija na
odgovarajuće jednadžbe za triodno područje rada, dobiva se:
r
U
I U konst K U U U
d
DS
D GS GS GS DS
·
·
·
⋅ − −

∂ . ( )
1
0
, (5.2.2.2)
g
I
U
K U
m
D
GS
DS
· · ⋅


, (5.2.2.3)
µ· ⋅ g r
m d
, (5.2.2.4)
Za područje zasićenja:
1
r
I
d
Dzas
· ⋅λ
, (5.2.2.5)
g K U U
m GS GS
· ⋅ − ( )
0
. (5.2.2.6)
87
5.3. Nadomjesni sklop za unipolarni tranzistor
Za nadomjesni sklop unipolarnog tranzistora u području rada sa značajkama malih promjena
iznosa signala i srednjih frekvencija, može se upotrijebiti linearni sklop koji sadrži naponski
ili strujni ovisni izvor.
Polazeći od funkcije kojom je izražena ovisnost struje i
D
o dvije varjable u
GS
i u
DS
,
i f u u
D GS DS
· ( , )
(5.3.1)
može se odrediti ukupna promjena strujr i
D
, što s matematičkog stajališta odgovara totalnom
diferencijalu funkcije (5.3.1)
di
i
u
du
i
u
du
D
D
GS
GS
D
DS
DS
· ⋅ + ⋅




(5.3.2)
Kako oznake i
D
, u
GS
i u
DS
uključuju istosmjerne i trenutne izmjenične veličine:
i
D
= I
D
+ i
d
,
(5.3.3)
u
GS
= U
GS
+ u
gs
, (5.3.4)
u
DS
= U
DS
+ u
ds
, (5.3.5)
mogu se promjene di
D
, du
GS
i du
DS
prikazati kao trenutne izmjenične veličine i
d
, u
gs
i u
ds
jer su
za male promjene signala po iznosu zadovoljeni uvjeti:
I
D
>> i
d
; U
GS
>> u
gs
; U
DS
>> u
ds
. (5.3.6)
U skladu s definicijom za dinamičke parametre:
g
i
u
i
u
m
D
GS
d
gs
· ·


(5.3.7)
1
r
i
u
i
u
d
D
DS
d
ds
· ·


(5.3.8)
relacija (5.3.2) može se pisati u obliku:
i g u
r
u
d m gs
d
ds
· ⋅ + ⋅
1
(5.3.9)
ili
u u i r
ds gs d d
· − ⋅ + ⋅ µ
(5.3.10)
ako se umjesto g
m
uvrsti
µ
r
d
.
Jednadžbama (5.3.9) i (5.3.10) određen je nadomjesni sklop unipolarnog tranzistora za
područje srednjih frekvencija i malih promjena iznosa signala, slika 5.3.1.
88
Slika 5.3.1: Nadomjesni sklop unipolarnog trtanzistora
a) sa strujnim izvorom, b) s naponskim izvorom.
89
PRILOG 1.
Fizikalne konstante i veličine
Konstanta, veličina Simbol Iznos Dimenzija
Naboj elektrona q
1.602⋅ 10
-19
C
Masa slobodnog elektrona m
0 9.1085⋅ 10
-31
kg
Planckova konstanta h
6.625⋅ 10
-34
J⋅ s
Planckova konstanta h
4.135⋅ 10
-15
eV⋅ s
Boltzmanova konstanta k
1.381⋅ 10
-23
J⋅ K
-1
Boltzmanova konstanta k
8.62⋅ 10
-5
eV⋅ K
-1
Permitivnost vakuma
ε
0
8.854⋅ 10
-12
F⋅ m
-1
Relativna permitivnost za silicij
ε
r
11.7
Intrinsična gustoća za silicij pri T=300K n
i 1.45⋅ 10
10
cm
-3
90
PRILOG 2.
Definicija funkcije pogreške i tablica vrijednosti
Funkcija pogreške erf(z) i njena komplementarna funkcija erfc(z) definirane su izrazima:
( )
erf z x dx
z
( ) exp · ⋅ − ⋅

2
2
0
π
, erfc(z) = 1 - erf(z).
Za komplementarnu funkciju pogreške vrijedi:
erfc z dz ( )⋅ ·


0
1
π
.
Tablica vrijednosti funkcije erfc(z)
z erfc(z) z erfc(z) z erfc(z) z erfc(z) z erfc(z)
0.00 1.000000 0.70 0.322199 1.40 0.047715 2.10
2.979⋅ 10
-3
2.80
7.50⋅ 10
-5
0.02 0.977435 0.72 0.308567 1.42 0.044624 2.12
2.716⋅ 10
-3
2.82
6.70⋅ 10
-5
0.04 0.954889 0.74 0.295322 1.44 0.041703 2.14
2.475⋅ 10
-3
2.84
5.90⋅ 10
-5
0.06 0.932378 0.76 0.282463 1.46 0.038946 2.16
2.253⋅ 10
-3
2.86
5.20⋅ 10
-5
0.08 0.909922 0.78 0.269990 1.48 0.036346 2.18
2.049⋅ 10
-3
2.88
4.60⋅ 10
-5
0.10 0.887537 0.80 0.257899 1.50 0.033895 2.20
1.863⋅ 10
-3
2.90
4.10⋅ 10
-5
0.12 0.865242 0.82 0.246189 1.52 0.031587 2.22
1.692⋅ 10
-3
2.92
3.60⋅ 10
-5
0.14 0.843053 0.84 0.234857 1.54 0.029414 2.24
1.536⋅ 10
-3
2.94
3.20⋅ 10
-5
0.16 0.820988 0.86 0.223900 1.56 0.027372 2.26
1.393⋅ 10
-3
2.96
2.80⋅ 10
-5
0.18 0.799064 0.88 0.213313 1.58 0.025453 2.28
1.262⋅ 10
-3
2.98
2.50⋅ 10
-5
0.20 0.777297 0.90 0.203092 1.60 0.023652 2.30
1.143⋅ 10
-3
3.00
2.21⋅ 10
-5
0.22 0.755704 0.92 0.193232 1.62 0.021962 2.32
1.034⋅ 10
-3
3.02
1.95⋅ 10
-5
0.24 0.734300 0.94 0.183729 1.64 0.020378 2.34
9.35⋅ 10
-4
3.04
1.71⋅ 10
-5
0.26 0.712100 0.96 0.174576 1.66 0.018895 2.36
8.45⋅ 10
-4
3.06
1.51⋅ 10
-5
0.28 0.692120 0.98 0.165768 1.68 0.017507 2.38
7.63⋅ 10
-4
3.08
1.32⋅ 10
-5
0.30 0.671373 1.00 0.157299 1.70 0.016210 2.40
6.89⋅ 10
-4
3.10
1.17⋅ 10
-5
0.32 0.650874 1.02 0.149162 1.72 0.014997 2.42
6.21⋅ 10
-4
3.12
1.02⋅ 10
-5
0.34 0.630635 1.04 0.141350 1.74 0.013865 2.44
5.59⋅ 10
-4
3.14
8.97⋅ 10
-6
0.36 0.610670 1.06 0.133856 1.76 0.01281 2.46
5.03⋅ 10
-4
3.16
7.86⋅ 10
-6
0.38 0.590991 1.08 0.126674 1.78 0.011826 2.48
4.26⋅ 10
-4
3.18
6.89⋅ 10
-6
0.40 0.571608 1.10 0.119795 1.80 0.010909 2.50
4.07⋅ 10
-4
3.20
6.03⋅ 10
-6
0.42 0.552532 1.12 0.113212 1.82 0.010057 2.52
3.66⋅ 10
-4
3.22
5.27⋅ 10
-6
0.44 0.533775 1.14 0.106918 1.84
9.264⋅ 10
-3
2.54
3.28⋅ 10
-4
3.24
4.60⋅ 10
-6
0.46 0.515345 1.16 0.100904 1.86
8.828⋅ 10
-3
2.56
2.94⋅ 10
-4
3.26
4.02⋅ 10
-6
0.48 0.497250 1.18 0.095163 1.88
7.844⋅ 10
-3
2.58
2.64⋅ 10
-4
3.28
3.51⋅ 10
-6
0.50 0.479500 1.20 0.089686 1.90
7.210⋅ 10
-3
2.60
2.36⋅ 10
-4
3.30
3.06⋅ 10
-6
0.52 0.462101 1.22 0.084466 1.92
6.622⋅ 10
-3
2.62
2.11⋅ 10
-4
3.32
2.66⋅ 10
-6
0.54 0.445061 1.24 0.079495 1.94
6.077⋅ 10
-3
2.64
1.89⋅ 10
-4
3.34
2.32⋅ 10
-6
0.56 0.428384 1.26 0.074764 1.96
5.574⋅ 10
-3
2.66
1.69⋅ 10
-4
3.36
2.02⋅ 10
-6
0.58 0.412077 1.28 0.070266 1.98
5.108⋅ 10
-3
2.68
1.51⋅ 10
-4
3.38
1.75⋅ 10
-6
0.60 0.396144 1.30 0.065992 2.00
4.678⋅ 10
-3
2.70
1.34⋅ 10
-4
3.40
1.52⋅ 10
-6
0.62 0.380589 1.32 0.061935 2.02
4.281⋅ 10
-3
2.72
1.20⋅ 10
-4
3.42
1.32⋅ 10
-6
0.64 0.365414 1.34 0.058086 2.04
3.914⋅ 10
-3
2.74
1.07⋅ 10
-4
3.44
1.15⋅ 10
-6
0.66 0.350623 1.36 0.054439 2.06
3.577⋅ 10
-3
2.76
9.50⋅ 10
-5
3.46
9.92⋅ 10
-7
0.68 0.336218 1.38 0.050985 2.08
3.266⋅ 10
-3
2.78
8.40⋅ 10
-5
3.48
8.59⋅ 10
-7
91
Literatura
[1] P. Biljanović, Poluvodički elektronički elementi, Školska knjiga-Zagreb, 1996.,
[2] W. Shockley, Electrons and Holes in Semiconductors, D.Van Nostrand, New York,
1950.,
[3] H.D.P. Lanyon, R.A. Tuft, Bandgap Narrowing in Moderately to Heavily Doped Silicon,
IEEE Trans. Electron Devices, ED-26,1979, 7,1014-1018,
[4] H.D.P. Lanyon, R.A. Tuft, Bandgap Narrowing in Moderately to Heavily Doped Silicon,
IEEE Trans. Electron Devices, ED-26,1979, 7,str. 1014-1018,
[5] J.W. Slotboom, H.C. de Graaff, Measurements of Bandgap Narrowing in Si Bipolar
Transistors, Solid-State Electronics, 19, 1976, 10, str. 857-862,
[6] C. D. Thurmond, The Standard Thermodynamic Functions for the Formation of
Electrons and Holes in Ge, Si, GaAs and GaP, J. Electrochemical Society, vol. 122, pp.
1133-1141, August 1975.
[7] F. J. Morin, J. P. Maita, Electrical Properties of Silicon Containing Arsenic and Boron,
Phys. Rev., vol. 96, pp. 28-35, October, 1954.
[8] F. H. Gaensslen, R. C. Jaeger, Temperature Dependent Threshold Behavior of Depletion
Mode MOSFETs, Solid-State Electronics, vol. 22, pp 423-430, April 1979.
[9] J. M. Dorkel, Ph. Leturcq, Carrier Mobilities in Silicon Semi-Empirically Related to
Temperature, Doping and Injection Level, Solid-State Electronics, vol. 24, pp. 821-825,
September 1981.
[10] D. M. Caughey, R. E. Thomas, Carrier Mobilities in Silicon Empirically Related to
Doping and Field, Proc. IEEE, vol. 55, pp. 2192-2193. December 1967.
[11] G. Baccarani, P. Ostoja, Electron Mobility Empirically Related to the Phosphorous
Concetration in Silicon, Solid-State Electronics, vol. 18. pp. 579-580, 1975.
[12] A. K. Henning, N. N. Chan, J. T. Watt, J. D. Plummer, Substrate Current at Cryogenic
Temperatures: Measurements and a Two-Dimensional Model for CMOS Technology,
IEEE Trans. Electron Devices, vol. ED-34, pp. 64-74, January 1987.
[13] J. G. Fossum, Computer-Aided Numerical Analysis Of Silicon Solar Cells, Solid-State
Electronics, vol. 19, pp. 269-277, April 1976.
[14] B. Juzbašić, Elektronički elementi, Školska knjiga, Zagreb, 1975.
[15] P. Biljanović, Mikroelektronika-integrirani elektronički sklopovi, Školska knjiga,
Zagreb, 1982.
[16] J. Millman, C. C. Halkias, Electronic Devices and Circuits, McGraw-Hill, New York,
1967.
[17] V. Knapp, P. Colić, Uvod u električna i magnetska svojstva materijala, Školska knjiga,
Zagreb, 1990.
[18] R. B. Adler, A. C. Smith, R. L. Longini, Introduction to Semiconductor Physics, John
Wiley & Sons, Inc., New York, 1964.
92
[19] R. A. Colclaser, S. Diehl-Nagle, Materials and Devices for Electrical Engineers and
Physicists, McGraw-Hill Book Company, New York, 1985.
[20] K. Adamić, J. Herak, Fizika struktura, stanja i svojstva tvari, Školska knjiga, Zagreb,
1981.
93

Split, ožujak 2003.
1. ČVRSTA TVAR 1.1. Definicija i opća svojstva Zbog toplinskog gibanja, sve čestice čvrste tvari (čvrstog tijela) titraju oko svog središnjeg položaja, tzv. ravnotežnog položaja u kojem je rezultantna sila na promatranu česticu od susjednih čestica jednaka ništici. Kad se čestica pomakne iz svoga ravnotežnog položaja na nju počinje djelovati sila od susjednih čestica koja ju vrača u prvotni ravnotežni položaj. U tom smislu može se izreći i prirodna definicija čvrstog tijela kao sustava u kojemu čestice zadržavaju stalan međusobni položaj i orijentaciju. Osnovni kriterij razlikovanja ustrojstva takvih sustava je stupanj uređenosti. U skladu s tim kriterijem podjela čvrste tvari može se shematski prikazati kao na slici 1.1.1.

Slika 1.1.1: Podjela čvrste tvari s obzirom na stupanj strukturne uređenosti. U kristalima je uređenost dugog dosega jer su atomi, odnosno molekule u pravilnom unutrašnjem geometrijskom rasporedu koji se periodički ponavlja. U monokristalu je uređenost u cijeloj tvari, a karakterizirana je periodičkim ponavljanjem osnovnog geometrijskog oblika s pravilnim rasporedom atoma u kristalnoj rešetci. U polikristalu postoji uređenost u manjim područjima koja se nazivaju zrnima. Kristalna zrna su nepravilne veličine i međusobno su različito orijentirana, a odijeljena su granicama zrna. Značajka amorfnih tvari je uređenost kratkog dosega; elementarna struktura nema stalan oblik ni veličinu, ali zadržava iste sastavne dijelove. Na slici 1.1.2. je usporedbe radi prikazano kristalno ustrojstvo molekula kristala kvarca i kvarcnog stakla,(SiO2). Dok su u kristalu kvarca atomi silicija i kisika raspoređeni u pravilne šesterokute (osnovni geometrijski oblik) s periodičkim ponavljanjem u cijelom kristalu, u kvarcnom staklu nema takve pravilne uređenosti na velike razdaljine jer se osim šesterokuta pojavljuju još peterokuti i sedmerokuti.

2

Slika 1.1.2: Kristalno i amorfno ustrojstvo molekula SiO2 prikazano u dvije dimenzije. Ustrojstvo osnovnog geometrijskog oblika određeno je veličinom atoma ili molekula te silom vezivanja. Prema vrsti sile vezivanja (kemijske veze) razlikuju se četiri skupine kristala: − kristali nemetali, − ionski kristali, − molekularni kristali − kovalentni kristali. U poluvodičkoj elektronici, s obzirom na praktičnu primjenu, mogu se istaknuti kovalentni kristali silicij i germanij, gdje se pod pojmom kovalentni podrazumijeva kristalna veza pomoću para valentnih elektrona izmrđu dva susjedna atoma, sl. 1.1.3.

Slika 1.1.3: Kristalno veza između atoma silicija simbolički prikazana u dvije dimenzije. Na kovalentnoj vezi temelji se dijamantna struktura koju imaju četverovalentni elementi kao što je ugljik, silicij i germanij. U dijamantnoj strukturi središnji je atom okružen s četiri susjedna atoma koji leže u vrhovima tetraedra (tijela omeđenog sa četiri istostranična trokuta), slika 1.1.4.

3

4 .1.4: Dijamantna (tetraedarska) struktura.Slika 1.

Na sobnoj temperaturi električna otpornost ρ za kovine je reda veličine 10-8 Ω m. b) poluvodič. tj. Upravo to omogućava struju elektrona i pri malim iznosima priključenoga električnog polja. također kovina. a time i gibanje naboja pod djelovanjem električnog polja. Struktura energijskih vrpci čistih poluvodiča slična je onima u izolatoru. za izolatore dosiže vrijednost od 1014 Ω m. c) kovinu s dopuštenom energijskom vrpcom djelomično popunjenom elektronima (npr. niža energijska vrpca potpuno popunjena elektronima (npr. d) kovinu gdje dolazi do preklapanja energijskih vrpci.2.1d). Razlika u električnim svojstvima između kovina. Na niskim temperaturama valentna vrpca je potpuno popunjena elektronima.2. a vodljiva prazna.2. Električna svojstva kristala S obzirom na električnu provodnost ili otpornost. u širini energijskoga procjepa (zabranjene vrpce). poluvodiči i izolatori.1c). slika 1.1: Energijska ustrojstva za: a) izolator. a za poluvodiče vrijednost za ρ je u granicama od 10-5 do 104 Ω m. a) i b). Na). Mg). O širini zabranjene vrpce ovisi na kojoj će temperaturi nastati elektron-šupljina parovi. čime je opet postignuta djelomična zaposjednutost dopuštenih energijskih stanja elektronima (slika 1.1. Slika 1. a razlika je u udaljenosti između vodljive i valentne vrpce.1.2. svojstveno je preklapanje dviju najgornjih energijskih vrpci.2. kristali se mogu podijeliti u tri skupine: kovine (vodiči). U kovinama I skupine najgornja energijska vrpca nije potpuno zaposjednuta elektronima (slika 1. zbog čega je električna vodljivost onemogućena. 5 . Za II skupinu elemenata. elementarnih poluvodiča i izolatora proistječe iz ustrojstva energijskih vrpci.

1. Iznos dobivene energije je vrlo malen.2.1. Na temperaturi apsolutne ništice čisti poluvodič ima svojstva izolatora jer nema slobodnih nosilaca naboja. Ti prijelazi se odvijaju se u energijskim 6 . te je prijelaz moguć samo s nižeg u više energijsko stanje unutar jedne energijske vrpce. neki elektroni mogu prebaciti iz valentne vrpce u vodljivu. POLUVODIČI 2. Takav poluvodič je praktički nemoguće proizvesti pa se umjesto idealizirane (teorijske) definicije češće izriče realnija definicija: intrinsični poluvodič je kristal u kojem jedan strani atom dolazi na 109 atoma elementarnog poluvodiča. Za poluvodiče energijski procijep ima relativno mali iznos (EG ≈ 1 eV za silicij).2: Struje elektrona i šupljina u kristalu silicija.1.1.1: Raspodjela nosilaca naboja u čistom poluvodiču. valentna vrpca je popunjena. zbog toplinske pobude. tako da se već pri sobnim temperaturama.1. Prazna stanja u valentnoj vrpci su šupljine. a vodljiva vrpca je prazna. Ti elektroni imaju veću energije od onih u valentnoj vezi. mogu sudjelovati u vođenju struje pa se nazivaju vodljivim elektronima (zbog djelovanja vanjskog električnog polja elektroni dobivaju energiju i prelaze u viša energijska stanja). U vođenju struje u poluvodičima sudjeluju negativni elektroni i pozitivne šupljine. Pri određenoj temperaturi postoji vjerojatnost slabljenja valentnih veza te prebacivanja elektrona iz valentne veze u prostor između atoma. Slika 2. Intrinsični poluvodiči Poluvodič koji ne sadrži atome drugih elemenata naziva se intrinsični (čisti) poluvodič. slika 2. Slika 2.

Funkcija fFD(E) je Fermi-Diracova vjerojatnost kojom se iskazuje zaposjednuće kvantnih stanja pri temperaturi T: 1 f FD (E) = 1+e [ (E . Te gustoće su jednake pa su označene zajedničkom oznakom za čistu (intinsičnu) gustoću (koncentraciju): n0 =p0 =ni (2. 7 .Efi = +0.Efi = -0. T je oznaka za termodinamičku temperaturu u stupnjevima Kelvina.4) gdje je Efi Fermijeva energija u čistom poluvodiču.2 eV toliko naraste vjerojatnost zaposjednuća razina E .2 eV.1. nema stalnu vrijednost i ovisi o energiji elektrona te o energijskoj vrpci u kojoj se elektron nalazi.2. Efektivna masa.1. k je Boltzmannova konstanta.3) u kojemu je mC efektivna masa elektrona. Stoga se Fermijeva energija Efi definira kao razina s vjerojatnošću zaposjednuća fFD(E) = 0. Fermi-Diracova vjerojatnost iznosi fFD(E) = 1. Na temperaturi T > 0K vjerojatna je zaposjednutost energijskih razina E > Efi na račun termičke pobude elektrona s razina ispod Ef.1. za razliku od mase slobodnog elektrona. vidi se da koliko opadne vjerojatnost zaposjednuća energijskih razina npr.1.5 [16]. Pri temperaturi T = 0K i E ≤ Efi sukladno izrazu (2. Ukupan broj valentnih elektrona može se odrediti s pomoću integrala: n0 = ∫ f FD (E) ⋅ ρC (E) ⋅ dE EC E'C (2. a umnožak k⋅ T = ET je energijski temperaturni ekvivalent.stanjima na dnu vodljive (struja elektrona) i pri vrhu valentne vrpce (struja šupljina).1.EC ) 2   h2  3 (2. Za E ≥ Efi je fFD(E) = 0 što znači da su pri temperaturi T = 0 K sve dopuštene energijske razine popunjene. Gustoća kvantnih stanja ρ C(E) u vodljivoj vrpci određena je izrazom: 1  2⋅ mC  2 ρ C (E) =4⋅ π ⋅  ⋅ ( E .1.1) Broj vodljivih elektrona u energijskom intervalu dE dobije se množenjem gustoće energijskih stanja ρ C(E) s vjerojatnošću zaposjednuća fFD(E) tih stanja. Iz slike 2.E fi )/ kT ] xp (2.3.1. Termičkom pobudom u čistom poluvodiču nastaje ravnotežna gustoća elektrona n0 u vodljivoj vrpci i šupljina p0 u valentnoj.1). Koliko elektrona prijeđe u vodljivu vrpcu toliko šupljina ima u valentnoj.2) s granicama integracije po ukupnoj širini vodljive vrpce (slika 2.1. slika 2.4). E .1. slika 2.1. a h Planckova konstanta.

Slika 2.1.3: Fermi-Diracova funkcija vjerojatnosti zaposjednuća kvantnih stanja. Ako se za Boltzmannovu konstantu uvrsti njena vrijednost, (prilog 1.) k = 1.381⋅ 10-23 JK-1 = 8.620⋅ 10-5 eVK-1, gdje je
V (1e =16 2 ⋅1 −1 C ⋅1 =16 2 ⋅1 −1 A V =16 2 ⋅1 −1 W =16 2 ⋅1 −1 J .0 0 9 V .0 0 9 s .0 0 9 s .0 0 9

),

dobiva se praktičan izraz za računanje energije ET:
E T =8 2 ⋅1 -5 ⋅ .6 0 0 e V T ⋅T = K 165 10 e V . K

(2.1.5)

Pri sobnoj temperaturi (T = 300 K), ET = 0.0259 eV. Uvrštavanjem (2.1.3) i (2.1.4) u (2.1.2) dobiva se izraz za ravnotežnu gustoću slobodnih elektrona u vodljivoj vrpci kao funkcija energije E:

( E - EC ) 2  2⋅ m  2 ni =n0 = ∫ 4⋅ π ⋅  2 C  ⋅ ⋅ dE  h  1 + exp( E - E fi ) / kT E
E'C
C

3

1

[

]

(2.1.6)

Uz uvjet E - Efi ≥ 3⋅ k⋅ T može se zanemariti jedinica u nazivniku izraza za fFD(E), pa FermiDiracova funkcija vjerojatnosti prelazi u klasičnu Maxwell-Boltzmannovu vjerojatnost:
 E - E f FD (E) ≈ e  fi xp   k⋅T 

(2.1.7)

Gornja se granica integrala (2.1.6) može zamijeniti s graničnom vrijednošću EC' → ∞ zbog eksponencijalnog opadanja funkcije fFD(E). Uvođenjem približnog izraza (2.1.7) u (2.1.6) dobiva se:
1  E - E fi   2⋅ mC  2 ni =n0 = ∫ e  − xp  ⋅ 4⋅ π  ⋅ ( E - E C ) 2 ⋅ dE .  k⋅T   h2  E
C

3

(2.1.8)

Nakon supstitucije x = (E - EC)/k⋅ T i promjene granica integracije od 0 do ∞, izraz (2.1.8) poprima oblik
∞ 1  2 ⋅ mC ⋅ k ⋅ T  2  E - E fi  ni = n 0 = 4 ⋅ π ⋅   ⋅ exp − C  ⋅ ∫ x 2 ⋅ exp( − x) ⋅ dx k⋅T  0 h2    3

(2.1.9)

8

u kojem je:

∫ x2 ⋅ exp( −x)⋅ dx =
0

1

π . 2

(2.1.10)

Za ravnotežnu gustoću n0 konačno se može pisati izraz:
 2⋅ π ⋅ mC ⋅ k ⋅ T  2  E C - E fi  , ni =n0 =2⋅   ⋅ exp −  2    k⋅ T  h
3

(2.1.11)

ili u skraćenom obliku
 E -E  ni =n0 =N C ⋅ exp − C fi  ,  k⋅ T 

(2.1.12)

gdje je
 2⋅ π ⋅ mC ⋅ k ⋅ T  2 N C =2⋅     h2
3

(2.1.13)

oznaka za efektivnu gustoću kvantnih stanja u vodljivoj vrpci. Vjerojatnost nalaženja šupljina na energijskoj razini E je 1 - fFD(E), a to je vjerojatnost nepostojanja elektrona u valentnoj vrpci i jednaka je:
1-f FD (E) = 1 1+exp ( E fi - E) / k ⋅ T

[

]
1

(2.1.14)

Gustoća šupljina u valentnoj vrpci dana je integralom:

( E V - E) 2  2⋅ m  2 pi =p0 = ∫ 4⋅ π  2 V  ⋅ dE ,  h  1+exp ( E fi - E) / k ⋅ T E
-E'V
V

3

[

]

(2.1.15)

koji se može riješiti primjenom postupka jednakom onom za određivanje gustoće n0. Nakon integracije funkcije (2.1.15) dobiva se formula
 E -E  pi =p0 =N V ⋅ exp − fi V   k⋅ T 

(2.1.16)

u kojoj je
 2⋅ π ⋅ mV ⋅ k ⋅ T  2 N V = 2⋅     h2
3

(2.1.17)

izraz za efektivnu gustoću kvantnih stanja, a mV oznaka za efektivnu masu šupljina, u valentnoj vrpci. Raspodjela elektrona i šupljina po energijama u čistom poluvodiču prikazana je na slici 2.1.4.

9

Slika 2.1.4: Gustoća elektrona i šupljina u čistom poluvodiču. Iz uvjeta n0 = p0 može se odrediti položaj Fermijeve razine u odnosu prema rubu valentne E V i vodljive EC vrpce:
 E -E   E -E  N C ⋅ exp - C fi  =N V ⋅ exp - fi V  .  k⋅ T   k⋅ T 

(2.1.18)

Iz (2.1.18) proizlazi izraz za Fermijevu razinu u čistom poluvodiču:
E fi = E C +E V k ⋅ T N + ⋅ ln V . 2 2 NC EC - EV k ⋅ T N + ⋅ln C 2 2 NV

(2.1.19)

Ako se Efi promatra u odnosu prema EC, izraz (2.1.19) može se pisati kao:
E C - E fi =

(2.1.20)

ili kao
E C - E fi = EC - EV 3 m + ⋅ k ⋅ T ⋅ ln C . 2 4 mV

(2.1.21)

Fermijeva se razina u čistom poluvodiču nalazi približno na sredini zabranjene vrpce, slika 2.1.5.

Slika 2.1.5: Položaj Fermijeve energije u čistom poluvodiču. Prema izrazu (2.1.21) može se zaključiti da se Fermijeva razina Efi u čistom poluvodiču nalazi točno na sredini zabranjene vrpce jedino na temperaturi apsolutne ništice. Pri temperaturi različitoj od apsolutne ništice Fermijeva razina može biti na sredini zabranjene vrpce uz uvjet istovrijednosti efektivnih masa elektrona i šupljina, mC = mV. Za silicij je mV nešto veće od mC [12], pa je Fermijeva razina pomaknuta od sredine zabranjene vrpce prema rubu vodljive mV 3 vrpce za mali iznos energije ⋅ k ⋅ T ⋅ ln (npr. pri T=300K taj iznos je ∼ 0.01eV). 4 mC 10

2.2. slika 2. a desna strana te jednadžbe je brzina stvaranja parova. proporcionalna umnošku gustoće elektrona i šupljina. mC m0 mV m0 1.18 0.1: Energijski dijagram za čisti poluvodič. kao i energijski temperaturni ekvivalent ET(T) = k⋅ T. jednaka je brzini stvaranja parova elektron-šupljina.  ⋅ T ⋅ exp − G ni = 2 ⋅  ⋅   2 2  2 ⋅ E (T )    h m0    T    3 2 3 (2. U području sobnih temperatura promjene efektivnih masa elektrona i šupljina su relativno malene za silicij. Širina zabranjene vrpce U energijskom dijagramu poluvodiča područje između valentne i vodljive vrpce energija naziva se energijski procjep ili zabranjena vrpca.2. Stoga se sukladno jednadžbi (2. 2.2) m0 je masa elektrona u mirovanju. Pri temperaturi apsolutne ništice EG ima najveći iznos i lagano opada s porastom e temperature. Ako se u (2.1) određuje brzinu poništavanja parova elektron-šupljina.2.1) uvrste izrazi za efektivne gustoće kvantnih stanja N C i NV.1) Umnožak n0⋅ p0 u jednadžbi (2. ET    ET  (2. Zakon termodinamičke ravnoteže Umnožak ravnotežnih gustoća vodljivih elektrona i šupljina u čistom je poluvodiču na nekoj temperaturi stalan i jednak kvadratu intrinsične gustoće:  E -E   E  n0 ⋅ p0 =ni2 =N V ⋅ N C ⋅ exp − C V  =N V ⋅ N C ⋅ exp − G  .). Za poluvodič ona iznosi E G ≈1 V . pa se može računati s tabličnim vrijednostima određenima pri temperaturi T = 300 K (tablica 2.2.1: Vrijednosti efektivnih masa elektrona i šupljina za silicij normirane na vrijednost mase mirovanja pri T = 300 K.81 Tablica 2. U stručnoj se literaturi može naći nekoliko empirijskih izraza pomoču kojih se 11 .3.2. dobiva se oblik kojim je u cijelosti iskazana ovisnost intrinsične gustoće o temperaturi: 3  E (T )   2 ⋅ π ⋅ k ⋅ m 0   mC ( T ) ⋅ mV ( T )  4 2 .1. koja je određena širinom zabranjene energijske vrpce i temperaturom.3.1: Slika 2. Širina zabranjene vrpce EG(T) je također funkcija temperature.1) zakon termodinamičke ravnoteže može formulirati kao: brzina poništavanja parova elektron-šupljina.2.3.2. O širini zabranjene vrpce ovise mnoga svojstva materijala.2. a mC(T) i mV(T) su efektivne mase elektrona i šupljina naznačene kao funkcije temperature.

1. slika 2.0 5 0 . Na T = 0 K peti elektron ostaje vezan uz svoj atom zbog privlačne sile svoje jezgre. 2.0 0 -5 -7 2 Za silicij su određena dva (2. empirijska izraza. Zbog toga što peterovalentna primjesa daje elektrone u vodljivu vrpcu koji se mogu slobodno gibati kroz kristal. arsen. Poluvodič n-tipa Dodavanjem peterovalentne primjese matičnom elementu nastaje n-tip poluvodiča. naziva se donor.5.2.2.1. Akceptorske primjese unose dodatnu akceptorsku energijsku razinu EA u zabranjenu vrpcu koja se nalazi u blizini valentne vrpce.1: Energijski dijagram za n-tip poluvodiča pri temperaturi T = 300K kada su svi donori ionizirani. 7 2. aluminij. pa se ona tvori elektronom iz valentne vrpce četverovalentnoga matičnog elementa.1. Trovalentnoj primjesi nedostaje jedan elektron za tvorbu četvrte kovalentne veze.3. Na T = 0 K na prikazu energijskih vrpci. a u valentnoj vrpci atoma matičnoga elementa nastaje šupljina.2) E G ( T) =1 7 -1 5 ⋅1 -5 ⋅ T .5.5.5. zbog toplinske pobude na energijskim razinama na dnu vodljive vrpce. Poluvodič p-tipa Dodavanjem trovalentnih primjesa (akceptora) četverovalentnom matičnom elementu nastaje p-tip poluvodiča.može odrediti širina zabranjene vrpce na nekoj temperaturi.1 8 . Ekstrinsični poluvodič Dodavanjem atoma drugih elemenata (primjesa) intrinsičnom (čistom) poluvodiču nastaje ekstrinsično (primjesno) poluvodičko ustrojstvo kojemu su električna svojstva određena brojem atoma primjesa. Primjese se unose u matični element odgovarajućim tehnološkim postupkom. indij). slika 2.1 0 . Četiri elektrona matičnog elementa i četiri elektrona primjesnog tvore četiri kovalentne veze. fosfor. za dva različita temperaturna područja [3]: E G ( T) =1 7 5 -9 2 ⋅1 ⋅ T -3 5 ⋅1 ⋅ T . sl. Slika 2.5.5.1.0 9 0 . U raspodjelu energija unosi se dodatna energijska razina u zabranjenu vrpcu. dok je na višim temperaturama (T ≠ 0 K).1.1. Energija ove veze znatno je slabija od kovalentne pa se pri T ≠ 0 K ovaj elektron lako oslobodi iz atoma. Element kojemu se dodaju primjese (matični element) je četverovalentni silicij ili germanij dok primjese mogu biti peterovalentni elementi (dušik.1) (2. 12 .5.3. taj elektron se nalazi na energijskoj razini ED znatno višoj od energije valentnih elektrona.6 5 ⋅1 -7 ⋅ T 2 za T ≤ 1 0K .1. 2. tzv. galij. antimon) ili trovalentni elementi (bor. 2. donorska razina ED u blizini dna vodljive vrpce. Trovalentni atom postaje negativni ion.0 0 7 za T > 1 0 K .

5.5.  10  1 (2. slika 2.5.3.Slika 2.2. Tako se diskretna donorska razina ED cijepa u vrpce energija širine ∆ ED. Energija ionizacije EI je smanjena u odnosu prema nedegeneriranom poluvodiču.1: Donorski pojas energijske širine ∆ ED u degeneriranom poluvodiču.2) Osim navedenih relacija za određivanje suženja zabranjene vrpce u stručnoj literaturi mogu se naći i izrazi izvedeni na osnovi drugačijih pretpostavki i drugog teorijskog pristupa. Za gustoće primjese iznad približno 1020cm-3 suženje ∆ EG više ne ovisi o temperaturi pa se može primijeniti izraz: ∆E G  N 6 = 0.3. 2.1) permitivnost poluvodiča u kojoj je N gustoća primjesa (donorskih ili akceptorskih).1. a ε (silicija).3. Tako su polazeći od eksperimentalnih rezultata Slotboom i De Graaff [2] dobili izraz koji se može primijeniti za n tip silicija s gustoćama donora do 1021cm-3: 13 .3.5.3. odnosno akceptora cijepaju u vrpce energija.5. Pojava cijepanja diskretnih razina u vrpcu energija popraćena je i suženjem zabranjene energijske vrpce u odnosu prema širini procjepa nedegeneriranog poluvodiča.5.1: Energijski dijagram za p-tip poluvodiča pri temperaturi T = 300K kad su svi akceptori ionizirani. Degenerirani poluvodič Pri gustoćama primjesa u poluvodičima približno iznad 1017cm-3 udaljenosti između atoma primjese nisu više tako velike te se diskretne energijske razine donora. a pokusom je utvrđeno da pri gustoćama donora približno 1. Za umjereno visoke gustoće primjesa (∼ 1019cm-3) suženje zabranjene vrpce može se odrediti prema teorijskoj relaciji koju su izveli Lanyon i Tuft [1]: ∆E G = 3⋅q 3 N ⋅ 16 ⋅ π ⋅ ε ε ⋅ k ⋅ T (2.62 ⋅  20  [ eV ] . Slika 2.8⋅ 1018cm-3 energija ionizacije u potpunosti nestaje.

5.5.  k⋅ T  odnosno N  EC .4.4.6) Umnožak ravnotežnih gustoća n0 i p0 jednak je kvadratu intrinsične gustoće i ne ovisi o Fermijevoj energiji:  E -E  n0 ⋅ p0 =n2 =N C ⋅ N V ⋅ exp − C V  .  k⋅ T  (2.5.4.1) (2.5.5.7) što znači da pri nekoj temperaturi jedna od ravnotežnih gustoća raste dok druga pada da bi njihov umnožak ostao stalan. N  N ∆E G0 = E1 ⋅ ln + ln2 + 05 .5.4. Određivanje gustoće elektrona i šupljina Ako poluvodič nije degeneriran.4.4) Dijeljenjem jednadžbe (2.1. za određivanje ravnotežnih gustoća vodljivih elektrona n0 i šupljina p0 mogu se upotrijebiti izrazi izvedeni za čisti poluvodič.E f =k ⋅ T ⋅ ln C  .5.E V =k ⋅ T ⋅ ln V  .4.3) (2.3) u kojemu je: E1 = 9 m eV N1 = 1019 cm-3 N = gustoća primjesa.4. U ravnotežnom stanju svaki poluvodič ima jednak iznos pozitivnog i negativnog naboja (zakon električne neutralnosti): N D +p0 =N A +n0 .  k⋅ T   E − Ef  p0 = ni ⋅ exp fi .  p0  (2.5.5. N1  N1  (2.3.1) s jednadžbom za intrinsičnu gustoću (2.  i  k⋅ T  (2.4.5.2) (2.12) dobiva se izraz za gustoću slobodnih elektrona u ovisnosti o intrinsičnoj gustoći i razlici Fermijevih razina ekstrinsičnog i intrinsičnog poluvodiča:  E − E fi  n0 = ni ⋅ exp f .8) 14 . ali se uvodi oznaka E f za Fermijevu razinu umjesto oznake Efi:  E -E  n0 =N C ⋅ exp − C f  .5.4.5.  k⋅ T   E -E  p0 =N V ⋅ exp − f V  .4. (2.5) Iz (2. 2.5) i zakona o termodinamičkoj ravnoteži može se odrediti ravnotežna gustoća p0: (2.  n0  N  E f .4.

4.4.1. tada je n0 ≈ ND i p0 = D i U n-tipu poluvodiča elektroni su većinski (glavni ili majoritetni). Dodavanjem akceptora raste gustoća šupljina.. izraz (2.14) 15 .5.12) Uz zamjenu n0 = p0 = n2 i dobiva se: p0 N 2 +4⋅ n2 NA A i . (2.10) n2 i .5. a šupljine manjinski (sporedni ili minoritetni) nosioci naboja. Položaj Fermijeve razine u odnosu prema dnu vodljive vrpce određen je izrazom: N  EC . NA Položaj Fermijeve razine određen je izrazom: N  Ef .4. uz uvjet ND = 0. slika 2.4.5.1: Fermijeva razina u n-tipu poluvodiča.5.11) prema kojemu je u dijagramu energija za n-tip poluvodiča položaj Fermijeve energije blizu dna vodljive vrpce.4.  ND  (2.Za n-tip poluvodiča.4. U skladu sa zakonom o termodinamičkoj ravnoteži.5. tada je p0 ≈ NA i n0 = A i n2 i .8) poprima oblik: n0 = N D +p0 . + 2 2 (2. uz uvjet NA = 0.5.Ef =k ⋅ T ⋅ ln C  . a elektroni manjinski. > Ako je N 2 > 4⋅ n2 .  NA  (2.13) U p-tipu poluvodiča šupljine su većinski nosioci. a opada gustoća elektrona. jer je NC ≈ 1019 cm-3. Za p-tip poluvodiča.4.5.E V =k ⋅ T ⋅ ln V  .4. izraz (2.9) (2. + 2 2 (2. n2 Uz zamjenu p0 = i dobiva se: n0 n0 = N 2 +4⋅ n2 ND D i .4.5. Slika 2. a ND ≈ 1016 cm-3.4. ND > Ako je N 2 > 4⋅ n2 .8) poprima oblik: p0 = N A +n0 .5.5. gustoća šupljina opada s porastom gustoće elektrona (potiskivanje manjinskih nosilaca).

2) i (2.ED > kT. 1+exp A f   ET  (2. što znači da svi donori nisu dali elektron u vodljivi pojas.4.4.U dijagramu energija za p-tip poluvodiča Fermijeva se razina nalazi blizu vrha valentne vrpce.5.2.4.5.5.4.1) i (2.16) Izjednače li se izrazi (2.4.16) dobiva se jednadžba za određivanje Fermijeve razine u p-tipu poluvodiča: Ef = EV + E A k ⋅ T N − ⋅ ln A . ako se izjednače izrazi (2.5..4.4.18) Analogno. a NA ≈ 1012 cm-3.5.5. a svi akceptori nisu primili elektron iz valentnog pojasa.5. 2 2 NC (2. jedinica se u nazivniku desne strane može zanemariti. 1+exp D f  1+exp f D   ET   ET  (2. pa slijedi:  E − Ef   Ef − ED  N C ⋅ exp − C  = N D ⋅ exp −    k⋅ T  k⋅ T  Ef = EC + E D k ⋅ T N + ⋅ ln D .17) Kako je za T < 200 K Ef .5.15) dobije se položaj Fermijeve razine u n-tipu poluvodiča na niskim temperaturama  E − Ef  N C ⋅ exp − C =  k⋅ T  ND  E − ED  . On se može izračunati ako se ukupnom broju donora oduzmu donori zaposjednuti elektronima: n(T < 200K ) = N + =N D − N D ⋅ D 1 ND =  E -E   E -E  . Za ove temperature gustoća elektrona n(T<200K) u vodljivoj vrpci jednaka je broju ioniziranih donora ND+. U temperaturnom području nepotpune ionizacije (T < 200K) svi primjesni atomi nisu ionizirani.4.4.4.5. jer je NV ≈ 1019 cm-3.5. Slika 2.2: Fermijeva razina u p-tipu poluvodiča. slika 2. 1+ exp f   k⋅ T  (2.4.5.15) Slično se gustoća šupljina p(T<200K) može odrediti iz gustoće ioniziranih akceptora N − : A NA N− = A  E -E  . 2 2 NV (2.19) 16 .

Pri tome se prosječnoj termičkoj brzini pribraja (superponira) brzina zbog djelovanja električnoga polja. driftna brzina. a m* efektivna masa elektrona (šupljina).1: Usmjereno gibanje nosilaca u poluvodiču.7. slika 2. dok je za p-tip poluvodiča prevladavajuća šupljinska provodnost σ p ≈ q⋅ p⋅ µ p.7. je neusmjereno (stohastičko) s prosječnom termičkom brzinom koja se mijenja u ovisnosti o temperaturi prema izrazu: vt = 3⋅ E T m* (2. te dvije struje se zbrajaju i čine ukupnu struju I u strujnom krugu.7. Električnu provodnost čistog poluvodiča karakterizira njegova intrinsična gustoća ni: 17 .2) gdje je µ oznaka za pokretljivost nosilaca.7. (2. U n-tipu poluvodiča gustoća elektrona je mnogo veća od gustoće šupljina (n>>p). Zbog utjecaja priključenoga napona u poluvodiču nastaje električno polje koje usmjerava gibanje nosilaca u smjeru svog djelovanja.7.7. a µ p za pokretljivost šupljina.2.7.1 prikazano je usmjereno gibanje nosilaca (elektrona i šupljina) u poluvodiču duljine w. Driftno gibanje nosilaca Gibanje nosilaca u poluvodiču na koji nije priključen napon (unutar poluvodiča nema električnoga polja).3) Za pozitivni smjer struje prema dogovoru uzima se smjer gibanja pozitivnoga naboja (šupljina). Kako je gibanje elektrona isto što i gibanje šupljina u suprotnom smjeru.1) u kojem je ET temperaturni ekvivalent energije. pod utjecajem električnoga polja iznosa F = U/w.4) gdje je µ n oznaka za pokretljivost elektrona. pa je električna provodnost približno jednaka elektronskoj provodnosti σ n ≈ q⋅ n⋅ µ n.7. a konstanta proporcionalnosti je električna provodnost: I U σ⋅U J = = = =σ ⋅ F S R ⋅S w (2. Gustoća struje je prema Ohmovom zakonu proporcionalna jakosti električnoga polja. Ona je proporcionalna jakosti električnoga polja F i pokretljivosti nosilaca µ : vd =µ ⋅ F .1. Slika 2. tzv. Električna provodnost poluvodiča je jednaka zbroju električne provodnosti zbog gibanja elektrona σ n i električne provodnosti šupljina σ p: σ =σ n +σ p =q ⋅ n ⋅ µ n +q ⋅ p ⋅ µ p =q ⋅ n ⋅ µ n +p⋅ µ p ( ) (2. Na slici 2.

ako je određeni prostor podijeljen na više dijelova (podprostora) s obzirom na gustoću čestica.8. npr. Općenito se za difuzijsku struju čestica u jednom smjeru vrijedi izraz: I d = −D d n dx (2.8. U prosjeku se jednak broj čestica širi u svakom smjeru nekog izotropnog prostora. između dijelova 1 i 2 od šest čestica dijela 1 koje se gibaju udesno i pet čestica dijela 2 koje se gibaju ulijevo samo se jedna čestica giba udesno. pet čestica se giba ulijevo. dx (2. miris.7. od 12 čestica njih šest se giba udesno. Npr. Dobiveni se rezultat može uočiti i bez računa.. slika 2.8. Difuzijsko gibanje naboja u poluvodiču Ako u poluvodiču postoji nejednolika gustoća pokretnih nosilaca naboja. Ali. Npr.1) Neto difuzijska struja je jedna čestica u pozitivnom smjeru osi x. U prostoru broj 2. jednaka -2 (opadajuća gustoća prema pozitivnom smjeru osi x) difuzijska struja iznosi: 1 I d = − ⋅ ( −2) = 1 2 (2.8.1. Za trodimenzijski prostor umjesto konstante vrijednošću 1 treba računati s 2 1 zbog više smjerova gibanja (lijevo-desno. Dakle samo se jedna polovina čestica svakog dijela prikazanoga jednodimenzijskog prostora giba u pozitivnom. a Ako su čestice nabijene (elektroni ili šupljine) tada se za elektrone koji su nosioci negativnog naboja izraz za gustoću struje (struja po jedinici površine presjeka) može pisati u obliku: J n = + q ⋅ Dn ⋅ dn . Kako 6 je promjena gustoće čestica po dijelovima prostora prikazanog na slici 2. Slika 2. Takav prirodan proces koji se odvija u svakom prostoru gdje postoji nejednolika gustoća bilo kojih pokretnih čestica naziva se difuzija.1.2) d n promjena (gradijent) gustoće u smjeru osi x.3) 18 . kap tinte u vodi itd. naprijed-natrag). tako da idući od lijeva na desno gustoća opada. Za ilustraciju prikazan je jednodimenzijski prostor podijeljen na šest dijelova. polovina u negativnom smjeru osi x.8.8. električnog polja) nastaje gibanje naboja iz područja veće ka područjima manje gustoće naboja i traje do uspostave jednake raspodjele naboja u cijelom obujmu poluvodiča. d x u kojem je D difuzijska konstanta. a pet udesno.5) 2. Isto razmatranje vrijedi za preostale dijelove obujma. (2.σi =q ⋅ ni ⋅ µ n +µ p ( ). a šest ulijevo. U prostoru označenom brojem 1. itd. difuzijom se širi plin. gore-dolje.1: Ilustracija pojave difuzije u jednodimenzijskom prostoru s nejednolikom gustoćom čestica.8. tada i bez vanjskog utjecaja (npr. tada će rezultantno gibanje tih čestica biti u smjeru desne strane.

2: Difuzijska raspodjela impulsa elektrona. Isti zaključak i razmatranje može se primijeniti na dio 2.3) i (2.a za šupljine J p = −q ⋅ D p ⋅ dp . a q je naboj elektrona.4) U izrazima (2. a u srednjem slobodnom vremenu τ jedna polovina tih elektrona dospjet će u dio 2.8. u pozitivnom smjeru osi x.8.3. analizom neprekinute difuzijske raspodjele uskog impulsa elektrona u jednodimenzijskom prostoru.2. Njeno fizikalno značenje može se razjasniti npr. odnosno za šupljine. može se odrediti iz raspodjele n(x) podijeljene po dijelovima širine koja odgovara dužini srednjeg slobodnog prevaljenog puta  (nema sudara s drugim elektronima). Elektronima u dijelu 1 pripisuje se jednaka vjerojatnost gibanja lijevo i desno. Slika 2.8.8. Slika 2.8. Brzina difuzije elektrona npr. Rezultantni broj elektrona koji prelaze područje s lijeve i desne strane od točke x0 iznosi: 19 . slika 2. slika 2.4) Dn i Dp su difuzijske konstante za elektrone.8. dx (2.3: Podjela difuzijske raspodjele elektrona po dijelovima dužine  .8. Difuzijska konstanta obično se određuje mjerenjem pri nekoj temperaturi. a može se i izračunati ako su poznati određeni parametri.

7) Za male priraste ∆ x (tj.  ∆x (2.10) U izrazima (2. U (2. 2.) može se pisati u obliku: φn ( ) (x) = 2 ( ) ⋅ dn(x) .9.9) Za difuzijsku gustoću struje šupljina može se napisati sličan izraz: dp dp  J pdif = − q ⋅ D p ⋅  = −q⋅ D p ⋅ .  dx dx 2⋅ τ u izrazu (2. Difuzijsko i driftno gibanje Ako se na poluvodič u kojemu postoji nejednolika raspodjela gustoće elektrona i šupljina priključi i električno polje.8.8. male vrijednosti srednjeg slobodnog puta prije raspršenja zbog međusobnog sudaranja) relacija (2. prikazana je raspodjela gustoće elektrona n(x) i šupljina p(x) s opadajućim vrijednostima u pozitivnom smjeru osi x i priključenim električnim poljem u smjeru osi +x.1. difuzijska konstanta u +x smjeru ima manju vrijednost.8.8.10. Gustoća struje elektrona jednaka je umnošku brzine gibanja elektrona i naboja koji nose: dn dn  J ndif = − − q ⋅ D n ⋅  = + q ⋅ D n ⋅ . te su ujedno ucrtani smjerovi odgovarajućih sastavnica struje.) označava se kao difuzijska konstanta (za elektrone) Dn. 20 .9. slika 2.8.8.8.9.6. Brzina protjecanja elektrona po jedinici površine u smjeru osi +x jednaka je: φ n (x) =  ⋅ ( n1 − n2 ) 2⋅ τ (2.8) Veličina ( ) slučaju gibanja u tri dimenzije.   dx dx (2.9. nastaje difuzijska i driftna struja elektrona i šupljina.) uočava se suprotan predznak struje šupljina i elektrona upravo zbog suprotnog naboja koji te čestice nose.8. n(x) − n(x + ∆x) ⋅ lim =− 2⋅ τ ∆x→0 ∆x 2⋅ τ d x 2 2 (2. Na slici 2. razlika u gustoći elektrona n1 .1 1 ⋅ ( n1 ⋅  ⋅ A ) − ⋅ ( n2 ⋅  ⋅ A ) 2 2 (2. Ukupna struja jednaka je zbroju driftne i difuzijske sastavnice.9.6) Budući da je srednji slobodni put  upravo mala diferencijalna dužina.8. Slika 2.8.5) gdje je A površina presjeka kroz koji prolaze elektroni.8.1: Smjerovi driftne i difuzijske sastavnice struje šupljina i elektrona u poluvodiču.1.) i (2.n2 može se izraziti u obliku derivacije: n1 − n2 n(x) − n(x + ∆x) = .

12⋅ 1017 2.9.72 21 1.µ min  N  1+   N ref  α +µ min (2. Difuzijska struja elektrona ima suprotan smjer od onoga koji ima difuzijska struja šupljina zbog toga što su isti smjerovi difuzijskog gibanja elektrona i šupljina.23⋅ 1017 1430 460 80 45 . Elektroni se pod utjecajem električnog polja gibaju u smjeru suprotnom onom od gibanja šupljina.10.1) (2. difuzijska i driftna sastavnica struje šupljina se zbrajaju.1) .9..10.1. mogu se napisati jednadžbe za gustoću ukupne struje elektrona i šupljina: J n (x) = q ⋅ µ n ⋅ n(x)⋅ E(x) − q⋅ D n ⋅ dn(x) dx d (x) p d x (2. nosilac elektron šupljina N ref c −3 m min maks [ ] µmks c 2V −1s−1 µm c 2V −1s−1 m m a in [ ] [ ] α 0.1.10. u kojemu je N ukupna gustoća svih ioniziranih primjesa. [6]. a vrijednost parametara µ α i Nref dane su u tablici 2. driftna i difuzijska struja šupljina imaju pozitivan smjer. driftna sastavnica elektrona ima isti smjer kao i driftna sastavnica šupljina.1.µ . Pri tome ukupna struja može biti struja elektrona ili struja šupljina što ovisi o odnosu veličina njihovih gustoća. ako se razmatra samo utjecaj gustoće primjesa pri temperaturi T = 300 K. Analiza pokretljivosti nosilaca može se provesti po njenim sastavnicama. zbog negativnog gradijenta gustoća. Uglavnom se razmatraju tri sastavnice pokretljivosti: -pokretljivost određena fononskim raspršenjem -pokretljivost određena ionskim raspršenjem u međusobnom djelovanju nosilaca i ioniziranih primjesa -pokretljivost određena raspršenjem koje je posljedica međusobnih sudara nosilaca Za određivanje pokretljivosti elektrona i šupljina. Kako smjeru gibanja negativnog naboja odgovara suprotan smjer gibanja pozitivnog naboja. a pri tome se svaka sastavnica odnosi na odgovarajući efekt raspršenja. a te iste sastavnice struje elektrona se oduzimaju.Prema prihvaćenom dogovoru o pozitivnom smjeru električne struje (smjer gibanja čestica koje nose pozitivan naboj). Pokretljivost nosilaca Na pokretljivost nosilaca u poluvodiču utječu različiti efekti zbog međusobnog djelovanja nosilaca s ioniziranim atomima primjesa (ionsko raspršenje). te prema ucrtanom smjeru vektora električnog polja.9. Sukladno slici 2. može se upotrijebiti izraz naveden u literaturi [5]: µ= µ maks . s kristalnom rešetkom (fononsko raspršenje).72 0.9.2) J p (x) = q ⋅ µ p ⋅ p(x)⋅ E(x) + q ⋅ D p ⋅ Sukladno slici 2. o iznosu i smjeru električnog polja te o gradijentu gustoća šupljina i elektrona. 2. te međusobnih sudara samih nosilaca.

prikazane su energijske razine za nedegenerirani nehomogeni poluvodič n-tipa u kojemu je gustoća donora na lijevom kraju (x=0) veća od one na desnome kraju (x=w).Tablica 2.1: Parametri za određivanje pokretljivosti nosilaca u siliciju u ovisnosti o gustoći primjesa.  k⋅ T  (2. Zbog gradijenta gustoće u nehomogenom poluvodiču postoji električno polje čiji je smjer djelovanja suprotan difuzijskom gibanju nosilaca.12. a razlika energijskih razina EC .2) J p = q ⋅ p0 ⋅ µ p ⋅ F + q ⋅ D p ⋅ Ravnotežna gustoća elektrona n0. 2. odnos pokretljivosti nosilaca i difuzijske konstante Relacija koja povezuje pokretljivost nosilaca naboja i difuzijsku konstantu može se dobiti analizirajući gibanje naboja u poluvodiču u kojem gustoća primjesa nije jednoliko raspodijeljena (nehomogeni poluvodič). 22 .12.3) koji se može primijeniti i na nehomogeni poluvodič.10. ND0> NDW.Ef se izrazi u ovisnosti o koordinati x s pomoću potencijalne energije elektrona: E C − E f = −q ⋅ U(x) (2.12. a položaj Fermijeve razine u zabranjenoj vrpci nije stalan.4) gdje je (-q) naboj elektrona.1. Na slici 2.1: Energijske razine u nehomogenom poluvodiču n-tipa u ravnoteži. T = 300 K.12. a U(x) električni potencijal.2. Slika 2.1) (2. dx (2.12. Einsteinova relacija. slika 2.12.12. U uvjetima ravnoteže ukupna struja u nehomogenom poluvodiču je jednaka ništici: J n = q ⋅ n0 ⋅ µ n ⋅ F + q ⋅ Dn ⋅ dn0 =0 dx dp0 = 0.12. u homogenom nedegeneriranom poluvodiču n-tipa određena je izrazom:  E − Ef  n0 = N C ⋅ exp − C .

a ET u elektronvoltima. nakon kraćenja istovrsnih veličina.2.12. q (2.12. Prema tome definirane su granice integracije izraza (2. q (2.6) u (2. d x (2.7) dobiva se jednadžba: q dU(x)  dU(x) q ⋅ n0 ⋅ µ n ⋅  − ⋅ = 0. (2.5) iz kojega proizlazi i gradijent gustoće n0 po koordinati x: dn0 q q dU(x)  q ⋅ U(x) dU(x) = ⋅ N C ⋅ exp = n0 ⋅ ⋅ ⋅ . a u točki x = 0 neka je vrijednost potencijala U0.12.12. Izraz (2.6): 23 .12.8) iz koje.10) Promatra li se raspodjela potencijala u nehomogenom poluvodiču u ravnotežnom stanju s energijskim razinama prikazanim na slici 2. Veličina k⋅ T/q = UT ima dimenziju volt pa se naziva naponski temperaturni ekvivalent..  k⋅ T  dx k ⋅ T dx k ⋅ T dx (2.12. UT je po brojčanoj vrijednosti jednak energijskom temperaturnom ekvivalentu ET.12.12.6) Uvrštavanjem izraza (2.9mV. Pri temperaturi T = 300K naponski temperaturni ekvivalent iznosi UT = 25. a u točki x = w. F=− d (x) U .12. u točki x = 0. ravnotežna gustoća elektrona iznosi n00.  + q ⋅ Dn ⋅ n0 ⋅   dx k ⋅ T dx k⋅T ⋅ µn = D n .12. naravno. razlika je u jedinicama: UT se iskazuje u voltima.9) kojom je iskazana međusobna povezanost karakterističnih parametara za dva mehanizma provođenja struje u poluvodičima: drifta (preko pokretljivosti nosilaca) i difuzije (preko difuzijske konstante). Na isti način izvodi se Einsteinova relacija za šupljine: k⋅T ⋅ µp = D p .12.3) može se. te zamjenom polja F negativnom derivacijom potencijala po udaljenosti.2: Energijske razine u nehomogenom poluvodiču n-tipa. proistječe poznata Einsteinova relacija. n0w.1). dakle. Za potencijal u točki x = w može se uzeti vrijednost nula (ako se ta točka odabere kao ishodišna ili uzemljenje).Slika 2. prikazati u obliku:  q ⋅ U(x) n0 = N C ⋅ e  − xp   k⋅T  (2.12.

14. rekombinacije elektrona i šupljina.1.12. Što je razlika (prijelaz) u gustoći veća to je i potencijalna razlika veća. koja ovisi o gustoći istovrsnih nosilaca u tim točkama. a odvojeno za elektrone. Nastajanje (generacija) i nestajanje (rekombinacija) fotogeneriranih (ekscesnih) nosilaca može se razmatrati odvojeno za šupljine. u njemu je između bilo kojih dviju točaka uspostavljena potencijalna razlika.3: Raspodjela potencijala u nehomogenom poluvodiču. djelovanjem svjetlosne energije. 2.12. Vrijeme života i poništavanje (rekombinacija) nosilaca Ako se poluvodič. gustoća manjinskih šupljina porast će od ravnotežne a vrijednosti p0n n p0 . prikazana je raspodjela potencijala po cijeloj dužini poluvodiča.12. težeći prvobitnoj ravnotežnoj gustoći n0 odnosno p0. Potencijal u točki x = 0 je pozitivan prema vrijednosti u točki x = w koja je uzemljena. jer su neki elektroni zbog gradijenta gustoće difuzijom prešli na desni kraj poluvodiča.14. q n0W µ n n0w (2. Dakle.12) Sukladno primijenjenom postupku može se napisati izraz za potencijal na bilo kojem mjestu x duž poluvodiča: Ux = Dn n ⋅ ln 0x . nastala povećana gustoća s vremenom opada u procesu međusobnog poništavanja. Najveća vrijednost potencijalne razlike postiže se naglim prijelazom iz područja n-tipa u područje p-tipa poluvodiča. Posljedica te pojave je povećana gustoća vodljivih nosilaca u poluvodiču.12. a h Planckova konstanta) koja je približno jednaka širini zabranjene vrpce dolazi do fotogeneracije elektron-šupljina parova. obasja svjetlošću određene energije h⋅ ν (ν je frekvencija fotona.3. iako je nehomogeni poluvodič u ravnotežnom stanju prema vani električki neutralan. Broj fotogeneriranih n 24 .12.11) iz kojeg proistječe vrijednost za potencijal Uk: Uk = n D n k⋅ T ⋅ ln 00 = n ⋅ ln 00 . a glavnih od n0n na n0n .13) Na slici 2. slika 2. Slika 2. Za takvo nehomogeno poluvodičko ustrojstvo. Daljnja difuzija elektrona je zaustavljena uspostavljenim električnim poljem koje djeluje suprotno njihovom gibanju tako da je struja u poluvodiču jednaka ništici. µn n0w (2. Uklanjanjem izvora svjetla. Npr. u kojemu je ravnotežna gustoća vodljivih nosilaca n0 i p0. u poluvodiču n-tipa.. tzv.k ⋅ T 0w dn0 ⋅ = q n∫ n0 00 n U0 ∫ dU(x) 0 (2. poznato pod nazivom pn spoj može se reći da je temelj svekolike poluvodičke elektronike.

14. slika 2. opada po eksponencijalnom zakonu s vremenskom konstantom τ p koja se zove vrijeme života šupljina. Vrijeme života manjinskih nosilaca nije stalna veličina već ovisi o gustoći primjesa u poluvodiču.14.14.elektrona n0n − n0n zanemariv je prema broju n0n u poluvodiču n-tipa.2. odnosno poništavanje ili rekombinaciju šupljina.14.2: Poništavanje fotogeneriranih šupljina u ovisnosti o vremenu u poluvodiču n-tipa.14.14. pa se može smatrati da je ravnotežna gustoća glavnih nosilaca naboja ostala nepromijenjena.2) Parametar τ n je vrijeme života manjinskih elektrona u poluvodiču p-tipa. Deriviranjem izraza (2. Višak gustoće šupljina. p0n − p0n . Za šupljine u poluvodiču n-tipa: τp = τ p0 N .  τ  dt τp τp  p (2.  t pn − p0n = (p0n − p0n )⋅ e  −  .1) Slika 2.1: Poluvodič n-tipa pod utjecajem svjetla.3) označava opadanje gustoće. xp   τp  (2. Ista zakonitost raspodjele vrijedi i za ekscesne manjinske elektrone u poluvodiču p-tipa:  t nn − n0n = (n0n − n0n ) ⋅ exp −  .1) dobiva se brzina promjene gustoće ekscesnih manjinskih šupljina u poluvodiču n-tipa:  t dpn p − p0n p − p0n = − 0n ⋅ exp −  = − n . Nakon prestanka djelovanja svjetla fotogenerirane manjinske šupljine rekombiniraju se okružene velikim brojem elektrona.14.4) 25 . Na temelju provedenih mjerenja za silicijski poluvodič [8] izvedene su empirijske relacije za određivanje vremena života manjinskih nosilaca. 1+ D N 0D (2. Slika 2.  τn  (2.14.14.3) Predznak (-) u izrazu (2.

15. ( n = 0). te nestajanje nosilaca (rekombinacija). a označava difuzijsku dužinu šupljina. Promjena gustoće nosilaca u jedinici vremena dana je jednadžbom kontinuiteta koja uključuje sva tri navedena efekta preko pripadajućih karakterističnih parametara: vrijeme života. Dp ⋅ τ p dx 2 (2.15.1) svodi se na (2.52⋅ 10-5 s. (F = 0).3) gdje je oznaka Lp uvedena za izraz D p ⋅τp . 2. (F = 0). Konstante A1 i A2 nužno je odrediti iz rubnih uvjeta za poluvodičko ustrojstvo koje se razmatra.2) koja se naziva difuzijska jednadžba je oblika:  x  x pn − p0n = A 1 ⋅ e   + A 2 ⋅ e  −  .14.5) n0 = 1. izraz (2. Jednadžba kontinuiteta Načelna dinamička svojstva vodljivih nosilaca naboja u poluvodiču su: gibanje pod utjecajem električnog polja (drift). ( n = 0). xp  xp   Lp   Lp  (2. dobiva se diferencijalna jednadžba (2. Za elektrone u poluvodiču p-tipa: gdje je τ τn = τ n0 N .15.15. 2 ∂t τp ∂x ∂x (2. jer ako postoji gradijent gustoće u poluvodiču.15.gdje je τ p0 = 3. te ako se zanemari utjecaj električnog ∂t polja. (F = 0). N0D = 7. d2pn pn − p0n = . Za generirane šupljine u poluvodiču n-tipa jednadžba kontinuiteta ima oblik: ∂pn p − p0n ∂ 2pn ∂p =− n + Dp ⋅ − F⋅ µp ⋅ n .15.15.4) 26 .1) koji se u određenim uvjetima može svesti na jednostavnije diferencijalne jednadžbe. ako se pretpostavi da u poluvodiču nema električnog polja. xp  Ln   Ln  (2. Ako se poluvodič razmatra u stacionarnom ravnotežnom stanju (nema promjene ∂p gustoće s obzirom na vremensku varijablu. te ako je gustoća šupljina ∂p stalna s obzirom na koordinatu x.15. Npr.15.1⋅ 1015 cm-3 (T = 300 K). difuzijske konstante i pokretljivosti nosilaca.2) Netočna bi bila pretpostavka da je električno polje jednako ništici.1⋅ 1015 cm-3 (T = 300 K).15.3) s rješenjem ∂x (2. N0A = 7. gibanje od područja visoke gustoće prema mjestu niske gustoće (difuzija). postoji i električno polje.7⋅ 10-5 s. 1+ A N 0A (2.2) koja uključuje efekt rekombinacije i difuzije. Ali utjecaj uspostavljenog električnog polja može se zanemariti u odnosu prema utjecaju difuzije na manjinske šupljine u poluvodiču n-tipa: Opće rješenje jednadžbe (2. Isti izraz vrijedi i za elektrone u poluvodiču p-tipa:  x  x np − n0p = B1 ⋅ e   + B2 ⋅ exp −  .2).

1. Potom slijedi postupak termičke oksidacije kako bi se stvorio tanki zaštitni sloj silicijevog dioksida SiO2. − difuzija primjesa. 3. PN SPOJ 3.1.1. Netočna bi bila tvrdnja da se pn spoj može načiniti jednostavnim spajanjem poluvodiča p i n tipa. slika 3. slika 3. kao što bi se moglo pomisliti na temelju slike 3.2. Dodir (kontakt) p i n tipa poluvodiča moguće je jedino ostvariti posebnim tehnološkim metodama odnosno postupcima planarne tehnologije na siliciju.gdje je oznaka Ln uvedena za izraz D n ⋅ τ n .1 Uvod Izrazita nehomogenost poluvodiča postiže se tako da se monokristalu u jednom dijelu dodaje primjesa akceptora.1.1. Ta dva dijela odvojena su graničnom plohom (ravninom kompenzacije) koja se zove pn spoj ili pn prijelaz. a drugom primjesa donora. Tri su standardna postupka planarne tehnologije: − epitaksijalni rast. 27 . a označava difuzijsku dužinu elektrona.1: Prikaz pn spoja.1. − ionska implantacija. a konstante B1 i B2 su definirane rubnim uvjetima koji vrijede za dotični poluvodič. Slika 3. Epitaksijalni rast (kraće epitaksija) je tehnološki postupak rasta monokristalnog sloja na monokristalnoj podlozi.

9 eV (aktivacijska energija). autoepitaksijalni ili izoepitaksijalni rast. Difuzija primjesa je osnovni tehnološki postupak dobivanja pn spoja koji se obavlja na visokoj temperaturi u zatvorenom sustavu (difuzijskim pećima).1.1.2: pn spoj dobiven epitaksijalnim rastom n tipa na podlozi p tipa. 3. Na slici 3.3: pn spoj dobiven difuzijom primjesa.2. Za razliku od epitaksijalnog rasta difuzija primjesa je selektivan proces jer se obavlja na točno odabranim mjestima na poluvodiču kroz otvor (prozore) u oksidnom sloju na površini silicija.2. za silicij temperatura iznosi oko 600 oC).3.1. prikazan je tipičan pn spoj dobiven difuzijom primjesa donora u podlogu p tipa. a nastala oštećenja se mogu ukloniti kaljenjem na određenoj temperaturi (npr. slika 3. raspodjela primjesa u difuzijskom procesu može se opisati funkcijom pogreške i Gaussovom normalnom funkcijom.1. Raspodjela (profil) primjesa u blizini ravnine kompenzacije ovisi o postupku planarne tehnologije a redovito je neka složena matematička funkcija. Teorijska razmatranja obično se aproksimiraju skokovitim i linearno-postupnim pn prijelazom.6 do 1.1: Skokoviti pn prijelaz. Za pokretanje procesa epitaksijalnog rasta potrebna je energija od 1. a brzina samog rasta ovisi o temperaturi.Slika 3. Ako je podloga različita od epitaksijalnog sloja tada je to heteroepitaksijalni rast.2. 28 . Pri tome implantirani ioni oštećuju kristalnu rešetku. Kada su epitaksijalni sloj i podloga od istog materijala tada je to homoepitaksijalni. Slika 3. Npr. Ionska implantacija je niskotemperaturan tehnološki postupak koji se obavlja uz potencijalnu razliku (∼ 100 kV) pri kojoj je omogućeno prodiranje iona kroz površinu čvrstog tijela. Slika 3. Skokoviti pn prijelaz Izrazita nejednolikost (nehomogenost) raspodjele primjesa u poluvodiču postiže se naglim prijelazom iz područja p-tipa u područje n-tipa.

4. zadire nesimetrično u p i n stranu i naziva se pn barijera. a na prijelazu između ta dva homogena područja razlika u gustoći donora i akceptora mijenja se skokovito.2: Zamišljeno neravnotežno stanje pn spoja. potencijalna energija na barijeri može se izraziti kao: E k = q ⋅ U k = q ⋅ Φ n − q ⋅ Φp (3. Sukladno slici 3. Posljedica je difuzijsko gibanje šupljina iz p u n stranu.3. Slika 3.2. a sjedne i druge strane omeđeno je neutralnim područjima p i n strana. Fermijeve razine na p i n strani nisu izjednačene. dvosloj ili osiromašeno područje. a postoje samo nepokretni ioni akceptora s negativnim nabojem i donora s pozitivnim nabojem. slika 3. sl.2.2.3: Energijski dijagram pn spoja u ravnoteži. a Fermijeve razine izjednače na jednoj i drugoj strani pn spoja. a elektrona iz n u p stranu.P strana je jednoliko onečišćena atomima akceptora.2. a n strana atomima donora. velika je razlika u gustoći istovrsnih nosilaca p0p i p0n. ovisno o gustoći primjesa.2.1) Kontaktna se barijera uspostavlja zbog difuzijskoga gibanja šupljina iz p strane u n stranu.2. U okolišu granične ravnine pn spoja nastaje područje koje zbog pojave poništavanja oskudijeva slobodnim nosiocima. Slika 3. U zamišljenom neravnotežnom stanju pn spoja. prijelazni sloj.2. 3.3. 29 . slika 3. Lijevo i desno od granične ravnine.2. To područje. Ravnotežne gustoći nosilaca na p strani su p0p i n0p. a na n strani su p0n i n0n. (x = 0). Ravnotežno stanje nastaje kada se uspostavi kontaktna energetska barijera Ek. a elektrona iz n strane u p stranu. te n0n i n0p.

2.2. poništava difuzijsku struju većinskih elektrona iz n strane IDn. koja poništava driftnu struju manjinskih šupljina iz n strane.2. Jn = 0): 11 P.2.1. (3. slika 3. uspostavljeno električno polje omogućava protjecanje difuzijske struje većinskih šupljina iz p strane. ali istodobno omogućava prijelaz manjinskih nosilaca (za njih barijera ne postoji). I Dp + I Sp = 0 . Kontaktna energijska barijera proporcionalna je kontaktnom potencijalu (razlici potencijala između p i n strane pn spoja u ravnotežnim uvjetima): E k = −q⋅ U k . koja se za nesimetričan pn spoj ne poklapa s ravninom pn spoja. odnosno šupljina. str.2) (3. elektrona u p stranu i šupljina u n stranu.2. Slika 3. Biljanović.1.3) 3. ISp. Kontaktni potencijal Između neutralne n strane i neutralne p strane je prijelazno područje u kojem postoji intrinsična ravnina 1 . 191.4: Područje barijere pn spoja u ravnoteži. ispunjen je uvjet q⋅ Φ = 0 i intrinsična Fermijeva razina je jednaka Fermijevoj razini kroz prijelazno područje.1: Uz definiciju područja barijere pn spoja.3. elektrona iz p strane u n stranu i šupljina iz n strane u p stranu. Uspostavljeno električno polje F ima smjer od pozitivnih atoma donora prema negativnim akceptorima i zaustavlja prijelaz većinskih nosilaca tj.1. Isto tako driftna sastavnica manjinskih elektrona iz p strane.1.2.2.2.1) Iznos kontaktnog potencijala Uk može se odrediti iz uvjeta termičke ravnoteže (npr. slika 3. 30 . Školska knjiga Zagreb 1996. IDp.1. jednaka ništici. Takvo ravnotežno dinamičko stanje definirano je jednadžbama: I Dn + I Sn = 0. Poluvodički elektronički elementi. za gustoću struje elektrona. U toj ravnini. Budući da je za pn spoj u ravnoteži ukupna struja elektrona. (3. tj. ISn.neutralno područje neutralno područje Slika 3.

2.2.2.2.2) (3.1.1) u kojoj je ρ (x) gustoća naboja u području barijere. 3.2.4) potrebno je provesti u granicama koje određuje područje barijere: od x = -xp do od x = xn. =− 2 dx ε d2Φ q ⋅ N D . q ni (3. Širina barijere Širina barijere pn spoja u ravnotežnom stanju ovisi o gustoći primjesa ND i NA.2. dx (3. slika 3.2.2.2.1.2. Φ(xn ) − Φ(−xp ) = n (x ) k⋅T ⋅ ln 0 n . ε (3.1. − = = 2 d x ε d x (3.2.1. q n0(−xp ) (3.3) (3.2. dx q ⋅ n0 dx Integraciju diferencijalne jednadžbe (3.1.2.1.4) Uz rubni uvjet F(-xp) = 0.2.2.1.2) dobiva se: F(x) = − (3.2. konstanta K1 iznosi: 31 .4) −F = −F = Dn dn0 ⋅ .5) Ako su svi donori i akceptori ionizirani izraz (3.2) a za područje od 0 do xn: − (3.0 = q⋅ n0 ⋅ µ n ⋅ F + q⋅ D n ⋅ dn0 . Za područje barijere od -xp do 0 Poissonova se jednadžba može pisati u obliku: − q⋅ N A d2Φ .2.1. µ n ⋅ n0 dx dΦ k ⋅ T dn0 = ⋅ .2.6) gdje je: n0 (xn ) ≈ N D i n0 (−xp ) ≈ N A .3) Integriranjem jednadžbe (3. a može se odrediti rješenjem Poissonove jednadžbe koja uz zanemarenje gustoća slobodnih elektrona i šupljina u odnosu prema gustoćama ioniziranih donora i akceptora ima oblik: d2Φ d F ρ(x) . a ε permitivnost (dielektrička konstanta) materijala.2.1. = ε dx2 q⋅ N A ⋅ x + K 1.5) može se pisati u obliku: Φ(xn ) − Φ(− xp ) = U k = N ⋅N k⋅ T ⋅ ln A 2 D .2.

11) Konstante integracije K2 i K3 su jednake jer je funkcija raspodjele potencijala neprekinuta (kontinuirana). Uz uvjet: N D ⋅ xn = N A ⋅ xp (3.13) kojim se izriče električna neutralnost cjeline pn spoja.5) te se (3.4) može pisati u obliku: F(x) = − q⋅ N A dΦ =− ⋅ (x + xp ) .15) Ukupna širina barijere jednaka je: 32 . Vrijednost potencijala u točki x = xn iznosi: Φ (xn ) = Φ n = 2 q ⋅ N D x2 q ⋅ N A x p ⋅ n+ ⋅ ε 2 ε 2 (3.2.2.2.2. ε ε (3.2. ε 2 (3.2.12) i jednaka je kontaktnom potencijalu Uk.2.2.2.2.2.2.2.8) Integriranjem izraza (3.14) (3.10) Ako se odabere jedna strana barijere kao ishodišna (npr.2.2.6) Za područje od 0 do xn. jakost električnoga polja dana je izrazom: F(x) = − dΦ q ⋅ N D = ⋅ ( x − xn ) .2.2.2.2.2. (3.7) dobiva se funkcija raspodjele potencijala u području barijere: Φ= Φ=  q ⋅ N A  x2 ⋅ + xp ⋅ x + K 2 . q N A ⋅ (N A + N D ) (3.7) U točki x = 0 električno polje ima maksimalnu vrijednost: Fm = q⋅ N D ⋅ xn q⋅ N A ⋅ xp = . dx ε (3. za konstante K2 i K3 dobiva se: K2 = 2 q ⋅ N A xp ⋅ = K 3. ε  2  (3.2.K1 = − q⋅ N A ⋅ xp ε .2.2. q N D ⋅ (N A + N D ) 2⋅ ε ⋅ U k ND ⋅ .2. Φ (-xp) = Φ p = 0).2. ε  2   −q ⋅ N D  x2 ⋅ − xn ⋅ x + K 3 . dx ε (3. mogu se odrediti širine barijere xn i xp: xn = xp = 2⋅ ε ⋅ U k NA ⋅ .2.2.2.9) (3.6) i (3.

33 .2. slika 3. širina barijere je: dB ≈ xn = 2⋅ ε ⋅ U k .1. Npr ako je NA>>ND.2.1. 3.3. q NA ⋅ ND (3.2. izravno proistječe zaključak: ako je jedna strana pn spoja više onečišćena.2. q⋅ N D (3.2. barijera se proteže na slabije onečišćenu stranu (jednostrani pn spoj).17) Provedeni postupak rješavanja jednodimenzijske Poissonove jednadžbe za područje barijere pn spoja ilustriran je crtežom 3.2.2. : Slika 3.dB = xn − (− xp ) = 2⋅ ε ⋅ U k (N A + N D ) ⋅ .16) Iz uvjeta neutralnosti N D ⋅ xn = N A ⋅ xp .2. PN spoj s priključenim naponom Širina područja barijere pn spoja može se mijenjati promjenom iznosa i polariteta priključenog napona.2.3.2.1: Ilustracija rješenja Poissonove jednadžbe za pn spoj.

3. stoga se taj proces naziva utiskivanje (injekcija) manjinskih nosilaca. slika 3.2) a pri nepropusnoj polarizaciji je povećan. težeći ravnotežnim manjinskim gustoćama. slika 3. Djelovanjem priključenog napona pn spoj prelazi iz ravnotežnog u neravnotežno stanje.3.3. stalno postoji gradijent gustoće s posljedicom difuzijske struje u pn spoju.3.3. Slika 3. zbog efekta rekombinacije.1: Polarizacija pn spoja.2. a elektroni iz n strane na p stranu).Slika 3. Gustoće tih nosilaca uz 34 . UB = Uk + U .2. koji je jednak kontaktnom naponu Uk i njemu superponiranom vanjskom naponu U. Dakle.3. U uvjetima nepropusne (reverzne) polarizacije većinski nosioci ne mogu prelaziti barijeru pa teče struja manjinskih nosilaca (šupljina iz n strane i elektrona iz p strane).3.2. U uvjetima propusne polarizacije napon na barijeri je umanjen upravo za iznos priključenog napona U: UB = Uk − U .2.2.2. Pri propusnoj polarizaciji većinski nosioci pojačano prelaze barijeru na onu stranu gdje su u manjini (šupljine iz p strane na n stranu.2. Slika 3.3. Promjena širine područja barijere pn spoja izravna je posljedica promjene napona na barijeri UB.2: Promjena visine barijera (napona UB) u ovisnosti o polaritetu priključenog napona U. Gustoća utisnutih nosilaca uz rubove barijere ovisi o iznosu priključenog napona (povećana je u odnosu prema ravnotežnoj manjinskoj gustoći) i postupno se smanjuje prema krajevima p i n strane.3: Gustoća manjinskih nosilaca u uvjetima propusne polarizacije pn spoja. (3.1) (3.2.

5) za priključeni napon U može se pisati izraz: U= n(− xp ) k ⋅ T N ⋅N k⋅ T ⋅ ln + ⋅ ln A 2 D q n(xn ) q ni (3. Jp= 0: J n = 0 = q ⋅ n⋅ µ n ⋅ F + q ⋅ D n ⋅ dn .2.2. odnos ravnotežne gustoće manjinskih elektrona i većinskih šupljina na p strani dan je relacijom: n0 (− xp ) = n0p = n2 i NA (3.5. Jp= 0).6) U uvjetima niske injekcije (gustoća manjinskih nosilaca mnogo je manja od ravnotežne gustoće većinskih nosilaca).3.3.3.2.3. iznosi: Φ(−xp ) − Φ(xn ) = Φ p − Φ n = n(−xp ) k⋅ T ⋅ ln . U ravnotežnom stanju pn spoja zamišljene se struje difuzije i drifta međusobno poništavaju (Jn= 0.3.2. Iznosi gustoća tih struja su za nekoliko redova veličina veče od gustoće struje polariziranog (propusno ili nepropusno) pn spoja.2.2. slika 3. a neravnotežno stanje pn spoja može se smatrati približno ravnotežnim (kvaziravnotežnim).2. ali prema krajevima p i n strane teže ravnotežnim razinama.3) Uz pretpostavku da je cijeli narinuti vanjski napon U na samoj barijeri pn spoja. q n(xn ) (3. Pritom su naponi propusne polarizacije umjerenih vrijednosti. te se mogu primjeniti i uvjeti ravnoteže: Jn= 0. Slika 3.3.7) pa se (3. Razlika potencijala u točkama -xp i xn. dx (3.3.2.5: Uz definiciju potencijala na rubovima barijera pn spoja.rubove barijere su manje od ravnotežnih. ukupni napon barijere pri propusnoj polarizaciji jednak je UB= Uk.2.3.4.3. slika 3.4: Gustoća manjinskih nosilaca u uvjetima nepropusne polarizacije pn spoja.6) može pisati kao: 35 .2.3.4) Slika 3. Budući da je: Φp − Φn = U − U k (3.U..

3.11) značajne su pri određivanju rubnih vrijednosti gustoća uz barijeru pn spoja u uvjetima niske injekcije.2.2.9) dobiva se relacija koja povezuje ravnotežnu gustoću manjinskih nosilaca (elektrona).2.5.3. sukladno definicijskom izrazu (3.2.5.  k⋅ T  (3. tvoreći tako ustrojstvo sa svojstvom kapacitivnosti analognoj kapacitivnosti pločastog kondenzatora. Na n strani Q iznosi: Q = q ⋅ N D ⋅ xn . a dominiraju nepokretni negativni ioni akceptora na p strani i pozitivni donori na n strani. a U je narinut napon na barijeri pn spoja.5.11) Relacije (3.3. (3.2. 3. kapacitet dvosloja U području barijere pn spoja gustoće nosilaca su malene (osiromašeno područje).2.5. Barijerni (tranzitni) kapacitet.3) u jednadžbu (3. Kapacitet po jedinici površine određen je izrazom: CT = d Q . širi se područje barijere i mijenja barijerni kapacitet.3.4) iz čega.5.2.3.  k⋅ T  (3.1) gdje je Q naboj po jedinici površine. gustoću elektrona uz rub barijere -xp i narinuti vanjski napon U:  q  np0 = n0p ⋅ exp ⋅ U .5) 36 .2.1) proistječe relacija za barijerni kapacitet pn spoja: CT = ε ⋅ q⋅ N A ⋅ N D .5.2) dobiva se: Q = q⋅ N D ⋅ NA 2⋅ ε ⋅ ⋅ (U k − U ) q N D ⋅ (N A + N D ) (3.8) Ako se pritom uzme u obzir jednakost oznaka: n(xn ) = n0n = N D n(−xp ) = np0 (3.5.2.10) i (3. Cijeli taj prostor ima karakteristike dielektrika na koji se s obje strane nastavljaju relativno dobro vodljiva neutralna p i n područja.2.2. d U (3. Zbog nepropusne polarizacije ioniziraju se akceptori i donori.2.2.2. q q q q (3.2) Uvrštavanjem izraza xn = 2⋅ ε ⋅ (U k − U ) NA ⋅ q N D ⋅ (N A + N D ) (3.5.U= k⋅T k⋅T k⋅T k⋅T ⋅ ln n(−xp ) − ⋅ ln n(xn ) + ⋅ ln N D − ⋅ ln n0p . 2⋅ (U k − U )⋅ (N A + N D ) (3.10) Za šupljine uz rub barijere xn vrijedi ista veza s ravnotežnim manjinskim šupljinama na n strani:  q  pn0 = p0n ⋅ exp ⋅ U .3.

te se izraz (3. Dakle.2.2.5.9).5. može se uzeti da je veći dio napona na barijeri iako postoji pad napona.2. Pri propusnoj polarizaciji navedene su pretpostavke približno točne (npr.2. Npr.2.2.5. 2⋅ U k ⋅ ( N A + N D ) (3.koja se može pisati u skraćenom obliku: CT = CT0 1− U Uk (3. a koje su sadržane u pretpostavci nepokrivenosti nepokretnog naboja (osiromašenosti područja barijere) i protežnosti priključenoga napona isključivo na područje barijere (zbog zanemarivo malog pada napona izvan područja barijere).5. dB (3. b) izmjerena karakteristika. i izvan područja barijere). 37 . Relacija za CT (3.: Slika 3. pri naponu U = U k dobiva se za CT neizmjeran iznos.2.5.5.5) dobiva se jednostavan izraz: CT = (3.8) s relacijom (3.1: Ovisnost barijernoga kapaciteta o naponu: a) teorijska karakteristika. zbog protjecanja struje.9) koji je upravo jednadžba za određivanje kapaciteta po jedinici površine pločastoga kondenzatora.5.5) može upotrijebiti uz određeni oprez.6) gdje je: C T0 = ε ⋅ q⋅ N A ⋅ N D . može se povući formalna analogija između pločastog kondenzatora i područja barijere pn spoja.2.7) Kombinirajući izraz za širinu područja barijere: d2 = B N + ND 2⋅ ε ⋅ (U k − U )⋅ A q NA ⋅ ND ε . prema dobivenom izrazu (3.2.5.2. ali to ne odgovara izmjerenoj vrijednosti na karakteristici CT = f(U) na slici 3.5.5) izvedena je na temelju određenih aproksimacija koje vrijede za pn barijeru u uvjetima nepropusne polarizacije.1.5.

7.2) mogu se upotrijebiti kao rubni uvjeti pri određivanju gustoće struje elektrona u p strani i šupljina u n strani pn spoja.7.7. n'(-xp) = 0.2.2.2.6) Gustoća struje šupljina na n strani određena je njenom difuzijskom sastavnicom: J p = −q ⋅ D p ⋅ dp(x) dp'(x) = −q ⋅ D p ⋅ . povećava se koncentracija šupljina na rubu barijere n strane i elektrona na rubu barijere p strane.7.7.2.7.4) (3.3) dobiva se: x   x  p'(xx ) = A ⋅ e  n  + B ⋅ e  − n  . te izraz za p'(x):  x − x p0 (xn )⋅ sh cn  L      p  q⋅ U   p'(x) = ⋅ e  xp  −1 .1: Rubne vrijednosti povećanih gustoća nosilaca uz barijeru. Povišene gustoće ekscesnih nosilaca iznose:   q⋅ U   n'(−xp ) = n(−xp ) − n0 (−xp ) = n0 (−xp )⋅ e  xp  −1 .7.7.7. Odnos struje i napona pn spoja Uz priključeni napon U kojim je pn spoj propusno polariziran.2.7) 38 .7.7.5) mogu se odrediti konstante A i B.7.5) Iz sustava jednadžbi (3. slika 3.1) (3.4) i (3.2) Izrazi (3. Slika 3. xp  xp   Lp   Lp  x   x  0= A ⋅ exp cn  + B ⋅ exp − cn  .1.  k⋅ T     (3.7.2. L   L   p  p (3.2.2.1) i (3.3.  k⋅ T       q⋅ U   p'(xn ) = p(xn ) − p0 (xn ) = p0 (xn )⋅ e  xp  −1 . Opće rješenje jednadžbe kontinuiteta za ekscesne šupljine u području od xn do xcn ima oblik:  x  x  + B ⋅ e p − .  k⋅ T    xcn − xn     sh  L    p (3.2.2. p'(x) = A ⋅ e  xp x     Lp   Lp  (3.7.2.2.2.3) Uvrštavanjem rubnih uvjeta u (3. Drugi rubni uvjet je iznos gustoće na krajevima pn spoja: p'(xcn) = 0.2.7. dx dx (3.2.

11) Ukupna gustoća struje je.7. dakle: J = J p (xn ) + J n (−xp ) .7.10) Gustoća difuzijske struje elektrona u točki x = -xp jednaka je: J n (− xp ) = q⋅ n0 (− xp )⋅ D n   q⋅ U   ⋅ exp  −1  xcp − xp    k ⋅ T   . d x d x (3.2. (3.2.8) proistječe iz relacije p(x) = p'(x) + pon.8) Jednakost (3.   L n ⋅ th   Ln  (3.7.7.2.2.2.7) dobiva se izraz za gustoću struje šupljina na n strani pn spoja:  x − x q⋅ p0 (xn )⋅ D p ⋅ ch cn  L      p  q⋅ U   J p (x) = ⋅ exp  −1 .2.2.  k⋅ T    xcn − xn     L p ⋅ sh  L    p (3.13) 39 .2.7.2.2: Gustoća šupljina na n strani pn spoja.6) u (3.2. Slika 3.7.7. slika 3.   xcp − xp   x − xn     L n ⋅ t  h  L p ⋅ t  cn  h   Ln   Lp    (3.7.2. Uvrštavanjem (3.7.7.  xcn − xn     L p ⋅ th  L    p q⋅ p0 (xn )⋅ D p (3.9) U točki x = xn gustoća te struje jednaka je: J p (xn ) =   q⋅ U   ⋅ exp  −1  k⋅ T   .7.12) odnosno     q ⋅ p0 (xn ) ⋅ D p     q⋅ n0 (−xp )⋅ D n  q⋅ U  J = − x   ⋅ e p  k ⋅ T  −1 .2.gdje je d (x) d '(x) p p = .

ali se pojačava struja većinskih nosilaca IFp i IFn.14) koji se obično piše u jednostavnijem obliku poznatom kao Shockleyjeva jednadžba:   U  I = I s ⋅ e  xp  −1   UT    (3. xcn − xn = wn .7.2. Ukupna struja kroz pn spoj je u svakom njegovom presjeku ista.2.2. slika 3.   k ⋅T   wp   wn      L n ⋅ N A ⋅ t  h  L p ⋅ND ⋅t   h    Ln   Lp    (3. i  wp   wn   L n ⋅ N A ⋅ t  h  L p ⋅ND ⋅t   h    Ln   Lp    k⋅ T (3.2. Ako su širine neutralnih područja wp i wn p i n strane velike u odnosu prema difuzijskim dužinama Ln i Lp (široka p i n strana). Slika 3.Ako se u (3.7.17) 40 .16) Reverzna struja zasićenja sastoji se od manjinskih nosilaca i proporcionalna je njihovim gustoćama.2. p0 (xn ) = i . a Is reverzna struja zasićenja:     Dp Dn   I s = q ⋅ n2 ⋅S − .7.16) svodi na jednostavniji oblik:  Dn Dp  I s = q ⋅ n2 ⋅ S⋅  i  N ⋅L − N ⋅L  .7. tako da ukupna struja kroz pn spoj ima stalnu vrijednost.7.15) gdje je I = J ⋅ S .13) uvedu supstitucije: n0 (− xp ) = n2 n2 i . a to vrijedi i za struju elektrona koji ulaze na p stranu. Pritom je pretpostavljeno da je neposredno iza barijere na n strani struja šupljina ista kao i na rubu barijere na p strani.   A n D p (3. Od ruba barijere prema dubini p i n područja difuzijske struje IDp i IDn opadaju i nakon udaljenosti koja odgovara difuzijskoj dužini poprimaju male iznose.2. Lp pa se izraz (3. vrijednosti tangensa hiperbolnog približno su jednake jedinici: th wp Ln ≈ 1.3. xcp − xp = wp . th wn ≈ 1.7.7.2.3: Struja i njene sastavnice propusno polariziranog pn spoja.7. a određena je zbrojem difuzijske struje elektrona i šupljina u dvjema različitim točkama (J = J p(xn) + Jp(xp)). U T = q .2. NA ND dobiva se izraz:     Dp Dn    q⋅ U  2 J = q ⋅ ni  − ⋅ e p x  −1 .

Za wp<<Ln i wn<<Lp (uska p i n strana), funkcija tangens hiperbolni može se aproksimirati argumentom:
th wp Ln ≈ wp Ln ; th wn wn ≈ , Lp Lp

pa izraz (3.2.7.16) poprima oblik:
 Dn Dp  I s = q ⋅ n2 ⋅ S⋅  i  N ⋅w − N ⋅w  .   A p D n

(3.2.7.18)

Shockleyjeva jednadžba (3.2.7.15) opisuje strujno-naponsku karakteristiku idealnoga pn spoja, slika 3.2.7.4., i u skladu je s izmjerenim vrijednostima za realni pn spoj tj. poluvodičku diodu, poglavito u području negativnih i umjereno pozitivnih napona.

Slika 3.2.7.4: Strujno-naponska karakteristika poluvodičke diode. Reverzna struja zasićenja Is, teoretski je asimptota funkcije (3.2.7.15) kad napon U → ∞ , a praktički ona poprima konačan iznos već pri negativnim naponima od nekoliko volti. U području propusne polarizacije, struja u početku polagano raste do napona koljena (Uγ = 0.5V za silicijski pn spoj), a zatim naglo raste poprimajući sve veće vrijednosti. Da bi Shockleyjeva jednadžba što bolje opisivala strujno-naponsku karakteristiku stvarne poluvodičke diode, uvodi se korekcijski parametar m, čija vrijednost ovisi o struji kroz diodu, a obično se nalazi u granicama od 1 do 2.
  U   I = I s ⋅ exp  −1 .   m⋅ U T   

(3.2.7.19)

3.2.9. Akumulirani naboj manjinskih nosilaca Na slici 3.2.9.1. prikazan je nagomilani (akumulirani) naboj manjinskih šupljina na širokoj n strani pn spoja. U uvjetima niske injekcije struja šupljina ima difuzijska svojstva, a njihova gustoća pn(x) opada od ruba barijere xn prema kraju poluvodiča xcn, po eksponencijalnom zakonu:
 x − xn  , pn (x) = p0n + (pn0 − p0n ) ⋅ exp −  Lp   

(3.2.9.1)

gdje je pn0 ≡ pn (xn ).

41

Slika 3.2.9.1: Akumulirani naboj na širokoj n strani pn spoja. Za široku stranu pn spoja vrijedi uvjet xcn - xn = wn >> Lp, slika 3.2.9.1. Akumulirani naboj šupljina Qp na n strani određen je izrazom:

Qp = q ⋅ S ⋅

xcn

xn

∫ [ p (x) − p ] ⋅ dx .
n 0n
xcn

(3.2.9.2)

Uvrštavanjem izraza (3.2.9.1) u (3.2.9.2) dobiva se:
Qp = q ⋅ S ⋅ (pn0 − p0n ) ⋅

xn

∫ exp −  

 x − xn   ⋅ dx = Lp  
xcn

 x − xn   = q ⋅ S ⋅ (pn0 − p0n ) ⋅ (−L p ) ⋅ e  − xp = Lp   x
n

    xcn − xn   xn − xn    − e −  = = q ⋅ S ⋅ (pn0 − p0n ) ⋅ (−L p ) ⋅ e  − xp xp  Lp  Lp      1 4 4 2 4 4 3   ≈0  = q ⋅ S ⋅ (pn0 − p0n ) ⋅ L p .

(3.2.9.3)

Struja šupljina jest difuzijska struja određena izrazom:
I dp (xn ) = −q ⋅ S ⋅ D p ⋅ d n (x) p d x x=xn .

(3.2.9.4)

Uvrštavanjem (3.2.9.1) u (3.2.9.4) dobiva se izraz:
I dp (x) = q ⋅ S ⋅ Dp Lp  x − xn   ⋅ (pn0 − p0n ) ⋅ exp −  Lp   

(3.2.9.5)

U točki x = xn struja Idp(x) iznosi:
I dp (x) = q ⋅ S ⋅ Dp Lp ⋅ (pn0 − p0n ) = Qp τp

,

(3.2.9.6)

gdje je τ

p

vrijeme života manjinskih šupljina na n strani.

Na uskoj n strani xcn - xn << Lp , raspodjela manjinskih šupljina približno je linearna, slika 3.2.9.2.

42

Slika 3.2.9.2: Akumulirani naboj na uskoj n strani pn spoja. Jednadžba pravca koji je jednoznačno definiran točkama T2(xn,pn0) i T1(xcn,p0n) glasi:
pn (x) − p0n = pn0 − p0n ⋅ (x − xcn ) . xn − xcn
xcn

(3.2.9.7)

Akumulirani naboj Qp može se odrediti prema izrazu (3.2.9.2):
Qp = q ⋅ S ⋅ (pn0 − p0n ) ⋅

xn x

∫ [ p (x) − p ] ⋅ dx =
n 0n

(p − p0n ) cn = q ⋅ S ⋅ n0 ⋅ ∫ (x − xcn ) ⋅ dx = xn − xcn xn = q ⋅ S⋅  (pn0 − p0n )  x q ⋅ S ⋅ wn ⋅  − x ⋅ xcn  = ⋅ (pn0 − p0n ) . xn − xcn  2 2 x
2
n

xcn

(3.2.9.8)

Difuzijska struja šupljina jednaka je:
I pd = −q ⋅ S ⋅ D p ⋅ dpn (x) p − p0n Qp = q ⋅ S ⋅ D p ⋅ n0 = , dx wn tpr

(3.2.9.9)

gdje je tpr vrijeme proleta manjinskih šupljina kroz usku n stranu:
w2 n tpr = . 2⋅ D p

(3.2.9.10)

3.2.11. Ovisnost reverzne struje zasićenja o temperaturi U relaciji za reverznu struju zasićenja:
 Dp Dn  , I s = q ⋅ S ⋅ n2 ⋅  + i    L p ⋅ n0n L n ⋅ p0p 

(3.2.11.1)

temperaturna je ovisnost uglavnom sadržana u kvadratu intrisične gustoće n2 , dok se i temperaturne promjene ostalih parametara (Dp, Dn, Lp, Ln) mogu zanemariti u odnosu prema n2 , pa se (3.2.11.1) može prikazati kao umnožak neke stalne veličine koja ne ovisi o i temperaturi i intrinsične gustoće:
I = k '⋅n 2 i

(3.2.11.2)

Iz izraza (3.2.11.2) može se izvesti relativna promjena reverzne struje zasićenja o temperaturi:

43

(3.2. uz uvjet U>>UT. dT  E T m⋅ U T  T (3. Linearno-postupan pn prijelaz Za razliku od skokovitog pn prijelaza koji odgovara idealiziranoj predodžbi raspodjele naboja u području barijere.2) po temperaturi. (3. deriviranjem jednadžbe (3.ln I s = ln k'+2⋅ ln ni .2.3.11. dT q Is q  I s  dT (3.1) koja se u području propusne polarizacije. dobiva izraz za naponski temperaturni koeficient: dU m⋅ k I m⋅ k ⋅ T  1  dI s = ⋅ ln + ⋅−  ⋅ . Is ni  ET  T 3. može prikazati u približnom obliku:  U   E − q ⋅ U 3 I = I s ⋅ exp  ≅ K ⋅ T ⋅ exp − G 0 .2.13.4) dI s dn  E  dT = 2⋅ i =  3 + G 0  ⋅ .1) iz koje se.2. uz uvjet U >> U T.2.12.2.12. Gustoća primjesa na p i n strani linearno-postupnog prijelaza može se približno prikazati s pravcem određenim jednadžbom: N D − N A = a⋅ x .2) 3.12.2.13.  m ⋅k ⋅T   m ⋅ UT  (3.11. proistječe izraz za strujni temperaturni koeficient: E dI  U  I =  3+ G0 − ⋅ .2. Ovisnost napona pn spoja o temperaturi U području propusne polarizacije pn spoja. deriviranjem po temperaturi. q Is (3.2. linearno-postupan pn prijelaz je bliže stvarnoj raspodjeli naboja posebno kod prijelaza dubljih pn spojeva. slika 3.1) u kojoj je a nagib raspodjele gustoće. za napon U može se pisati relacija: U = m⋅ k⋅T I ⋅ ln .12.12 Ovisnost struje pn spoja o temperaturi Ovisnost struje o naponu pn spoja dana je Shockleyjevom jednadžbom:   U   I = I s ⋅ exp  −1 .1.    m⋅ U T   (3.3) 3.3) (3.2.3.13.3. 44 .2) Uz stalan napon U.

3.1.1.3.1: Raspodjela primjesa u linearno-postupnom pn prijelazu. 3.3.3.1: Širina barijere linearno-postupnog pn prijelaza.Slika 3..1.3) Za osiromašeno područje linearno-postupnog pn prijelaza u kojemu se gustoća slobodnih elektrona i šupljina može zanemariti u odnosu prema gustoći ioniziranih akceptora i donora.2) pa se kontaktni potencijal može odrediti izravnim uvrštavanjem izraza (3.1.1. Poissonova jednadžba ima oblik: 45 . Budući da nagib raspodjele gustoće primjesa ima istu vrijednost na p i n strani.3. Kontaktni potencijal Kontaktni potencijal za linearno-postupan pn prijelaz može se odrediti na sličan način kao i za skokoviti pn prijelaz.1. to su i širine barijera p i n strane jednake pa je to simetrični pn spoj. širina barijere p i n strane iznosi: xp = xn = dB .1. Slika 3.1.1.2) u izraz za kontaktni potencijal skokovitog pn prijelaza:  a2 ⋅ d2  ND ⋅ NA B U k = U T ⋅ ln = U T ⋅ ln .3.3.2. 2 dB ⋅ a 2 (3. slika 3.3.1.3.3.1) a pripadajuće gustoće primjesa su: ND − NA = (3. n2 4⋅ n2   i i 3. Raspodjela električnog polja i potencijala (3. Sukladno slici 3.

2.3) dobiva se izraz za jakost električnog polja kao funkcija od x.  4⋅ x2  a⋅ q  2 d2  B F(x) = ⋅  x −  = Fmaks ⋅  1− 2  2⋅ ε  2 dB   gdje je Fmaks maksimalna jakost električnog polja: Fmaks = − q ⋅ a⋅ d2 B . 2 ε dx (3.3.3. tj u točki x = q⋅ a⋅ d3 d  B φ B  = φ n = .d2φ ρ⋅ a =− ⋅ x.3.3.1) u području − dB d ≤ x≤ B 2 2 d dφ = 0 za x =± B dx 2 (3.2.5) Nakon integracije izraza 3.2) uz uvjet F= − (3.1.3.3.3.  2 24⋅ ε (3.8) Razlika potencijala u tim točkama upravo je izraz za kontaktni potencijal. 12⋅ ε (3.2. 46 .2. dobiva se raspodjela potencijala: φ(x) = − q ⋅ a  d2 x3  ⋅ B ⋅ x−  .9 može se odrediti širina područja barijere dB i kontaktni potencijal Uk.1 c) Uk = φn − φp = q⋅ a⋅ d3 B .2.2.3.7) a u točki x = − dB 2 3 q⋅ a⋅ dB  d  φ − B  = φ p = − .9) Iz sustava jednadžbi 3.  2 24⋅ ε (3. slika 3.3. 8⋅ ε (3.2.2.3.2.3.2.1 b).1) Integriranjem jednadžbe (3. slika 3.3.4) (3.2.6) dB .2. potencijal iznosi: 2 Na rubovima barijere.2.3 i 3.3. 2⋅ ε  4 3 (3.2.3.4 uz rubni uvjet φ (x)=0 za x=0.3.

c) potencijala Iz jednadžbi 3.2.1: Kontaktni potencijal u ovisnosti o nagibu raspodjele gustoće za Si pri T=300K.Slika 3.2.2.3. (3.9. Slika 3.2.2. pn prijelazu: a) naboja.1.1: Raspodjelau linearno-postupno.10) a širina barijere dB je dana izrazom: 47 .2.3. b) električnog polja.3.3. Ako je na pn spoj narinut vanjski napon U tada je ukupni iznos napona potencijalne barijere određen relacijom: UB = UK − U .3. i 3.3.3. određena je ovisnost kontaktnog potencijala o nagibu raspodjele gustoće te grafički prikazana na slici 3.

1 dobiva se izraz za prijelazni kapacitet CT: CT = S dQ q⋅ S⋅ a⋅ dB  ddB  = ⋅   dU  dU 4 (3.3.11.4. Broj atoma primjese ograničen je najvećim mogućim brojem atoma koji je moguće zamjeniti u kristalnoj rešetki silicija na zadanoj temperaturi (topljivost primjese).3.3. = 2  2  2  8 (3.2. Stoga je nužno atomima primjesa dati dodatnu vanjsku energiju potrebnu za odvijanje procesa difuzije.3.3.3) 3.1. Jedina je razlika u masi čestica i uvjetima odvijanja samog procesa.3. q ⋅a   1 (3. Prijelazni kapacitet CT Ukupan naboj osiromašenog područja linearno-postupnog pn prijelaza iznosi: Q= q  dB   a⋅ dB  q⋅ a⋅ d2 B ⋅  ⋅ . slika 3.2. 48 . Kako je masa atoma primjesa mnogo veća od mase slobodnih elektrona (šupljina) i njihova pokretljivost je manja.dB 12 ⋅ ε 3 = ⋅( U k − U )  .3.3. pa je za d U kapacitet barijernog područja izvedena relacija: u kojemu se diferencijalni kvocijent 1  q ⋅ a⋅ ε 2  3 S .2) d B d može odrediti iz jednadžbe 3.3. C T = S⋅   = ε⋅ 1 ⋅ ( U k − U)  2 dB  (3.3. Ta dodatna energija je u obliku topline u toplinskim pećima gdje se pločice silicija nalaze u plinovitom oblaku primjesa na temperaturi između 900 i 1200 oC. PN spoj dobiven difuzijom primjesa Difuzija primjesa je fizikalno identična difuziji slobodnih nosilaca (elektrona i šupljina).3.11) 3.1) U skladu s općom definicijom kapaciteta (derivacija naboja po naponu) prema jednadžbi 3.3.4.

Slika 3.t) broj atoma primjese koji prođu u jedinici vremena kroz centimetar četvorni površine silicija.4.4. t) = −D ∂N(x. Gustoća primjese u ovisnosti o trajanju difuzije i udaljenosti od površine silicija određena je Fickovim zakonima (prvi i drugi Fickov zakon difuzije). Drugi Fickov zakon proistječe iz difuzijske jednadžbe slobodnih nosilaca u kojoj je izostavljen član za rekombinaciju i generaciju nosilaca jer te pojave ne postoje u procesu difuzije primjesa: 49 .1) gdje je: f(x.1: Ovisnost topljivosti primjesa u siliciju o temperaturi.t) gustoća primjese na udaljenosti x od površine silicija nakon vremena t od početka difuzije. Slika 3. t) ∂x [ cm -2 ⋅ s−1 ] (3.4. Za difuziju samo u smjeru osi x prvi Fickov zakon glasi: f (x.2: Difuzija primjese u silicij kroz otvor u silicijskom dioksidu. D difuzijska konstanta za atome primjese. N(x. Difuzija primjese se obavlja na odabranim mjestima na površini silicija kroz otvore (prozore) načinjene na oksidnom sloju SiO2 kojim je presvučena cijela ploha.2.4. slika 3.

Veličina D ⋅ t u izrazu (3. pri difuziji iz neograničenog izvora.32 3.1.∂N(x.2) uzme neograničena protežnost kristala u x smjeru dobiva se izraz: N (x.50 3.4.90 Tablica 3.51 indij 16.1) i ukupan broj atoma primjese koji prođu kroz jediničnu površinu (1 cm2) poluvodiča do trenutka t: Q(t) = ∫ N(x. Drugi tip je difuzija iz ograničenog izvora pri kojoj nastaje prostorna preraspodjela (redistribucija) atoma primjese predhodno unešenih u silicij u prvom koraku difuzije (predepoziciji).00 3.4.t) iz prvog Fickovog zakona može se odrediti uvrštavanjem izraza (3.4. Funkcija f(x. Ako se kao rubni uvjet u rješavanju parcijalne diferencijalne jednadžbe (3.1. t) = N 0 ⋅ e rfc x 2⋅ D ⋅ t (3.60 3. stoga se naziva difuzijska dužina primjese.2.4.4.3) Isto tako se može odrediti s pomoću izraza (3.60 3.50 3.4. t) ∂ 2N (x. a erfc je oznaka za komplementarnu funkciju pogrešake.50 3.1) gdje je N0 površinska gustoća koja ujedno odgovara i topivosti primjese.69 aluminij 8. ] (3.4. može se odrediti pomoću drugog Fickovog zakona. t)⋅ dt = 0 ∞ 2⋅ N 0 π ⋅ D ⋅ t cm-2 . Difuzija iz neograničenog izvora Gustoća atoma primjese kao funkcija udaljenosti od površine kristala i vremena trajanja difuzije.47 galij 3. To je difuzija iz neograničenog izvora ili difuzija uz stalnu površinsku gustoću. za različite primjese koje se postupkom difuzije unose u silicij.4.1) ima dimenziju dužine. a EA je aktivacijska energija za određenu primjesu.1.2) gdje su parametri D0 i EA dani u tablici 3.1.4.69 arsen 0.1: Vrijednosti parametara D0 i EA za različite primjese. t) = D⋅ ∂t ∂x2 [ cm -3 ⋅ s−1 .1) u diferencijalnu jednadžbu (3.56 kositar 5.1. Primjesa D0 [cm2/s] EA [eV] fosfor 10. [ ] (3. 3. ] (3.4.4.1.1.4) 3.96 bor 10. D0 je hipotetska vrijednost od D pri termodinamičkoj temperaturi T→∞.1.1) te se dobiva tok atoma primjese po Gaussovoj funkciji raspodjele: f (x. Veličina D je difuzijska konstanta određena Arrheniusovim zakonom:  E  D = D 0 ⋅ exp − A   k ⋅ T (3. prilog 2.4. t) = N0 ⋅D  x2  ⋅ e − xp   4⋅ D ⋅ t π⋅ D ⋅ t [ cm 2 ⋅ s−1 . Difuzija iz ograničenog izvora 50 .2) Difuzijski proces može teći uz stalnu površinsku gustoću primjese na površini silicija.1.4.4.1.1.

slika 3. (3.3. (3.4.3. BIPOLARNI TRANZISTOR 4.4.3) Na isti način izveden je izraz za dubinu pn spoja dobivenog difuzijom primjese iz ograničenog izvora: QA xj = 2⋅ D ⋅ t⋅ ln . t) = N D . Dubina pn spoja Određivanje dubine pn spoja dobivenog difuzijom primjese razmotrit će se na siliciju s jednolikom (uniformnom) gustoćom primjese donora ND.4) ND ⋅ π ⋅ D⋅ t 4. Raspodjela gustoće primjese kao funkcija udaljenosti x od površine poluvodiča i trajanja difuzije t određena je Gaussovom raspodjelom koja se dobiva rješenjem jednadžbe drugog Fickovog zakona: N (x.4. površina silicija se prekriva slojem silicijevog dioksida SiO2 kako bi se onemogućilo isparavanje primjese u okolni prostor. To je drugi korak difuzije primjese ili redistribucija. t) =  Q x2  ⋅ e − xp . Na mjestu spoja xj raspodjela gustoća NA(x.3.3.3.1: Prikaz određivanja dubine pn spoja xj.4.4. tada se prvi korak difuzije kojim je unešena količina Q(t) naziva predepozicija.4.4.1) početni (ograničeni) izvor iz kojeg primjesa prodire dublje u obujam poluvodiča.t).4. Rješenjem jednadžbe (3.3. NA0 -1 gdje je erfc oznaka za inverznu komplementarnu funkciju pogreške. Da bi količina primjese Q(t) ostala nepromjenjena.3.4.3.1 Definicija i tehnološka izvedba 51 .t) i ND su jednake: N A (x.1) 3. Nakon oksidacije poluvodič se stavlja u difuzijsku peć u kojoj pri temperaturi od oko 1000 oC primjesa prodire (difundiraja) dublje u obujam poluvodiča.1.1.2) gdje je NA0 gustoća akceptora na površini silicija.1) Ako je difuzija primjese akceptora iz neograničenog izvora tada se položaj x j pn spoja može odrediti iz uvjeta: NA0 ⋅ e rfc xj 2⋅ D ⋅ t = ND . (3.2. u koji se difuzijom unose atomi akceptora s raspodjelom gustoće N(x. π⋅ D ⋅ t  4⋅ D ⋅ t (3. (3.2) dobiva se: N xj = 2⋅ D ⋅ t ⋅ erfc−1 D . Slika 3.4.Ukoliko je ukupan broj atoma primjese određen izrazom (3.

slika 4. manji dio utisnutih nosilaca se poništi (rekombinira) u bazi. tvoreći tako glavnu sastavnicu struje u kolektorskom području.1.1.1. b) npn tip. Bipolarni spojni tranzistor (skračenica BJT od engl.1: Ustrojstvo i simbol za bipolarni spojni tranzistor: a) pnp tip. slika 4. Kao posljedica tehnološkog postupka izvedbe tranzistora velika je razlika u gustoći primjesa između emitera i baze pa je ukupna struja praktički jednaka struji manjinskih nosilaca iz emitera. Ako tranzistor radi kao pojačalo tada je spoj emiterbaza propusno polariziran. Ta pojava nazvana tranzistorski efekt ili bipolarno međudjelovanje dvaju pn spojeva preko zajedničkog uskog područja baze temelji se na mehanizmu utiskivanja (injekcije) manjinskih nosilaca iz emitera. 52 . visina potencijalne barijere je umanjena na emiterskom spojištu upravo za potencijalnu energiju određenu naponom propusne polarizacije q⋅ UBE. U nazivu bipolarni tranzistor sadržana je osnovna značajka ovog elektroničkog elementa. slika 4. mijenja i struja kroz nepropusno polarizirani pn spoj. a spoj kolektor-baza nepropusno. njegovo aktivno djelovanje (prijenos otpora) koje se temelji na sudjelovanju obaju tipova nosilaca naboja (bipolarnih nosilaca tj. S obzirom na tri priključka (emiter. elektrona i šupljina). b). prijenosa (tranzita) tih nosilaca kroz bazu i sakupljanja (kolekcije) na kolektoru. U uvjetima normalne polarizacije (spoj emiter-baza je propusno. U ravnotežnom stanju (uvjeti kada nema priključenog vanjskog napona) na spoju emiterbaza i spoju kolektor-baza postoje samo energetske barijere zbog kontaktnog potencijala. a na kolektorskom spojištu je uvećana za q⋅ UCB. kao poluvodička cjelina pnp ili npn tipa u kojoj se središnji sloj naziva baza (oznaka B). Kako je širina baze relativno malena (manja od difuzijske dužine manjinskih nosilaca u bazi). emiter je degenerirani n tip poluvodiča pa Fermijeva razina zadire u vodljivu energijsku vrpcu.2. Fermijeva razina je blizu valentne vrpce. a u području kolektora je ispod vodljive vrpce što odgovara n tipu poluvodiča s umjerenom gustoćom donorske primjese. odnosno promjenom struje kroz taj spoj.2. tj. baza i kolektor) postoji mogućnost i više načina polarizacije odnosno rada tranzistora. a veći dio dospije u područje kolektora privučen potencijalom nepropusno polariziranog spoja kolektor baza.Naziv tranzistor nastao je kao složenica od dvije engleske riječi: transfer resistor što u prijevodu znači prenjeti otpor. a spoj kolektor-baza nepropusno polariziran). bipolar junction transistor) može se u načelu shvatiti kao ustrojstvo dvaju pn spojeva.1. a druga dva sloja su emiter (oznaka E) i kolektor (oznaka C). a Fermijeva razina je kroz cijelu kristalnu strukturu izjednačena. Slika 4. Pri tome se promjenom napona na propusno polariziranom pn spoju. Za područje baze koja je p tip poluvodiča.1. a). Propusno polariziranim spojem emiter-baza omogućeno je utiskivanje manjinskih nosilaca iz područja emitera u područje baze i obrnuto (ako se radi o npn tranzistoru tada su to elektroni iz emitera i šupljine iz baze). Kako je pretpostavljena gustoća primjese u emiteru iznad 5⋅ 1018cm-3.

3: Definicija područja emitera. Širina osiromašenog područja na emiterskom i kolektorskom spojištu mijenja se u ovisnosti o iznosu priključenog napona i njegovu polaritetu. Slika 4.1.Slika 4. b) i c) u stanju normalne polarizacije.1.2: Energijski i potencijalni dijagrami za npn tranzistor: a) i d) u ravnotežnom stanju. baze i kolektora normalno polariziranog npn tranzistora. wB i wC različite od tehnoloških dimenzija wE0.4.3.1. Tehnološka izvedba bipolarnih spojnih tranzistora može biti u diskretnom (jedan tranzistor) ili u integriranom obliku (više tranzistora ili jedan i više tranzistora s drugim elementima na istoj silicijskoj pločici). Stoga su efektivne širine pojedinih područja wE. 53 . slika 4. wB0 i wC0. slika 4. a najizraženije su promjene u području baze na spojištu kolektor-baza zbog nepropusne polarizacije tog spojišta.1.

Na jako vodljivoj n+ monokristalnoj silicijskoj podlozi (pločici) formira se epitaksijalnim rastom n sloj (epitaksijalni sloj). Zatim se cijela struktura podvrgava procesu oksidacije (nanošenje sloja silicijeva dioksida). te se kroz male otvore (prozore) difuzijom iz ograničenog izvora unosi primjesa tj. Područje emitera obično ima veću gustoću primjesa u odnosu prema bazi.Slika 4. ali je spojeno na aluminijski kontakt preko n+ područja kako bi se uklonilo ispravljačko djelovanje na spoju metal-poluvodič.5: Profil primjese u bipolarnom npn tranzistoru: a) stvarna raspodjela. Aluminijski spoj s n+ područjem. atomi akceptora formirajući tako p područje (područje baze).4: Diskretna izvedba planarnog npn tranzistora. Potom se kroz novi otvor (E) difuzijom iz neograničenog izvora formira n+ područje emitera. gdje je uz stvarnu nejednoliku raspodjelu primjese prikazana i idealizirana jednolika raspodjela sa skokovitim prijelazima. a baza u odnosu prema kolektoru.1.. Slika 4. b) idealizirana sa skokovitim pn prijelazima. 54 .1. Tipična raspodjela (profil) primjese za pojedina područja bipolarnog spojnog tranzistora prikazana je na slici 4. zbog velike gustoće primjese (iznad 5⋅ 1018cm-3) ima omski karakter. Proizvodnja planarnih tranzistora temelji se na metodama planarne tehnologije na siliciju. kao i aluminijski spoj s područjem baze koje je poluvodič p tipa. Kao materijal za kontakt s pojedinim područjima upotrebljava se aluminij jer se dobro vezuje s oksidnim slojem.5.1. Područje kolektora je n tip poluvodiča. dobro odvodi toplinu i ne stvara sa silicijem ispravljački spoj.

uz uvjet ∂nB = 0.2. tada se mogu pisati sljedeće relacije: 55 .8) (4.2.14. a nB0 je toplinska ravnotežna gustoća: nB0 = (4.3.1.2. za efektivnu širinu emitera.) potrebno je odrediti uz uvjete: U  nB ( xE ) = nB0 ⋅ exp BE   UT  (4. slika 4. Profili manjinskih nosilaca i područje rada tranzistora U stacionarnom stanju raspodjela elektrona u bazi npn tranzistora može se odrediti rješenjem jednadžbe kontinuiteta (2.2. a spoj kolektor-baza nepropusno polariziran. baze i kolektora uzete su njihove tehnološke širine wE0.1.2.2. wB0 i wC0.  wB 0  2⋅ sh   L nB  ∆nB ( xE + wB0 ) = nB ⋅ ( xE + wB0 ) − nB0 .2.5) gdje je: A 1B =  w  ∆ nB ( xE + wB0 ) − ∆nB ( xE ) ⋅ exp − B0   L nB  w  2⋅ sh B0   L nB  . (4. (4.2. ∆nB ( xE ) = nB ⋅ ( xE ) − nB0 .7) (4.6) w  ∆ nB ( xE + wB0 ) − ∆ nB ( xE ) ⋅ exp B0   L nB  A 1B = .4.1) koja napisana za manjinske elektrone u bazi.4) U  nB ( xE + wB0 ) = nB0 ⋅ exp BC   UT  u kojima su zanemarene širine osiromašenih područja emiterskog i kolektorskog spojišta. prelazi u oblik: ∂t Dn ⋅ ∂ 2nB nB − nB0 − =0 τ nB ∂x2 n2 i .2. tj.9) Ako je spoj emiter-baza propusno.3) (4.1) gdje je nB gustoća elektrona u bazi.2.2. Sukladno ovim oznakama rješenje jednadžbe poprima oblik:  x − xE   x − xE  nB (x) = nB0 + A 1B ⋅ exp  − A 2B ⋅ exp −   L nB   L nB  (4. N AB (4.2) Rješenje jednadžbe (4.

Gustoća šupljina u emiterskom i kolektorskom području može se odrediti rješenjem jednadžbe kontinuiteta za ta područja: Dp ⋅ ∂ 2pE pE − pE 0 − =0 τ pE ∂x2 (4.2.13) Na slici 4.13) i nelinearna sukladno relaciji (4.1.2.16) 56 .5). tj. prikazana je linearna raspodjela manjinskih elektrona u bazi npn tranzistora sukladno relaciji (4.5) može se aproksimirati linearnim rješenjem nakon razvoja u  x − xE   x − xE  xp  i e − : Taylorov red članova exp L nB   L nB   nB (x) = nB (xE )⋅ wB0 + xE − x . pC 0 = i .15) pC ∂ 2pC pC − pC 0 Dp ⋅ − =0 τ pC ∂x2 gdje je τ pE vriojeme života šupljina u emiteru. Slika 4. (4.U  nB (xE ) = nB0 ⋅ exp BE  .2.14) (4.12) rješenje jednadžbe (4.2. w B0 (4. N DE N DC vrijeme života šupljina u kolektoru. a τ Termičke ravnoteže gustoća određene su izrazima: pE0 = n2 n2 i .1: Raspodjela utisnutih elektrona u bazi npn tranzistora za dvije vrijednosti omjera wB0 LnB .2. treba biti: wB0 << 1 L nB (4.2.2.2.10) (4.2.11) Budući da je za tranzistorski efekt nužan uvjet uske baze.2.2.2.  UT  nB (xE + w B0 ) = 0. (4.

Na slici 4.2. područje zasićenja (spoj emiter-baza i spoj kolektor-baza su propusno polarizirani).2.2.2. normalno aktivno područje (spoj emiter-baza je propusno.Uz rubne uvjete: pE (0) = pE 0 .14) i (4.21)  x + wB0 + xC − x  sh E   L pC   U BE     pC (x) = pC 0 + pC0 ⋅ exp −1 ⋅   .2.18) (4.15) su:  x  sh  L     U BE    pE  + p E 0 ⋅ exp  − 1 ⋅  . te kolektora i baze. Uz navedena tri područja teorijski se razmatra i četvrto područje koji je obrnuto (inverzno) u odnosu prema normalnom aktivnom području (spoj emiter-baza je nepropusno.5).2. baze i kolektora mogu se grafički prikazati na temelju jednadžbi (4.2. Rješenja jednadžbi (4. 3.22).  UT  pC (xE + wB0 + xC ) = pC0 . zaporno područje (spoj emiter-baza i spoj kolektor-baza su nepropusno polarizirani).19) (4. a spoj kolektor-baza nepropusno polariziran).17) (4.22) Ovisno o polaritetu napona priključenog između emitera i baze.2 prikazane su raspodjele za sva četiri područja rada.2.2.  xC   UT    sh L    pC  (4. u načelu se razlikuju tri područja rada tranzistora: 1.  UT    xE   sh  L    pE  p E ( x) = p E0 (4.2. (4.2. 57 .  UT  U  pC (xE + wB0 ) = pC 0 ⋅ exp BC  . (4.21) i (4. Raspodjela utisnutih manjinskih nosilaca u područje emitera. a spoj kolektor-baza propusno polariziran). 2.20) U  pE (xE ) = pE0 ⋅ exp BE  .2.

Slika 4. c) zaporno područje. d) inverzno aktivno područje.2. Stoga je struja koja je proporciionalna nagibu raspodjele elektrona u bazi manja u odnosu prema struji u normalnom aktivnom području. Kvalitativan prikaz ove pojave prikazan je na slici 4. baze i kolektora za: a) normalno aktivno područje.2.3. b) područje zasićenja.2. U području zasićenja je utiskivanje elektrona iz kolektora u suprotnom smjeru od utiskivanja iz emitera.2: Raspodjela utisnutih manjinskih nosilaca u područje emitera. 58 . U normalnom aktivnom području prema slici 4.2. veća gustoća primjese iz emitera rezultira u većem utiskivanju nosilaca u područje baze.

3. Slika 4. U zapornom području teku male zaporne struje jer se mali broj nosilaca utisne u bazu. c) ukupna raspodjela. b) iz kolektora.1: Struje normalno polariziranog pnp tranzistora.1. Za prikazani pnp tranzistor ucrtani su stvarni smjerovi struja koji odgovaraju smjeru gibanja pozitivnog naboja (šupljina).3.3: Raspodjela utisnutih elektrona u bazi npn tranzistora u području zasićenja: a) iz emitera.2.Slika 4. Struja emitera IE je struja propusno polariziranog spoja emiter-baza. baze i kolektora. Struje normalno polariziranog tranzistora Tranzistor ima tri izvoda (elektrode) stoga tri elektrodne struje: emitera. sastavljene od pripadnih šupljinskih i elektronskih sastavnica (slika 4. a sastoji se od dvije sastavnice: 59 . pa se ovo područje samo teorijski razmatra pri određivanju parametara tranzistora. U inverznom aktivnom području se veći broj šupljina utisne u kolektorsko područje nego elektrona u bazu.3. 4. što rezultira u vrlo malom strujnom pojačanju.).

reverzne struje zasićenja ICB0 (struja manjinskih nosilaca nepropusno polariziranog spoja kolektor-baza).11) Približne jednakosti u jednadžbi (4. I R = I p −I p (4.3.3. Struja baze je uglavnom određena strujom šupljina IpE koja teče iz područja baze u emiter. struje elektrona InE (utisnuta struja iz emitera u bazu).3. I E = I p +I n E E (4. struje šupljina IpC (struja IpE umanjena za rekombinacijsku struju IR).3.9) (4.1) znače da se skoro svi elektroni injektirani iz emitera u područje baze difuzijom prenesu do kolektorskog spojišta.3) E C 3. odnosno kolektorskoj struji: I nE = q ⋅ S ⋅ D n ⋅ U  dn B q ⋅ D n ⋅ n B0 ≈ IE ≈ IC ≈ ⋅ exp BE  . struje elektrone InE (elektroni utisnuti iz baze u emiter).3.3.7) (4. koja je posljedica rekombinacije elektrona u bazi i dijela šupljina iz emitera. rekombinacijske struje IR .8) (4.3. 2.3. struje šupljina IpE (šupljine utisnute iz emitera u bazu). 2.1) Sastavnice struje kolektora IC su: 1. slika 4.10) Pri normalnoj polarizaciji npn tranzistora.3. sve struje teku u suprotnom smjeru u odnosu prema strujama pnp tranzistora.3. Struje normalno polariziranog npn tranzistora dane su jednadžbama: I E = I n +I p E E I C = I nC + I CB 0 I R = I nE − I nC I B = I pE + I R − I CB 0 IE = IC +IB (4. dx w B0  UT  (4.4) Struja emitera jednaka je zbroju struje kolektora i struje baze: IE = IC +IB (4. 2. zbog linearne raspodjele gustoće injektiranih elektrona u bazi. Slika 4. reverzne struje zasićenja spojišta kolektor-baza ICB0.3. difuzijska struja elektrona ima praktički stalnu vrijednost i približno je jednaka emiterskoj. a odatle do vanjskog priključka kolektora djelovanjem jakoga električnog polja (zbog nepropusnog napona između kolektora i baze).2. I C = I pC + I CB 0 (4.5) Za npn tranzistor.3.3.6) (4.2: Struje normalno polariziranog npn tranzistora. I B = I nE + I R − I CB 0 (4.1. 60 .3.2) Struja baze IB sastoji se od tri sastavnice: 1.

N DE Tehnološka širina emitera wE0 mnogo je manja od difuzijske dužine šupljina u emiteru (transparentni emiter).4.1.2) β* = I nC I = 1− R (za npn tranzistor) I nE I nE 4.4. može se pisati nejednakost wE0 << LpE.4.1. a definira se kao strujno pojačanje tranzistora u spoju zajedničke baze: I pC IE = I pC I pE ⋅ = β* ⋅ γ = α (za pnp tranzistor) I pE I E (4.1. i ukupne struje emitera: γ= I pE I pE + I nE = I pE IE (za pnp tranzistor) (za npn tranzistor) (4.3.3.1) (4.1) (4.1).3) 61 .12) gdje je p E 0 n2 = i .4. jednadžba (4.2) I nC I nC I nE = ⋅ = β* ⋅ γ = α (za npn tranzistor) IE I nE I E Sukladno definiciji za strujno pojačanje α .2. Prijenosni (transportni) faktor Mjera kvalitete prijenosa definirana je omjerom struje većinskih nosilaca kolektora i struje većinskih nosilaca emitera: β* = I pC I pE = 1− IR I pE (za pnp tranzistor) (4.7) može se pisati kao funkcija IC = f(IE): I C = α ⋅ I E + I CB 0 (4.To je difuzijska struja šupljina koja teče u n tip emitera kao što teče difuzijska struja elektrona u p tip baze.4. šupljina za pnp.1) (4.2.4. Stoga se struja baze može izraziti relacijom: I B ≈ I pE = q ⋅ D p ⋅ S ⋅ q ⋅ D p ⋅ S ⋅ p E0 U  dp E = ⋅ exp  BE  .2) γ= I nE I = nE I nE + I pE IE 4.3.3.2. 4. odnosno (4.3.4. tj. ali je redovito u emiteru mnogo veća gustoća primjese nego u bazi (pE0 << nB0) što znači da je struja baze mnogo manja od struje emitera.4.4. odnosno elektrona za npn tranzistor.3.4. Djelotvornost emitera Djelotvornost (efikasnost) emitera definirana je omjerom struje većinskih nosilaca. Parametri tranzistora 4. Obično je wE0 istog reda veličine kao i tehnološka širina baze wB0.3.4. Strujno pojačanje Omjer struje većinskih nosliaca kolektora i ukupne struje emitera jednak je umnošku djelotvornosti i faktora prijenosa. dx x =x =w w E0  UT  E E0 (4.

4. odnosno emitera. h (4. Budući da je IE = IpE + InE.6.6. tj. 4.1) Struja emitera.3. transparentni emiter. određena izrazom:  D pE D nB I sE = q ⋅ n2 ⋅ S⋅  + i  N AB ⋅ L nB ⋅ th( wB L nB ) N DE ⋅ L pE ⋅ th wE L pE    .2) ( ) (4.4) odnosno  D pE ⋅ N AB ⋅ L nB ⋅ th( wB L nB )   .6.4) u kojoj je β faktor strujnog pojačanja tranzistora u spoju zajedničkog emitera. a baza uska p strana (wB/LnB << 1).6.    k⋅ T   u kojoj je IsE struja manjinskih nosilaca spoja emiter-baza.3) dobiva se funkcija IC = f(IB): IC = I α ⋅ I B + CB 0 = β ⋅ I B + (β + 1 ⋅ I CB 0 ) 1− α 1− α (4. struja diode emiter-baza dana je Shocklyjevom jednadžbom:   q⋅ U BE   I E = I sE ⋅  exp  −1 .6.6.Uvrštavanjem izraza za struju emitera.6. Tada vrijede sljedeće aproksimacije: t (wE L pE ) ≈1.6.4. faktor djelotvornosti jednak je: γ= 1+ 1 D pE N DE ⋅ L pE ⋅ th wE L pE D nB N AB ⋅ L nB ⋅ th( wB L nB ) −1 ( ) .5) Iako je u pravilu kod stvarnih planarnih tranzistora emiter uska n strana. s pridodanim slovima B i E u oznakama odgovarajućih parametara za područje baze. Djelotvornost emitera Djelotvornost emitera na npn tranzistor definirana je kao: γ= I nE I nE = = IE I nE + I pE 1 I pE . (4. teorijski se može razmatrati i slučaj kada je emiter široka n strana (wE/LpE >> 1).3) Jednadžba (4.7) wB .3) je jednadžba reverzne struje zasićenja pn spoja.6. 1+ I nE (4.   (4.6) (4.3. IE = IC + IB u relaciju (4. γ = 1+  D nB ⋅ N DE ⋅ L pE ⋅ th wE L pE    ( ) (4. L nB te se izraz izraz za djelotvornost pnp tranzistora svodi na jednostavniji oblik: th(wB L nB ) ≈ 62 .

9) i (2.7.1) (4.11. Prijenosni faktor baze Za normalno polarizirani npn tranzistor gustoće utisnutih elektrona uz rubove barijera xBE i xBC (slika 4.10).6.1. odnosno može se uzeti da je n'(xBC) ≈ 0.7.7.1: Raspodjela elektrona u bazi normalno polariziranog npn tranzistora.4) 63 .9) Djelotvornost emitera je veća što je veća njegova električna provodnost σ E. djelotvornost emitera može se prikazati kao funkcija električne provodnosti emitera i baze: γ= 1 σ B ⋅ wB .6. xp xp  Ln   Ln  (4.7.: (4.11.3) dane su izrazima:   q⋅ U BE   n'(xBE ) = n0B ⋅  exp  −1    k⋅ T     q⋅ U BC   n'(xBC ) = n0B ⋅  exp  −1    k⋅ T   u kojima je n0B ravnotežna gustoća elektrona u području baze.7. stoga je gustoća dodanih primjesa u emiteru uvjek veća od gustoće primjesa u bazi. slika 4.7.2) Slika 4. 1+ σ E ⋅ L nE (4.7. Opće rješenje jednadžbe kontinuiteta za područje baze od ruba barijere xBE do xBC je:  x  x n'(x) = A ⋅ e   + B ⋅ e  −  . D ⋅ N DB ⋅ wB  γ = 1+ nE  .3) gdje su A i B konstante određene rubnim uvjetima: n'(xBC) ≈ 0.8) S pomoću Einsteinove relacije (2.1. Spoj kolektor-baza je nepropusno polariziran naponom koji je po iznosu mnogo veći od vrijednosti k⋅ T/q stoga je n'(xCB) približno jednako ravnotežnoj koncentraciji n0B.    D pB ⋅ N AE ⋅ L nE  −1 (4. (4. 4.

tranzistorski efekt prestaje.  q⋅ U BE   za x = xBE. bitna značajka tranzistora.10) poprima male vrijednosti.8) a za x = xBE. faktor prijenosa prema izrazu (4. slika 4. wB 1+ 2 2⋅ L nB * (4. to je prijenos nosilaca iz emitera kroz bazu do kolektora djelotvorniji. ch B   L nB  2 (4.6) Deriviranjem izraza za n'(x) dobiva se gradijent gustoće: dn '( x ) n 0 B ⋅ ch[ ( x BC − x ) L nB ]   q ⋅ U BE   = ⋅ exp  −1 .7.7.7. te u graničnom slučaju kada β * → 0.7. za faktor prijenosa može se pisati približan izraz: 1 1 w  β = ≈ 1− ⋅  B  2 2  L nB  . a tranzistor se može prikazati kao dvije nasuprot spojene diode.5) n'(x) = n0B ⋅ sh[ (xBC − x) L nB ]   q⋅ U BE   ⋅  exp  −1 . uz utiskivanje iz emitera i sakupljanje na kolektoru. a to znači da mali dio utisnutih elektrona dolazi na kolektorsko spojište.10) Uz uvjet wB << LnB (usko područje baze). Dakle.7.7.2.7) n 0B = q ⋅ S ⋅ D nB ⋅ L nB ⋅ sh( w B L nB )   q ⋅ U BE   ⋅ exp  − 1   k⋅T   . n'(x) = n'(xBE ) = n0B ⋅  exp  −1    k⋅ T   Uvrštavanjem navedenih rubnih uvjeta u jednadžbu (4. (4.9) Omjerom struja InC/InE definiran je faktor prijenosa: β* = w  1 = sch B  w   L nB  .7. (4.7. za postizanje tranzistorskog efekta treba biti ispunjen uvjet w B << Ln (za npn tranzistor) iz kojeg proistječe i granična (najmanja) vrijednost širine baze.7. 64 .7. difuzijska struja InE:  dn '( x )  I nE = q ⋅ S ⋅ D nB ⋅    dx  = x = x BE n ⋅ ch ( w B L nB )   q ⋅ U BE   = q ⋅ S ⋅ D nB ⋅ 0 B ⋅ exp   −1  k ⋅T   L nB ⋅ sh ( w B L nB )   .  sh(wB L nB )   k⋅ T   (4. Za w B >> LnB.3) dobiva se: (4. dx L nB ⋅ sh[ ( w B ) L nB ]   k ⋅ T     kojim je za x = xBC određena difuzijska struja InC:  dn '( x )  I nC = q ⋅ S ⋅ D nB ⋅    dx  = x = x BC (4. pa se može kazati da je kvaliteta prijenosa nosilaca.11) Što je baza uža u odnosu prema difuzijskoj dužini manjinskih nosilaca.

Naime pri gustoćama primjese veličine od oko 1019cm-3 i većima mijenjaju se fizikalna svojstva materijala. 65 .1) može se zaključiti da se veći β postiže povećanjem razine gustoće primjese u emiteru NDE.1) Budući da je NDE >> NAB redovito je faktor β >> 1.2.12)definiran je faktor strujnog pojačanja β kao omjer struje kolektora i struje baze kad je tranzistor spojen na način da mu je emiter zajednička elektroda. takav zaključak se u praksi pokazao netočnim što se tumači degeneriranim svojstvima poluvodiča. Kako je pokretljivost elektrona veća od pokretljivosti šupljina (∼ 2. u spoju zajedničkog emitera: β= I C D n ⋅ N DE ⋅ wE = .3.1) za intrinsičnu gustoću nedegeneriranog poluvodiča u koji je uvršteno smanjenje energijskog procijepa:  E − ∆EG  ni2deg = N V ⋅ N C ⋅ exp − G = k ⋅T   ∆E  E   ∆E  = N V ⋅ N C ⋅ exp − G  ⋅ exp G  = ni2 ⋅ G . smanjuje se energijski procijep za iznos ∆ EG koji se može odrediti pomoću izraza (2. I B D p ⋅ N AB ⋅ wB (4. Nažalost. Prema relaciji (4. k ⋅T  k ⋅T   k ⋅T  (4.8. Omjer Dn/Dp može se izraziti kao omjer pokretljivosti elektrona i šupljina µ n/µ p. tj. 4.7.3) Ovisnost faktora strujnog pojačanja β o razini gustoće primjese NDE za određenu vrijednost gustoće NAB prikazana je na slici 1.8.8.3.5 puta za silicij) to je i faktor β npn tranzistora veći od faktora β pnp tranzistora.1).8. Faktor strujnog pojačanja β Prema relacijama (4.8. tj.3.11) i (4. Smanjenjem energijskog procijepa nastaje povećanje intrinsične gustoće u emiteru ni deg koja se može odrediti iz izraza (2.4. D p ⋅ N AB ⋅ wB  k ⋅T  (4. za temperaturu T = 300 K i T = 280 K.2: Prikaz tranzistora s dvije diode kad je širina baze veća od difuzijske dužine nosilaca.Slika 4.2) gdje je ni intrinsična gustoća nedegeneriranog poluvodiča. Budući da je gustoća utisnutih šupljina u područje emitera proporcionalna veličini nideg/NDE za faktor strujnog pojačanja β može se pisati izraz koji uključuje efekt degeneriranog emitera: β= Dn ⋅ N DE ⋅ w E  ∆E G  ⋅ exp − .

.2) Gustoća difuzijske struje elektrona u bazi tranzistora dana je izazom: 66 . slika 4. svesti na jednostavniji oblik: n'(x) − n'(xBC ) = n'(xBE ) n'(xBE ) ⋅ (x − xBC ) = ⋅ (x − xBC ) . sukladno uvjetu n'(x BE) >> n'(xBC) ≈ 0.1. xBE − xBC − wB (4.9.8.1: Ovisnost faktora strujnog pojačanja β o gustoći primjese u emiteru. 4.1.9. xBE − xBC (4.9.9.1) Linearna funkcija raspodjele (4.9.9.Slika 4. Sukladno slici 4.1) može se.1: Raspodjela manjinskih nosilaca u bazi npn tranzistora. Vrijeme proleta nosilaca kroz bazu Raspodjela gustoća manjinskih nosilaca u bazi tranzistora može se zbog uskog područja baze približno prikazati pravcem. Slika 4.9. pravac kroz točke T1 i T2 jednoznačno je određen jednadžbom: n'(x) − n'(xBC ) = n'(xBE ) − n'(xBC ) ⋅ (x − xBC ) .

3) u kojemu je v(x) brzina nosilaca kroz bazu. Primjer za npn tranzistor prikazan je na slici 4.4) dobiva se: x − xBC x2 tpr = − ∫ ⋅ dx = − D nB 2⋅ D nB xBE 2 BC 2 BE 2 BC xBC xBE x + BC ⋅ x = D nB x BE x x x x − xBE (xBC − xBE )2 w2 B =− + − − BC = = 2⋅ D nB 2⋅ D nB 2⋅ D nB D nB 2⋅ D nB 2⋅ D nB (4. Ako je spoj emiter-baza propusno polariziran naponom stalne vrijednosti.4) Uvrštavanjem izraza za brzinu iz (4. dx wB (4.10..9. Ta promjena efektivne širine ili modulacija baze naziva se Earlyjev efekt.1: Prikaz Earlyjevog efekta za npn tranzistor. tj smanjuje se efektivna širina baze.9.6) Dobiveni izraz za vrijeme proleta nosilaca kroz bazu identičan je izrazu izvedenom za usku n stranu pn spoja.J nB = q⋅ D nB ⋅ dn'(xBE ) dn'(x) ≈ −q⋅ D nB ⋅ = −q⋅ n'(x)⋅ v(x) .10.9.9.10.1.3) v(x) = D nB n'(xBE ) D nB ⋅ =− wB n'(x) x − xBC xBC xBC (4.9. 4. 67 .5) u (4.9. Earlyjev efekt Porastom napona nepropusne polarizacije na pn spoju povećava se širina područja barijere koja se u pravilu širi na slabije onečišćenu stranu. područje barijere na kolektorskom spojištu se povećava. U skladu s definicijom za brzinu v(x) = bazu: xBC d x može se odrediti vrijeme proleta nosilaca kroz d t tpr = xBE ∫ d x . Slika 4. v(x) (4. Isti efekt nastaje u bipolarnom tranzistoru na nepropusno polariziranom spoju kolektor-baza. povećanjem napona nepropusne polarizacije na spoju kolektor-baza.

punchthrough).3) u (4.1) 2 * 1 w  I R = I nE ⋅ (1− β ) = I nE ⋅ ⋅  B  2  L nB  I nE = S⋅ q⋅ nB0 ⋅ D nB wB (4.8. prikazan je tzv. Nadalje povećava se nagib (gradijent) raspodjele gustoće manjinskih nosilaca u bazi (elektrona.). Na slici 4. I C + αN ⋅ I F − I R = 0. Posljedica Earlyjevog efekta očituje se u promjeni gustoće i nagibu raspodjele gustoće manjinskih nosilaca naboja u bazi.Pri većim iznosima napona nepropusne polarizacije kolektor-baza UCB.20) (4.2) (4.10.10.21)  U   I F = I ES ⋅  exp EB  − 1 .4) 4.1.10. što izravno utječe na povećanje faktora strujnog pojačanja (jednadžba 4.19) (4.10.10. (4. injekcijski Ebers-Mollov model u kojemu su struje strujnih izvora proporcionalne strujama kroz diode.11. Navedene se pojave mogu iskazati jednadžbama: I R = I nE − I nC (4.11. Sklop na slici 4.11.2.2) izraz za rekombinacijsku sastavnicu struje baze poprima oblik: IR = S⋅ q⋅ nB0 ⋅ D nB 1 w2 S⋅ q⋅ nB0 ⋅⋅wB QnB ⋅ ⋅ B = = wB 2 L nB 2⋅ τ nB τ nB (4. Smanjenjem efektivne širine baze umanjuje se i vjerojatnost poništavanja manjinskih nosilaca u bazi pa prema tome i rekombinacijska sastavnica struje baze.10.11.11.11. opisan je jednadžbama: I E + α I ⋅ I R − I F = 0.11.3) Uvrštavanjem jednadžbe (4. te se povećava elektronska sastavnica struje emitera koja je proporcionalna nagibu raspodjele gustoće. ako se radi o npn tranzistoru).2: Injekcijski Ebers-Mollov model za pnp tranzistor. Slika 4. Ebers-Mollove jednadžbe i model tranzistora Ebers-Mollov nadomjesni sklop tranzistora sastiji se od dvije diode i dva zavisna strujna izvora. . efektivna širina baze može poprimiti iznos nula pri ćemu nastaje naponski proboj tranzistora (engl.    UT   68 .2.

22) mogu se struje IE i IC izraziti kao funkcije napona UEB i UCB:  U    U   I E = I ES ⋅  exp EB  − 1 − α I ⋅ I CS ⋅  exp CB  − 1 .19) do (4. I C + α N ⋅ I E − I ''= 0.31) mogu se struje IC i IE izraziti kao funkcije napona UEB i UCB: IE =   U   α ⋅I  U   I EB0 ⋅  exp EB  − 1 − I CB0 ⋅  exp CB  − 1 . (4.     UT     UT    U    U   I C = − α N ⋅ I ES ⋅  exp EB  − 1 + I CS ⋅  exp CB  − 1 .   UT    (4.29) (4. Slika 4.11. a spoj kolektor baza propusno).31) Iz sustava jednadžbi (4.11.11.11.28)-(4.23) (4.    UT   (4.32) 69 .11. Iz sustava jednadžbi od (4.3. α N (alfa normalno) je strujno pojačanje tranzistora u spoju zajedničke baze za normalno aktivno područje.24) Ebers-Mollov model u kojemu su struje strujnih izvora proporcionalne vanjskim (elektrodnim) strujama tranzistora prikazan je na slici 4. Sklop na slici 4.28) (4.11.30)  U   I '= I EB 0 ⋅ exp EB  − 1 . može se opisati jednadžbama: I E + αI ⋅ I C − I '= 0. U   I R = I CS ⋅  exp CB  − 1 .   1− α N ⋅ α I   U T   1− α N ⋅ α I   U T   (4.11.11.3: Ebers-Mollov model pnp tranzistora.   UT     U   I ''= I CB 0 ⋅  exp CB  − 1 .11.11.11.11.11.22) Faktor α I (alfa inverzno) je strujno pojačanja tranzistora u spoju zajedničke baze kad tranzistor radi u inverznom aktivnom području (spoj emiter baza je nepropusno polariziran.3.11.   UT     UT   (4.11.

4.   UT     UT    U    U   I C = α N ⋅ I ES ⋅ exp BE  − 1 − I CS ⋅ exp BC  − 1 .11.1.11.IC = − α N ⋅ I EB0 1− α N ⋅ α I  U   I CB0 ⋅  exp EB  − 1 +    U T   1− α N ⋅ α I  U   ⋅  exp CB  − 1 .24) mogu se napisati relacije koje međusobno povezuju različito definirane reverzne struje zasićenja emiterskog i kolektorskog spojišta tranzistora: I ES = I CS = I EB 0 . slika 4.11.37) Naponima na emiterskom i kolektorskom spojištu određene su i gustoće manjinskih nosilaca na rubovima barijere tih spojišta.4: Ebers-Mollov model npn tranzistora.33) s (4.12.11.33) Uspoređujući jednadžbe (4. Područja rada tranzistora (4. s obzirom na polaritet tih napona.11.11.36) (4. mogu zorno prikazati četiri područja rada raspodjelom gustoća manjinskih nosilaca u bazi tranzistora.11. 1− α N ⋅ α I (4.34) (4.23) i (4.   UT   (4.11.11. Slika 4. slika 4. 70 .35) U Ebers-Mollovom modelu npn tranzistora strujni izvori i struje dioda imaju suprotan predznak u odnosu prema strujama pnp tranzistora.12.   UT     UT   4. Sukladno sklopu prikazanom na slici 4.11. mogu se napisati Ebers-Mollove jednadžbe za npn tranzistor:  U    U   I E = − I ES ⋅ exp BE  − 1 + α I ⋅ I CS ⋅ exp BC  − 1 . a zbog npn ustrojstva promjenjeni su i polariteti napona na spoju emiter-baza i kolektor-baza.4.11. 1− α N ⋅ α I I CB0 . Stoga se.32) i (4.11.

− I CB 0 (4.12.12.6) (4.zasićenje. (4.zapiranje.12. − I EB 0 I C + α N ⋅ I E − I CB 0 .37) izvedeni su izrazi za napone UBE i UBC: U BE = U T ⋅ ln U BC = U T ⋅ ln I E + α I ⋅ I C − I EB 0 .Slika 4.12.4) odnosno I C = −α N ⋅ I E + I CB 0 .12.11.: 71 . iz jednadžbi za npn tranzistor (4.1: Područja rada npn tranzistora: "1" . "2" .36) i (4. 2.37).7) Napon između kolektora i emitera UCE jednak je razlici napona UBE i UBC.1) (4.12.    UT    U   I C = α N ⋅ I ES ⋅  exp BE  − 1 + I CS . Područje zasićenja definirano je naponima kojima su propusno polarizirana oba spojišta. Za inverzno aktivno područje izvedena je relacija iz Ebers-Mollovih jednadžbi uz uvjet UBE < 0 i UBC >> UT.2) pomoću kojih se može odrediti funkcija IC = f(IE) za normalno aktivno područje: (4. slika 4.12. UBE > 0 i UBC > 0. (4.: I E = −α I ⋅ I C + I EB 0 .12. "3" . Sukladno tim uvjetima iz relacija (4. dobivaju se relacije:  U   I E = − I ES ⋅  exp BE  − 1 − α I ⋅ I CS . Sukladno Ebers-Mollovim jednadžbama prikazana četiri područja rada tranzistora mogu se odrediti analitičkim izrazima: 1.11. uz uvjet UBE >> UT.36) i (4. UBC < 0.11.3) (4. Za normalno aktivno područje.inverzno aktivno.12.11.normalno aktivno.2.    UT   I C = −α N ⋅ I E + I CS ⋅ (1− α N ⋅ α I ) .5) 3. "4" .

11.12. Stoga se zaporno područje definira uvjetom IE = 0 i UBC < 0.3.9) (4. 1− α N ⋅ α I (4. Npr. Na isti način definiraju se serijski otpori baze i kolektora. Pri većim strujama kolektora pad napona na serijskom otporu rcc' može značajno utjecati na rad tranzistora. slika 4.9 pri T = 300 K. iz Ebers-Mollovih jednadžbi za npn tranzistor proistječu relacije za struje IC i IE: IE = IC = I EB0 ⋅ (1− α N ) 1− α N ⋅ α I I CB0 ⋅ (1− α I ) .12.10) koje pokazuju da unatoč nepropusnoj polarizaciji oba spojišta teku male struje emitera i kolektora.12. Područje baze je relativno usko sa znatnom električnom otpornošću pa se serijski otpor s tipičnim iznosima od 10 Ω do 100Ω najčešće uključuje u račun.36) dobiva se izraz za napon UBE: U BE = U T ⋅ ln(1− α N ) (4.11) .5 mV. baze i kolektora. za vrijednost α N = 0.2: Orijentacija napona za npn tranzistor u zasićenju. serijski otpor emitera sastoji se od otpora priključka metalnog kontakta na emiter i tijela emitera. Nadomjesni sklop za realni tranzistor može se prikazati kao idealni tranzistor s uključenim serijskim otporima rbb'. UBE < 0. Za realni tranzistor u račun je potrebno uključiti i vrijednosti tih otpora.Slika 4.12. Ebers-Mollove jednadžbe izvedene su uz napone emiter-baza i kolektor baza za tranzistor sa zanemarivim serijskim otporima emitera. U CE = U T ⋅ ln (I E + α I ⋅ I C − I EB0 )⋅ α N . Uvrštavanjem uvjeta IE = 0 i IC = ICB0 u Ebers-Mollovu jednadžbu (4. UBC < 0. Uz te uvjete. Tako npr. Zaporno područje definirano je naponima kojima su nepropusno polarizirana spojišta emiter baza i kolektor baza. Kako je emiter najjače onečišćeno područje njegova električna provodnost je velika pa se serijski otpor ree' obično ne uključuje u račun.12. (I C + α N ⋅ I E − I CB0 )⋅ α I (4. a pritom je struja kolektora IC jednaka struji ICB0. emitersko je spojište nepropusno polarizirano naponom iznosa UBE = -59. 72 . rcc' i ree'.8) 4.12.

12) (4.2.1: npn tranzistor u spoju zajedničke baze. 73 ..1.3: Nadomjesni sklop realnog npn tranzistora (za područje zasićenja). Slika 4.1.13. 4.13) Pažljiv će čitatelj odmah uočiti nedosljednost u oznakama za napone realnog i idealnog tranzistora. Struja IC i napon UCB pripadaju izlaznom. Prema slici 4. Izlazne su karakteristike dane kao funkcija IC = f(UCB) pri stalnoj vrijednosti struje IE za pojedinu karakteristiku.1. oznake UB'E' i UB'C' odnose se na idealan tranzistor stoga odgovaraju oznakama UBE i UBC u Ebers-Mollovim jednadžbama. dok se oznake UBE i UBC odnose na realan tranzistor.12.12.1.12.13. slika 4.13.13.Slika 4.3. Spoj zajedničke baze Baza tranzistora je zajednička elektroda ulaznom i izlaznom krugu tranzistora. mogu se napisati jednadžbe naponske ravnoteže: U BE − I B ⋅ rbb' − U B'E ' + I E ⋅ ree' = 0 U BC − I B ⋅ rbb' − U B'C ' + I C ⋅ rcc' = 0. slika 4. U skladu s orijentacijom struja i padova napona u nadomjesnom sklopu na slici 4.1. Izlazne karakteristike tranzistora 4.12.3.13.12. a IE i UBE ulaznom krugu tranzistora. (4.

2.3: Definicija stalnog gradijenta gustoće nosilaca (elektrona) u bazi npn tranzistora pri promjeni napona UCB. slika 4.1. tranzistor radi u području zasićenja koje je karakterizirano naglim padom struje kolektora što se tumači smanjenjem gradijenta gustoće elektrona u bazi.).2: Izlazne karakteristike npn tranzistora u spoju zajedničke baze. Spoj zajedničkog emitera U spoju zajedničkog emitera. emiter je zajednička elektroda ulaznom i izlaznom krugu tranzistora. 4.2.13.13. (UCB).2.1. Pri propusnom polaritetu napona kolektor-baza.1.1: npn tranzistor u spoju zajedničkog emitera.Slika 4. slika 4.13.13.2.13. 74 . Stalna vrijednost struje emitera IE pri promjeni (povećanju apsolutne vrijednosti) napona UCB može se održati promjenom (smanjenjem) napona UBE tako da je gradijent gustoće elektrona u bazi tranzistora stalan.2.1. a mali porast struje IC koji nastaje s povećanjem napona UCB tumači se kao posljedica Earlyjevog efekta.13. Slika 4. Slika 4.13.3. Izlazne karakteristike tranzistora u spoju zajedničkog emitera dane su kao funkcija IC = f(UCE) pri stalnoj vrijednosti struje baze za pojedinu karakteristiku (slika 4. U normalnom aktivnom području rada tranzistora u spoju zajedničke baze karakteristike su približno vodoravni pravci.

U skladu s jednadžbom UCE = UBE .13.UBC za aktivno područje nužno treba biti ispunjen uvjet UCE > UBE da bi spoj kolektor-baza bio nepropusno polariziran naponom UCB.13.Slika 4.2. Slika 4. 75 .2: Izlazne karakteristike npn tranzistora u spoju zajedničkog emitera. Povećanjem napona UCE povećava se i apsolutni iznos napona UCB. odnosno povećati napon propusne polarizacije UBE spoja emiter-baza.13.3. a smanjuje se efektivna širina baze. slika 4. Da bi pritom struja baze zadržala stalnu vrijednost potrebno je povećati gustoću manjinskih nosilaca (elektrona) n0B na rubu barijere emiterskog spojišta.2.3: Prikaz utjecaja promjene efektivne širine baze na izlazne karakterisike npn tranzistora u spoju zajedničkog emitera.2.

a sukladno tim naponima označen je i smjer struje odvoda (struja između uvoda i odvoda) koji odgovara smjeru gibanja pozitivnog naboja (šupljina). a ovisno o tome koji je tip nosilaca naboja u kanalu. Za razliku od ustrojstva spojnog tranzistora. UNIPOLARNI TRANZISTOR (TRANZISTOR S DJELOVANJEM ELEKTRIČNOG POLJA) U vođenju struje kod unipolarnih tranzistora sudjeluju većinski nosioci naboja (elektroni ili šupljine). odvod D (engl. može biti odvojena od kanala izolacijskim slojem silicijevog dioksida. junction field effect transistor). Stoga će se porastom apsolutne vrijednosti napona UGS širina kanala smanjivati. ako se zanemare osiromašena područja koja nastaju zbog djelovanja kontaktnog potencijala. Struja teče od uvoda prema odvodu zbog priključenog napona UDS. Zbog toga što se promjena vodljivosti poluvodiča.1. upravljačka elektroda kojom se upravlja protjecanjem struje kroz kanal. unipolarni tranzistori mogu biti p-kanalni ili n-kanalni. insulated gate field effect transistor) ili MOSFET (engl. 5. Dio poluvodiča označen kao kanal je vodljivi dio omeđen dvjema simetričnim barijerama uspostavljenima naponom nepropusne polarizacije UGS između p+ poluvodiča (p-tip poluvodiča s relativno velikom gustoćom akceptorske primjese) i n-tipa poluvodiča s gustoćom donorske primjese manjom u odnosu prema gustoći akceptora u p+ području.1. a time i jakosti struje. slika 5. Prvi unipolarni tranzistori su spojni tranzistori s efektom polja sa skraćenim nazivom JFET (engl.1. Takav tranzistor pripada skupini tranzistora s efektom polja s izoliranim vratima.1. Sukladno analizi provedenoj za pn spoj. a skraćeni mu je naziv IGFET (engl.a) prikazan je presjek za simetrični n-kanalni spojni FET s označenim elektrodama (priključnicama): uvod S (engl. kanal tranzistora ima najveću širinu iznosa 2a (širina potpuno otvorenog kanala). Tranzistor s efektom polja (JFET) Na slici 5.1: a) n-kanalni spojni FET. slika 5. gate). a time i njegova vodljivost. 76 .2. Slika 5. Priključenim naponima između odgovarajućih elektroda određena je radna točka tranzistora. a jakost te struje može se mijenjati vanjskim naponom. postiže djelovanjem poprečnoga (transverzalnoga) električnoga polja koje je posljedica upravo priključenog vanjskog napona na poluvodič. source). Pri naponu UDS = 0 i UGS = 0. uz naziv unipolarni tranzistor obično se upotrebljava skraćeni naziv tranzistor s efektom polja.1.1. metal-oxide-semiconductor field effect transistor) zbog ustrojstva kojega čini silicij kao ishodišni materijal i silicijev dioksid kao izolacijski sloj ispod metalne elektrode (vrata).5.a). drain) i vrata G (engl.1. barijera se širi na slabije onečišćenu stranu pn spoja. b) simbol za n-kanalni spojni FET. Dio poluvodiča kroz koji teče struja naziva se kanal.

2) Napon UGS pri kojemu je širina kanala jednaka ništici (b = 0).3) odnosno U GS 0 a2 ⋅ q ⋅ N D . pinch-off voltage): a2 = 2 ⋅ ε ⋅ ( U k − U GS 0 ) .3. U skladu sa slikom 5. q ⋅ ND (5. slika 5.4) Iz jednadžbi (5.1.1.1. = Uk − 2⋅ε (5. označen je kao napon dodira UGS0 (engl.2: Širina potpuno otvorenog kanala pri UDS = 0 i UGS = 0. može se napisati izraz za širinu barijere: a−b= 2 ⋅ ε ⋅ ( U k − U GS ) . vodljivost potpuno otvorenog kanala određena je izrazom: G0 = 1 q⋅ µ n ⋅ N D ⋅ 2a⋅ w 2a⋅ w = = σ⋅ .1.1. Slika 5.Slika 5.4) može se izraziti poluširina kanal u ovisnosti o naponu UGS i UGS0: 77 .2. q ⋅ND (5. U skladu s jednadžbom izvedenom za širinu područja barijere jednostranog pn spoja.3: Širina kanala pri nekom naponu UGS i naponu UDS = 0.1) Pri nekom naponu UGS i naponu UDS = 0 širina kanala se jednako po cijeloj njegovoj dužini smanji na stalnu vrijednost 2b.1.1. R0 L L (5.1.2) i (5.1.1.

1.1. slika 5. U k − U GS 0   dx odnosno  U k − U GS + U ( x )   ⋅ dU( x ) . d x (5. U k − U GS  . integraciju lijeve strane jednadžbe treba provesti u granicama od x = 0 do x = L.2) poluširina kanala u ovisnosti o udaljenosti x može se prikazati kao funkcija:  U k − U GS + U( x )  .1.1. Uvrštavanjem izraza (5.8) Ako se uvod S uzme kao ishodišna i referentna točka. električno polje treba biti sve veće da bi struja imala stalnu vrijednost ID.1. U(x).1. a desne od napona vrijednosti 0 do UDS.6) u (5..4.1. Slika 5. pa je i napon nepropusno polariziranog pn spoja vrata-kanal funkcija koordinate x.1.1. Stoga se izraz za struju odvoda ID može pisati u obliku: I D (x) = I D = 2b(x)⋅ w ⋅ q ⋅ N D d (x) U .5) Pri naponu UDS ≠ 0 i UGS ≠ 0 kroz kanal teče struja odvoda stvarajući pad napona duž kanala. Posljedica toga je da širina kanala više nije stalna već se mijenja duž kanala.1. slika 5.6) Struja u kanalu je u svakom njegovom presjeku ista. Napon između uvoda i bilo koje točke u kanalu funkcija je koordinate x. b = a ⋅ 1 − U k − U GS0   (5.7) dobiva se:  U k − U GS + U ( x )  dU( x ) ⋅ I D = 2a ⋅ w ⋅ q ⋅ N D ⋅ µ n ⋅  1 − . I D ⋅ dx = 2a ⋅ w ⋅ q ⋅ N D ⋅ µ n ⋅ 1 − U k − U GS0   (5. b( x ) = a ⋅ 1 − U k − U GS 0   (5.4.1.4: Širina kanala pri naponu UGS ≠ 0 i UDS ≠ 0. Polazeći od izraza za širinu barijere pn spoja (5.9) (5.7) Kako presjek kanala od uvoda prema odvodu 2b(x)⋅ w postaje sve manji. Tako se dobiva izraz: 78 .

te bi nestao i uzrok dodira barijera. 79 .UGS0. a zatim opada s porastom napona UDS.1.1. pri dodiru barijera prestala bi teći i struja.11) Funkcija (5.3 3   U k − U GS + U DS ) 2 − ( U k − U GS ) 2  U − 2 ⋅ ( I D = G 0 ⋅ DS .   3 U k − U GS 0     (5. Uvrštavanjem uvjeta UDS = UGS . slika 5.5: Širina kanala uz naponu UDS >UGS . = G 0 ⋅ GS GS 0   3 U k − U GS 0     (5. Stoga je zaključak da širina kanala na mjestu dodira barijera nije jednaka ništici.UGS0 na izlaznim karakteristikama za pojedini napon UGS.UGS0. već ima mali iznos δ koji se pri prekoračenju napona dodira proteže prema uvodu.1.UGS0 u izraz (5. Kako je pad napona posljedica protjecanja struje kroz kanal. Na izmjerenim karakteristikama utvrđeno je da nakon vrijednosti UDS = UGS . a to znači da dodir barijera nastaje na strani odvoda.1.1.1. Geometrijsko mjesto točaka određeno uvjetom UDS = UGS .10) dobiva se jednadžba koja vrijedi za područje zasićenja: I Dzas 3 3   2 2 U − U − 2 ⋅ ( U k − U GS 0 ) − ( U k − U GS )  .12) Dio karakteristike opisan jednadžbom (5. jednak je naponu dodira -UGS0. L (5.6.1.1.10) pripada triodnom području. UDG.5.10) poprima maksimalnu vrijednost u točki UDS = UGS . Pri naponu UDS = UGS .1. slika 5. jest granična crta između triodnog područja i područja zasićenja. napon odvod-vrata.UGS0 struja blago raste s porastom napona UDS (praktički ima stalnu vrijednost). Slika 5.UGS0.10) gdje je G0 vodljivost potpuno otvorenog kanala: G0 = 2a⋅ w ⋅ q⋅ N D ⋅ µ n . Takav tok funkcije ne odgovara stvarnoj (izmjerenoj) karakteristici. Smanjivanje širine kanala kao i dodir barijera nastaju zbog pada napona duž kanala.

p-kanalni FET 80 . Tako se dobiva: gm = G0 ⋅ U k − U GS + U DS − U k − U GS U k − U GS 0 .001 V-1.1.1.7) 5. (5. a u području zasićenja na izraz (5.1.6) Faktor pojačanja definiran je derivacijom napona UDS pri nekoj stalnoj vrijednosti struje ID: µ= ∂U DS ∂U DS ∂I D g = ⋅ = m = rd ⋅ gm .1.1.1.12).1. Dinamički parametri FETa Derivacija struje ID po naponu UGS pri nekoj stalnoj vrijednosti napona UDS definira se kao strmina: gm = ∂I D . Definicija triodnog područja i područja zasićenja.1. nt ∂U GS U DS = ko s . (5. U skladu s relacijom (5.6: Izlazne karakteristike FETa.1.1.1.4) Za određivanje dinamičke vodljivosti u području zasićenja može se upotrijebiti empirijski izraz kojim je iskazan lagan porast struje ID s porastom napona UDS: I D = I Dzas ⋅ (1+ λ ⋅ U DS ) .1.Slika 5.1.1.1.1. (5.1.1.1.5) gdje je λ parametar koji može imati vrijednost između 0.1) U triodnom području definiciju za strminu treba primijeniti na izraz (5. ∂U GS ∂I D ∂U GS gd (5. g m = G 0 ⋅ 1 −  U k − U GS 0    (5.2. U k − U GS 0   (5.1 i 0.1.10).2)  U k − U GS  .1.3) Izlazna dinamička vodljivost definirana je derivacijom struje ID po naponu UDS pri nekoj stalnoj vrijednosti napona UGS. 5. (5. Tako je za triodno područje izveden izraz:  U k − U GS + U DS  g d = G 0 ⋅ 1 − .1.5) izlazna dinamička vodljivost može se odrediti s pomoću izraza: gdzas = λ ⋅ I Dzas .

3) U GS 0 = a2 ⋅q ⋅ N A − Uk . UGS. b = a ⋅ 1 − U k + U GS 0   Triodno područje: 3 3   2 ( U k + U GS − U DS ) 2 − ( U k + U GS ) 2  − U − ⋅ −I D = G 0 ⋅ .4) Granični uvjet između područja zasićenja i triodnog područja treba pisati u obliku apsolutnih vrijednosti: U DS = U GS −U GS 0 .  DS 3  U k + U GS 0     (5.Ustrojstvo p-kanalnog spojnog FETa (kanal je p tipa. Stoga u svim jednadžbama izvedenim za n-kanalni FET treba promjeniti predznak uz veličine: UDS. (5.1.6) 81 . Slika 5.1.5) Područje zasićenja: − I Dzas 3 3   2 ( U k + U GS 0 ) 2 − ( U k + U GS ) 2  − U + U − ⋅ = G0 ⋅ .2.1.1) (5.2.1. q⋅ N A (5. UGS0 i ID: a− b = 2⋅ ε ⋅ (U k + U GS ) . GS 0  GS  3 U k + U GS 0     (5.2.1. te struja ID. a područje vrata n+ tipa) je takvo da naponi napajanja UGS i UDS.1. slika 5.2) (5.2. imaju suprotan predznak od onog za n-kanalni FET.1. b) simbol za p-kanalni spojni FET.2.1. 2⋅ε  U k + U GS  .2.1.2.1: a) p-kanalni spojni FET.2.

Dio parabole izvan tog područja nema fizikalnoga značenja.10). Gustoća primjese u području uvoda i odvoda je relativno velika.3.2. Zatim se određenim planarnim postupkom (fotolitografski postupak) otvaraju "difuzijski prozori" u oksidnom sloju kroz koje se difuzijom unosi primjesa.1) u odsječku određenom točkama UGS0 i IDSS (struja ID pri naponu UGS = 0).1. slika 5.1.12). To je temeljni preduvjet za vođenje MOSFETa.3.1. Podloga je silicij s relativno malom gustoćom primjese na koju se nanosi tanki sloj silicijeva dioksida SiO2 debljine t0x ≈ 0. To znači da je za n-kanalni MOSFET uz površinu između p-podloge i izolatora (u kanalu) nužno stvoriti višak elektrona. 5. Struja ID može teći uz priključeni napon UDS samo ako je napon UGS pozitivan i veći od određene vrijednosti koja se naziva napon praga UGS0. za p kanalni MOSFET pozitivni napon UGS izvlači elektrone iz dubine podloge te ih gomila uz spoj podloge i izolacijskog sloja obogaćujći tako područje kanala elektronima.3. slika 5. MOSFET MOS unipolarni tranzistor može biti izveden kao n-kanalni na p-podlozi ili kao p-kanalni na n-podlozi. UGS. obogaćenog ili osiromašenog tipa. oblikujući tako područje uvoda i odvoda u podlozi.1 µ m.1. Dio poluvodiča između uvoda i odvoda označen je kao kanal kroz koji struja može teći jedino ako su u njemu nosioci naboja istog tipa kao i većinski nosioci područja uvoda i odvoda.2.1.1. Tako npr.1: Statičke karakteristike n-kanalnog FETa. Inverzijski sloj može nastati pod utjecajem priključenog napona odgovarajućeg polariteta između vrata i uvoda.1.5. Što je veći pozitivni napon UGS to je veća i vodljivost kanala. te je uz stalan napon između odvoda i uvoda UDS veća i struja ID između njih. a za područje zasićenja jednadžbom (5. U podrućju zasićenja funkcija ID = f(UGS) je ujedno i prijenosna karakteristika koja se može približno prikazati paraboličnom funkcijom: I D = I DSS  U  ⋅ 1 − GS  U GS 0   2 (5. Statičke karakteristike FETa Izlazne karakteristike spojnog FETa dane su za triodno područje jednadžbom (5. odnosno uspostaviti inverzijski sloj između uvoda i odvoda.3. S obzirom na iznesene značajke takav n-kanalni MOSFET pripada skupini obogaćenog tipa.1. 82 . Slika 5.

Slika 5.2. Napon UGS pri kojem kanal praktički prestaje biti vodljiv naziva se napon praga UGS0.2. Uz negativan napon UGS u izolacijskom sloju dolazi do gomilanja pozitivnog naboja uz metalni spoj upravljačke elektrode i izolatora. Značajka je tog n-kanalnog MOSFETa što struja I D može teći i pri naponu UGS = 0. Drugi tip n-kanalnog MOSFETa moguće je oblikovati tako da se između uvoda i odvoda posebnim tehnološkim postupkom unese uzak kanal n-tipa s relativno malom gustoćom primjese.2. b).2. b) uz napon UGS < 0. Upravo zbog svojstva što se vodljivost područja između uvoda i odvoda može mjenjati osiromašenjem kanala elektronima ovakav tranzistor spada u skupinu tranzistora osiromašenog tipa.Slika 5.2.3.2. Za nkanalni MOSFET osiromašenog tipa UGS0 je negativan. odnosno smanjena je vodljivost kanala. slika 5. Nagomilani negativni naboj odbija slobodne elektrone u dijelu kanala u blizini spoja s izolacijskim slojem.2: Presjek n-kanalnog MOSFETa osiromašenog tipa: a) uz napon UGS = 0. a). slika 5. te se u kanalu stvara sloj koji je osiromašen slobodnim nosiocima naboja. 83 .1: Presjek n-kanalnog MOSFETa. slika 5. a za obogaćeni tip je pozitivan. Pozitivnim naponm UGS postiže se isti učinak kao i kod tranzistora obogaćenog tipa: elektroni se izvlače iz dubine podloge i gomilaju se u kanalu povećavajući tako njegovu vodljivost.2. a negativnog naboja uz spoj izolatora i kanala.

t0x (5. a područja uvoda i odvoda p +tipa.1.2.2. 5.4: Prijenosne karakteristike p-kanalnog MOSFETa. pri čemu treba biti UGS0 < UGS < 0 (rad u osiromašenom modu) te pri pozitivnim naponima UGS (rad u obogaćenom modu). pri kojemu nastaje inverziski sloj. tranzistor može raditi samo u obogaćenom modu. Za razliku od tranzistora osiromašenog tipa. tj.Slika 5. određena izrazom σm = ε 0 ⋅ ε .4.2. koja je pri naponu UDS = 0. upravo jednak naponu praga UGS0.0x ⋅ (U GS − U GS0 ) . Za osiromašeni tip napon praga UGS0 je pozitivan.2. Napon praga p-kanalnog MOSFETa obogaćenog tipa je negativan. Izlazne karakteristike MOSFETa Osnovni preduvjet za rad MOSFETa je stvaranje inverzijskog sloja na površini podloge uz izolacijski sloj.1) budući da je napon UGS. odnosno nastajanje pokretnog (površinskog) naboja gustoće σ m. a tranzistor može raditi jedino u obogaćenom modu uz negativan napon UGS. a tranzistor može raditi u osiromašenom modu pri UGS > 0 i obogaćenom modu pri UGS < 0. kroz kanal tranzistora obogaćenog tipa struja može teći samo uz pozitivne napone U GS pri čemu treba biti UGS > UGS0.2. Slika 5. slika 5. 84 .3: Prijenosne karakteristike n-kanalnog MOSFETa. Za p-kanalni MOSFETa podloga je silicijski poluvodič n-tipa.1. Značajka je n-kanalnog MOSFETa osiromašenog tipa što struja ID može teći i pri negativnim naponima UGS.

3) izraz (5.0x ⋅ w .2.2.2. te raspršenjem nosilaca na međupovršini SiO2-Si.1. kojim je ujedno označeno i područje zasićenja struje ID: I Dzas = K ⋅ (U GS − U GS 0 )2 .4) može se prikazatiti u obliku integrala DS µ nk ⋅ ε 0 ⋅ ε . U skladu s relacijom (5. slika 5.1. 2 (5.2.6) gdje je K= µ nk ⋅ ε 0 ⋅ ε .1.6) ima minimum u točki UDS = UGS .1. DS 2   (5.1.2. a može se prikazati kao umnožak dviju promjenljivih veličina: vodljivosti G(x) i jakosti električnog polja dU(x)/dx: I D = G(x)⋅ d (x) U .0x I D ∫ dx = ⋅ w ∫ (U GS − U GS0 − U (x))dU t0x 0 0 L (5.2) S pomoću relacije (5.1.1. Posljedica je pad napona duž kanala.3) gdje je µ pokretljivost elektrona u kanalu.2) može se odrediti vodljivost jedinične dužine kanala G(x): (5.1.2.1.2. (5.1: Geometrijsko ustrojstvo MOSFETa.1. Pokretljivost nosilaca u kanalu je manja od pokretljivosti u dubini podloge. a w dubina kanala.2.2.5) iz kojega nakon provedene integracije lijeve i desne strane u odgovarajućim granicama.2) i (5.Uz priključeni napon UDS teče i struja između uvoda i odvoda.1. proistječe jednadžba za struju ID: 1   I D = K (U GS − U GS0 )⋅ U DS − ⋅ U 2  . nk Slika 5.0x σ m (x) = ⋅ (U GS − U (x) − U GS0 ) .4) S pomoću relacija (5. Pad napona duž kanala je funkcija udaljenosti x od ishodišne.1.8) 85 . t0x G(x) = µ nk ⋅ σ m (x)⋅ w . Smanjenje pokretljivosti nastaje zbog djelovanja električnog polja u kanalu.1. pa izraz za površinsku gustoću naboja treba također prikazati kao funkciju udaljenosti x: ε 0 ⋅ ε . t0x (5. odnosno nejednolika širina kanala.7) Funkcija (5. odnosno referentne točke (elektrode). d x U (5.1.2.2.2.2.1.1.UGS0.2.2. slika 5.2.1.13) struja u kanalu ima stalan iznos ID.

2: Izlazne karakteristike n-kanalnog MOSFETa. b)osiromašeni tip. 5.2.1) 86 .1.8). slika 5.2.3.Jednadžba (5.1. te se za područje zasićenja može primijeniti empirijska relacija I D = I Dzas ⋅ (1+ λ ⋅ U DS ) (5.2.6) opisuje triodno područje. Kod stvarnih.3: Definicija polariteta napona i smjera struje za n-kanalni MOSFET obogaćenog tipa.1. Slika 5.2.2. a (5.2.2. iako su izvedene za n-kanalni MOSFET obogaćenog tipa s definiranim predznacima napona u skladu sa slikom 5.1.1. slika 5.2. vodeći pritom računa o predznacima odgovarajućih električnih veličina.2..01 i 0. Jednadžbe (5. sukladno jednadžbi (13.8) područje zasićenja polja izlaznih karakteristika n-kanalnog MOSFETa.1.2.2.6) i (5. vrijede i za sve ostale tipove MOSFETova.6).001V-1. uz uvjet UDS < UGS .9) u kojoj je λ parametar koji može imati vrijednost između 0.2. Slika 5.3.2.2.1.1. a)obogaćeni tip.1. Linearna se ovisnost struje ID i napona UDS postiže.2. DS [ ] (5.1.2. izmjerenih karakteristika postoji mali porast struje ID s porastom napona UDS.UGS0: I D = K ⋅ (U GS − U GS 0 )⋅ U DS − U 2 ≈ K ⋅ (U GS − U GS 0 )⋅ U DS . Parametri MOSFETa U triodnom se području MOSFET može upotrijebiti u elektroničkim sklopovima kao linearni otpornik čiji se iznos može mijenjati naponom UGS.1.

K ⋅ (U GS − U GS 0 − U DS ) (5.2.Slika 5.4) gm = ∂I D = K ⋅ U DS . Primjenom njihovih definicija na odgovarajuće jednadžbe za triodno područje rada.2.2.1: MOSFET kao promjenjivi linearni otpornik.2.2. Za područje zasićenja: 1 = I Dzas ⋅λ .2.2.6) gm = K ⋅ (U GS − U GS0 ) . rd (5.2.2) (5. nt ∂I D U GS = ko s .3) (5.2. dobiva se: rd = ∂U DS 1 = .5) (5.2. Dinamički su parametri definirani kao i za spojni FET.2. ∂U GS µ = gm ⋅ rd . 87 .2.

3. uDS ) (5.4) (5. ugs i uds jer su za male promjene signala po iznosu zadovoljeni uvjeti: ID >> id.3.3.3. uGS i uDS uključuju istosmjerne i trenutne izmjenične veličine: iD = ID + id.3.9) i (5.5.9) ili uds = −µ ⋅ ugs + i d ⋅ rd (5.1) di D = ∂i D ∂i ⋅ duGS + D ⋅ duDS ∂uGS ∂uDS (5.7) (5. slika 5.3.5) mogu se promjene diD. i D = f (uGS . uDS = UDS + uds.3.1.3.3) uGS = UGS + ugs. U skladu s definicijom za dinamičke parametre: gm = ∂i D i = d ∂uGS ugs (5.1) može se odrediti ukupna promjena strujr iD. Polazeći od funkcije kojom je izražena ovisnost struje iD o dvije varjable uGS i uDS.2) može se pisati u obliku: i d = gm ⋅ ugs + 1 ⋅ uds rd (5. µ 88 . Nadomjesni sklop za unipolarni tranzistor Za nadomjesni sklop unipolarnog tranzistora u području rada sa značajkama malih promjena iznosa signala i srednjih frekvencija. UGS >> ugs.3. (5. d Jednadžbama (5. duGS i duDS prikazati kao trenutne izmjenične veličine id.2) Kako oznake iD. (5.3.6) (5. što s matematičkog stajališta odgovara totalnom diferencijalu funkcije (5. može se upotrijebiti linearni sklop koji sadrži naponski ili strujni ovisni izvor.3.3.3.8) ∂i D i 1 = = d rd ∂uDS uds relacija (5.10) ako se umjesto gm uvrsti r .3. UDS >> uds.10) određen je nadomjesni sklop unipolarnog tranzistora za područje srednjih frekvencija i malih promjena iznosa signala.3.3.

b) s naponskim izvorom.1: Nadomjesni sklop unipolarnog trtanzistora a) sa strujnim izvorom.3. 89 .Slika 5.

7 1.1085⋅ 10-31 6. veličina Naboj elektrona Masa slobodnog elektrona Planckova konstanta Planckova konstanta Boltzmanova konstanta Boltzmanova konstanta Permitivnost vakuma Relativna permitivnost za silicij Intrinsična gustoća za silicij pri T=300K Simbol q m0 h h k k ε 0 ε r ni Iznos 1.PRILOG 1.854⋅ 10-12 11.381⋅ 10-23 8. Fizikalne konstante i veličine Konstanta.62⋅ 10-5 8.45⋅ 1010 Dimenzija C kg J⋅ s eV⋅ s J⋅ K-1 eV⋅ K-1 F⋅ m-1 cm-3 90 .135⋅ 10-15 1.602⋅ 10-19 9.625⋅ 10-34 4.

22 2.56 1.577⋅ 10-3 3.94⋅ 10-4 2.66⋅ 10-4 3.24 2.023652 0.18 2.06 1.36⋅ 10-4 2.712100 0.475⋅ 10-3 2.72 0.32 1.94 2.60⋅ 10-5 4.533775 0.00 3.36 1.24 3.014997 0.66⋅ 10-6 2.02⋅ 10-6 1.08 erfc(z) 0.282463 0.380589 0.149162 0.12 0.42 2.06 3.02 0.46 0.44 2.34 0.60 0.02 1.799064 0.04 0.96 0.56 2.32 2.10 2.90⋅ 10-5 5.11⋅ 10-4 1.92 0.04 1.50 0.56 0.106918 0.692⋅ 10-3 1.12 1.257899 0.396144 0.94 1.48 erfc(z) 7.46 3.18 3.82 1.630635 0.54 2.22 1.94 0.30 2.025453 0.281⋅ 10-3 3.428384 0.716⋅ 10-3 2.16 3.050985 z 1.62 2.80 2.193232 0.14 0.010909 0.213313 0.047715 0.126674 0.48 1.35⋅ 10-4 8.34 1.80 0.00 0.80⋅ 10-5 2.000000 0.89⋅ 10-6 6.755704 0.28⋅ 10-4 2.20⋅ 10-5 2.89⋅ 10-4 6.70 2.52 1.077⋅ 10-3 5.26⋅ 10-4 4.42 3.30 3.96 1.28 3.36 3.14 3.64 0.92 2.887537 0.76 2.174576 0.12 2.38 2.60 2.336218 z 0.32 3.065992 0.246189 0.119795 0.32⋅ 10-6 2.27⋅ 10-6 4.64 1.92⋅ 10-7 8.58 1.692120 0.erf(z).515345 0.865242 0.843053 0.17⋅ 10-5 1.412077 0.90 0.038946 0.30 0.50⋅ 10-5 8.269990 0.88 0.66 0.97⋅ 10-6 7.32⋅ 10-6 1.932378 0.98 1.54 1.027372 0.72 1.75⋅ 10-6 1.061935 0.029414 0.02⋅ 10-5 8.60⋅ 10-5 3.01281 0.70 1.40 2.074764 0.86 0.262⋅ 10-3 1.828⋅ 10-3 7.031587 0. Za komplementarnu funkciju pogreške vrijedi: ∫ erfc ( z)⋅ dz = 0 ∞ 1 π .08 0.58 0.574⋅ 10-3 5.914⋅ 10-3 3.95⋅ 10-5 1.033895 0.PRILOG 2.979⋅ 10-3 2.021962 0.977435 0.72 2.041703 0.113212 0.571608 0.24 0.266⋅ 10-3 z 2.020378 0.98 2.62 0.24 1.10 1.78 0.74 0.66 2.45⋅ 10-4 7.234857 0.018895 0.02 3. 0 z ( ) erfc(z) = 1 .095163 0.308567 0.40⋅ 10-5 z 2.22 3.86 2.089686 0.82 0.48 0.03⋅ 10-6 5.46 2.30 1.610670 0.63⋅ 10-4 6.68 2.954889 0.86⋅ 10-6 6.28 1.16 2.20 3.016210 0.06 0.133856 0.21⋅ 10-4 5.22 0.51⋅ 10-4 1.62 1.71⋅ 10-5 1.20⋅ 10-5 4.07⋅ 10-4 9.165768 0.78 erfc(z) 2.253⋅ 10-3 2.46 1.00 2.734300 0.44 1.88 2.70⋅ 10-5 5.18 0.58 2.04 3.06 2.32 0.34⋅ 10-4 1.909922 0.10 0.59⋅ 10-4 5.02⋅ 10-6 3.51⋅ 10-6 3.32⋅ 10-5 1.844⋅ 10-3 7.42 0.88 1.26 1.50⋅ 10-5 2.40 1.036346 0.89⋅ 10-4 1.84 0.18 1.322199 0.350623 0.50 1.590991 0.84 1.479500 0.157299 0.48 2.64 2.38 erfc(z) 0.44 3.03⋅ 10-4 4.78 1.68 erfc(z) 1.06⋅ 10-6 2.12 3.650874 0.20 0.777297 0.070266 0.04 2.28 0.92 1.183729 0.70 0.203092 0.76 1.445061 0.536⋅ 10-3 1.223900 0.011826 0.054439 0.010057 9.40 0.013865 0.264⋅ 10-3 8.034⋅ 10-3 9.079495 0.108⋅ 10-3 4.08 3.084466 0.69⋅ 10-4 1.60 1.07⋅ 10-4 3.393⋅ 10-3 1.59⋅ 10-7 91 .462101 0.80 1.74 2.90 2.40 3.141350 0.52 2.86 1.90 1.60⋅ 10-6 4.049⋅ 10-3 1.42 1.14 1.863⋅ 10-3 1.15⋅ 10-6 9.210⋅ 10-3 6.54 0.10 3.98 3.21⋅ 10-5 1.26 3.14 2.820988 0.66 1.38 0.678⋅ 10-3 4.28 2.76 0.52 0.64⋅ 10-4 2.74 1. Definicija funkcije pogreške i tablica vrijednosti Funkcija pogreške erf(z) i njena komplementarna funkcija erfc(z) definirane su izrazima: erf ( z) = 2 π ⋅ ∫ exp −x 2 ⋅ dx .36 0.058086 0.50 2.20 1.16 0.044624 0.38 3.20⋅ 10-4 1. Tablica vrijednosti funkcije erfc(z) z 0.100904 0.02 2.08 1.96 2.52⋅ 10-6 1.20 2.017507 0.671373 0.143⋅ 10-3 1.50⋅ 10-5 6.68 1.00 1.51⋅ 10-5 1.82 2.552532 0.26 2.497250 0.34 2.84 2.26 0.36 2.10⋅ 10-5 3.295322 0.365414 0.44 0.34 3.16 1.622⋅ 10-3 6.

[6] C. R. 1996. J. Lanyon. R. J. R. pp. Millman. 122. B. Adler. Maita. Thurmond. Inc. Caughey. 18. 19. 1954. 1975. Školska knjiga. Solid-State Electronics. Measurements of Bandgap Narrowing in Si Bipolar Transistors. [11] G. Temperature Dependent Threshold Behavior of Depletion Mode MOSFETs. Solid-State Electronics. pp. October. de Graaff. Carrier Mobilities in Silicon Semi-Empirically Related to Temperature.A.A. R. R. Morin. pp. 22. Electron Devices. IEEE Trans.str. Dorkel. Watt. [4] H. [18] R. Jaeger. vol. K.C. Electrons and Holes in Semiconductors. Si. Bandgap Narrowing in Moderately to Heavily Doped Silicon. GaAs and GaP. McGraw-Hill. M. vol.P.1014-1018. str. 1975. Gaensslen. IEEE Trans. Baccarani. vol. 55. P. 28-35. Poluvodički elektronički elementi. April 1976. Colić. Chan. 19. T. Plummer. vol. Školska knjiga. 10. 269-277. Zagreb. [12] A. Leturcq. [17] V. [14] B. ED-34. The Standard Thermodynamic Functions for the Formation of Electrons and Holes in Ge. 24. 1976. IEEE. M. L. D. Biljanović. [7] F. H. D. Electrochemical Society. 7. 579-580. Doping and Injection Level. 7. 2192-2193.Literatura [1] P.1979. [9] J. Electrical Properties of Silicon Containing Arsenic and Boron. April 1979. vol. pp. P. [15] P. ED-26. pp. [2] W. vol. C. 821-825. ED-26. 1964. 857-862. Knapp. Lanyon. Uvod u električna i magnetska svojstva materijala.. pp 423-430. Introduction to Semiconductor Physics.. Longini. John Wiley & Sons. Elektronički elementi. J. Proc. 1967. New York. Electron Devices.P. A. Rev. January 1987.1979. Shockley. Solid-State Electronics. December 1967. Ostoja.D. Zagreb. 1133-1141. J. Juzbašić.Van Nostrand. H. J. Phys. Zagreb. Solid-State Electronics. Ph. Bandgap Narrowing in Moderately to Heavily Doped Silicon. 96.. C. Electronic Devices and Circuits. vol. Biljanović. [5] J. 64-74. September 1981. Computer-Aided Numerical Analysis Of Silicon Solar Cells. Slotboom. Smith. New York. P. New York. 1982.D. Carrier Mobilities in Silicon Empirically Related to Doping and Field. pp. [3] H. [10] D. vol. 1950. IEEE Trans. pp. E. August 1975. [13] J. Electron Devices. Tuft. C. [8] F. 92 . Solid-State Electronics. Henning. Fossum. G.W. Substrate Current at Cryogenic Temperatures: Measurements and a Two-Dimensional Model for CMOS Technology. 1990. N. 1014-1018. Tuft. D. [16] J. N. Školska knjiga-Zagreb.. C. Halkias. Thomas. Školska knjiga. Mikroelektronika-integrirani elektronički sklopovi. Electron Mobility Empirically Related to the Phosphorous Concetration in Silicon.

Materials and Devices for Electrical Engineers and Physicists. 1981. Školska knjiga. A. Fizika struktura. 93 . Colclaser. S. Adamić.[19] R. J. [20] K. Herak. Diehl-Nagle. stanja i svojstva tvari. Zagreb. McGraw-Hill Book Company. New York. 1985.

Sign up to vote on this title
UsefulNot useful