You are on page 1of 8
142 VISOKONAPONSKI PREKIDACI Aijelu komore naglo se poveéava. On prsiljava ulje da se krege kroz ‘otvor izmedu pokretog Kontakta i zidova pregrada. Kad pokretni kontakt prode jednu-dvije prograde zapodinje i oduhavanje dué Iuka. Komora je izradena od kvalitemog izolacionog materijala (staklena tkanina sa epok- sidnom smolom) tako da ri0%e podnijeti pritisak od viSe MPa, Povigeni pritisak povecava uspostavijenu dielektriénu évrstoéu i time ubrzava saSenje Luka, a » ‘Slika 5.2.2.1. Primjer komore 2a gaienje luka w ulju: a) sa poduénim ‘oduhavanjem; 6) sa popretnim oduhavanjem Primjer komore za galenje Iuka koja se upotrebljava u malouljnim prokidaéima, a koja koristi prineip popretnog oduhavanja, prikazan je na slici 5.2.2.1b, Pri prekidanju pokretni kontakt kreée se nagore i od- ie od nepokretnog. Medu njima nastaje luk i pritisak u donjem dijela Komore raste. On prsiljava ulje da se kreée po cik-cak kanalu. Kada pokretni Kontakt izade iz donjeg dijela komore, metalni zasloni se za- tvaraju i luk se dijeli na dva dijela. Ulje koje tede iz donjeg dijela ko- more potiskuje luk i prisiljava ga da se izvija i to prema zidovima ka- nala, To stvara neophodne uslove 2a gaSenje Inka. Nakon gaSenja luka pokretni kontakt se diZe iznad nivoa ulja. Gasovi luka prolaze kroz. stoj ulja i izlazo u gornji dio komore, a iz njega kroz eijevi za odvodenje ga- sova napolje. 5.3 Sumporni heksafluorid (SF¢) 53.1 5. MEDULZA GASENIELUKA, Za komore za gafenje Iuka koje se primjenjuju u malouljnim prekida- ‘tims karakteristina je zavisnost trajanja luka od struje koje ima maksi ‘mum kod malih struja. To je posebno izraZeno kod komora sa poduénim oduhavanjem, ‘Veoma brz rast elektroenergetskih sistema u svi tue stalnim poveéanjem instalisanih snaga, nazivnih napona i prenesene energije, kao i sve veéim zahtjevima za pouzdanoséu ugradene opreme mao je poseban odraz na razvoj prekidaéa visokog napona. Prekidati sa Masignim medijima za gafenje elektriénog luka sve mane su bili u stanju da na ekonomigan naéin zadovolje sve ove zahtjeve. Odlutuj kret u razvoju prekidata visokog napona izazvala je primjena gasa sum- pomiog heksafluorida (SF4) koji zahvaljujuéi svojim specifiénim fizi8ko- -hemijskim osobinama, posjeduje superiome karakteristike u pogledu clektrigne izolacije i gaSenja elektrignog Iuka. Fizitke osobine Gas sumpomi heksafluorid (SF,) u tstom stanju je inertan gas, neza~ paljv, neotrovan, nije agresivan, bez. boje je i bez mirisa i ne djluje Stemo na osoblje koje rukuje njime. ‘Slike 5.3.1.1, Sruktura molekule SF gasa 143 144 \VISOKONAPONSKII Ove karakteristike su rezultat, sa jedne strane, simetriéne strukture rmolekula, jr je Sestfluorovin atoma oktaedarski rasporedeno oko atoma sumpora kao centralnog atom (slika 5.3.1.1), pri emu se elektroni sumpora ukljuéuju u fluorove atome, sto daje gasu SF, svojstvo inertnog asa. ‘Visoki stepen simetriénosti molekula SF gasa rezultira malim inter- molekularnim silama Sto za postjedica ima odravanje gasovitog stanja ‘gasa SF do dovoljno niskih temperatura na pritiscima koji se koriste prekidaGima visokog napona (0,4 — 0,7 MPa abs.). Na slici 5.3.1.2. je prikazana ovisnost prtiska od temperature za konstantnu gustinty SF, sa”, S obzirom na to da se u zatvorenoj gasnoj zoni pritisak mijenja sa temperaturom dok gustina gasa ostaje konstanina, za kontrolu istica- nja gasa nije zgodno upotrebljavati manometre, veé se uglavnom koriste {gustinomjeri, odnosno temperatumo kompenzirani’ manometri. Dielek- trigne karakteristike gasa, kao i prekidna moé prekidaéa, zavise od gusti- ne, a ne od pritiska, tako da se performanse prekidada ne mijenjaju na nizim temperaturama sve dok nema teéne faze gas. ae Po pun ot ad S Slika $.3.1.2. Ovisnost pritiska od temperature 1a konstaninu gustinu SP, gasa * Takozvani Me ijgeam 2 gas SF, 5 MEDUIZA GASENIE LUKA Gas SF spada u grupu tedkih gasova. Kod atmosferskog pritiska nje- gova teZina je 5 puta veéa od zraka, Velika molekularna tezina SF gasa uslovijava njegovu veliku gustinu kao i veliki toplotni kapacitet Posebno znéajna karakteristika svakog medija za gaSenj je promjena toplotne provodnosti njegove plazme u funkciji temperature. Toplotna provodnost gasa podvrgnutog luénom praznjenju u opstem slutaju sa- Stoji se od dvije komponente, Jedna komponenta je posljedica obignog kkinetiékog prenosa energije, a druga komponenta je rezultat difwzije energije usljed disocijacije i jonizacie. ‘Na slici 5.2 predstavijene su krive promjene toplotne provodnosti plazme gasa SFz, plazme vodonika i azotne plazme u funkeiji tempera- (ute, Veoma izraZeni maksimumi su posljedica disocijacije gasa, karak- teristigne za vigeatomne gasove. U vrelim zonama luka (osa luka) dolazi do neelastignih sudara molekula gasa pri Gennu oni trose energiju disoci- jacije i raspadaju se na molekulame fragmente koji difundiraju u hladni- je zone gdje se rekombinuju oslobadajuei energiju disocijacije u vidv toplote. Temperatumo podrusje disocijacije gasa SF. je ispod 3000°C i ‘u njemu se mogu naci molekularni fragmenti: SF, SE, F2, S iF. U od- nosw ni azot ovo podrutje je znatno nize i uZe, To je razlog veoma efi- kasnog hladenja luka w SF gasu u zoni prolaska struje kroz nulu sto utige na smanjenje preénika luka, koji je vige nego dva puta manji nego ‘za azot, odnosno zrak (slika 5.3.1.3). Time se poveéava gradijent tempe- rature po preéniku Iuka, Sto dodatno povetava efikasnost odvodenja toplote. Krajnja Konskvenca je bitno smanjenje toplotne vremenske kon- stante luka w SEs gasu (ispod 1 sec, 3t0 je 100 puta manje od vremen- ske konstante zraka). To ini SFs gas superiomim medijem za gaSenje tka Poslijestrujne nule gas SF uspostavija dielektrignu Evrstoéu mnogo bbrée nego zrak(slika 5.3.1.4). Razlog leBi u tome Sto su gas SFe i njego- vi molekularni fragmenti SF,, SF, F; i F elektronegativni. To znaéi dda imaju veliki afinitet prema elektronima. Zahvat elektrona je proces keojim se, na ragun vrio pokretljivih elektrona, stvaraju velo inert, ne- zativni joni. Zbog njihove velo male pokretjivosti u preostalom stablu Iuka javlja se nedostatak nosilaca struje. S obzirom na to da se pojava zahvata clektrona u plazmi luka dogada tek u zavrinoj fazi gaSenja luka, njoj se mote pripisati ozbiljnji uticaj na dobre karakteristike SF gasa u pogledu gaienja luka, Medutim, pojava zahvata elektrona u SFe gasu ima odluéujuéu vaZnost za veoma brzi porast i uspostavljanje visoke vri jednosti dielektritne évrstoge medukontaktnog prostora nakon prolaska struje kroz nulu, 45 146 Ly Si ena ania empertreonzacye 1005 0 OS 10 radius (pu) ‘Slika 5.3.13. Temperatarn profil aka u gasu SF, iazotu Upikyy 50 0 Ne ii aak 2 rjeme posi siujne nae (us) ‘Slika 5.3.1.4. Uspostavljanje dielektrigne évrstace gasa SF ‘ zraka nakon strwine nule Zabvaljujuéi navedenim osobinama SFs gasa, u posljednjih nekoliko decenija SF¢ tehnologija u sklopnoj tehnici visokog napona preuzela je apsolutno dominantnu ulogu. Proizvodnja na bazi starih tehnologija (Pneumatski, malouljni ...) praktitno je danas samo sporadina. ‘5. MEDUII ZA GASENJE LUKA 5.3.2 Produkti razlaganja gasa SF Na temperaturama iznad 500°C podinje disocijacija gasa SFs. Veé na temperaturi od 3000°C gas je potpuno disociran (slika 5.3.2.1). Pod djelovanjem luka u gasu SF. stvara se plazma sa temperaturama i do ne~ koliko desetina hiljada °K. Na tako visokim temperaturama gas SFy se disocira u veliki broj fragmenata 4", tako da gas koji je inertan na temperaturama do 500°K, postaje smjesa hemijski visokoreaktivnih frag- ‘menata i jona Nakon geSenja luka, kada temperatura padne ispod 1000°C, dolazi 4o gotovo potpune rekombinacije gasa SFy. Samo mali dio disociranih fragmenata reaguje sa drugim supstancama. Hemijska reakeija je mogu- 2 sa zrakom, vlagom, metalnim param ili Evtstim materijalima koji se koriste u konstrukeiji komore za gaienje Luka. Zoog toga se veoma paZljivo moraju birati materijai za komoru za _gaSenje luka, Iz istog razloga mora se kod prvog punjenja obezbijediti izuzetna istoda gase SF. Nusprodukti razlaganja su uglavnom gaso od nih sumpomifhfluorida i metalnih fluorida [Nidi sumporni fluoridi (S2F;, SF) brao reaguju sa viagom stvarajuéi fluorovodoninu kiselinu (HF) i sumporni dioksid, kao i stabilnije oksi- de fluora, kao Sto je SOF, Zbog stvaranja fluorovodoniéne kiseline, pod {jim se djelovanjem smanjuje povrSinski otpor vesine Evrstih izolacionith raterijala, posebno je vazno eliminisati prisustvo vodonika (vlage) unu- tar gasne zone. Metatni fluoridi (CuF2, AIFs, WF6, CF.) se obitno jevljaju u formi fine, neprovodne prasine, koja s¢ talozi po zidovima i na dnu komore prekidnog elementa. Bakarni fluorid, koji se javlja u slutaju bakarnih clektroda, izgleda kao bijeli puder, a kada se izlozi zraku iz atmosfere, pretvara se u tetnost plavkaste boje zbog reakeija v kojima nastaje d drirana so. ‘Mnogi od produkata razlaganja su toksitni i predmet su brojnih istra~ Zivanja, Medutim, upravo formiranje tih hemijski reaktivnih i toksiénih fragmenata daje gasu SF, osobine koje ga Line superiomim medijem za izolaciju i gaSenje Luka Nekontaminirani gas sumporniheksafluorid u istom stanju je’vrlo inertan gas, koji hemijski ne reaguje sa drugim supstancama, te zbog toga nema opasnosti od bilo kakve korozije koja bi se mogla pripisati ‘gasu SF, Medutim, kada nusprodukti gasa SFs, koji nastaju pod djelo- ili Evrsti, a sastoje se 147

You might also like