Professional Documents
Culture Documents
Rekordowa Rozdzielczość Układu Scalonego - 1 NM - Osiągnięta
Rekordowa Rozdzielczość Układu Scalonego - 1 NM - Osiągnięta
mode=newtopic&f=202)
Naukowcy z
Narodowego
Laboratorium w
Brookhavenw
Stanach
(h"p://obrazki.elektroda.pl/6679082100_1493887921.jpg)
Zjednoczonych
twierdz, e
udao im si
wytworzy
rekordowo ma
struktur
elektroniczn o rozdzielczoci okoo 1 nm. Zesp badaczy ma nadziej, e t sam technik uda im si nada
strukturom krzemowym nowe, nie obserwowane dotd wasnoci.
Pki co wytwarzane ukadw scalonych o tym wymiarze to dopiero pewna prototypowa koncepcja, ktra
przetestowana zostaa na samym rezycie, wykorzystywanym do litografii w przemyle pprzewodnikowym.
Jako rezyst uywa si PMMA, czyli polimetakrylan metylu, czsto uywany jako alternatywa do szka -
Plexiglass. Dodatkowo, wykorzystano take warstwy silseskwoksanu wodoru.
Rozdzielczo
litografii wizk
(h"p://obrazki.elektroda.pl/9892742400_1493888067.jpg) elektronow o
skorygowanej
abberacji typowo
wynosi okoo 10
nm, nie mniej. Aby poprawi j i osign 1 nm badacze stworzyli specjalny algorytm, sterujcy trajektori
poruszania si wizki po powierzchni rezystu. Zostaa ona dodatkowo zmodyfikowana specjalnym, powolnym
przebiegiem. Dziki temu udao uzyska si wizk elektronw, operujc z rozdzielczoci niemale atomow.
Kolejnym krokiem badaczy z Brookhaven jest sprawdzenie, jak technologia sprawdza si w wykonywaniu
krzemowych elementw o wielkoci 1 nm. Powinno to umoliwi nadanie temu materiaowi zupenie nowych
wasnoci elektronicznych i fotonicznych.
Dotychczasowe osignicia naukowcy opisali w publikacji w czasopimie Nano Le"ers w artykule pod tytuem
"Resolu!on Limits of Electron-Beam Lithography toward the Atomic Scale". Pierwszym autorem publikacji jest
Vitor Manfrinato, pracownik naukowo-badawczy w CFN, wsppracujcy z drugim autorem Aaronem Steinem,
starszym pracownikiem naukowo-badawczym z grupy nanomateriaw elektronicznych w CFN.
Trzyzet
Level 18
yogi009
Level 40
mode=newtopic&f=202)
Message
Reply