Professional Documents
Culture Documents
EWP
badany
c) d)
obiekt
elastooptyczna warstwa
powierzchniowa
1
przy czym zakres mierzonych odkształceń jest zależny praktycznie od doboru
właściwości materiału warstwy powierzchniowej. Z tego względu TEWP znajduje
zastosowanie m.in. w pomiarach odkształceń elementów maszyn, konstrukcji
budowlanych wykonanych z typowych materiałów (beton, cegła, drewno), skał,
elementów o dużej odkształcalności (np. wykonanych z gumy, tworzyw sztucznych),
kości ssaków, etc. Dzięki tej technice pomiaru możliwe jest analizowanie zjawisk
nieliniowych i dynamicznych, efektów anizotropii materiału badanego obiektu,
wykrywanie pęknięć zmęczeniowych, itp.
2. PODSTAWOWE ZALEŻNOŚCI
Podstawowe związki między naprężeniami i odkształceniami, a efektami
optycznymi w warstwie powierzchniowej opierają się na założeniu, że odkształcenia
występujące na powierzchni konstrukcji przekazywane są wprost na warstwę naklejoną
na tę powierzchnię, co wyrażają poniższe równości:
2
Sσk = N / ( σ1 – σ2 )k (8)
Jeśli przyjąć, że czułość warstwy zależy od jej grubości (przy danej stałej
odkształceniowej fε), tj. Cw = 2 tw / fε , a odpowiedź obiektu na jednostkowe
odkształcenie określa współczynnik Ck = ( 1 + νk ) / Ek, to po uwzględnieniu równania
(5) otrzymamy:
Sσk = CwCk (9)
Z zależności (9) wynika, że dla danego materiału obiektu oraz warstwy, jej czułość
można zwiększyć jedynie poprzez zwiększanie grubości warstwy, co z kolei napotyka
na ograniczenia związane z występowaniem błędów związanych ze współpracą grubej
warstwy z badanym obiektem. Tak więc, w każdym konkretnym zadaniu badawczym
należy przeprowadzić analizę związaną z doborem odpowiedniej warstwy, a przede
wszystkim jej grubości.
Wskaźnik czułości można wykorzystać w praktyce np. do oszacowania
spodziewanej wartości rzędu izochromy. Przykładowo, badając obiekt, w którym
można oczekiwać pojawienia się strefy odkształceń plastycznych, przy spełnieniu
warunku plastyczności Tresci-Coulomba (σ1σ2 < 0), mamy:
( σ1 – σ2 )k = σpl oraz ( ε1 – ε2 )k = Ck σpl (10)
a stąd rząd izochromy odpowiadający pojawieniu się odkształceń plastycznych określa
wzór:
Npl = Ck Cw σpl = 2 ( 1 + νk ) tw σpl / Ek fε (11)
W przypadku zastosowania hipotezy energii odkształcenia postaciowego Hubera-
Misesa, w takich samych obszarach (tj. σ1σ2 < 0), warunek dla granicy obszaru
uplastycznionego ma postać:
3
powierzchniową, poza efektem wzmocnienia, pojawia się gradient odkształceń po
grubości warstwy. Ponieważ mierzony efekt optyczny (rząd izochromy N) jest
uśredniany na drodze biegu promienia światła spolaryzowanego w materiale
dwójłomnym, współczynnik korekcyjny powinien uwzględniać to zjawisko. Jego
wartość można obliczyć ze wzoru:
K2 = ( 1 + BC )[ 4 ( 1 + BC3) – 3 ( 1 – BC2)2 / ( 1 + BC )] / ( 1 + BC ) (16)
w k2 k w2
gdzie: B = E ( 1 – ν )/E (1–ν ),
C = tw / t k .
Jak łatwo zauważyć, ten czynnik nie odgrywa roli, jeśli warstwę nanosi się i
przeprowadza pomiary, w tej samej temperaturze.
4
spolaryzowanego z warstwy są różne (rys. 2), co wynika z konstrukcji polaryskopu i
jego odległości od warstwy (przy danej grubości warstwy).
1
2
warstwa powierzchniowa
warstwa odblaskowa A C
(klej odblaskowy) tw
tw
5
1,2
1
xw 0,8
xk 0,6
0,4
0,2
0
0,5 1 1,5 2 2,5 3 3,5 4 4,5
x tw
Rys. 3. Efekt swobodnej krawędzi warstwy ( tw – łączna grubość warstwy
powierzchniowej i kleju)
W ogólnym przypadku, gdy analityczne wyznaczenie współczynników
korekcyjnych nastręcza poważne trudności, proponuje się wykonanie pomiarów w tych
samych warunkach dla różnych grubości warstwy (np. w zagadnieniach
osiowosymetrycznych wykonanie warstw o dwóch różnych grubościach dla
symetrycznych „połówek” obiektu). Porównanie zmierzonych odkształceń, z
uwzględnieniem różnych grubości warstwy, pozwala doświadczalnie oszacować
wartość współczynnika korekcyjnego.
6
Niezależnie od postaci warstwy, jest ona przyklejana do badanej powierzchni
klejem odblaskowym, sporządzanym najczęściej na bazie tej samej kompozycji, z której
wykonano płytkę, lecz z dodatkiem pyłu aluminiowego. Pamiętając, że podstawowym
założeniem TEWP jest przenoszenie odkształceń przez warstwę kleju tak, aby spełnione
były równości (1), warstwa ta powinna być możliwie cienka (0.1– 0.2 mm), a jej
adhezja do powierzchni obiektu oraz warstwy powierzchniowej bardzo dobra. Uzyskuje
się to poprzez dokładne oczyszczenie oraz odtłuszczenie powierzchni: obiektu i
warstwy, stykających się z klejem. W przypadku materiałów ulegających pasywacji na
skutek kontaktu z powietrzem (np. aluminium i jego stopy), konieczne jest
zastosowanie specjalnych sposobów przygotowania powierzchni (np. ługowanie ługiem
sodowym, a następnie trawienie roztworem kwasu azotowego). Widoki warstw
naklejonych na badane powierzchnie pokazano na rys. 4 i rys. 5.
7
5. APARATURA POMIAROWA I TECHNIKI POMIARU
Aparatura pomiarowa (polaryskopy) stosowana w badaniach w świetle odbitym,
w tym techniką EWP, charakteryzuje się specyficzną cechą konstrukcyjną, tj. wszystkie
zespoły optyczne (filtry polaryzacyjne, płytki fazowe) znajdują się z tej samej strony
materiału dwójłomnego. Najczęściej stosowane są polaryskopy typu V, przy czym ich
konstrukcja umożliwia prowadzenie goniometrycznej kompensacji (pomiaru) rzędu
izochromy, mocowanie kompensatora, aparatu fotograficznego, wymianę źródła światła
na stroboskopowe, etc.. Widok takiego polaryskopu firmy Vishay pokazano na rys. 5.
8
N=1
N=0
N=2
α = 30°
9
określenie N z dokładnością do ± 0.01 rz.iz.. Sposoby pomiaru ułamkowego rzędu
izochromy można zakwalifikować do jednej z dwóch grup, tj. kompensacji
goniometrycznej lub kompensacji za pomocą kompensatorów. W pierwszym przypadku,
pomiar realizowany jest przy użyciu zespołów optycznych polaryskopu (filtrów
polaryzacyjnych i płytek fazowych, tj. ćwierćfalówek), natomiast w drugim – za
pomocą specjalnego przyrządu optycznego (kompensatora). Jedną z technik
kompensacji goniometrycznej jest kompensacja metodą Tardy’ego, za pomocą
polaryskopu, w którym możliwe jest dokonanie wspólnego obrotu filtrów
polaryzacyjnych oraz obrotu filtra analizatora względem ćwierćfalówki. Z reguły
współczesne polaryskopy do badań w świetle odbitym mają również możliwość
sprzężonego obrotu ćwierćfalówek, co ułatwia zmianę polaryzacji. Przystępując do
pomiaru należy w danym punkcie badanego obszaru określić parametr izokliny α, co
wymaga obserwacji w świetle spolaryzowanym liniowo obrazu izoklin podczas obrotu
sprzężonych filtrów polaryzacyjnych. Parametr α odpowiada takiemu położeniu
filtrów, przy którym przez badany punkt przebiega prążek interferencyjny izokliny.
Następnie, po zmianie stanu polaryzacji na polaryzację kołową, należy obrócić filtr
analizatora (względem nieruchomego układu pozostałych elementów) do położenia, w
którym w analizowanym punkcie nastąpi maksymalne wygaszenie światła, co
odpowiada przesunięciu jednej z sąsiadujących z tym punktem izochrom o rzędzie
całkowitym N do tego punktu. Kąt obrotu analizatora jest miarą ułamkowego rzędu
izochromy Nu:
Nu = γ / π (22)
W ogólnym przypadku analizowany punkt znajduje się pomiędzy izochromami o
rzędach: N i (N + 1), a więc rząd izochromy w i-tym punkcie wynosi:
Ni = N + Nu lub Ni = ( N + 1) – Nu (23)
zależnie od tego, która izochroma uległa „przemieszczeniu” podczas kompensacji.
Powyższą procedurę należy powtórzyć dla każdego punktu. Z reguły polaryskopy
wyposażone są w skalę umożliwiającą bezpośrednie odczytywanie Nu, co upraszcza
obliczanie Ni (rys. 8).
10
czarne lub co najmniej szare), o tyle w świetle białym izochromy całkowite N ≠ 0
odpowiadają granicy barw: czerwonej i niebieskozielonej dla N = 1, oraz czerwonej i
zielonej dla N > 1. W trakcie kompensacji barwy te ulegają pewnym zmianom (np. na
brunatną), co jednak nie powinno zasadniczo utrudniać śledzenia położenia ww. granic
barw.
Nieco bardziej złożoną procedurę stosuje się w przypadku kompensacji
goniometrycznej Senarmont’a, która charakteryzuje się mniejszą wrażliwością na błędy
związane z dokładnością ustawienia ćwierćfalówek oraz ich jakością.
Kompensacja za pomocą kompensatora polega na wytworzeniu za pomocą tego
przyrządu dodatkowego opóźnienia względnego (dodatkowego rzędu izochromy ∆N),
który sumując się z nieznaną wartością rzędu izochromy w analizowanym punkcie Ni ,
daje w efekcie pojawienie się całkowitego rzędu izochromy N lub N + 1. Tak więc,
również w tym przypadku prawdziwe są zależności (23), w których Nu = ∆N.
Dodatkowe opóźnienie względne uzyskuje się dzięki wprowadzeniu do układu
pomiarowego polaryskopu (rys. 9a) optycznego elementu opóźniającego. Np. w
kompensatorze Soleil-Babineta jest to układ dwóch klinów kwarcowych (o zbieżności
rzędu 2 – 30). Materiał ten wykazuje dwójłomność naturalną, dlatego przesuwając jeden
klin względem drugiego (rys. 9b) uzyskuje się płynną zmianę wartości opóźnienia (tj.
∆N). W trakcie kompensacji osie podłużne klinów muszą być zgodne z jednym z
kierunków głównych odkształcenia.
a) b) kliny kwarcowe
zmienna
"grubość"
kompensator
11
6. ANALIZA DANYCH UZYSKANYCH TECHNIKĄ EWP
Na podstawie efektów optycznych uzyskanych podczas pomiarów techniką
EWP, można bezpośrednio wyznaczyć różnicę odkształceń głównych ( ε1 – ε2 ) ~ N
oraz kierunek odkształceń głównych α. W ogólnym przypadku, poszczególne składowe
stanu odkształcenia są określane analitycznie lub doświadczalnie, co nosi nazwę
rozdzielania składowych stanu odkształcenia.
Najprostszym przypadkiem analizy danych uzyskanych techniką EWP jest
określenie wartości składowych stanu odkształcenia na krawędzi obszaru pokrytego
warstwą wówczas, gdy krawędzie obiektu i warstwy są nieobciążone, tzn. σn i τs są
równe zero. W takim przypadku mamy:
σ1 ≠ 0; σ2 = 0, a stąd ε1 ≠ 0; ε2 = – ν ε1
a w rezultacie:
ε1 = N fε / 2 tw (1 + νk) oraz ε2 = − ν ε1 = − ν N fε / 2 tw (1 + νk) (24)
x
Rys. 10. Układ współrzędnych lokalnych i obciążenia zewnętrzne krawędzi.
- σn ≠ 0; τs = 0
ε1 = fε {(1 – νk) σn / Ek fε + N [(1 – νk) / 2 (1 + νk) + 1]} / 2 (27)
- σn ≠ 0; τs ≠ 0
12
ε1 = fε {(1 – νk) σn / Ek fε + N [(1 – νk) cos 2(αb – β) / 2 (1 + νk) + 1]} / 2 (28)
u v w u v v w w u
εx = ; εy = ; εz = ; γxy = + ; γyz = + ; γxz = +
x y z y x z y x z
2 x y 2 xy 2 xy 2 x y
x =
2
+ (29); y =
2
- (30)
x 2 y 2 x 2 y 2
2 xy 2 x y 2 x y
x y 2
2
(31)
xy x2 y2
13
7. PRZYKŁADY ZASTOSOWANIA TECHNIKI ELASTOOPTYCZNEJ
WARSTWY POWIERZCHNIOWEJ
Głowica podnośnika
σ1 = 174.25
MN/m2
b
a
σ1 = 261.4
MN/m2
14
σ1 = 348.5 MN/m2
i porównując je z równaniem (3) przy założeniu, że stosunek 2b 1b b , otrzymuje
się równanie granicznej wartości rzędu izochromy Ngr odpowiadającej granicy strefy
mikropęknięć wokół wierzchołka szczeliny:
gr 1 b 2 t w
Ngr (36)
f
15
przedstawia obraz izochrom poprzedzający propagację szczeliny, zaś dolne - obraz po
0.01 sekundy. Widoczna zmiana została wywołana propagacją szczeliny o ok. 40 mm.
Analiza danych uzyskanych za pomocą techniki EWP pozwoliła potwierdzić hipotezę o
"schodkowym" charakterze rozwoju szczeliny przy stałej prędkości obciążania (0.5
kN/s).
16
W przypadku wyznaczania współczynnika intensywności naprężenia (WIN)
techniką elastooptycznej warstwy powierzchniowej, można zastosować metodę
zaproponowaną przez G. Irwina, tj. bazującą na obrazie izochrom wokół wierzchołka
szczeliny (rys. 14).
Wartości Kap należy obliczyć dla różnych wartości r na podstawie pomiarów rzędów
izochrom N(r), a następnie wyznaczyć KI (w wierzchołku szczeliny) na drodze
ekstrapolacji.
17
Wyznaczanie granicy obszaru uplastycznionego
σ1 σ2 ≤ 0
Dla warunku plastyczności Tresci-Coulomba wartość rzędu tzw. izochromy granicznej
określa wzór:
18
Rys. 15. Obraz izochrom całkowitych (z lewej) i połówkowych (z prawej)
w rozciąganym płaskowniku z karbem
LITERATURA
[1] Kapkowski J., Słowikowska I., Stupnicki J.(red.), Badanie naprężeń metodą
elastooptycznej warstwy powierzchniowej, PWN. Warszawa, 1987.
[2] Dally J.W., Riley W.F., Experimental Stress Analysis (3rd ed.), McGraw-Hill, Inc.,
1991.
[3] Aleksandrov A.J., Achmetzianov M.N., Polarizacionno-optičeskie metody
mechaniki deformirujemogo tieła, Izd. Nauka, Moskva, 1973.
[4] Hesin G.L.(red.), Metod fotouprugosti, Strojizdat, Moskva, 1975.
[5] Trumbačev. V.F., Katkov G.A., Izmierenie napraženij i deformacij metodom
fotouprugich pokrytij, Izd. Nauka, Moskva, 1966.
[6] Jankowski L.J., Styś D., Strefa mikrozarysowania w otoczeniu szczeliny w
elementach betonowych badanych metodą elastooptycznej warstwy
powierzchniowej, Arch. Inż. Lądowej, XXXII t., z.2/1986.
19