CAPITULO 5. Dindmica y control de columnas de destilacién 5.1. Dinamica de una columna de destilacién, El principal objetivo en un sistema de destilacién es entregar productos de calidad consistente, Si se cuenta con las especificaciones que nos garanticen la mejor calidad, entonces los costos de operacién serdn bajos, la recuperacién de producto sera alta al igual que la capacidad de la columna. Este modelo esté restringido al control de la calidad de un solo producto a través de la ma- nipulacién del balance de material de la columna, Se presentan los esquemas de control y las estrategias utilizadas en el control de composicién directo e indirecto y al final se estudia lo relacionado con el control de desacople y el controlador de entalpia En primer lugar, trataremos las dinamicas de control. En una refineria de pe- tréleo se puede tener una columna de 5 a 20 metros de altura. A la entrada estamos introduciendo el producto a destilar (alimentacién F), esto representa Ia tasa de flujo de alimentacién. DINAMICA Y CONTROL DE PROCESOS QUIMICOS 1La composicién de F siempre sera expresada y corresponde al contenido de composicién del componente mas volatil, y es representada por x, En esta seccién siempre se tratara con destilacién binaria; esto es, dos componentes, por ejemplo agua y alcohol, y lo que se desea en el proceso de destilacién es separarlos. El principio en que se basa la separacién es que uno de los compo- nentes es més volitil. De esta manera, si el contenido del componente mas volatil de la alimentacion es x, ysise calienta la mezcla liquida en el rehervidor (reboiler), entonces este liquido es de nuevo vaporizado y devuelto a la columna como alimentacién de 92flujo de vapor. El producto que sale del rehervidor es conocido como producto de fondo (bottom product) y es denotado por B, mientras que su composicién es denotada por x,. El liquido es calentado usando un flujo de vapor a través de un intercambiador. El vapor realimentado ala columna desde el rehervidor es denotado por V (ver figura 5.1). Flujo de Enfriamiento Seccién de Condensador Rectificacién Calor Extraido D (destilado) Nv E xy Seccién de Stripper Rehervidor Figura 5.1. Columna de destilacién tipica Dentro de la columna se tienen principalmente platos, los cuales pueden ser anillos construidos en vidrio o cerémica, pero usualmente ellos son platos de copas de burbujeo, a través de las cuales hay intercambio de calor. Los platos generalmente son circulares de tal forma que hay un intenso contacto entre el vapor y el liquido, y el vapor extrae del liquido el componente mas volatil. Ena figura 5.1 se observa finalmente el componente mas volatil, D, con una compo- sicién dada por ¥p, La parte baja de la columna es llamada “Stripper Section” y la parte superior “Seccién de Rectificacién’” La mayoria de las columnas tienen platos con copas de burbujeo, mientras que otras columnas son construidas con material ceramico o con vidrio, existiendo de todas maneras muy buen contacto entre el Iiquido y el vapor. Si la columna no tiene platos, pero es llenada con granos u otros materiales, entonces ellos definen una altura equivalente al plato teérico (HETP), y se ten. DINAMICA Y CONTROL DE PROCESOS QUIMICOS 93dra una cierta altura que puede calcularse y que es equivalente a un plato teé- rico, El disefio va de acuerdo con el mimero de platos, por ejemplo si se tiene una columna de diez platos (platos reales) o una columna de destilacién de absorcién construida con los materiales mencionados anteriormente (platos teéricos); sila altura de cada plato es de 30 cm entonces en diez platos tedricos se tendrd una altura total de 3m. El vapor en el tope de la columna va hacia un condensador, en donde es enfriado y condensado. El calor que fue adicionado por el vapor en el rehervidor (reboiler) es extraido aqui. Por otra parte el liquido que sale en el fondo de la columna de destilacién es cenviado al reboiler en donde es vaporizada la parte mas volétil. La concentra- cién de la parte mas volatil X,, en la alimentacién F, es mayor que la que se tiene en el fondo de la columna. Esta parte vaporizada (V) es enviada de nuevo dentro de la columna, mientras que la otra parte que sale del reboiler (parte liquida) es el producto de fondo B. Aunque el producto de fondo no necesa- riamente es liquido en su totalidad, la mayor parte de este producto esté en fase liquida y el contenido del componente mas volatil es muy bajo, debe ser bajo (aproximadamente 1 %). En el condensador, el destilado es parcialmente reflujado (refluxed), siendo el reflujo denotado por R y el destilado por D (flujo de destilado). El contenido x, debe estar cerca de uno, debe ser 0.99 0 0.95. El destilado es facil de vaporizar, pues corresponde al componente més volatil, entonces la temperatura en la parte superior de la columna es mas baja que en 1 fondo, de tal forma que en la columna de destilacién total se tiene un perfil de temperatura, suponiendo que la presién en la columna es constante. Sin ‘embargo, la presién no permanece constante, esta cambia, luego el perfil de temperatura cambia haciendo el proceso global mas dificil de controlar, pues hay interacciones entre la presién P y la temperatura T. La manera como se soluciona este inconveniente es tratando de desacoplar el sistema y tratando de mantener Ja presién constante. Si se mantiene la presién P en el tope de la columna constante, se tendré un lazo de control de presin en el tope, con un controlador de presién (PC) para controlar la presién. Si la presién permanece constante en una mezcla bina- ria, por ejemplo Etanol - Agua 0 Tolueno - Benceno, entonces la temperatura 4determina completamente la composicidn de la mezcla, De esta manera, con- trolando la temperatura en el tope del plato superior y controlando la presién P, en la columna, también se estar controlando la composicién en el plato superior. Esta composicién corresponde a x, en el flujo D, es la composicién del destilado del producto y es lo que va a generar la utilidad El producto de fondo usualmente sera desechado, aunque se presentan casos excepcionales donde este producto puede ser de interés comercial, en la ma yoria de los casos es menos importante que el destilado. Hasta ahora, se ha de- finido toda la terminologia que tiene que ver con una columna de destilacién. El reflujo R que viene del condensador entra a Ja columna y se dirige hacia el fondo de esta. El niimero total de platos en la columna est dado por N, mien- tras el mimero de platos en la “Stripper Section” y en la seccidn de rectificacién esta dado por my N- n respectivamente. ‘Ain sila mezcla que entra a la columna no es una mezcla binaria, esto es, sise trasa de una destilacién multicomponente, el truco es definir un componente Kalto y un componente K bajo, de tal manera que se tiene un comportamiento similar a si se tuviera una mezcla binaria y esta es llamada una mezcla Pseudo Binaria, La teoria general es Pseudobinaria para mezcla de hidrocarburos (el petréleo es una mezcla de hidrocarburos muy complicada), y lo que se hace en este caso es definir una fraccién baja y una fraccién alta, esto es una fraccién con K bajo y una fraccién con K alto, Manteniendo la presién constante se consigue un control indirecto de la composicién, controlando la temperatura en el tope con el uso de un controlador de temperatura (1c). Se puede conseguir control directo de la composicién, pero aqui la presién no tiene que ser constante, puede ser constante pero no es necesario, pero en esta estrategia se debe utilizar un controlador de andlisis (AC) o un controlador de composicién (CC). DINAMICA Y CONTROL DE PROCESOS QUIMICOS 95Algunos autores prefieren usar un CC, otros prefieren usar AC, algunos usan cromatografia de gas pero el equipo ¢s muy costoso y, ademés, no es continuo. Con esta técnica se logra obtener un anilisis cada 10 minutos y esto constituye un nuevo problema Lo que se tiene de esta manera es un sistema de control de datos muestreados (sampled data control system), con muestras que se estin midiendo pero que se debe esperar 10 minutos para obtener el resultado. En este sistema de datos muestreados el periodo de muestreo es de 10 minutos y aqui se puede usar la teoria de un sistema de control digital; sin embargo el tiempo de muestreo es demasiado grande, mucho ms grande que para controladores digitales. Es conocido que para sistemas de control digital el periodo de muestreo es de 1 segundo o un milisegundo, cuando se trabaja con controladores digitales reales. El perfodo de muestreo determina el desempeio del controlador, de tal forma que se tendré un mal desempefio del mismo si se tiene un periodo de muestreo muy grande y se usa la teoria de control digital. En el control indirecto de la composicién se usan termocuplas o terméme- tros de resistencia (Ollero, 1997), para medir la temperatura los cuales son mis baratos, muy confiables y continuos, mientras que el control directo es discontinuo y costoso, Algunas perturbaciones que se presentan dentro de la columna, se propagan por si mismas a través de la fase de vapor mientras otras se propagan a través de la fase liquida, siendo la propagacién de las primeras mucho mis répida, De esta forma se tienen dos (2) velocidades diferentes lo que hace el modelo atin mas complicado, aunque esto depende de la direccién de propagacién de la perturbacién. Como se puede ver se pueden construir modelos cada vez mas complicados, pero los modelos simples son ficilmente manipulados por los Ingenieros de Control, modelos que tengan una entrada y una salida (SISO) Ahora se discuten algunos modelos simples: 1, Esta relacién corresponde a una primera buena aproximacién: 96Ae 1+st, [5.1] Se trata de un sistema de primer orden con tiempo muerto, el cual puede también ser utilizado para ajuste de PID usando la técnica de Cohen-Coon y para algiin otro propésito. En este caso r, =100n donde la constante est dada en segundos / plato, Esta constante de tiempo depende de la columna que se tenga, mientras la constante 100, tiene que ser determinada experimental- mente, pero se presenta aqui para tener una idea del orden de magnitud de la constante de tiempo +, y del tiempo muerto involucrados en el sistema. De esta forma, sise tiene 100 segundos/plato, la propagacién desde F hacia x, va, hacia abajo 1 platos. La constante de tiempo muerto se tomard mucho més pequeita, 7,=10 n (hacia abajo). Si se desea tener Ja relaci6n entre el destilado x, y la alimentacién F, entonces se tiene: xp BE™ Ce FO l+st, 1+st, [5.2] Esta corresponde a una relacién desde F hasta x,, y se puede ir directamente a través de la fase vapor en una direccién y la segunda propagacién de pertur- bacién se presentara recorriendo toda la columna. Primero hacia el fondo, el rehervidor alimentando el vapor (V) ala columna, y de acuerdo a la direccién del flujo, este ser4 lento hacia el fondo pero muy répido hacia arriba. Este es- quema resulta mas complicado y aqui se tendré 100(N-n) (53) Esta constante corresponde a la seccién de rectificacién (camino directo desde F hasta x,) mientras que en esta misma seccién el tiempo muerto esta dado por: 14, = 2(N =n) (Hacia arriba) [5.4] DINAMICA Y CONTROL DE PROCESOS QUIMICOS 97Debido a que r,, fue dada hacia abajo y t,, hacia arriba (10 segundos para r, 1, ¥ 2 segundos para t, se observa que es cinco veces mas rpido en la fase de vapor. Esto es solo con el fin de presentar una idea de cémo es el comporta- miento dinémico en una columna de destilacién, Para la seccién “Stripper” se tiene: +, =100(N +n) [55] tz, =10n+2N [56] Ahora se presenta una relacién (Funcién de Transferencia), entre el destilado x, ya tasa de vapor V. Xp _ De Vi Test, [5.7] El rectificador (rectifier) corresponde al tope de la torre (tope de la columna de destilacién), La constante de tiempo desde Vhasta x, esta dada por: t,=100N [5.8] 14, =2N [59] Una iltima funcién de transferencia se puede conseguir relacionando la com- posicién del producto de fondo x, con la tasa de reflujo R, asi: x, Be RR [+st, [510] Mientras més reflujo se tenga, mas se tendré que condensar, y mayor sera la cantidad de calor a extraer y por supuesto una mayor cantidad de calor se de- berd usar en el rehervidor. Esto significa un buen producto pero una operacién més costosa, pues se tendré un consumo de energfa y entalpia en la operacién muy alto, Las constantes de tiempo desde R hasta x, corresponden a: 98=100N [5.11] 10N [5.12] La figura 5.2 representa la relacién entre la composicién deseada y la utilidad, por supuesto es solo para tener una idea de la relaci6n, En la gréfica se observa que para variar la composicién desde 0.95 a 0.96 la utilidad es casi el doble, es una operacién muy costosa pero si se consigue mejor control se puede ganar més dinero, de tal manera que para 0.96 se ganar mas que para 0.95. Esta es una relacién mas que proporcional, incrementando el precio del producto. A uss 0.95 0.96 comPosicION Figura 5.2. Relacién composicién-utilidad Para una columna de 50 platos facilmente se pueden tener constantes de tiem- po de 10 minutos y constantes de tiempo muerto de media, una hora e inclusi- ve mas, con lo que se concluye que se trata de un proceso lento. En destilacién los procesos son muy lentos, mucho més lentos que los sistemas eléctricos los cuales tienen constantes de tiempo que inclusive a veces no alcanzan minutos. En columnas de destilacién los procesos son muy lentos, el consumo de energia es alto y son procesos muy dificiles de controlar. DINAMICA Y CONTROL DE PROCESOS QUIMICOS 995.2, Estrategias de control 5.2.1. Control indirecto de composicién Como se discutié anteriormente, bajo esta estrategia se necesita mantener la presién P constante, ;Cémo se puede controlar la presién en una torre de des- tilacién? Se pueden tener dos clases de control indirecto, el cual también es lamado control de balance de material (Material Balance Control). La pri- mera clase es el control de balance de material directo en el que se controla D, y la segunda clase es el control de balance de material indirecto el cual corresponde al control de reflujo (R). 5.2.1.1. Control de Balance de Material Directo El balance de material consiste simplemente en que la tasa de flujo de alimen- tacién es la entrada a la columna (al sistema), y esta est dada por la salida que corresponde al destilado D, mas la tasa de flujo del producto de fondo B. Fx, = Dx, + Bey [5.13] F=D+B [5.14] D_X;-%p Fo x) -X, Luego, como se tienen solo dos componentes, para alguno de ellos se tendra solo un balance de material, pues el otro automaticamente es también satisfe- cho. Hl contenido a través de la alimentacién para el componente mas volétil esta dado por x, para el destilado por x, y para el producto de fondo es repre sentado por x, En conclusién, el balance total se satisface, y si uno de los balances, por ejem- plo el balance de masa para el componente mis volatil se satisface, entonces el balance de masa para el componente menos volatil también se satisface (subs- traccidn). Se tienen dos ecuaciones para dos componentes (mezcla binaria), la 100‘ecuacidn total y el balance de masa del componente mis volitil, y de aqui se puede encontrar la relacién entre el destilado D y la alimentacién F, D/F. Si se desea controlar el balance de material y el producto en la parte superior es el producto més variable, entonces se debe ttasar de hacer control en el tope de la columna. La salida estara dada por D, mientras la entrada por F, asi que Jo mejor que se puede hacer en control de balance de material directo es ttasar de controlar D directamente, esto es controlar la tasa de flujo de destilado di- rectamente. Por esta razén este control es llamado control directo de balance de material. 4Cémo se puede controlar D? La figura 5.3 muestra la estrategia de control a utilizar. Se tiene en la parte superior de la columna un controlador de temperatura (TC), siendo su sefal enviada a un controlador de flujo (FC), y esto es por supuesto una configura- cién de controlador en cascada. La sefial del controlador de flujo va hacia una valvula ubicada en el tope para regular el flujo de reflujo R. Lazo Maestro rF1), yNcorresponde al niimero total de platos de la columna, La volatilidad relati va es el pardmetro que identifica la facilidad de separacién del componente en una mezcla por destilacién, La Ley de Dalton da la presidn total en una mezcla gaseosa (mezcla ideal) como la suma de las presiones parciales de los componentes: P=>P, (5.20) En una mezcla ideal, la presin parcial ejercida por un componente es propor- cional a su concentracién en el vapor: P=yP [521] Donde y, es la fraccién molar del componente i en el vapor. Por otro lado la ley de Raoult establece que en una mezcla ideal la presidn parcial ejercida por un componente en equilibrio es el producto de su concentracién molar x, en el liquido y la presién de vapor P*, del componente puro a esa temperatura: 108= xP! [5.22] Combinando las dos tiltimas relaciones (ecuaciones 5.21 y 5.22 respectiva- mente), se pueden relacionar las concentraciones de vapor y liquido respec- tivamente: Pp K, [5.23] La razén y/x, es conocida con el nombre de “razn de vaporizacién en equi- librio’, 0 factor K para el componente i, Para sistemas no-ideales, se deben usar valores de K determinados experimentalmente en lugar de usar datos de presién de vapor para evaluar la ecuacién 5.23, la cual puede resolverse para cada componente en una mezcla para lograr una comparacién de sus con- tribuciones al liquid y el vapor en equilibrio. Dividiendo dicha ecuacién en términos del componente é por la misma ecuacién en términos del componen- te j se tiene una expresién para la volatilidad relativa del componente i con respecto aj [5.24] De nuevo, para sistemas no ideales, los valores reales de K daran resultados mis exactos: [5.25] Puesto que en este texto no se pretende dar una gufa para el disefio de las co. lummnas de destilacién, sino mds bien abordar las diferentes estrategias de con- trol de una columna para una mezcla binaria, datos exactos en equilibrio de K no son requeridos. Sin embargo, es importante entender que estos factores varian con la temperatura, la presién y la composicion DINAMICA Y CONTROL DE PROCESOS QUIMICOS 109Si el componente i en las ecuaciones 5.24 Y 5.25 Es mas volatil que el, entonces ki sera mayor que kj, y a, excederd la unidad. Cuando a=1,0, la separacién de los dos componentes por simple destilacién es imposible. En un sistema binario los métodos grificos de disefto de columna se basan en curvas de equilibrio de y Vs x. Para mezclas binarias ideales, los puntos de la curva de equilibrio pueden ser calculados sustituyendo y, por I-y,y x, por I-x, Los subindices pueden ser eliminados y se tendra de la ecuacién 5.26: Ahora y puede encontrarse en términos de x: —_s_, ’"Texca-p 1527] 0 x puede ser evaluado en términos de y: » *aowap 178) Las ecuaciones 5.27 y 5.28 corresponden a las ecuaciones 5.18 y 5.19 limita- das anteriormente en donde y corresponde a la composicién del destilado x, (componente mas volatil) y x corresponde a la composicién del componente menos volatil x,, mientras a representa la volatilidad relativa promedio a tra- vés de la columna. Infortunadamente, a varia con la composicién, indicando un comportamiento no-ideal. Cuando las ecuaciones 5.27 y 5.28 se usan para cilculos bandeja a bandeja o para construir una curva de equilibrio, « debe ajustarse para las respectivas composiciones en cada célculo, Sino hay ninguna separacién, entonces x, = x, y en este caso $ en la ecuacién 5.17 sera igual a uno y si por el contrario hay una buena separacién entoncesx, tendré un valor cercano a uno y x,1un valor cercano a cero, ¥ de esta forma Ia separabilidad es muy alta, mucho mayor que uno, Un valor de separabilidad $= 1 no es bueno, pues en este caso no hay separacién, y lo que se necesita es tuna separabilidad alta, Se puede probar que la separabilidad es una funcién de V/F, y como V es una funcién de calor que es transferido en el rehervidor (g,), esto es las calorias transferidas (joules), entonces se tiene: Se (4) A(®) (5.29) F) IVF De nuevo, aqui se tienen que considerar dos casos: se puede controlar q, man- teniendo a F (tasa de alimentacién), constante 0 con Fvariable, Sise tiene Fva- riable se necesitaré un controlador de relacién (FRC) como se mencioné antes (recuerde que el flujo de vapor es proporcional a q,) Sila razdn entre Fy q, se mantiene constante, entonces se considerara una separabilidad $ constante, lo cual significa que se tiene un buen controlador para controlar la composicién en el tope ya sea directa o indirectamente, entonces también se tendra un buen controlador de la composicién del producto de fondo xy, simulténeamente. Por supuesto, también es posible aplicar control de balance de material para el producto de fondo B, esto es cambiando B en lugar de D y cambiando la tasa de vapor V, en lugar de R, Esto es completamente andlogo al esquema realiza- do para el producto de tope, pero ahora se realiza la misma configuracién para el producto de fondo B. Aqui se tendra una medicién de la composicién de fondo x, y de la tempe- ratura del plato mas sensible. Encontrar el plato més sensible para sensar la temperatura es una tarea mis facil que en el caso del control de destilado D. El sensor se puede colocar en la parte mas baja, pues en esta regién se encuentra el plato més sensible; es aqui donde se tiene la composicién del fondo, la cual se desea controlar. Es de observar que la ubicacién del plato mas sensible es una cuestién de experiencia. El control de composicién dual también es llamado control de calidad en dos puntos y la idea para lograrlo es mantener Ja separabilidad $ de la columna DINAMICA Y CONTROL DE PROCESOS QUIMICOS mconstante. Ahora surgen las siguientes preguntas: {Cul es mejor, el control de balance de material directo o el indirecto?, ges mejor hacer control sobre el destilado 0 sobre el producto de fondo? En cuanto a esto, ya se mencionaron anteriormente algunas de las ventajas que tiene el control directo con respecto al indirecto, y para responder la segunda pregunta hay una regla general que dice que es mejor controlar el flujo que sea mais bajo, de esta manera si el flujo de tope (destilado) es mas pequefo que el flujo de fondo (D < B), entonces se decide hacer control sobre Do sobre R, pero si D > B entonces mejor se controla el producto de fondo, esto es se con- trola Bo la tasa de vapor V. Pero al controlar B entonces se estaré cambiando el flujo de fondo de acuerdo al cambio de temperatura en la columna y asi ser4 imposible mantener cons- tante la separabilidad S, Si se desea controlar B ya sea por control directo (B) © indirecto (V) sera imposible lograr control de composicién dual, pues se tendrd solo control sobre x,, pues es muy dificil mantener $ constante, y de esta forma es muy complicado controlar x,, en este caso. Esta es una de las principales razones del porqué muchos ingenieros no desean controlar B y prefieren hacer control del destilado D 0 sobre R en el tope de la columna, Otra buena razén es que el producto de tope es mas costoso y atin si D > B se prefieren las configuraciones de control en el tope de la columna. Si el producto de fondo B, presenta el menor flujo ( B < D) y ala vez x, es el pro: ducto ms costoso, entonces no habra que hacer ninguna eleccién, pues nece- sariamente se tendré que controlar el fondo, y en este caso no habré ningtin interés en controlar x,y, por lo tanto, no ser necesario mantener S constante La eleccién de la estrategia de control depende de cusl es el producto mas costoso de la separacién en la columna de destilacién, pero usualmente este corresponde al producto de tope, o destilado d. Mantenga s constante para controlar x,, si B es un producto importante para la comercializacién.Lo explicado anteriormente es un principio general en sistemas de control multivariable, pues se puede probar por ejemplo que se tienen mejores resul- tados de control, controlando la calidad de la corriente (flujo) mas pequefia en el caso de tener dos corrientes de flujo. 5.2.1.4. Dos maneras de controlar $ El préximo punto a discutir, es sobre cémo se puede controlar la separabilidad S. La figura 5.5 muestra la columna de destilacién y las dos maneras como se puede hacer control de la separabilidad S. La tasa de flujo de vapor V es medi- da con un controlador de presién diferencial (PDC), el cual mide la diferencia entre las presiones en el tope (punto a) y en el fondo (punto b) de la columna, En la parte baja se tiene el rchervidor, e inmediatamente se puede controlar la tasa de flujo de vapor V, esto significa g,, midiendo la caida de presién y con- twolando V, cambiando el calor adicionado por el vapor. v ane T<\— vapor REHERVIDOR Figura 5.5, Estrategias del control della separabilidad S Otra posibilidad de controlar §, a menudo usada, es cuando la tasa de flujo de alimentacién F no es constante, esta se mide y luego se usa un controlador de relacién de flujo (FRC), pero esta no es realmente una relacién del flujo, es la relacién del flujo F, ala presién diferencial, pero esta tiltima representa la tasa DINAMICA Y CONTROL DE PROCESOS QUIMICOS nsde flujo de vapor V, y finalmente esta es la manera como se controla S, esto es la relacién V/F. 5.2.1.5. Control de la presion en la colurna ‘Vamos ahora a estudiar cémo se hace el control de presién en una columna de destilacién, ya que todos los esquemas de control estudiados hasta el mo- mento suponen que la presién es constante. En el control directo se tienen dos controladores, uno para controlar el reflujo Ry el otro para el destilado D. Se presentard algiin problema cuando uno de los controladores perturbe al otro?, por supuesto que hay interaccién, pero si se llegan a tener problemas se deberan tener los modelos, se debera modelizar, pero lo que se esta discutien do en esta parte es la configuracién general. La interaccién més fuerte es con los controladores de temperatura (TO) y presin (PC), y como resultado de la composicién se tendré una interaccién muy fuerte Sin embargo, esta interaccién ser mas pequena si se usa el control directo, y esta es otra de las razones del porque se prefiere usar la estrategia de control de balance de material directo en lugar del indirecto. El control de balance de material directo minimiza las interacciones No es posible dar pruebas del porqué las interacciones del control de presién y del control de temperatura se minimizan por la aplicacién del esquema di- recto, ya que este es un fenémeno observado en la prictica, es debido a la experiencia, Sin embargo, si se quiere probar, se necesitara modelizar comple- tamente la columna (white model), o sea encontrar la funcién de transferencia, lo cual ser4 atin més complicado. De esta manera, nadie va a dar una prueba completa acerca de este fendmeno, y se tendré que trabajar con base en la experiencia, en experimentos realiza- dos sobre la planta fisica y al final se tendré el resultado de la experiencia de muchos ingenieros y personas en general que han trabajado en este campo. Laprimera posibilidad para controlar la presién P en una columna de destilacién es por condensacién parcial, esto es usando un condensador parcial. ;Qué sig- nifica esto? Bien, en el tope de la columna se tiene la salida de vapor, el cual es condensado en el condensador y luego enviado a un balén el cual es llamado balén de reflujo o “Knockout drum”. De esta manera el condensador es un re cipiente separado del baldn de reflujo, El liquido drenado del baldn de reflujo es bombeado al tope de la columna, y aqui se observa que no se condensa completamente, pues lo que entra al balén de reflujo es una mezcla de liquido y vapor y el destilado D es retirado aqui como vapor. La figura 5.6 muestra el esquema de control correspondiente a esta estrategia Ly D (vapor) AOTRA SecoLusna pe DESTILACION Intercambiador Figura 5.6, Control de presién por condensacién parcial. Solo se condensa la cantidad suficiente para tener liquido como reflujo R ya que este debe ser liquido, y el resto ser4 destilado que sale en forma de vapor, y que puede ser alimentado a otra columna si se desea, pasando por un intercambia- dor de calor. De esta manera, al menos el calor puede ser usado en un intercam- biador de calor tipo “shell-tube” en una segunda columna de destilacién. En condensacién parcial, la idea es medir la presién en el tope de la columna y enviar esta sefial a un controlador de presién (PC). En la parte superior del balén de reflujo se tiene la salida de vapor o destilado. La presién puede ser medida en el tope de la columna o en el condensador, DINAMICA Y CONTROL DE PROCESOS QUIMICOS usLa segunda posibilidad para controlar la presidn, es por condensacidn total Con esta configuracién tanto el destilado D, como el reflujo R se encuentran en fase liquida, y aqui todo tiene que ser condensado, Tanto el condensador como la valvula de control deben ser mas grandes que los usados en el caso anterior, siendo por esta razén una estrategia de control mas costosa, La pre sign es medida en el tope de la columna y la seial enviada a un controlador de presién (PC). A la salida de la columna hay una vilvula que generalmente ¢s tipo mariposa (Butterfly), a través de la cual fluye la tasa del vapor V (V = D + R). La presién en el tope de la columna es controlada regulando el flujo de vapor a través de esta vilvula mediante el controlador PC. Para elegir entre condensacién parcial y total, se deben tener en cuenta aspectos como: + :Qué es lo que se desea controlar? + {Qué tan importante es la tasa de reflujo de vapor V? Las anteriores preguntas son algunas de las consideraciones para la eleccién final de la estrategia de control. La figura 5.7 muestra el esquema de control de presién por condensacién total. FLUJO DE AGUA “< DE ENFRIAMIENTO Destilado Figura 5.7. Control de presién por condensacién total Con el esquema de condensacién total se tienen varias posibilidades. Por ejemplo otra manera de usar el condensador total es como sigue: se tiene el 6controlador PC y para el control de la presidn en el tope se controla el flujo de agua de enfriamiento del condensador. Este también corresponde a un lazo de control de presién, y también es ilustra- do en la figura 5.7. Al igual que en el caso anterior todo es condensado, tanto Ia tasa de reflujo como el destilado, la diferencia es que en lugar de colocar la valvula en la linea de flujo de vapor, esta se coloca en la linea de flujo de agua de enfriamiento, y puede ser una vilvula con caracteristica exponencial o de igual porcentaje. Otra posibilidad usada para controlar la presi6n de la columna es la inyeccién de gases inertes en el condensador, por ejemplo, nitrégeno o aire. La desventa ja de este método es la siguiente: la inyeccién de gases inertes al condensador es controlada mediante una valvula de control, pero mientras més gas inerte se tenga en el condensador, mucho mayor seré la transferencia de calor y por lo tanto mucho mayor ser4 la tasa de flujo de enfriamiento y el condensado, dando como resultado una menor presién. Sila presién en la columna se est incrementando se necesitara mayor flujo de agua de enfriamiento. ‘Al inyectar gases inertes en el condensador, se deteriorard la transferencia de calor, y la presién no caera tanto cuando la tasa de flujo de enfriamiento se in- ‘crementa comparada con el caso en que no se inyectan gases inertes. Este no es el caso cuando se tiene una columna de vacio, pues siempre se tienen fugas en el condensador, y siempre se estard succionando aire del mismo. En todas las refinerfas, para los hidrocarburos, el aire es un gas inerte. En una columna al vacio que tiene gas o aire, automaticamente se tiene que esté impide la reduc- cién de presién, evitando de esta manera que se dé una buena condensacién, Ambos métodos tienen la desventaja de que el gas inerte es separado en el tope de la columna, y si se tiene aire o gas en el tope, entonces la medicién de la temperatura se dificulta, y esta es una de las razones del porqué el sensor de la temperatura nunca se coloca en los platos més altos. Como vemos, muchas situaciones estén conectadas una a otra, hay muchas con- sideraciones diferentes. Un ingeniero tendra una solucién, definiré su propia DINAMICA Y CONTROL DE PROCESOS QUIMICOS n7estrategia de control, pero otro tendrd una solucién ligeramente diferente. Es muy dificil probar cuél es la mejor solucidn, esto solo se lograria si se llevan ala prictica los diferentes esquemas y se realizan mediciones y experiencias por un periodo de tiempo. Usualmente esto no se hace, lo que se tiene es una estructura que es implementada y se trata de operar con esta y luego la mejor operacién es ajustada y es muy al azar que se decide cambiar la estructura de control. Algunas columnas complicadas tienen corrientes laterales (Side-Streams) y aqui se tendrén atin un mayor niimero de posibilidades, pero este no es tema del presente texto, ya que no corresponde al caso estandar. La figura 5.8 muestra otra posibilidad para controlar la presién de la columna de destilacién y que es a menudo usada en la practica. Lazo MAESTRO ¥ VAPORS = Figura 5.8, Control de la presin por regulacién de a vilvula de alimentacién de vapor al rehervidor. El nivel en el rehervidor es controlado usando un controlador de nivel (LC), mientras el flujo del producto de fondo B, se controla usando un controlador de flujo (FC), siendo el LC el lazo maestro y el FC el lazo esclavo. usLa presién en el tope de la columna es medida y el flujo de vapor al rehervidor es controlado por un controlador de presién (PC). Mientras mayor sea la pre- sign P en la columna, menor serd el calor que se desea, y asi se reduciré el flujo de vapor y como consecuencia la pre: Volviendo al caso de las columnas de vacio, aqui siempre se tendr4 una acu- mulacién de aire en el tope y asi se necesitard una vilvula de venteo, lo cual constituye otro problema, Esto se muestra en la figura 5.9, en donde la vélvula de venteo A retira el aire del condensador, y es usada en una estrategia de con- tuol “Split Range” Enfriamiento Figura 5.9. Control “Split Range” Por ejemplo, si la presién se incrementa desde 0 hasta el 75%, mientras mayor sea la presién, més abierta esté la valvula que regula el flujo de refrigerante, 0 sea con el 75% de la presion, la vdlvula B debera estar completamente abierta, mientras en 0% debe estar completamente cerrada. Cuando la vélvula B se encuentra completamente abierta, se tendra la maxima tasa de flujo de agua de enfriamiento y asi la maxima condensaciéa, que pro- ducird la maxima reduccién de presidn, esto es retroalimentacién negativa. Si la presién se incrementa por ejemplo desde 50% a 100% de la presién no- minal, la valvula de venteo A que estaba cerrada se abrira también al pasar la DINAMICA Y CONTROL DE PROCESOS QUIMICOS ns.presién por encima del 75%, lo que significa que el aire escapard del condensa- dor. Esta operacién es llamada venteo de la columna, y causar4 reduccién de la presién de la misma. Cuando se tiene mucho aire en el tope de la columna, siempre se necesitarA una valvula de venteo, esto también hace parte dela seguridad, pues la presién en el tope de la columna no se incrementara demasiado. La hipotesis principal en las estrategias de control discutidas hasta ahora, es que la presién debe mantenerse constante colocando un controlador de pre- sién (PC) y controlando el perfil de temperatura se estar controlando la com- posicién de la columna. En conclusién, se tiene que hay una fuerte interaccidn entre los lazos de control de temperatura y presidn, pero esta se hace menor si se aplica control de balance de material directo. La anterior estrategia se ha venido aplicando desde hace apenas diez afios en la practica, Con esta se consigue ahorro de energia particu. larmente en la condensacién parcial, ya que solo se esta condensando una parte (reflujo) y el calor que sale del balén de reflujo continuard en la corriente del proceso y sera utilizado en posteriores alimentaciones a otras columnas, y asi no se tendré que calentar més la alimentacién a estas columnas, lo cual significa ahorro de energia, pues en algunos casos no se necesitard el rehervidor. 5.2.2. Control directo de la composicién Otra forma de hacer control de la composicién se presenta en la figura 5.10 y aqui la idea es medir sobre el flujo de vapor V, y enviar la sefial a un contro- lador de anslisis (AC). Luego lo que realmente se necesita es medir la com- posicién del tope (x,), y asi la medicién se debe realizar en un lugar muy alto en la columna que es donde se tiene la composicién de tope. La medicién de composicién es menos perturbada por el aire que las mediciones de tempera- tura, pues solo se esta tomando una composicién quimica del vapor que est 120ascendiendo en la parte del tope de la columna. La medicién también se puede tomar en la fase liquida, pero usualmente el control de anilisis se hace en la fase de vapor. VAPOR CONTROL EN CASCADA Figura 5.10, Estrategia de control de composicién directo (tope) Esta configuracién con solo el AC es menos sensible a cambios en la columna, a menudo se prefiere usar el control en cascada, el cual es mas costoso, pues se utiliza un cromatégrafo de gas sobre el controlador de temperatura. De esta manera se tendrin dos niveles (Control Jerarquico). Si se utiliza solo el AC se tendra una buena medicién después de 10 minutos, pero no existiré control en el rango comprendido entre el periodo de mues- treo, pero si se adiciona el TC el control mejorara, debido a que este tiltimo es continuo y esta configuracién puede ser llamada también control de balance de material directo. Si la presién cambia, si P no es constante en la columna, al menos se estar seguro de que la composicidn estara bajo control; pero si se tiene un buen control de presién no ser necesario implementar un controla- dor de andlisis (AC). DINAMICA Y CONTROL DE PROCESOS QUIMICOS aaSila presién es muy dificil de controlar, si cambia demasiado, es necesario implementar un controlador de anilisis (ac), con el fin de mantener la composicién del tope x, constante. Figura 5.1. Estrategia de control de composicidn directa (fondo). La misma idea puede ser aplicada en el fondo de la columna (ver figura 5.11) Aqui se tiene un controlador de nivel (LC) el cual debe estar 0 no en cascada con el lazo de flujo del destilado de fondo B. Una posibilidad es medir directamente la concentracién utilizando el lazo de control de anélisis en el fondo (rehervidor), y por supuesto, de nuevo se tienen dos entradas y dos salidas (sistema MIMO). En este sistema acoplado, de dos entradas y dos salidas se puede considerar el desacople. Esto ser4 considerado posteriormente, pues corresponde a otra estrategia de control. crVAPOR os % Figura 5.12. Control directo de composicidn usando control indirecto debalance de material Otra posibilidad para controlar la composicién en el tope x,y que a menudo es muy usada en la siguiente: Se tiene un controlador de nivel (LC) regulando la valvula de salida de destilado D, y se tiene un lazo de control de flujo sobre Ia linea de reflujo, luego se trata de control indirecto. El reflujo sera controlado esta vez, no por la medici6n de temperatura sino por un controlador de anali- sis (AC) ubicado en el tope del FC (ver figura 5.12). Esto significa que la composicién x, es medida y su sefial enviada al AC el cual controla el FC, De nuevo se tiene control en cascada en donde el lazo maestro es el lazo AC y el lazo esclavo es el lazo de regulacién de flujo del reflujo R. En conclusién, el esquema de la figura 5.12 corresponde al control directo de la composicién, midiendo x, en el tope de la columna (es un principio), usando control indirecto de balance de material Una ligera adaptacién al esquema anterior es medir la tasa de flujo de vapor Vala salida de la columna de destilacién y traer esta sefial a un controlador de relacién de flujo (FRC). Esta estrategia es muy exitosa y algunas veces es llamada RYSKAMP. DINAMICA Y CONTROL DE PROCESOS QUIMICOS 1235.2.3. Control de desacople (decoupling control) Esta estrategia es utilizada si se presentan muchas interacciones en la columna de destilacién. Si al realizar experimentos se encuentra que existen muchas interacciones en la columna, entonces se puede llevar a cabo la estrategia de control representada por la figura 5.13. \_ Figura 5.13. Control de desacople. En la figura 5.13 no se han dibujado todos los lazos de control, que se pueden implementar, pues una columna de destilacién puede tener entre 10 y 15 con. troladores, los cuales pueden presentar interacciones y si estas son muy fuertes entonces se tratar de desacoplar los lazos de control principales. Solo se han representado en la figura los lazos de control principales para los cuales se ha considerado el desacople. Se mide x, y esta sefial se envia a un AC, y luego se observa una valvula que regula el reflujo R. Lo que finalmente se tiene es una combinacién de “control indirecto de balance de material y composicién directa’, 124Por otro lado en el fondo se tiene otto lazo de control interesante. La compo- sicién del fondo x,, es medida y su medicién es enviada a un controlador de anilisis AC, si se cree que sea necesario. En este lazo se controla el suministro de vapor al rchervidor. Lo més importante en este esquema ¢s la interaccién que se presenta entre los dos controladores de composicidn. La interaccién entre los lazos de control x, yx, esté representada por el siguiente diagrama de bloques. G, x, G 12 G play Gy > %B Figura 5.14. Diagrama de bloques del sistema en lazo abierto, El lazo de control del destilado tiene la funcién de transferencia G,,, mientras 1 lazo de control del producto de fondo esta representado por la funcién de transferencia G,, En la medicién del destilado x, se puede adicionar la fun. cién de transferencia G,, sobre la vilvula que regula el flujo de vapor en el rchervidor y la funci6n de transferencia G,, sobre la otra valvula, De esta manera se tienen cuatro controladores con el fin de controlar dos sa- lidas (x, y x,), las cuales son las mas importantes de mantener bajo control. DINAMICA Y CONTROL DE PROCESOS QUIMICOS 125Figura 5.15. Decacople “Feedforward” Ahora en la Figura 5.15 se presenta la estrategia de control feedforward (des acople feedforward). Muy a menudo este tipo de control se utiliza para elimi- nar la perturbacién debida a la variacién en la alimentacién de la columna F. Sin embargo, se puede probar que la alimentacién no necesariamente es la perturbacién, algunas veces es Flo que est cambiando muy rapido y entonces se necesitara implementar controladores de relacién, en donde se mide F (la perturbacién) y la sefial se envia a un controlador de anilisis (AC), siendo esta seftal junto con la sefial de medicién del destilado enviadas al FRC para regular el reflujo. En conclusién, si x,esta cambiando entonces realmente se tiene que tomar un AG, x,se mide, pues es variable (composicién de alimentacién) y luego se ali- menta al FRG, y luego se aplica la relacién D/F. De esta manera se tiene un controlador de relacién para D/F dado por: D_X;-Xp Fo Xp—* 1530] 128La relacién en si misma es cambiada por el controlador de anilisis de x; esta relacién no es constante, por lo cual es cambiada por el AC mediante la ecua cién 5.30. Esto es hecho en un paquete de software de control de procesos para control de columnas de destilacién. La ventaja principal en control binario, si se aplica composicién dual, es el minimo consumo de energia. Casi todas las columnas de destilacién son con reflujo y sobre reflujo, y con una tasa de reflujo muy alta R/D (10 0 20). Mientras mayor sea el reflujo, ma- yor seré la energia necesaria Es mejor operar al minimo reflujo y bajo la estrategia de control de composicién dual, pues esto representa un control de ahorro de energia. 5.2.4. Controlador de entalpia En una columna de destilacién de control de energia puede ser mejor usar controladores de entalpfa. Estos controladores no solo controlan temperatura, sino también computan la entalpia, Enla figura 5.16 se observa un controlador de entalpfa en el fondo de la colum- na, En un lazo de control de flujo (un lazo esclavo), se tiene un transmisor de flujo (FT), el cual transmite la informacién a un controlador de entalpia (EC), © un computador de entalpia. A cada lado del rehervidor se tiene un trans- misor de temperatura (TT) y usando la siguiente relacién se puede obtener el contenido de entalpfa QC, (T, [5.31] Donde, p: Densidad del fluido €,:Calor especifico DINAMICA Y CONTROL DE PROCESOS QUIMICOS aTC» CONTROL DE TEMPERATURA ET = TRANSMISOR DE FLUJO. TT=TRANSMISOR DE TEMPERATURA TEMPERATURA DE, FONDO. coneaee REHERVIDOR CONTROLADOR DE ENTALPIA Figura 5.16. Estrategia de contzol de entalpia, El controlador de entalpia recibe las sefiales de los transmisores de temperatu- 1a (I, y T,) y la seal de flujo Q y con la ecuacién (5.31] calcula a entalpia h. Deeesta manera se tiene una idea de como la caida de temperatura multiplicada por el flujo (que corresponde a la energia total o entalpfa), es transferida des- de un lado al otro del rehervidor. El controlador de entalpia puede ser usado como un controlador esclavo con el fin de controlar la temperatura de fondo. Para esto se usa un controlador de temperatura (TC) en el fondo de la colum. na, el cual corresponde al controlador maestro, La misma estrategia puede ser usada en el tope de la columna, 5.3. Diseito de controlador pid para columna de destilacién binaria 5.3.1. Descripcién del proceso La columna de destilacién binaria que se considera es la denominada Colum- na A. La columna tiene 40 platos y produce la separacién de una mezcla bina- ria con una volatilidad relativa de 1.5, en productos con 99% de pureza. El mo- delo se realizé basindose en balance de masa y balance de energia en estado estacionario, y consiste de un conjunto de ecuaciones diferenciales algebraicas no lineales. Las siguientes hipétesis fueron usadas para la construccién del 128modelo: mezcla binaria, presién constante, volatilidad relativa constante, equi- brio en todas las etapas, flujo molar constante, no existencia de vapor holdup, dinamica de liquido linealizada, pero que afecta al flujo de vapor (el denomi- nado efecto “K2”) ha sido incluido. La columna tiene 40 platos, un recalenta- dor en la base y un condensador del flujo de salida en el tope de la columna® Condenser Overhead Product D, x, Figura 5.17. Diagrama esquemitico de la columna de destilacién binaria. Las condiciones iniciales y de estabilidad de la columna de destilacién, estan dadas por el sistema presentado en el modelo Simulink colas_nonlin.madl ane- xo en los archivos Matlab. *Tomado de Columna de desiacién binaria, disponible en htp://wwwfecta unrarfisis/columna,binaria htm DINAMICA Y CONTROL DE PROCESOS QUIMICOS 19Tlcole_nontin el eat yey srubten Fombt Too He O]eUS) ! 56/657 26))-— few 7 SHbeo He Figura 5.18. Modelo Simulink para columna de destilacién binaria, con valores iniciales de operacién, Las variables de entradas son: + ReflujoL Flujo de vapor V + Flujo de producto destilado en el tope D + Flujo de producto destilado en la base B + Flujo de alimentacién F + Composicién del Flujo de alimentacién 2F + Fraccién del flujo de entrada qF Las variables de salida son: + Composicién en el tope de la columna + Composicién en la base de la columna + Flujo de retencién en el condensador + Flujo de retencién en el rehervidor + Composicién Tray Las anteriores variables de ettrada ~ salida del modelo de la columna de des- tilacién, estan definidas en el archivo colas.m, que es la $-function progra- 130mada en Matlab para vinculo con modelo no lineal de la columna, Ja cual se encuentra en el mfile colamod.m. La respuesta de la columna de destilacién es: apace compose spatial on ondonn enables de peracion oo Tap Composton >) a8 i Tp a) Figura 5.19. Comportamiento de la composicin en el tope de la columna en condiciones iniciales de operacién. ‘espns de compose noir an Cline conan estaies de apace Tam oa) ox! Figura 5.20. Comportamiento de la composicién en la base dela columna en condiciones iniciales de operacién, DINAMICA Y CONTROL DE PROCESOS QUIMICOS 131Respuesta 1 “sy 70 a0 Figura 5.21. Comportamiento del flujo de retencidn en el condensador en condiciones, iniciales de operacién, Respuesta dol fio retonido en a ehervidr en condiciones astables de operacton 5 Tompo (600) Figura 5.22. Comportamiento del flujo de retencidn en el rehervidor en condiciones iniciales de operacién, 132Para la sintonizacién de los controladores PID de Ja columna de destilacién, se inicié con los pardmetros de los controladores dados en el modelo Simulink colas_PI.mdl. Figura 5.23, Modelo Simulink colas_PI.mdl con control PI para la columna de destilacién, De la figura 5.23 se observa que los valores de las constantes Kp y Ti de los controladores PI son: + Para lazo Top Composition ~ Reflux L: Kp=26.1 Tix 26.1/3.76 + Para lazo Bottom Composition ~ Boilup V Kp= -37.5 Ti= -37.5/3.31 DINAMICA Y CONTROL DE PROCESOS QUIMICOS 133‘Tomando los valores anteriores como parametros de arranque para la sinto- nizacién de los controladores PID y utilizando el bloque PID de Simulink, se modificé el modelo Simulink segiin se muestra en la figura 5.24, obteniendo los siguientes resultados: Ta Columna de Destlacién = = = = Lie Cle | Figura 5.24, Modelo Simulink para sistema de columna de destilacién controlada mediante PID a partir de pardmetros de arranque dados en el modelo colas_pi.mdl. Para el lazo de Composicién en el Tope de la Columna (Top Composition) - Reflujo (Reflux L), se fijaron los siguientes valores de constantes Kp, Ti y Td: 134eens ID Conialr ra ek) Enle enpessons lor pepeiona, nig and deivave ter. Pests Parameter Popational Mm inl fextet Deiat feria Figura 5.25. Valor de las constantes Kp, Ti y Td para controlador PID correspondiente al azo ‘Top Composition ~ Reflux. El resultado de la simulacidn, con valor de referencia para Composicién del Tope de la Columna igual a 0.96, se tiene Respuesta del sistema on azo cerrado utlizando PID cul sof owl \ () Top Compas Tempe (sea) Figura 5.26. Sefal de salida de Composicién en el tope de la columna con valor de referencia igual a 0.96 mediante controlador PID. Para el lazo de Composicién en la base de la Columna (Bottom Composition) ~ Reflujo (Boilup V), se fijaron los siguientes valores de constantes Kp, Tiy Td: DINAMICA Y CONTROL DE PROCESOS QUIMICOS 135(elite eed ecu ec le FID Corie (ns) Enter expressions or pepoiins rear, and deve ten Pulesbe Pareles Frnsrona cE | Inert gn5/331 ] Deva | Figura 5.27. Valor de las constantes Kp, Ti y Td para controlador PID correspondiente al laz0 Bottom Composition ~ Boilup, El resultado de la simulacién, con valor de referencia para composicién en la base de la columna igual a 0.02, se tiene: Batam Composton Respuesta dol sistema on lazo cerrado utlizardlo PIO 0.024 aml | o.o1e| 0.016| 0.014] ] 0.012| oor 010 2 ~~ «DCCC Tiompo (soa) Figura 5.28. Sedial de salida de composicién en la base de la columna con valor de referencia 136 {gual a 0.02 mediante controlador PID.Para el control de los lazos de retencién en el condensador (Condenser hol- dup) - Flujo de Producto destilado (Product Distillation Flow D) y Retencién en el rehervidor (Reboiler holdup) - Flujo de producto base (Bottom product Flow B), respectivamente, se utiliz6 controladores proporcionales, de acuerdo con las recomendaciones dadas en el modelo colas_PI.mdl mostrado en la figura 5.24, Los resultados obtenidos son: Respuesta dol sistema en lazo cord ullizando contol P 0.85; os 0.65| Condenser holdup os ‘Tiompo (sea) Figura 5.29. Sefial de salida del flujo de retencidn en el condensador de la columana con valor de referencia igual a 0.7 mediante controlador P DINAMICA Y CONTROL DE PROCESOS QUIMICOS 137Respuesta del sistema on lazo cerrado utlizando control P| 0.9] Rebolrhldup 0] 02s! Tempo (seg) Figura 5.30. Sefial de salida del flujo de retencidn en el rehervidor de la columna con valor de referencia igual a0.3 mediante controlador B 5.3.2, Anilisis de resultados. Las mejoras obtenidas mediante el controlador PID implementado en el modelo columna_dest_controlada.mdl con respec to al controlador PI implementado en el modelo colas_PL.mdl, radican en la optimizacién de la respuesta en los lazos condenser holdup - Product dis- tillation Flow D y Reboiler holdup - Bottom Producto Flow B, dado que el controlador PI de los lazos ‘Top Composition - Reflux y Bottom Compo- sition - Boilup generaba un error en estado estacionario en dichos lazos de control. Segtin los resultados mostrados en las figuras 5.26 a 5.30, se observa los efectos de los controladores PID sintonizados a partir de los valores de arranque tomados del modelo colas_PI.mdl, pudiéndose ajustar los valores de referencia para la composicién del tope de la columna en un valor de 0.99 (alta concentracién del producto destilado), lo cual es ideal para los intereses eco- némicos de produccién de productos destilados. De igual manera, se pudiese ajustar el valor de referencia de la composicion de la base de la columna en un valor igual a 0.01, para que el aprovechamiento del proceso de destilacién sea éptimo, 138