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  • Los Alcóxidos de Silicio

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    dy Lrlace Quiico vatines uirrica.ugto.mx/reviste Univasidad douoncte Enero 2007 © 04-2006-022718133800-102 Los alcéxidos de Silicio Tleana del Rocio Zamora Gareia Egresada de la carrera de Ingenieria Quimica, Facultad de Quimica, Universidad de Guanajuato, Col. Noria Alta S/N. Guanajuato, Gto. México e-mail: pulga_voladora@ hotmail.com Resumen Se realiza una descripcién breve de los usos y propiedades de los aleéxidos de Silicio Caracteristicas Los alcoxilanos son compuestos quimicos derivados del silicio que consisten de un tomo de silicio unido a un grupo orginico a través de un atomo de oxigeno (SOR). Con respecto a sti nomenelatura, se nombran “alcoxi! Ejempls tipicos: CH:S(OC2Hs)s Metiltrietoxisilano Si(OC:Hs), Tetraetoxisilano La clasificacién de los tetraalcoxisilanos se basa rigurosamente de acuerdo a si el enlace Si- OR permanece intacto o se hidtroliza en la aplicacin final. La susceptibilidad a la hidrélisis, volatilidad y otras propiedades e los akcoxisilanos predive sus aplicaciones particulares. Propiedades Los akoxilanos poseen excelente estabilidad térmica y se comportan como liquidos en un amplio intervalo de temperatura, éste puede ampliarse si se usan sustituyentes de cadena larga. Las propiedades fisicas de loa alebxidos de silicio, que contienen ligaduras siloxano, Si-O-Si, son comparados con bes aceites de silicona, presentan relaciones Cas dy Lrlace Quiico vatines uirrica.ugto.mx/reviste Univasidad douoncte Enero 2007 © 04-2006-022718133800-102 similares pequefias temperatura-viscosidad. los alcoxilanos tienen generalmente agradable arom a frutas, éste se hace menos aparente cuando el peso molecular se incrementa, La descomposicibn térmica se ha observado que ocurre por debajo de 110°C y se presenta generalmente alrededor de los 170°C Si(OCOCHs), > SIO) + 2(CHsCO), La diferencia mis significativa entre los alcoxisilanos y silicones es la susceptibilidad del enlace Si-OR a hi hidrélisis. Los alcoxisilanos son vistos operacionalmente como liquidos que dan lugar al didxido se silicio, que es de importancia comercial considerable. La estequiometria de la hidrolisis para tetraetoxisilano es Si(OC2Hs)x_ + 2HsO dcido-base SiO. + 4CHOH Para esta hidrolisis se prefiere usar acido clorhidrico diluido 0 acido acético porque esto ficilitan la formacion del silanol (SiOH) como producto estable de la condensacién, Cuando mis completa es se inicia h gelacién una variedad ampliade catalizadotres son empleados con este fin. Estos materiales son nombrados endurecedores o aceleradores y se incluyen: el amoniaco, carbonato de amonio, triestanolamina, hidréxido de calcio, éxido de magnesio, diciclohexilamina y acetato de amonio. Elenlace Si-OR esti sometido a una variedad de reacciones aparte de la hidrdlisis y la condensacion. Uno de estos aspectos comerciales mis importantes es la reactividad, se encuentra asociada con la produccién de intermediarios de silicio como agente conector para materiales de silicio mediante vulcanizacién a temperatura mayor que la ambiental. Esta reactividad es en varios casos aniloga a ka ligadua del Si-Cl, excepto que aquellas reacciones son més lenfas la que llega a incrementarse debido al gran tamailo y ecto esfirico del grupo akeoxido Preparacién de ak6xidos de silicio CTs dy Lrlace Quiico vatines uirrica.ugto.mx/reviste Universidad de on noae Enero 2007 © 04-2006-022718133800-102 El método original y de produccin fue descrito por Ebelman’s en 1846 Sich + 4@:HOH = > — S(OCOCHS), + HCL La reaceiin generalizada es: RenSicln + nROH > RenS(OR)a + HC! Toxicidad Los akoxisilanos generalmente exhiben bajos niveles de toxiciiad, posiblemente esto puede asociarse a la hidrélisis de sus productos alcohélicos; se cita como excepciones el tetrametoxisilano, trimetoxisilano, trietoxisilano y algunos compuestos estrechamente rehcionados. Los vapores de estos materiales pueden ser absorbidos directamente dentro del lo tejido de la cérnea causando daiio o ceguera total, El comienzo del daiio en el ojo se nota por una sensacién regular o aspera, usualmente de 2-4 hrs después de la exposicion. Los efectos al estar expuestos a Jos metoxisilanos son raramente reversibles, esto es un consideracién importante, porque la fiagancia agradable a menta o ruta de los ésteres de silicio cuando hay exposicion fiecuente se ignora. Cuando tres grupos etoxi sustituye a grupos metoxi, por ejemplo trietoxi(metoxi)silano (muy toxico), se reduce el riesgo sustancialmente. Usos y aplicaciones Algunas de las aplicaciones en las cuales el enlace Si-OR queda intacto incluyen: Iubricantes, transferencia de calor en fluidos, fluidos hidréulicos dieléctricos y Huidos que se difunden al ser bombeados. En general, los alcoxidos de silicio tienen bajo peso molecular y poor esto se les asocia con propiedades meciinicas. Las aplicaciones en a cual el enlace SLOR se hidroliza incluye: moldes de fundicion de arenas utilizados en TeT< & Lenlace Quinico vorines te htt uirrica.ugto.mx/reviste Universidad de Guanajuato Enero 2007 © 04-2006-022718133800-102 investigacion y vaciado de capas delgadas utilizados para envolturas, para unit refractarios, resins, recubrimientos, cristales Sol-Gel, agentes aglutinantes, promotores de adbesion, cementos, cerimicas, componentes microeléctricos y restawacion de monumentos de piedra. En el desarrollo de esta tikima aplicacién se ha enfocado en gran parte el Grupo de investigacién en Quimica y Tecnologia del Silicio (GIQyTS) de la Facultad de Quimica, Universidad de Guanajuato, En hi actualidad se han dado muchas més aplicaciones de estos compuestos bo que abre mis rutas de investigacién y fortalece los esfuerzos que se han realizado para consolidar el proceso de produccién dentro de esta instituciin. Una de estas aplicaciones es Figura 1 Esquema del proceso sol- gel mediante el que se deposita el alcaxtsilano sobre ia superficie de da madera superficie de madera, en cromatografia de Gases de Alta Resolucién (HRGC). Mediante la tecnologia Sol-Gel se obtienen fases estacionarias para las columnas cromatogrificas. A pattir de la hidrolisis y posterior condensacién del Tetraetoxisilano que actia como precursor, se deposita la fase estacionaria deseada. El tubo capilar de silice fundida se desactiva entonces Jo suficiente, evitando los problemas tradicionales inherentes a una superficie interior altamente activa. Este procedimiento tiene la ventaja de evitar posibles contaminantes que puedad daitar o limitar la vida still de ba fase, Otro ejemplo de aplicacion reciente son Jos recubrimientos para madera depositados mediante el procedimiento Sol-Gel utilizando unm mezch de Hexadeciltrimetoxisilano y — Metiltrimetoxisilano. Esta nueva tecnologia es usada en sustitucion del ‘cromo que es muy téxico y que era aplicado a la madera en forma de sales para mejorar sus propiedaes talks como lh resistencia a la intemperizacion debida sobre todo a la luz solar y a la humedad. La madera recubierta con la combincién de estos dos alcoxisilanos exhibe buena resistencia a le absorcién de agua y a la degradacién fotoquimica. Mediante el proceso sol-gel se forma una pelicula de redes de polisiloxano sobre la CHT dy Lrlace Quiico vatines uirrica.ugto.mx/reviste Universidad de canoe Enero 2007 © 04-2006-022718133800-102 Fig. 2. Imdgenes obtenidas mediante microscopta electronica de barrido de muestras de madera: 4) Madera recubierta con ta mezcla de alcoxisitanos, b) madera sin ningiin recubrimiento, c) madera recubierta con la mezcla de alcoxisilanos y sometida a intemperizacion (poco deterioro), ) madera sin recubrimiento sometida a intemperizacién (deterioro severo). Fotos tomadas de [1 Finalmente, otra aplicacién es la formacion de peliculas de $i02 depositadas mediante plasma a presién atmosférica y bajas temperaturas sobre sustratos de silicio. El TEOS ha llegado a ser el reactivo preferido para la deposicion quimica de vapor de $102 mediante plasm en la manufictuca de circuitos inte gardos de tiltima generacion debido al tipo de cubierta que forma, Lo que hace un dispositivo de plasma es generar un flujo de gas ionizado con alta concentracién de étomos o radicales dependiendo del gas alimentado al dispositive proporeionando un método de limpieza, remocién, modificacion y de depésito de materiales a temperaturas mucho més bajas (desde 75°C hasta 350°C) que si se hiciera mediante una simple reaccién solamente: oxidacién térmica del silicio a 900°C. Dentro del GIQyTS a lo largo de varios ails se ha venio desarrollando el proceso para la produccign de alcoxisilanos (mayormente para TEOS) comenzando por la investigacionen. TES S72 175 &

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