Professional Documents
Culture Documents
Bolum 14
Bolum 14
Ders
Yariletkenler Yaplar
Ec
Ec
Ef
Ev
Ev
Bu blm bitirdiinizde,
Yariletken Eklemler
Yariletkenlerden yararlanma bunlar farkl tipte katklayarak (n- veya p-tipte) bir araya
getirerek eklemler oluturmak ile gerekletirilir.
ki farkl eklemlerden bahsedebiliriz:
i) Ayn Tr Eklemler (Homojunction):
Ayn tr yariletkenden oluturulmu n- ve p-tipi yariletkeni birletirerek oluturulan
n
p
eklemler (rnein Si:Si, Ge:Ge)
Bu tr eklemlerin retimi kolay
ve maliyeti ucuzdur, fakat ok
verimli
devre
elemanlar
retilemez.
Si
Si
Ef
Ef
Ef
Si
Ge
Ef
Ef
GaAs GaAlAs
n
Ef
4
p-tipi
E=0 Boluk
q
q
Ec
Ef
Ev
Ef
q (i fonksiyonu): Bir elektronu Fermi seviyesinden (Ef) bolua (E=0) gtrmek iin gereken enerji
5
q (elektron affinity): Bir elektronu iletim bandndan (Ec) bolua (E=0) gtrmek iin gereken enerji
1/ 2
2Vo
ND
d1 =
(
)
q N A (N A + ND )
1/ 2
2 Vo
NA
d2 =
(
)
q
N
N
N
(
+
)
D
A
D
Vb
Vb : Yapsal (Built-in)
potansiyel
d : Tketim (depletion)
blgesi
Ec
Ev
1/ 2
2 Vo 1
1
d = d1 + d 2 =
(
+
)
q NA ND
idrift
inet = idrift
idif
+ idif = 0
I (V ) = I k (e qV
kT
1)
p-n ekleminin ular arasna uygulanan pozitif gerilim ile (ileri besleme) eklem zerinden geen
7
akm stel olarak artar. Negatif gerilim altnda (ters besleme) ise akm nce gerilimden bamsz
kk bir deer alr (karanlk akm), daha byk gerilimlerde ise stel olarak artar.
I (V ) = I k (e qV
1)
p +
kT
ileri besleme
V= +V
Vb
Ec
Ev
idif
Ef
I (V ) = I k (e qV
p V
Ters besleme
Vb
idrift
V
Ters besleme
V= -V
Ik=karanlk akm
Ec
Ev
1)
Ik
kT
I k = qA(
Ef
Dp
Lp
pn +
Dn
np )
Ln
p -
Ters besleme
I (V ) = I k (e qV
Vb
Ev
idrift
1) I k e qV
I
Vb
V
Ters besleme
V= -V
Ec
kT
Ef
kT
Metal-Yariletken Eklemler
p-n eklemlerinin birok kullanl zellii sadece metal-yariletken eklem yaplarak da
oluturulabilir. Metal, ar katklanm n tipi malzeme olarak dnlebilir.
Metal
Elektron
Deik (hole)
Atom
+
Vb
Ec
Ev
d = d2
11
I = I k (e qV / kT 1) I op
n
Lp
p
Ln
n
Lp
Vo
E
p
d
Ln
Ec
Ef
Ev
(foton/s)
idif
idrift
inet = idrift ( ) + idif
ik << iop ( )
Ik altnda
gop=0
g1
g2
g3
I = I k (e qV / kT 1) I op
I op = qAg op (d + Ln + Lp )
I
gop=0 karanlk
I = I th (e qV / kT 1)
12
Elektron
Deik (hole)
Atom
Ge: p-tip
q
Ec
Ef
Eg=1,87 eV
Ev
E=0 Boluk
E
Eg=1,43 eV
Ef
13
Hetero Yaplar-1
GaAlAs: n-tip
Elektron
Deik (hole)
Atom
GaAs: p-tip
birletirmeden
nce
E=0 Boluk
Ec
Ef
Eg=1,87 eV
E
Eg=1,43 eV
Ef
Ev
Ec
Ef
Ev
birletirmeden
sonra
Ec
Ef
Ev
14
Hetero Yaplar-2
Farkl yasak bant aralna sahip malzemelerin oluturduu arayzde, bant (iletim ve deerlik
band) kesiklilik gstereceinden kuantum etkilerin grlebilecei kuantum kuyular oluur.
GaAlAs
GaAs
Ec
Ec
Ef
n p
Ef
Ev
Ev
y
x=L
2 Boyutlu Elektron
gaz (2BEG)
vy= yksek
devingenlik
EF
n p
+ + + +
+ + + +
+ + + +
L
15
Elektronikte:
Hzl transistrlerin yapmnda
Modulation Doped Field Effect Transistor(MODFET veya HEMT)
Hetorojunction Bipolar Transistr (HBT)
Optoelektronikte:
Kuantum kuyulu lazerlerde
Verimli gne pillerinde
In modlasyonunda
Dalga klavuzlarnda
DBR ayna yapmnda
16
Yksek Devingenlik
Geni yasak bantl malzemedeki elektronlarn, iyonlardan ayrlarak kuantum
kuyusunda birikmesi (2 Boyutlu Elektron Gaz-2BEG) iyon etkilemesini
azaltacandan bu blgede dk scaklklarda yksek elektron
devingenliinin olumasna neden olur.
ar
(
sa
l
ma
)
ka
tk
a
to
ml
m
Devingenlik (cm2/V-s)
105
GaAs/GaAlAs
T (K)
101
102
101
imi)
l titre
(krista
y
on
la
i
kileim
eimi
GaAs
et
Fonon
105
106
titr
ristal
imi (k
Devingenlik (cm2/V-s)
etkile
Fonon
106
T (K)
102
18
Yk Modlasyonu-Ters Besleme
p-n eklemine uygulanan negatif gerilim ile (ters besleme) arayzdeki kuantum
enerji seviyelerini dolduran elektonlarn kesikli enerji seviyelerini boaltmas
salanabilir.
Ters besleme - V < 0
V
x
n p
EF
+ + + +
+ + + +
EF
y
19
Yk Modlasyonu-leri Besleme
p-n eklemine uygulanan pozitif gerilim ile (ileri besleme) n tarafndaki
elektronlarn potansiyel engeli aarak arayzde oluan kuantum kuyusundaki
kesikli enerji seviyelerini doldurmas salanabilir.
leri besleme - V > 0
V
x
n p
y
x
z
EF
+ + + +
+ + + +
-
EF
V> 0
20
Yk Modlasyonu-Hzl Elektronik
Yk modlasyonunun bir uygulamas hzl transistrlerdir. Farkl malzemeden yaplm bir
p-n yapya z dorultusunda uygulanan gerilim ile arayzdeki (2BEG) tayclarn younluu
deitirilebilir. Eer bu yapda y dorultusunda kontaklar yaplrsa 2BEG iindeki
devingenlikleri ok yksek elektronlar ile iletim salanr.
Vm
Vd
I
EF
Yksek devingenli
elektronlarn
hareketi
V
x
+ + + +
+ + + +
I
-
n p
EF
y
21
Kuantum Kuyusu-1
GaAs yariletkenine Al ekleyerek GaAlAs yariletkeni oluturulabilir.
GaAlAsnin yasak bant aral (Eg) iindeki Al atomlarnn yzdesine bal olarak
GaAsnin bant aral olan Eg=1,42 eV ile AlAsnin bant aral olan Eg=2,2 eV arasndaki
deerleri alabilir.
GaxAl(1-x)As
+ + + + + +
+ + + + + +
E
GaxAl(1-x)As
GaAs
- - - - - - - - - - -
+ + + + + +
+ + + + + +
E=0 Boluk
Ec
Ef
Ev
Ef
Ec
Kuantum
Kuyusu
Eg
Eg
Ev
22
Kuantum Kuyusu-2
E
d ( x) 2me
+ 2 [ E V ( x) ] ( x) = 0
dx 2
h
(x)= 0
2me E
k=
h
Dalga fonksiyonu
Enerji
n ( x) =
En =
2
n
sin( x)
L
L
2 h2
2
2me L
T=0 K
E3
n=3
E2
n=2
E1
n=1
d 2 ( x ) 2m
+ 2 E ( x) = 0
dx 2
h
L e
n2
n=1, 2, 3....
x
L
L e
n=1, 2, 3....
T=0 K
E
23
Dk Boyutlu Sistemler
Yasak bant
Ec
GaAlAs
Eg(Al)=1.43-2.16 eV
Ev
Lx
Lx
Ly
Lz
3 Boyutlu yap (3B)
Ynsal (bulk) yaplar
Lz
Eg(Al)=1.43-2.16 eV
Ev
Lx
Enerji (Eg)
Ly
Ec
GaAlAs
Ec
Ev
Lx
Ec
E =1.43eV
Ev g
GaAs
Lx
Lz
2 Boyutlu yap (2B)
(kuantum kuyular)
Ly
Ly
Ly
Lz
Lz
Lx >> e
Lx e
Lx e
Lx e
Ly >> e
Ly >> e
Ly >> e
Ly e
Lz >> e
Lz e
Lz e
Lz >> e
24
Durum Younluu
Dk boyutlara inince durum younluu farkllk gsterir:
boyutta (3D) durum younluu (Ynsal)
1 2m
2 2 h 2
*
D3B ( E ) =
3(E)
3/ 2
3(E) E1/2
1/ 2
( E Eo )
E
Eo
m*
D (E) = 2
h
2B
( E E )
n
1
m
h n 2( E En )
*
D1B ( E ) =
E1 E2 E3
1(E)
E
E1
D 0 B ( E ) = 2( E En )
E2
0(E)
E
E1 E2
25
Lx
Eg(GaAlAs)
Enerji
GaAlAs
Lx e
x
Ec
E2e
E1e
Eg(GaAlAs)
Eg(GaAs)
Eg(GaAs)
GaAs
2
Eg(GaAlAs)
GaAs
x
Ec
Eg(GaAlAs)
GaAlAs
GaAlAs
Kuantum Kuyusu
Lx
GaAlAs
GaAs
GaAlAs
hk
Ee =
= EC
2me
GaAlAs
2
Ev
2
hk
Eh =
= EV
2mh
( E EV ) Eg
Frekans = C
=
h
h
E1h
E2h
GaAlAs
GaAs
h n
E =
2me Lx
2
Ev
e
n
Frekans =
GaAlAs
2
h 2 n
E =
n=1, 2, 3..
2mh Lx
h
n
( Eg + Ene + Enh )
h
26
p +
V>0, I >0
gop = 0
A
+V
-V
gop 0
V<0, I <0
V>0, I <0
n
p
-I
III. Blge (V<0, I <0 ): Dedektrler
Akm gerilimden bamsz, optik iddet ile orantl
+
A
+
-V
-
n
p
A
27
+V
-V
Bant aral
Katklama
d
p
V<0, I <0
V>0, I <0
-I
28
Optoelektronik Malzemeler-1
Optoelektronik teknolojisinde kullanlacak malzemeler, elektronik teknolojisine zg
kriterleri salamalarn yansra baz optik kriterleri de salamalar gerekir. Ik
retiminde kullanlacan bir devre elemannn yapmnda kullanlacak bu kriterden biri
malzemenin dolayl bant aralna sahip olmasdr.
E(k)
Eg
Dorudan bant
aralkl malzeme
Optoelektronik Malzemeler-1
Bileik yariletkenlerin sahip olduu dorudan bant yapsnn yansra bileikteki atomlarn
konsantrasyonu deitirilerek bant aral (Eg) da istenilen ekilde deitirilebilir. Bu
sayede doada olmayan istenilen bant aralna sahip yariletken malzemeler elde
edilebilir ve dk boyutlu kuantum yaplar retilebilir.
Bileik yariletkenlerde krlma indisi de konsantrasyona bal olarak deiir (Selmineer
Denklemi). Bu sayede ok verimli optoelektronik devre elemanlar retilebilir.
Yasak bant enerjisi
EgAlAs=3,018 eV
3.5
EgAlAs=2,168 eV
2.5
EgGaAs=1,9 eV
2.0
dolayl
dorudan
1.5
=300
GaAs
50
Al yzdesi
h=1,38 eV
3.3
3.2
3.1
3.0
EgGaAs=1,424 eV
1.0
Krlma indis
AlxGa1-xAs
3.4
Krlma indisi
Bantaral (eV)
3.0
3.6
100
AlAs
2.9
0
GaAs
50
Al yzdesi
100
AlAs
30
Eg(GaAlAs)
Ec
Eg(GaAlAs)
Eg(GaAs)
Eg(GaAs)
Ev
3.0
Bantaral (eV)
EgGaAs=1,9 eV
2.0
1.5
1.0
3.60
3.5
dolayl
dorudan
=300
50
100
h=1,38 eV
n
n(GaAlAs)
n(GaAs)
x
Krlma indisi
3.4
GaAlAs
GaAs
EgAlAs=2,168 eV
EgGaAs=1,424 eV
d (nm)
GaAlAs
2.5
EgAlAs=3,018 eV
3.3
3.2
3.1
3.0
2.9
0
GaAs
50
Al yzdesi
31 100
AlAs
Optoelektronik Malzemeler-3
Farkl trden bileik yariletkenleri bytmek iin uygun bir alttan bulunmas gerekmektedir.
b
film (AlAs)
ba
< %1
a
Alta (GaAs)
a
0,62
InAs
Al I
x n
0,60
InAs
1- x A
InP
a 1-xA
G
In x
0,58
Et
AlxGa1-xAs
0,60
GaAs
AlAs
Ec
Ed
Ev
GaxIn1-xP
GaP
0,64
0
0,2
0,4
x
0,6
0,8
1,0
32
Optoelektronik Malzemeler-4
Bileik yariletkenlerde rg sabiti ve yasak bant enerjisi
33
http://www.tf.uni-kiel.de/matwis/amat/semi_en/kap_5/backbone/r5_1_4.html
Optoelektronik Malzemeler-5
Yariletken malzemeler (tek atomlu ve bileik yariletkenler) yasak bant zelliklerine
gre optoelektronik teknolojisinda farkl devre elemanlarnn yapmnda kullanlr.
Tek Atomlu Yariletkenler
silikon (Si), germanyum (Ge)
+II
III-V
kili (Ternary)
=> GaAs, AlAs, InAs, InP
l (Quaternary) => GaxAl(1-x)As, InxAl(1-x)As
II-VI
kili (Ternary)
=> HgTe, CdTe
l (Quaternary) => CdxHg(1-x)Te
+II
Ik Kaynaklar
-V
Ik Alglayclar
Bileik Yariletkenler
+V
-I
Gne pilleri
Ik Kaynaklar
+V
-V
Ik Alglayclar
-I
Gne pilleri
Optoelektronik Malzemeler-GaAlAs
Bant enerjisi
Krlma indisi
n 2 ( x) = A( x) +
B
2
D
(
x
)
o
2o C ( x)
EgAlAs=3,018
EgAlAs=2,168
2.5
3.6
eV
3.5
eV
EgGaAs=1,9 eV
2.0
dolayl
dorudan
1.5
=300
GaAs
50
Al yzdesi
3.3
3.2
3.1
3.0
EgGaAs=1,424 eV
1.0
h=1,38 eV
3.4
Krlma indisi
Bantaral (eV)
3.0
100
AlAs
2.9
0
GaAs
50
Al yzdesi
http://www.tf.uni-kiel.de/matwis/amat/semi_en/kap_5/backbone/r5_1_4.html
100
AlAs
35
Optoelektronik Malzemeler-InGaAs
InxGa1-xAs iin bant aral (300oK)
Eg(x) = 1.425eV (1.501eV)x + (0.436eV)*x2
Btn x deerleri iin InGaAs direk bant aralna sahiptir.
0,62
InAs
Al I
x n
0,60
InAs
s
As
x
a
1
In xG
0,4
0,6
1-x A
0,58
0,60
GaAs
0,64
0
0,2
0,8
1,0
x
36
http://www.tf.uni-kiel.de/matwis/amat/semi_en/kap_5/backbone/r5_1_4.html
Optoelektronik Yaplar
Bileik yariletken yaplar MBE, MOCVD gibi tekniklerle retilir.
Ec
Ec
Eg(InP)
Eg(In0,53Ga0,47As)
(GaAs)
Eg(GaAlAs) Eg
Eg(GaAlAs) Eg(GaAs)
Ev
Ev
GaAlAs
GaAs
GaAlAs
In0,53Ga0,47As
n-InP
GaAlAs
GaAs
GaAlAs
n+-InP
n+-GaAs
n+-GaAs
Kuantum Kuyular
Basit Heteroyaplar
Farkl bant aralkl
malzemeler (rnein
InP and InGaAs) bir
araya
getirilerek
kuantum yaplar elde
edilir.
GaAs
GaAlAs
GaAs
GaAlAs
elektron
tabancas
Al
bytme
odas
In
transfer
(tampon)
vakum
blgesi
rnek girii
As
altta
rnek hazrlama
odas
Si
rnek transfer
ubuu
yksek vakum
pompalar
Ga
kaynaklar
fosforlu
ekran
karakterizasyon
odas
yksek vakum
pompalar
stnlkleri:
Atomik mertebede kalnlk kontrol,
Saflk derecesi ok iyi olan malzemeler retilebilir,
Bytme srasnda ok iyi katklanma kontrol salanabilir,
Lazer, dedektr ve modlatr gibi heteroyaplar iin ideal.
Olumsuzluklar:
Kristal bytme hz yava < 1 m/sa
Seri retime uygun deil,
Olduka pahal (Million Buck Epitaxy),
39
n-Si
9
n-Si
SiO2yi andracak
kimyasal ilem
Fotoresist (PR)
n-Si
Al
6
n-Si
10
n-Si
Maske
3
7
n-Si
n-Si
11
UV k
4
Boron Difzyonu
n-Si
8
n-Si
n-Si
40
p-Si
Altta
n+-GaAs
Epitaksiyel bytme
Oksit Tabaka
GaAlAs
GaAs
GaAlAs
GaAlAs
GaAs
GaAlAs
n+-GaAs
processing
n+-GaAs
41
zet
Yariletkenlerin kullanl farkl ekilde katklandrlp yaplar oluturmalar
ile salanr. Ayn yariletken farkl tayclarla katklanarak p-n yaplar
(homo) oluturulabilecei gibi farkl malzemeler de farkl trden katklanarak
elektronik ve optoelektronik yaplar (hetero) oluturulabilir.
Farkl yariletken malzemelerin bir araya getirilmesi ile oluturulan ve
kuantum etkilerin olduu yaplar gz ok verimli ve hzl elektronik ve
optoelektronik devrelerin yapmnda kullanlr.
Yariletken yaplarn I-V grafiinin bilinmesi uygulama asndan nemlidir.
Elektronik/optoelektronik devre elemanlarnn alma ilkesi yariletken
yaplardan elektron gei mekanizmasna dayanmaktadr.
42
43