PROJEKT TECHNOLOGII

WYTWARZANIA WARSTW TiC

METOD CVD (CHEMICAL
VAPOUR DEPOSITION)
STOSOWANYCH NA NARZDZIA
DO PRZERBKI PLASTYCZNEJ

PLAN PREZENTACJI

Przegld
technologii
CVD

Metody
chemiczneg
o
osadzania z
fazy
gazowej

Proces
powlekania
matryc

Porwnanie
matryc o
rnych
powokach

Podsumowa
nie

TECHNOLOGIA CHEMICZNEGO OSADZANIA

Z FAZY GAZOWEJ (CHEMICAL VAPOUR
DEPOSITION)
W metodzie tej, wskutek zachodzcych na powierzchni
podoa lub w jego ssiedztwie reakcji chemicznych
dwch lub wicej gazowych substratw wyjciowych
(reagentw) przy sprzyjajcym ich przebiegowi
zastosowaniu rnych postaci energii (ciepa, plazmy,
wiata itp.), s tworzone produkty uytkowe (powoki)
oraz niestae (lotne) produkty uboczne. Metody CVD
umoliwiaj wytwarzanie takich warstw
powierzchniowych, jak np. wglik tytanu TiC, azotek
tytanu TiN, tlenek glinu Al2O3, azotek krzemu Si3N4, a
take warstw wieloskadnikowych typu Ti(C,N), Ti(O,C,N).

METODY CHEMICZNEGO OSADZANIA Z

FAZY GAZOWEJ
HFCVD klasycznego chemicznego osadzania powok z fazy gazowej
z aktywacj ciepln,
APCVD pod cinieniem atmosferycznym,
LPCVD pod obnionym cinieniem,
Plazmo-chemiczne - Plasma Assisted CVD (PACVD) z uyciem
rnych pl fizycznych: mikrofal (MWCVD), fal radiowych (RFCVD),
LCCVD aktywowana laserowo,
Photo CVD aktywowana wizk promieni UV,
MO CVD z uyciem prekursorw metaloorganicznych,
Bed CVD realizowana w zou fluidalnym - Fluidized,
Chemiczna infiltracja z fazy gazowej - Chemical Vapour Inltration
(CVI).

PODZIA WYBRANYCH METOD CVD I ICH

OGLNA CHARAKTERYSTYKA:

Urzdzenie do nakadania powok CVD Urzdzenie do nakadania powok PACVD

APCVD

LPCVD

PECVD/
PACVD

Zalety

mao skomplikowana i
relatywnie mao
kosztowna aparatura,
bardzo dobra
przyczepno warstw
do podoa, dua
szybko osadzania i
stosukowo niska
temperatura procesu

duy jednorazowy
zaadunek, dobra
czysto i
jednorodno warstw,
dobre pokrycie
uskokw

wysok jednorodno
pokrycia, mae straty
optyczne, niska
temperatura, dobra
adhezja , mae
naprenia
mechaniczne, dua
szybko osadzania,

Wady

sabe pokrycie
uskokw, toksyczne
odpady wymagajce
utylizacji, trudno
zwizana z
uzyskaniem
jednorodnoci
gruboci warstwy na
podoach o duych
powierzchniach

wysok temperatur
oraz mae szybkoci
osadzania

umiarkowana
czysto warstw
( obecno wodoru)

WGLIK TYTANU:
Charakteryzuje si wysok temperatur
topnienia-3067C, i nisk gstoci 4,93
Jest najtrwalszym wglikiem metali
przejciowych,
Wykazuje doskona odporno na
dziaanie wody, kwasw, zasad oraz
roztworw zwizkw organicznych,
Jest stabilny nawet w podwyszonej

temperaturze, odporny na szoki termiczne,

Wysokie przewodnictwo cieplne i
elektryczne,
Niski wspczynnik tarcia,
Przewodnictwo elektryczne wglika tytanu
jest tego samego rzdu wielkoci co dla
czystego tytanu.

Dlaczego stosujemy warstwy

TiC na narzdzia do przerbki
plastycznej?
Warstwy TiC pozwalaj zwikszy twardo
(przecitnie 1,5-5 razy) oraz odporno na
cieranie, przez co diametralnie zwikszaj
ywotno narzdzi do przerbki plastycznej.

WARUNKI EKSPLOATACYJNE
MATRYC
Matryce do wyciskania na
gorco stopw aluminium
naraone s na obcienia:
mechaniczne,
termiczne,
tribologiczne.

MATRYCA POWLEKANA POWOK CVD TIC

DO WYCISKANIA PROFILI ALUMINIOWYCH

MATRYCA DO WYCISKANIA ALUMINIUM

WRAZ Z UKADEM NARZDZIOWYM

MATERIA NA MATRYCE
WNL / 1.2714- stal narzdziowa stopowa do pracy na gorco
Popularna stal na stemple i matryce do kucia na gorco, kowada do motw i
pras o duych wymiarach i gbokich wykrojach.

PRZYGOTOWANIE MATRYC DO
NAKADANIA POWOK METOD
CVD
Piaskowanie,
Mycie ultradwikowe,
Suszenie w strumieniu gorcego
powietrza,
Czyszczenie jonowe z wykorzystaniem
jonw Ar.

PROCES NAKADANIA POWOKI ZA POMOC

METODY LPCVD
Etapy procesu

Schemat stanowiska do realizacji metody LPC

Przekrj poduny
otrzymanej powoki:

Przekrj poduny po trawieniu

otrzymanej powoki:

POLEROWANIE PO OSADZENIU
POWOKI

Powoka CVD przed

polerowaniem

Powoka CVD po dwu minutowym procesie DF

PARAMETRY GOTOWEGO WYROBU

Grubo wytworzonej powoki
mieci si wzakresie 11-15 m,
Twardo wynosi 58 do 62 HRC,
Younga: E=510 [GPa],
Modu

Liczba Poissona: ,
Chropowato: RA=0,2M.

PORWNANIE MATRYC AZOTOWANYCH Z

MATRYC POWLEKAN POWOK CVD
Matryce eksploatowane byy wtakich samych
warunkach:
temperatura wyciskania pierwszej wlewki ok. 500C,
Temperatura wyciskania kolejnych wlewek ok. 480490C,
prdko wyciskania 0,35 m/s.

MATRYCA ZE STALI AISI H13 PO IV

AZOTOWANIU PO WYCINICIU OK. 12,6
T ALUMINIUM PRZEZ KADY OTWR
MATRYCY

MATRYCA ZE STALI WNL PO III

AZOTOWANIU PO WYCINICIU OK. 4,9 T
ALUMINIUM PRZEZ KADY OTWR
MATRYCY

MATRYCA ZE STALI WNL ZPOWOK CVD

PO WYCINICIU OK. 7,5 T ALUMINIUM
PRZEZ KADY OTWR MATRYCY

PODSUMOWANIE
NAJWIKSZE ZUYCIE BIENI MATRYCY NA ROZPATRYWANYM
ETAPIE PRODUKCJI ODNOTOWANO DLA MATRYCY ZE STALI
DIEVAR PODDANEJ AZOTOWANIU.
MATRYCA Z POWOK CVD NIE WYKAZUJE ADNYCH OZNAK
ZUYCIA.
NA OBYDWU TYPACH MATRYC AZOTOWANYCH
ZAOBSERWOWANO RYSY I WERY.
NAJWYSZ TRWAOCI CHARAKTERYZOWAA SI MATRYCA
ZE STALI DIEVAR POWLEKANA POWOK CVD , PONIEWA PO
PRZEPROWADZONYCH WSZYSTKICH OPERACJACH WYCISKANIA
(7,5 TONY PROFILI) NA POWIERZCHNI JEJ BIENI NIE
ZAOBSERWOWANO RYS I WERW.

BIBLIOGRAFIA:
KASPRZYCKA, E. DYFUZYJNE WARSTWY WGLIKW TYTANU WYTWARZANE NA
POWIERZCHNI STALI W PROCESIE TYTANOWANIA PRNIOWEGO. INYNIERIA
MATERIAOWA 2005, NR 5, S. 688-690.
URBACZYK PAWE. TECHNIKI KIERUNKOWE OTRZYMYWANIA POWOK
PRZECIWZUYCIOWYCH [ONLINE]. [DOSTP 19.10.2014]. DOSTP W INTERNECIE:
HTTP://ZSSIO.PL/WP-CONTENT/UPLOADS/2013/11/TECHNIKI_KIERUNKOWE.PDF
MYNARCZAK A., JAKUBOWSKI J.: OBRBKA POWIERZCHNIOWA I POWOKI
OCHRONNE. WYDAWNICTWO POLITECHNIKI POZNASKIEJ, POZNA 1998.
K. LUKASZKOWICZ, L. A. DOBRZANSKI, G. KOKOT, P. STACHOWSKI,
CHARACTERIZATION AND PROPERTIES OF PVD COATINGS APPLIED TO EXTRUSION
DIES, VACUUM 86 (2012) 2082-2088.