공개특허 10-2014-0053035

(19) 대한민국특허청(KR) (11) 공개번호 10-2014-0053035

(12) 공개특허공보(A) (43) 공개일자 2014년05월07일
(51) 국제특허분류(Int. Cl.) (71) 출원인
C08J 5/18 (2006.01) C08L 23/00 (2006.01) 도레이 카부시키가이샤
B32B 27/32 (2006.01) 일본 103 도꾜도 쥬오꾸 니혼바시 무로마찌 2쪼메
(21) 출원번호 10-2013-7034932 1방 1고
(22) 출원일자(국제) 2012년08월01일 (72) 발명자
심사청구일자 없음 마나베, 이사오
(85) 번역문제출일자 2013년12월30일 일본 5208558 시가켄 오츠시 소노야마 1 쵸메 1방
(86) 국제출원번호 PCT/JP2012/069560 1고 도레이 카부시키가이샤 시가 지교죠 내
(87) 국제공개번호 WO 2013/027547 사카모토, 미츠타카
국제공개일자 2013년02월28일 일본 5208558 시가켄 오츠시 소노야마 1 쵸메 1방
(30) 우선권주장 1고 도레이 카부시키가이샤 시가 지교죠 내
JP-P-2011-183614 2011년08월25일 일본(JP) (뒷면에 계속)
(74) 대리인
장수길, 박보현
전체 청구항 수 : 총 14 항
(54) 발명의 명칭 성형용 필름 및 그것을 이용한 성형 전사박
(57) 요 약
본 발명은 가공시의 우수한 치수 안정성과 성형성을 양립시키고, 나아가 표면 외관도 우수하기 때문에, 성형 가
공을 실시하여 여러가지 성형 부재에 적합하게 사용할 수 있어, 성형 가식 용도에 이용되는 성형용 필름을 제공
하는 것을 과제로 한 발명으로, 환상 올레핀계 수지를 주성분으로 하는 성형용 필름으로서, 120℃에 있어서의 저
장 탄성률이 101㎫ 이상 3000㎫ 이하, 170℃에 있어서의 저장 탄성률이 100㎫ 이하인 성형용 필름을 제공한다.

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(72) 발명자 사토, 노부유키

다카하시, 고조
일본 5208558 시가켄 오츠시 소노야마 1 쵸메 1방
1고 도레이 카부시키가이샤 시가 지교죠 내
이에키, 도시야
일본 5208558 시가켄 오츠시 소노야마 1 쵸메 1방
1고 도레이 카부시키가이샤 시가 지교죠 내
일본 5208558 시가켄 오츠시 소노야마 1 쵸메 1방
1고 도레이 카부시키가이샤 시가 지교죠 내
다카우치, 신지
일본 5208558 시가켄 오츠시 소노야마 1 쵸메 1방
1고 도레이 카부시키가이샤 시가 지교죠 내

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특허청구의 범위
청구항 1

환상 올레핀계 수지를 주성분으로 하는 성형용 필름으로서,

120℃에 있어서의 저장 탄성률이 101㎫ 이상 3000㎫ 이하, 170℃에 있어서의 저장 탄성률이 100㎫ 이하인 성형
용 필름.

청구항 2

제1항에 있어서, 환상 올레핀계 수지를 주성분으로 하는 환상 올레핀층(A층)의 적어도 한쪽면에, 환상 올레핀계

수지를 주성분으로 하는 환상 올레핀층(B층)을 적층시켜 이루어지는 적층 필름이며,

상기 A층은 A층 전체 100 질량％에 대하여 폴리에틸렌계 수지 및/또는 폴리프로필렌계 수지를 1 내지 40 질량％

포함하는 것을 특징으로 하는 성형용 필름.

청구항 3

제2항에 있어서, B층/A층/B층의 3층 구성인 성형용 필름.

청구항 4

제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 B층의 유리 전이 온도가 상기 A층의 유리 전이 온도보다 고온인 것을 특징으

로 하는 성형용 필름.

청구항 5

제2항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 A층의 유리 전이 온도가 111℃ 이상 165℃ 이하인 것을 특징으

로 하는 성형용 필름.

청구항 6

제2항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 B층의 유리 전이 온도가 115℃ 이상 170℃ 이하이고, A층의 유

리 전이 온도보다 고온인 것을 특징으로 하는 성형용 필름.

청구항 7

제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 저장 탄성률이 1000㎫인 온도(T1: ℃), 저장 탄성률이 100㎫인 온도

(T2: ℃)가 하기 식 (I)을 만족시키는 성형용 필름.

T2-T1≥10 …(I)

청구항 8

제3항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 A층의 두께와 상기 B층의 두께의 적층비(B층의 합계 두께/A층

의 합계 두께)가 0.25 내지 1인 성형용 필름.

청구항 9

제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 필름의 한 면(X면)의 표면 조도 SRa가 2㎚ 이상 50㎚ 미만이고, 다

른 면(Y면)의 표면 조도 SRa가 50㎚ 이상 1,000㎚ 이하인 성형용 필름.

청구항 10

제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 필름의 한 면(X면)의 표면 조도 SRmax가 20㎚ 이상 500㎚ 미만이고,

다른 면(Y면)의 표면 조도 SRmax가 500㎚ 이상 10,000㎚ 이하인 성형용 필름.

청구항 11

제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 필름의 전체 성분의 합계 100 질량％에 대하여, 산화 방지제 및/또

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는 지방산 금속염을 0.005 질량％ 이상 0.5 질량％ 이하 함유하는 성형용 필름.

청구항 12

제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 한 방향의 160℃에 있어서의 파단 신도가 300％ 이상인 성
형용 필름.

청구항 13

제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 성형용 필름이 성형 전사박용 필름인 것을 특징으로 하는 성

형용 필름.

청구항 14

제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 기재된 성형용 필름의 적어도 한쪽면에 클리어층, 가식층(加飾層) 및 접착

층을 순차로 갖는 성형 전사박.

명 세 서

기 술 분 야
[0001] 본 발명은 환상 올레핀계 수지를 주성분으로 한 성형용 필름으로서, 120℃에 있어서의 저장 탄성률을 101㎫ 이
상 3000㎫ 이하, 170℃에 있어서의 저장 탄성률을 100㎫ 이하로 함으로써, 양호한 표면 외관을 나타내고, 또한
가공시의 우수한 치수 안정성과 고온에서의 성형성을 양립시킨 성형용 필름에 관한 것이다.

배 경 기 술
[0002] 근년, 환경 의식의 고조에 따라, 건재, 자동차 부품이나 휴대 전화, 전기제품 등에서, 무용제 도장, 도금 대체
등의 요망이 고조되어, 필름을 사용한 가식(加飾) 방법의 도입이 진행되고 있다.

[0003] 그러한 중에, 성형용 이축 연신 폴리에스테르 필름으로서, 몇 가지가 제안되어 있다. 예를 들면, 상온에서의
특정한 성형 응력을 규정한 성형용 폴리에스테르 필름이 제안되어 있다(예를 들면, 특허문헌 1 참조). 또한,
25℃, 100℃에서의 성형 응력, 열수축률이나 면배향도를 규정한 성형용 폴리에스테르 필름도 제안되어 있다(예
를 들면, 특허문헌 2 참조).

[0004] 또한, 저온에서의 성형성이 우수한 비정질성 폴리에스테르를 이용한 성형용 무연신 폴리에스테르 필름에 대해서
도 제안되어 있다(예를 들면, 특허문헌 3). 또한, 인쇄 가공, 코팅 가공에 대응할 수 있는 전사박용 필름으로
서, 무연신 폴리에스테르 필름의 적어도 한쪽면에 폴리올레핀 필름을 접합시킨 필름이 제안되어 있다(예를
들면, 특허문헌 4). 또한, 환상 올레핀계 수지를 이용한 필름으로서는, 예를 들면 이형 필름이 제안되어 있다
(특허문헌 5). 또한, 화장 시트용 환상 올레핀계 필름으로서, 환상 올레핀에 폴리에틸렌을 블렌딩한 필름에 대
한 제안도 이루어져 있다(예를 들면 특허문헌 6).

선행기술문헌

특허문헌
[0005] (특허문헌 0001) 일본 특허 공개 제2001-347565호 공보

(특허문헌 0002) 일본 특허 공개 제2008-095084호 공보

(특허문헌 0003) 일본 특허 공개 제2007-246910호 공보

(특허문헌 0004) 일본 특허 공개 제2004-188708호 공보

(특허문헌 0005) 일본 특허 공개 제2006-257399호 공보

(특허문헌 0006) 일본 특허 공개 제2005-162965호 공보

발명의 내용

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해결하려는 과제
[0006] 특허문헌 1 및 특허문헌 2에 기재된 필름은 이축 연신 폴리에스테르 필름이기 때문에, 내열성은 우수하지만 저
온에서의 성형성에 대해서는 충분하지 않았다.

[0007] 특허문헌 3에 기재된 필름은 필름의 내용제성이 낮고, 인쇄 가공, 코팅 가공에 견딜 수 있는 것이 아니었다.

[0008] 특허문헌 4에 기재된 필름은 폴리올레핀으로서 폴리프로필렌을 사용하고 있기 때문에 표면 외관이 낮이, 높은
표면성이 요구되는 용도로의 전개가 곤란하였다.

[0009] 특허문헌 5 및 특허문헌 6에 기재된 필름은 가공성과 성형성에 대해서 충분히 고려되어 있는 설계가 아니었다.

[0010] 그래서 본 발명의 과제는 상기한 문제점을 해소하는 데 있다. 즉, 가공시의 우수한 치수 안정성과 고온에서의
성형성을 양립시키고, 나아가 표면 외관도 우수하기 때문에, 성형 가공을 실시하여 여러가지 성형 부재에 적합
하게 사용할 수 있고, 예를 들면 성형 이형 용도, 성형 가식 용도에 적합하게 이용되는 성형용 필름을 제공하는
데 있다.

과제의 해결 수단
[0011] 본 발명은 이러한 과제를 해결하기 위해서, 다음과 같은 수단을 채용하는 것이다.

[0012] (1) 환상 올레핀계 수지를 주성분으로 하는 성형용 필름으로서, 120℃에 있어서의 저장 탄성률이 101㎫ 이상
3000㎫ 이하, 170℃에 있어서의 저장 탄성률이 100㎫ 이하인 성형용 필름.

[0013] (2) 환상 올레핀계 수지를 주성분으로 하는 환상 올레핀층(A층)의 적어도 한쪽면에, 환상 올레핀계 수지를 주성
분으로 하는 환상 올레핀층(B층)을 적층시켜 이루어지는 적층 필름으로서, 상기 A층은 A층 전체 100 질량％에
대하여 폴리에틸렌계 수지 및/또는 폴리프로필렌계 수지를 1 내지 40 질량％ 포함하는 것을 특징으로 하는,
(1)에 기재된 성형용 필름.

[0014] (3) B층/A층/B층의 3층 구성인 (2)에 기재된 성형용 필름.

[0015] (4) 상기 B층의 유리 전이 온도가 상기 A층의 유리 전이 온도보다 고온인 것을 특징으로 하는, (2) 또는 (3)에
기재된 성형용 필름.

[0016] (5) 상기 A층의 유리 전이 온도가 111℃ 이상 165℃ 이하인 것을 특징으로 하는, (2) 내지 (4) 중 어느 한 항에
기재된 성형용 필름.

[0017] (6) 상기 B층의 유리 전이 온도가 115℃ 이상 170℃ 이하이며, 또한 A층의 유리 전이 온도보다 고온인 것을 특
징으로 하는, (2) 내지 (5) 중 어느 한 항에 기재된 성형용 필름.

[0018] (7) 저장 탄성률이 1000㎫인 온도(T1: ℃), 저장 탄성률이 100㎫인 온도(T2: ℃)가 하기 식 (I)을 만족시키는
(1) 내지 (6) 중 어느 한 항에 기재된 성형용 필름.

[0019] T2-T1≥10 …(I)

[0020] (8) 상기 A층의 두께와 상기 B층의 두께의 적층비(B층의 합계 두께/A층의 합계 두께)가 0.25 내지 1인 (3) 내지
(7) 중 어느 한 항에 기재된 성형용 필름.

[0021] (9) 필름의 한 면(X면)의 표면 조도 SRa가 2㎚ 이상 50㎚ 미만이고, 다른 면(Y면)의 표면 조도 SRa가 50㎚ 이상
1,000㎚ 이하인 (1) 내지 (8) 중 어느 한 항에 기재된 성형용 필름.

[0022] (10) 필름의 한 면(X면)의 표면 조도 SRmax가 20㎚ 이상 500㎚ 미만이고, 다른 면(Y면)의 표면 조도 SRmax가
500㎚ 이상 10,000㎚ 이하인 (1) 내지 (9) 중 어느 한 항에 기재된 성형용 필름.

[0023] (11) 필름의 전체 성분의 합계 100 질량％에 대하여, 산화 방지제 및/또는 지방산 금속염을 0.005 질량％ 이상
0.5 질량％ 이하 함유하는 (1) 내지 (10) 중 어느 한 항에 기재된 성형용 필름.

[0024] (12) 적어도 한 방향의 160℃에 있어서의 파단 신도가 300％ 이상인 (1) 내지 (11) 중 어느 한 항에 기재된 성
형용 필름.

[0025] (13) 상기 성형용 필름이 성형 전사박용 필름인 것을 특징으로 하는 (1) 내지 (12) 중 어느 한 항에 기재된 성
형용 필름.

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[0026] (14) (1) 내지 (13) 중 어느 한 항에 기재된 성형용 필름의 적어도 한쪽면에, 클리어층, 가식층(加飾層) 및 접
착층을 순차로 갖는 성형 전사박.

발명의 효과
[0027] 본 발명의 성형용 필름은 환상 올레핀계 수지를 주성분으로 하고, 120℃에 있어서의 저장 탄성률을 101㎫ 이상
3000㎫ 이하, 170℃에 있어서의 저장 탄성률을 100㎫ 이하로 함으로써 코팅, 라미네이트, 인쇄, 증착 등의 가공
시에 우수한 치수 안정성을 나타내고, 또한 진공 성형, 압공 성형, 프레스 성형과 같은 각종 성형 방법에 있어
서, 성형 온도를 높게 함으로써 양호한 성형성을 달성할 수 있기 때문에, 여러가지 성형 가공 공정에 적용이 가
능하고, 예를 들면 건재, 자동차 부품이나 휴대 전화, 전기제품, 유기기(遊技機) 부품 등의 성형 부재의 가식,
기능성 부여 등에 적합하게 사용할 수 있다.

발명을 실시하기 위한 구체적인 내용

[0028] 본 발명의 성형용 필름은 환상 올레핀계 수지를 주성분으로 하는 것이 요구된다. 본 발명은 성형용으로서, 환
상 올레핀계 수지를 주성분으로 한 필름을 적용함으로써, 코팅, 라미네이트, 인쇄, 증착 등의 가공시의 치수 안
정성과, 딥드로잉 성형성을 양립시키는 설계가 가능하다는 것을 발견하였다. 또한 환상 올레핀계 수지를 이용
함으로써 성형 부재의 표면 외관이 양호해진다.

[0029] 여기서, 환상 올레핀계 수지를 주성분으로 한다는 것은, 필름의 전체 성분의 합계를 100 질량％로 하여, 환상
올레핀계 수지를 50 질량％ 이상 100 질량％ 이하로 함유하는 것을 의미한다.

[0030] 또한, 본 발명의 바람직한 양태는 후술하는 A층의 적어도 한쪽면에 후술하는 B층을 적층시켜 이루어지는 적층
필름인데, 이러한 적층 필름의 경우에는, 적층 필름을 구성하는 모든 층의 전체 성분의 합계를 100 질량％로 하
여, 모든 층에 존재하는 환상 올레핀계 수지의 합계가 50 질량％ 이상 100 질량％ 이하인 것을 의미한다.

[0031] 보다 바람직하게는, 필름의 전체 성분의 합계를 100 질량％로 하여, 환상 올레핀계 수지를 70 질량％ 이상 100
질량％ 이하로 포함하는 양태이고, 환상 올레핀계 수지를 80 질량％ 이상 100 질량％ 이하로 포함하는 양태이면
더욱 바람직하고, 환상 올레핀계 수지를 90 질량％ 이상 100 질량％ 이하로 포함하는 양태이면 가장
바람직하다.

[0032] 본 발명에 있어서의 환상 올레핀계 수지란, 단량체인 환상 올레핀으로부터 중합하여 얻어지는, 중합체의 주쇄에
지환 구조를 갖는 수지를 말한다.

[0033] 환상 올레핀으로서는, 시클로부텐, 시클로펜텐, 시클로헵텐, 시클로옥텐, 시클로펜타디엔, 1,3-시클로헥사디엔

과 같은 단환식 올레핀, 비시클로〔2,2,1〕헵트-2-엔, 5-메틸-비시클로〔2,2,1〕헵트-2-엔, 5,5-디메틸-비시클
로〔2,2,1〕헵트-2-엔, 5-에틸-비시클로〔2,2,1〕헵트-2-엔, 5-부틸-비시클로〔2,2,1〕헵트-2-엔, 5-에틸리덴-
비시클로〔2,2,1〕헵트-2-엔, 5-헥실-비시클로〔2,2,1〕헵트-2-엔, 5-옥틸-비시클로〔2,2,1〕헵트-2-엔, 5-옥타
데실-비시클로〔2,2,1〕헵트-2-엔, 5-메틸리덴- 비시클로〔2,2,1〕헵트-2-엔, 5-비닐-비시클로〔2,2,1〕헵트-2-
2.5
엔, 5-프로페닐-비시클로〔2,2,1〕헵트-2-엔과 같은 2환식 올레핀, 트리시클로〔4,3,0,1 〕데크-3,7-디엔, 트
2.5 2.5 2.5
리시클로〔4,3,0,1 〕데크-3-엔, 트리시클로〔4,3,0,1 〕운데크-3,7-디엔 또는 트리시클로〔4,3,0,1 〕운데
크-3,8-디엔 또는 이들의 부분 수소 첨가물(또는 시클로펜타디엔과 시클로헥센의 부가물)인 트리시클로〔
2.5
4,3,0,1 〕운데크-3-엔; 5-시클로펜틸-비시클로〔2,2,1〕헵트-2-엔,
5-시클로헥실-비시클로〔2,2,1〕헵트-2-엔, 5-시클로헥세닐비시클로〔2,2,1〕헵트-2-엔, 5-페닐-비시클로〔
2.5 7.10
2,2,1〕헵트-2-엔과 같은 3환식 올레핀, 테트라시클로〔4,4,0,1 ,1 〕도데크-3-엔, 8-메틸테트라시클로〔
2.5 7.10 2.5 7.10
4,4,0,1 ,1 〕도데크-3-엔, 8-에틸테트라시클로〔4,4,0,1 ,1 〕도데크-3-엔, 8-메틸리덴테트라시클로〔
2.5 7.10 2.5 7.10
4,4,0,1 ,1 〕도데크-3-엔, 8-에틸리덴테트라시클로〔4,4,0,1 ,1 〕도데크-3-엔, 8-비닐테트라시클로〔
2.5 7.10 2.5 7.10
4,4,0,1 ,1 〕도데크-3-엔, 8-프로페닐-테트라시클로〔4,4,0,1 ,1 〕도데크-3-엔과 같은 4환식 올레핀, 8-
2.5 7.10 2.5 7.10
시클로펜틸-테트라시클로〔4,4,0,1 ,1 〕도데크-3-엔, 8-시클로헥실-테트라시클로〔4,4,0,1 ,1 〕도데크-
2.5 7.10
3-엔, 8-시클로헥세닐-테트라시클로〔4,4,0,1 ,1 〕도데크-3-엔, 8-페닐-시클로펜틸-테트라시클로〔
2.5 7.10 3.6 1.9 2.7
4,4,0,1 ,1 〕도데크-3-엔, 테트라시클로〔7,4,1 ,0 ,0 〕테트라데크-4,9,11,13-테트라엔, 테트라시클로

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4.7 1.10 3.8 3.6 2.7 9.14

〔8,4,1 ,0 ,0 〕펜타데크-5,10,12,14-테트라엔, 펜타시클로〔6,6,1 ,0 ,0 〕-4-헥사데센, 펜타시클로〔
3.6 2.7 9.13 2.7 3.6 10.13
6,5,1,1 ,0 ,0 〕-4-펜타데센, 펜타시클로〔7,4,0,0 ,1 ,1 〕-4-펜타데센, 헵타시클로〔
2.9 4.7 11.17 3.8 12.16 2.9 3.8 4.7 12.17 13.16
8,7,0,1 ,1 ,1 ,0 ,0 〕-5-에이코센, 헵타시클로〔8,7,0,1 ,0 ,1 ,0 , 1 〕-14-에이코센, 시클
로펜타디엔과 같은 4량체 등의 다환식 올레핀 등을 들 수 있다. 이들 환상 올레핀은 각각 단독으로 또는 2종류
이상을 조합하여 사용할 수 있다.

[0034] 환상 올레핀 단량체로서는, 상기한 것 중에서도 생산성, 표면성의 관점에서 비시클로〔2,2,1〕헵트-2-엔(이하,

2.5
노르보르넨이라고 함), 트리시클로〔4,3,0,1 〕데크-3-엔 등의, 탄소수 10의 3환식 올레핀(이하, 트리시클로데
2.5 7.10
센이라고 함), 테트라시클로〔4,4,0,1 ,1 〕도데크-3-엔 등의, 탄소수 12의 4환식 올레핀(이하, 테트라시클
로도데센이라고 함), 시클로펜타디엔 또는 1,3-시클로헥사디엔이 바람직하게 이용된다.

[0035] 상기한 것 중에서도, 생산성, 표면성의 관점에서 비시클로〔2,2,1〕헵트-2-엔이 특히 바람직하게 이용된다.

[0036] 또한 환상 올레핀계 수지와 쇄상 올레핀을 공중합시켜 얻어지는 수지로 할 수도 있다. 이 경우, 바람직한 쇄상
올레핀으로서는, 에틸렌, 프로필렌, 1-부텐, 1-펜텐, 1-헥센, 3-메틸-1-부텐, 3-메틸-1-펜텐, 3-에틸-1-펜텐,
4-메틸-1-펜텐, 4-메틸-1-헥센, 4,4-디메틸-1-헥센, 4,4-디메틸-1-펜텐, 4-에틸-1-헥센, 3-에틸-1-헥센, 1-옥
텐, 1-데센, 1-도데센, 1-테트라데센, 1-헥사데센, 1-옥타데센, 1-에이코센 등을 들 수 있다.

[0037] 상기한 것 중에서도, 생산성, 표면성의 관점에서 비시클로〔2,2,1〕헵트-2-엔(이하, 노르보르넨이라고 함), 시

클로펜타디엔 또는 1,3-시클로헥사디엔, 및 이들의 유도체가 바람직하게 이용된다.

[0038] 환상 올레핀계 수지는 상기 환상 올레핀만을 중합시킨 수지, 상기 환상 올레핀과 쇄상 올레핀을 공중합시킨 수

지 중 어느 쪽의 수지라도 상관없다.

[0039] 환상 올레핀만을 중합시킨 수지의 제조 방법으로서는, 환상 올레핀 단량체의 부가 중합 또는 개환 중합 등의 공

지된 방법을 들 수 있고, 예를 들면 노르보르넨 및 그의 유도체를 개환 복분해 중합시킨 후에 수소화시키는 방
법, 노르보르넨 및 그의 유도체를 부가 중합시키는 방법, 시클로펜타디엔, 시클로헥사디엔을 1,2-, 1,4-부가 중
합시킨 후에 수소화시키는 방법 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 생산성, 표면성, 성형성의 관점에서, 노르보
르넨 및 그의 유도체를 개환 복분해 중합시킨 후에 수소화시킨 수지가 가장 바람직하다.

[0040] 환상 올레핀과 쇄상 올레핀을 공중합시킨 수지의 경우, 바람직한 쇄상 올레핀으로서는, 에틸렌, 프로필렌, 1-부
텐, 1-펜텐, 1-헥센, 3-메틸-1-부텐, 3-메틸-1-펜텐, 3-에틸-1-펜텐, 4-메틸-1-펜텐, 4-메틸-1-헥센, 4,4-디메
틸-1-헥센, 4,4-디메틸-1-펜텐, 4-에틸-1-헥센, 3-에틸-1-헥센, 1-옥텐, 1-데센, 1-도데센, 1-테트라데센, 1-
헥사데센, 1-옥타데센, 1-에이코센 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 생산성, 비용의 관점에서, 에틸렌을 특히
적합하게 사용할 수 있다. 또한, 환상 올레핀과 쇄상 올레핀을 공중합시킨 수지의 제조 방법으로서는, 환상 올
레핀과 쇄상 올레핀의 부가 중합 등의 공지된 방법을 들 수 있고, 예를 들면 노르보르넨 및 그의 유도체와 에틸
렌을 부가 중합시키는 방법 등을 들 수 있다. 그 중에서도 생산성, 표면성, 성형성의 관점에서, 노르보르넨과
에틸렌의 공중합체가 가장 바람직하다.

[0041] 환상 올레핀계 수지는, 필름으로 했을 때에 필름과 도막의 밀착성을 양호하게 하는 관점에서, 극성기를 함유할
수도 있다. 극성기로서는, 예를 들면 카르복실기, 산 무수물기, 에폭시기, 아미드기, 에스테르기, 히드록실기
등을 들 수 있고, 환상 올레핀계 수지에 극성기를 함유시키는 방법으로서는, 극성기를 갖는 불포화 화합물을 그
래프트 및/또는 공중합시키는 방법 등을 들 수 있다. 극성기를 갖는 불포화 화합물로서는, (메트)아크릴산, 말
레산, 무수 말레산, 무수 이타콘산, 글리시딜(메트)아크릴레이트, (메트)아크릴산알킬(탄소수 1 내지 10)에스테
르, 말레산알킬(탄소수 1 내지 10)에스테르, (메트)아크릴아미드, (메트)아크릴산-2-히드록시에틸 등을 들 수
있다.

[0042] 또한, 본 발명에 있어서의 환상 올레핀계 수지란, 환상 올레핀계 수지의 중합체 100 질량％ 중에 있어서, 환상
올레핀 단량체 유래 성분의 합계가 50 질량％ 이상 100 질량％ 이하인 양태의 중합체를 의미한다.

[0043] 또한, 본 발명의 성형용 필름은 필름 전체 성분의 합계를 100 질량％로 했을 때에, 환상 올레핀계 수지를 50 질
량％ 이상 100 질량％ 이하로 함유하기만 하면, 환상 올레핀계 수지만으로 구성되어도 되고, 그 밖의 올레핀계
수지를 함유해도 되고, 올레핀계 수지 이외의 수지를 더 함유해도 된다. 환상 올레핀계 수지 이외의 올레핀계
수지로서는, 예를 들면 저밀도 폴리에틸렌, 중밀도 폴리에틸렌, 고밀도 폴리에틸렌, 선상 저밀도 폴리에틸렌,
메탈로센 촉매를 사용하여 중합한 에틸렌-α·올레핀 공중합체(단, 단량체 단위로서 프로필렌을 포함하는 경우

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에는 폴리프로필렌계 수지로 한다. 한편, 단량체 단위로서 프로필렌을 포함하지 않는 경우에는, 폴리에틸렌계
수지로 함)와 같은 각종 폴리에틸렌계 수지, 폴리프로필렌, 에틸렌-프로필렌 공중합체, 에틸렌-프로필렌-부텐
공중합체와 같은 각종 폴리프로필렌계 수지, 메틸펜텐 중합체 등의 폴리올레핀계 수지를 사용할 수 있다.
또한, 에틸렌, 프로필렌, 부텐-1, 펜텐-1,4-메틸펜텐-1, 헥센-1, 옥텐-1 등의 α-올레핀 단량체를 포함하는 중
합체, 그 α-올레핀 단량체를 포함하는 랜덤 공중합체, 그 α-올레핀 단량체를 포함하는 블록 공중합체 등도 사
용할 수 있다. 그 중에서도 환상 올레핀계 수지와의 상용성의 관점에서, 환상 올레핀계 수지 이외의 올레핀계
수지로서는, 각종 폴리에틸렌계 수지, 각종 폴리프로필렌계 수지가 바람직하게 이용된다.

[0044] 본 발명의 환상 올레핀계 수지를 주성분으로 하는 성형용 필름은 폴리에틸렌계 수지, 폴리프로필렌계 수지를 함
유시킴으로써, 압출 공정에서의 전단 응력을 저하시킬 수 있고, 가교에 의한 이물의 발생을 억제시키는 것이 가
능해지며, 또한 인성도 향상시킬 수 있기 때문에 바람직하다. 한편, 폴리에틸렌계 수지, 폴리프로필렌계 수지
의 함유량이 많아지면, 자기 보유성이 저하되는 경향이 있다. 품위, 인성, 자기 보유성의 관점에서, 폴리에틸
렌계 수지 및/또는 폴리프로필렌계 수지의 함유량은, 필름의 전체 성분의 합계 100 질량％에 대하여, 1 내지 40
질량％로 하는 것이 바람직하고, 1 내지 30 질량％이면 더욱 바람직하고, 1 내지 20 질량％이면 가장 바람직하
다. 또한, 폴리에틸렌계 수지, 폴리프로필렌계 수지 중에서도 환상 올레핀계 수지와의 상용성의 관점에서, 폴
리에틸렌계 수지가 바람직하게 이용되고, 고밀도 폴리에틸렌, 선상 저밀도 폴리에틸렌이 특히 바람직하게 이용
되고, 선상 저밀도 폴리에틸렌이 가장 바람직하게 이용된다. 또한, 필름이 폴리에틸렌계 수지 및 폴리프로필렌
계 수지를 함께 함유하는 경우에는, 폴리에틸렌계 수지 및 폴리프로필렌계 수지의 합계량을 상술한 범위, 즉 필
름의 전체 성분의 합계 100 질량％에 대하여 1 내지 40 질량％로 하는 것이 바람직하고, 1 내지 30 질량％이면
더욱 바람직하고, 1 내지 20 질량％이면 가장 바람직하다.

[0045] 또한, 본 발명에 있어서의 폴리에틸렌계 수지란, 폴리에틸렌계 수지의 중합체 100 질량％ 중에 있어서, 에틸렌
유래 성분의 합계가 50 질량％ 이상 100 질량％ 이하인 양태의 중합체를 의미한다.

[0046] 또한, 본 발명의 폴리프로필렌계 수지란, 폴리프로필렌계 수지의 중합체 100 질량％ 중에 있어서, 프로필렌 유
래 성분의 합계가 50 질량％ 이상 100 질량％ 이하인 양태의 중합체를 의미한다.

[0047] 본 발명의 성형용 필름은 가공시의 치수 안정성, 성형성의 관점에서, 120℃에 있어서의 저장 탄성률이 101㎫ 이
상 3000㎫ 이하인 것이 필요하다. 120℃에 있어서의 저장 탄성률을 101㎫ 이상으로 함으로써 코팅,
라미네이트, 인쇄, 증착과 같은 가공 공정에 있어서, 매우 우수한 치수 안정성을 달성할 수 있다. 특히, 코팅,
인쇄 후의 건조 온도를 보다 고온으로 설정함으로써 건조시의 라인 속도를 빠르게 할 수 있어, 가공 비용을 감
소시킬 수 있다는 이점을 갖는다. 본 발명의 성형용 필름은 120℃와 같은 높은 온도에 있어서도 101㎫ 이상으
로 높은 저장 탄성률을 나타내기 때문에, 코팅, 인쇄 후의 건조 온도를 보다 고온으로 설정할 수 있다. 또한,
120℃에 있어서의 저장 탄성률은 높을수록 치수 안정성이 우수하기 때문에 바람직하지만, 3000㎫보다 높게 하려
고 하면 성형성이 저하되는 경우가 있다. 또한 높은 치수 안정성, 성형성을 양립시키기 위해서는, 120℃에 있
어서의 저장 탄성률은 500㎫ 이상 3000㎫ 이하이면 보다 바람직하고, 1000㎫ 이상 3000㎫ 이하이면 가장 바람직
하다.

[0048] 본 발명의 성형용 필름에 있어서, 120℃에 있어서의 저장 탄성률을 상기 101㎫ 이상 3000㎫ 이하의 범위로 하는
방법으로서는, 유리 전이 온도가 120℃ 이상인 층의 합계 두께를, 필름 전체 두께를 100％로 하여 50％ 이상의
두께로 하는 것이 바람직하다. 여기서, 「유리 전이 온도가 120℃ 이상인 층의 합계 두께」란, 유리 전이 온도
가 120℃ 이상인 층이 1개인 경우에는 그 층의 두께를 말하며, 유리 전이 온도가 120℃ 이상인 층이 복수개 있
는 경우에는 이들 층의 두께의 합계를 말한다.

[0049] 본 발명에 있어서, 유리 전이 온도의 제어 방법은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 환상 올레핀계 수지로서,
노르보르넨과 에틸렌의 공중합체를 사용하는 경우, 노르보르넨의 함유량을 증가시켜 감으로써 유리 전이 온도를
고온화하는 것이 가능하다. 또한, 노르보르넨의 함유량이 상이한 2종류의 환상 올레핀계 수지를 블렌딩시킴으
로써도 필름의 유리 전이 온도를 조정하는 것이 가능하다. 또한, 예를 들면 환상 올레핀계 수지로서, 노르보르
넨 유도체를 개환 복분해 중합시킨 후에 수소화시킨 수지를 사용하는 경우, 노르보르넨 유도체의 분자량을 크게
하는(예를 들면, 측쇄의 분자량을 크게 하거나 또는 2환 구조로 하는) 것에 의해, 유리 전이 온도를 높게 할 수
있다. 또한, 유리 전이 온도가 상이한 2종류의, 노르보르넨 유도체를 개환 복분해 중합시킨 후에 수소화시킨
수지를 블렌딩시킴으로써도 층의 유리 전이 온도를 조정할 수 있다. 또한, 폴리에틸렌계 수지, 폴리프로필렌계
수지를 첨가해 감으로써 유리 전이 온도를 저온화할 수 있다. 보다 바람직하게는, 유리 전이 온도가 125℃ 이
상인 층의 합계 두께를, 필름 전체 두께를 100％로 하여 50％ 이상의 두께로 하는 것이 바람직하다. 1개의 층

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중에 복수종의 수지가 혼합되어 있는 경우 등과 같이, 유리 전이 온도가 복수개 존재하는 경우에는, 고온측의

유리 전이 온도를 그 층의 유리 전이 온도로 한다.

[0050] 또한, 본 발명의 성형용 필름은 성형성의 관점에서 170℃에 있어서의 저장 탄성률이 100㎫ 이하인 것이 요구된
다. 170℃에 있어서의 저장 탄성률이 100㎫ 이하인 것으로 하면, 적어도 성형 온도를 170℃ 이상으로 설정함으
로써 우수한 성형성을 달성할 수 있기 때문에 바람직하다. 더 높은 성형성이 필요한 경우에는, 170℃에 있어서
의 저장 탄성률은 50㎫ 이하이면 바람직하고 20㎫ 이하이면 가장 바람직하다. 또한, 저장 탄성률의 하한으로서
는, 성형시의 편(偏)변형 억제의 관점에서 0.5㎫ 이상인 것이 바람직하다.

[0051] 본 발명의 성형용 필름에 있어서, 170℃에 있어서의 저장 탄성률을 상기 100㎫ 이하로 하는 방법으로서는, 유리
전이 온도가 170℃ 이하인 층의 합계 두께를, 필름 전체 두께를 100％로 하여 50％ 이상의 두께로 하는 것이 바
람직하다. 1개의 층 중에 복수종의 수지가 혼합되어 있는 경우 등과 같이, 유리 전이 온도가 복수개 존재하는
경우에는, 고온측의 유리 전이 온도를 그 층의 유리 전이 온도로 한다.

[0052] 여기서, 120℃에 있어서의 저장 탄성률이 101㎫ 이상 3000㎫ 이하이고 170℃에 있어서의 저장 탄성률이 100㎫
이하라는 것은, 필름의 임의의 한 방향 및 그 방향과 직교하는 방향에 있어서 상기 수치를 만족시키는 것이다.

[0053] 본 발명의 성형용 필름은, 또한, 가공시의 치수 안정성을 중시하는 경우, 130℃에 있어서의 저장 탄성률이 101
㎫ 이상 3000㎫ 이하인 것이 바람직하다. 130℃에 있어서의 저장 탄성률을 101㎫ 이상으로 함으로써, 코팅, 라
미네이트, 인쇄, 증착과 같은 가공 공정에 있어서, 온도를 더욱 높게 설정할 수 있기 때문에 바람직하다. 130
℃에 있어서의 저장 탄성률은 500㎫ 이상 3000㎫ 이하이면 보다 바람직하고, 1000㎫ 이상 3000㎫ 이하이면 더욱
바람직하다.

[0054] 130℃에 있어서의 저장 탄성률을 상기 101㎫ 이상 3000㎫ 이하의 범위로 하는 방법으로서는, 유리 전이 온도가
130℃ 이상인 층의 합계 두께를, 필름 전체 두께를 100％로 하여 50％ 이상의 두께로 하는 것이 바람직하다.

[0055] 본 발명의 성형용 필름은 가공시의 치수 안정성을 중시한 성형용 필름이기는 하지만, 성형시의 예열 시간을 짧
게 하고, 성형의 택트 타임을 단축하기 위해서는 가능한 한 성형 온도는 낮은 쪽이 바람직하다. 이 때문에, 본
발명의 성형용 필름은, 160℃에 있어서의 저장 탄성률이 100㎫ 이하인 것이 바람직하고, 150℃에 있어서의 저장
탄성률이 100㎫ 이하이면 더욱 바람직하다. 본 발명의 성형용 필름에 있어서, 160℃에 있어서의 저장 탄성률을
상기 100㎫ 이하로 하는 방법으로서는, 유리 전이 온도가 160℃ 이하인 층의 합계 두께를, 필름 전체 두께를
100％로 하여 50％ 이상의 두께로 하는 것이 바람직하고, 150℃에 있어서의 저장 탄성률을 상기 100㎫ 이하로
하는 방법으로서는, 유리 전이 온도가 150℃ 이하인 층의 합계 두께를, 필름 전체 두께를 100％로 하여 50％ 이
상의 두께로 하는 것이 더욱 바람직하다.

[0056] 본 발명의 성형용 필름은 인성, 품위, 표면 외관을 양립시키기 위해서, 환상 올레핀계 수지를 주성분으로 하는
환상 올레핀층(A층)의 적어도 한쪽면에, 환상 올레핀계 수지를 주성분으로 하는 환상 올레핀층(B층)을 적층시켜
이루어지는 적층 필름으로 하고, 상기 A층은 A층 전체 100 질량％에 대하여 폴리에틸렌계 수지 및/또는 폴리프
로필렌계 수지를 1 내지 40 질량％ 포함하는 것이 바람직하다. 즉, A층이 폴리에틸렌계 수지 또는 폴리프로필
렌계 수지의 어느 한쪽만을 함유하는 경우에는, 폴리에틸렌계 수지 또는 폴리프로필렌계 수지의 함유량이 A층
전체 100 질량％에 대하여 1 내지 40 질량％인 것이 바람직하다. 또한, A층이 폴리에틸렌계 수지 및 폴리프로
필렌계 수지를 함께 함유하는 경우에는, 폴리에틸렌계 수지 및 폴리프로필렌계 수지의 합계량이 상술한 범위,
즉 A층 전체 100 질량％에 대하여 1 내지 40 질량％로 포함되는 것이 바람직하다.

[0057] 또한, 환상 올레핀계 수지를 주성분으로 하는 환상 올레핀층(A층)에 있어서의 주성분이란, A층의 전체 성분의
합계를 100 질량％로 하여, 환상 올레핀계 수지를 50 질량％ 이상 100 질량％ 이하로 함유하는 것을 의미한다.

[0058] 또한, 환상 올레핀계 수지를 주성분으로 하는 환상 올레핀층(B층)에 있어서의 주성분이란, B층의 전체 성분의
합계를 100 질량％로 하여, 환상 올레핀계 수지를 50 질량％ 이상 100 질량％ 이하 함유하는 것을 의미한다.

[0059] 환상 올레핀계 수지는 폴리에틸렌계 수지나 폴리프로필렌계 수지와 비교하면 인성이 낮지만, 폴리에틸렌계 수지
나 폴리프로필렌계 수지를 함유시킴으로써 인성을 개량할 수 있다. 한편, 폴리에틸렌계 수지나 폴리프로필렌계
수지를 함유시키면 표면 외관이 저하되는 경향이 있다. 이 때문에, 인성과 표면 외관을 양립시키기 위해서, 환
상 올레핀계 수지를 주성분으로 하는 환상 올레핀층(A층)의 적어도 한쪽면에, 환상 올레핀계 수지를 주성분으로
하는 환상 올레핀층(B층)을 적층시켜 이루어지는 적층 필름으로 하고, 상기 A층은 A층 전체 100 질량％에 대하
여 폴리에틸렌계 수지 및/또는 폴리프로필렌계 수지를 1 내지 40 질량％ 포함하는 구성으로 하는 것이 바람직하

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다.

[0060] 또한, 인성과 자기 보유성의 관점에서는, A층 중의 폴리에틸렌계 수지 및/또는 폴리프로필렌계 수지는 A층 전체

를 100 질량％로 하여 1 내지 30 질량％이면 바람직하고, 1 내지 20 질량％이면 가장 바람직하다.

[0061] 또한 표면 외관의 관점에서, 환상 올레핀계 수지를 주성분으로 하는 환상 올레핀층(B층) 중의 폴리에틸렌계 수

지 및/또는 폴리프로필렌계 수지의 함유량은, B층 전체 100 질량％에 대하여, 0 질량％ 이상 10 질량％ 이하인
것이 바람직하고, 0 질량％ 이상 5 질량％ 이하이면 더욱 바람직하고, 폴리에틸렌계 수지 및/또는 폴리프로필렌
계 수지가 0 질량％인 것이 가장 바람직하다.

[0062] 상기 구성으로 한 경우, 인성, 자기 보유성, 표면 외관의 관점에서 적층비(B층의 합계 두께/A층의 합계 두께)는
0.25 내지 1인 것이 바람직하다. 또한, 「B층의 합계 두께」란, B층이 1층뿐인 경우에는 그 B층의 두께, B층이
2층 이상인 경우에는 그의 전체 합계 두께이고, 「A층의 합계 두께」란, A층이 1층뿐인 경우에는 그 A층의
두께, A층이 2층 이상인 경우에는 그의 전체 합계 두께이다. 적층비(B층의 합계 두께/A층의 합계 두께)는 0.4
내지 0.8이면 더욱 바람직하다. 필름의 적층비는 필름의 단면을 주사형 전자현미경, 투과형 전자현미경, 광학
현미경 등으로 500배 이상 10000배 이하의 배율로 관찰함으로써, 측정할 수 있다.

[0063] 본 발명의 성형용 필름은 적층 구성의 경우, 취급성을 더욱 향상시키기 위해서는, A층/B층의 2층 구성보다 B층
/A층/B층의 3층 구성으로 하는 것이 바람직하다.

[0064] 본 발명의 성형용 필름은 가공시의 치수 안정성, 성형성의 관점에서, 상기 B층의 유리 전이 온도가 상기 A층의
유리 전이 온도보다 고온인 것이 바람직하다. B층의 유리 전이 온도를 A층의 유리 전이 온도보다 고온으로 함
으로써, 가공시의 치수 안정성, 성형성을 양립시킬 수 있고, 성형 후의 외관도 향상되기 때문에 바람직하다.

[0065] 또한, 본 발명의 성형용 필름은 적층 구성으로 하는 경우, 가공시의 치수 안정성, 성형성의 관점에서, 상기 A층
의 유리 전이 온도(TgA)가 111℃ 이상 165℃ 이하인 것이 바람직하다. A층의 유리 전이 온도를 111℃ 이상으로
함으로써, 코팅, 라미네이트, 인쇄, 증착과 같은 가공 공정에서의 치수 변화를 억제할 수 있기 때문에 바람직하
다. 또한, A층의 유리 전이 온도를 165℃ 이하로 함으로써 치수 안정성을 유지한 상태로 우수한 성형성도 달성
할 수 있기 때문에 바람직하다. 또한 높은 치수 안정성, 성형성을 양립시키기 위해서는, A층의 유리 전이 온도
는 115℃ 이상 150℃ 이하이면 더욱 바람직하고, 120℃ 이상 140℃ 이하이면 가장 바람직하다. 또한, A층의을
유리 전이 온도를 측정했을 때에 복수개의 값이 관측되는 경우, 여기서 말하는 A층의 유리 전이 온도란, 가장
고온측의 유리 전이 온도를 의미한다.

[0066] A층의 유리 전이 온도를 111℃ 이상 165℃ 이하로 하기 위해서는, 예를 들면 환상 올레핀계 수지로서, 노르보르
넨과 에틸렌의 공중합체를 사용하는 경우, 노르보르넨의 함유량을 증가시켜 감으로써 유리 전이 온도를 고온화
하는 것이 가능하다. 또한, 노르보르넨의 함유량이 상이한 2종류의 환상 올레핀계 수지를 블렌딩시킴으로써도
필름의 유리 전이 온도를 조정하는 것이 가능하다. 또한, 환상 올레핀계 수지로서, 노르보르넨 유도체를 개환
복분해 중합시킨 후에 수소화시킨 수지를 사용하는 경우, 노르보르넨 유도체의 분자량을 크게 하는(예를 들면,
측쇄의 분자량을 크게 하거나 또는 2환 구조로 하는) 것에 의해, 유리 전이 온도를 높게 할 수 있다. 또한, 유
리 전이 온도가 상이한 2종류의, 노르보르넨 유도체를 개환 복분해 중합시킨 후에 수소화시킨 수지를 블렌딩시
킴으로써도 층의 유리 전이 온도를 조정할 수 있다. 또한, 폴리에틸렌계 수지, 폴리프로필렌계 수지를 함유시
킴으로써 유리 전이 온도를 저온화할 수 있다.

[0067] 또한, 특히 가공시의 치수 안정성이 엄격한 용도로 전개하는 경우에는, 상기 B층의 유리 전이 온도(TgB)는 115
℃ 이상 170℃ 이하이고, 또한 A층의 유리 전이 온도보다 고온인 것이 바람직하다. B층의 유리 전이 온도를 상
기한 범위로 함으로써, 성형성을 손상시키지 않고, 가공시의 치수 변화를 보다 억제할 수 있기 때문에 바람직하
다. 성형성, 치수 안정성의 관점에서, B층의 유리 전이 온도는 120℃ 이상 155℃ 이하이면 더욱 바람직하고,
125℃ 이상 145℃ 이하이면 가장 바람직하다. 또한, B층의 유리 전이 온도가 복수개 존재하는 경우에는, 고온
측의 유리 전이 온도를 채용한다.

[0068] B층의 유리 전이 온도를 115℃ 이상 170℃ 이하로 하고, 동시에 A층의 유리 전이 온도보다 고온으로 하기 위해
서는, 예를 들면 환상 올레핀계 수지로서, 노르보르넨과 에틸렌의 공중합체를 사용하는 경우, 노르보르넨의 함
유량을 증가시켜 감으로써 유리 전이 온도를 고온화하는 것이 가능하기 때문에, B층에 사용하는 환상 올레핀계
수지의 노르보르넨 함유량을 A층에 사용하는 환상 올레핀계 수지의 노르보르넨 함유량보다 많게 하는 방법을 들
수 있다. 또한, 환상 올레핀계 수지로서, 노르보르넨 유도체를 개환 복분해 중합시킨 후에 수소화시킨 수지를
사용하는 경우, 노르보르넨 유도체의 분자량을 크게 하는(예를 들면, 측쇄의 분자량을 크게 하거나 또는 2환 구

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조로 하는) 것에 의해, 유리 전이 온도를 높게 할 수 있기 때문에, B층에 사용하는 환상 올레핀계 수지의 노르

보르넨 유도체의 분자량을 크게 하는 방법, 또한 폴리에틸렌계 수지, 폴리프로필렌계 수지를 함유시켜 감으로써
유리 전이 온도를 저온화할 수 있기 때문에, A층에 폴리에틸렌계 수지, 폴리프로필렌계 수지를 함유하는 방법도
바람직하게 이용된다.

[0069] 본 발명의 성형용 필름은 가공 공정의 조건 범위를 넓히고, 공정 안정성을 높이기 위해서, 저장 탄성률이 1000
㎫인 온도(T1: ℃), 저장 탄성률이 100㎫인 온도(T2: ℃)가 하기 식 (I)을 만족시키는 것이 바람직하다.

[0070] T2-T1≥10 …(I)

[0071] 본 발명에 있어서, T1(℃)이란, 필름의 임의의 한 방향에 있어서의 저장 탄성률 t1(㎫)과 그 방향과 직교하는
방향의 저장 탄성률 t2(㎫)의 평균치(즉, (t1+t2)/2)가 1000㎫이 되는 온도이다. 또한, T2(℃)란, 필름의 임의
의 한 방향에 있어서의 저장 탄성률 t3(㎫)과, 그 방향과 직교하는 방향의 저장 탄성률 t4(㎫)의 평균치(즉,
(t3+t4)/2)가 100㎫이 되는 온도이다.

[0072] 또한, 식 (I)을 만족시킨다는 것은, 저장 탄성률이 매우 높은 치수 안정성을 달성할 수 있는 1000㎫인 온도(T1:
℃)와, 치수 안정성이 저하되는 저장 탄성률이 100㎫인 온도(T2:℃)의 온도차(T2-T1)가 10℃ 이상이기 때문에,
가공 공정의 조건 범위를 넓히는 것이 가능해져, 매우 가공하기 쉬운 필름으로 된다. 코팅, 인쇄 후의 건조 온
도는 보다 고온으로 설정됨으로써, 건조시의 라인 속도를 빠르게 할 수 있고, 가공 비용을 감소시킬 수 있는 이
점을 갖기 때문에, 가능한 한 건조 온도를 높게 설정하는 것이 바람직하지만, 식 (I)을 만족시키지 않으면, 예
를 들면 건조 온도를 저장 탄성률이 1000㎫인 T1로 설정하더라도, 건조 온도 불균일에 의해 T1보다 고온이 되면
저장 탄성률이 단숨에 저하되어 버려, 치수 안정성의 저하, 필름의 주름, 수축이 발생하는 경우가 있다. 그런
데, 식 (I)을 만족시키면, 건조 온도를 저장 탄성률이 1000㎫인 T1로 설정하고, 건조 온도 불균일이 발생하더라
도, 치수 안정성이 저하되는 저장 탄성률이 100㎫인 T2까지는 10℃ 이상의 차가 있기 때문에, 급격한 치수 안정
성의 저하, 주름, 수축의 발생을 억제하는 것이 가능하다.

[0073] 또한, 성형성의 관점에서, T2-T1의 상한은 50℃인 것이 바람직하고, 40℃이면 더욱 바람직하고, 30℃이면 가장
바람직하다.

[0074] 보다 공정 안정성을 높이기 위해서는, 식 (I')을 만족시키는 것이 바람직하고, 식 (I")을 만족시킴으로써 매우

높은 공정 안정성을 달성할 수 있기 때문에 바람직하다.

[0075] T2-T1≥12 …(I')

[0076] T2-T1≥15 …(I")

[0077] 본 발명의 성형용 필름에 있어서, 식 (I)을 만족시키는 방법으로서는, 예를 들면 환상 올레핀계 수지를 주성분
으로 하는 환상 올레핀층(A층)의 적어도 한쪽면에, 환상 올레핀계 수지를 주성분으로 하는 환상 올레핀층(B층)
을 적층시켜 이루어지는 적층 필름이고, 상기 A층의 유리 전이 온도(TgA: ℃), 상기 B층의 유리 전이 온도(TgB:
℃)가 하기 식 (II)을 만족시키는 것이 바람직하다. 식 (II')을 만족시키면 보다 바람직하고, 식 (II")을 만족
시키면 가장 바람직하다.

[0078] TgB-TgA≥5 …(II)

[0079] TgB-TgA≥7 …(II')

[0080] TgB-TgA≥10 …(II")

[0081] 각 층의 유리 전이 온도(TgA, TgB)의 제어 방법은 특별히 한정되지 않지만, 상기한 바와 같이, 환상 올레핀계
수지로서, 노르보르넨과 에틸렌의 공중합체를 사용하는 경우, 노르보르넨의 함유량을 조정하는 방법, 노르보르
넨의 함유량이 상이한 2종류의 환상 올레핀계 수지를 블렌딩시키는 방법, 또한, 환상 올레핀계 수지로서, 노르
보르넨 유도체를 개환 복분해 중합시킨 후에 수소화시킨 수지를 사용하는 경우, 노르보르넨 유도체의 분자량을
크게 하는 방법, 유리 전이 온도가 상이한 2종류의 노르보르넨 유도체를 개환 복분해 중합시킨 후에 수소화시킨
수지를 블렌딩시키는 방법, 폴리에틸렌계 수지, 폴리프로필렌계 수지를 첨가하는 방법 등을 들 수 있다.

[0082] 또한, 제막성의 관점에서, TgB-TgA의 상한은 100℃인 것이 바람직하고, 80℃이면 더욱 바람직하고, 50℃이면 가
장 바람직하다.

[0083] 또한, 상기 A층과 상기 B층의 적층비(B층의 합계 두께/A층의 합계 두께)가 0.1 내지 2인 것이 바람직하다. 환

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상 올레핀계 수지를 주성분으로 하는 환상 올레핀층(A층)의 적어도 한쪽면에, 환상 올레핀계 수지를 주성분으로

하는 환상 올레핀층(B층)을 적층시켜 이루어지는 적층 필름 구성으로 하고, 각 층의 유리 전이 온도가 식 (II)
을 만족시키고, 또한 적층비(B층의 합계 두께/A층의 합계 두께)를 0.1 내지 2로 함으로써 식 (I)을 정밀하게 달
성하는 것이 가능해지기 때문에, 매우 바람직하다.

[0084] 본 발명의 성형용 필름은 필름을 가식에 이용한 경우에 성형 부재(장식 후의 제품의 부재)의 표면 외관을 양호
하게 하는 관점에서, 필름의 한 면(X면)의 표면 조도 SRa가 2㎚ 이상 50㎚ 미만이고, 다른 면(Y면)의 표면 조도
SRa가 50㎚ 이상 1,000㎚ 이하인 것이 바람직하다. 특히, 필름에 가식을 실시하는 면으로서 적합한 면의 표면
조도 SRa는 2㎚ 이상 50㎚ 미만인 것이 바람직하다. 또한, 표면 조도 SRa가 2㎚ 이상 50㎚ 미만인 면을, 이하
X면이라고 한다. SRa가 50㎚ 이상으로 되면, 필름 상에 실시한 가식면의 표면 평활성이 떨어지기 때문에, 성형
부재의 표면 외관이 손상된다. 장식면의 표면 외관으로부터는 SRa의 하한은 작으면 작을수록 좋지만, 공업적으
로 양호한 수율로 제조할 수 있는 필름의 조도로서는, 2㎚ 이상이 된다. X면의 표면 조도 SRa의 바람직한 범위
는 2 내지 20㎚이고, 더욱 바람직하게는 5 내지 10㎚이다.

[0085] 또한, 본 발명의 성형용 필름은 가식 필름의 가공성 및 성형 부재의 표면 외관의 관점에서, 필름에 가식을 실시
하기에 적합한 X면과는 반대 면(Y면으로 함)의 표면 조도 SRa가 50㎚ 이상 1,000㎚ 이하인 것이 바람직하다. Y
면의 표면 조도 SRa가 1,000㎚를 넘는 경우, X면에 가공한 가식층에 Y면의 표면 형상이 영향을 주어, 성형 부재
의 표면 외관이 손상된다. 또한, Y면의 표면 조도 SRa가 50㎚ 미만인 경우, 성형 필름에 가식층을 가공할 때,
필름의 슬립성이 손상되기 때문에, 필름에 주름이 들어 가거나 찢어지거나 해서 수율이 악화되어 생산성이 악화
된다. Y면의 표면 조도 SRa의 바람직한 범위는 100㎚ 이상 1,000㎚ 이하, 더욱 바람직한 범위는 100㎚ 이상
500㎚ 이하이다.

[0086] 본 발명의 성형용 필름은 상기와 마찬가지의 관점에서, 필름의 한 면(X면)의 표면 조도 SRmax가 20㎚ 이상 500
㎚ 미만이고, 다른 면(Y면)의 표면 조도 SRmax가 500㎚ 이상 10,000㎚ 이하인 것이 바람직하다. 보다 바람직하
게는, X면의 표면 조도 SRmax가 20㎚ 이상 200㎚ 이하, Y면의 표면 조도 SRmax가 1,000㎚ 이상 5,000㎚ 이하이
다.

[0087] 본 발명의 성형용 필름에 있어서, X면의 표면 조도 SRa를 2㎚ 이상 50㎚ 미만의 범위로 하거나, SRmax를 20㎚
이상 500㎚ 미만의 범위로 하기 위해서는, 예를 들면 T 다이로부터 압출된 시트상의 용융 중합체를 평활한 표면
을 갖는 캐스트 롤로 냉각 고화하는 방법 등이 있다. 캐스트 롤의 평활한 표면이 캐스팅된 필름에 전사되어,
캐스트 롤 접촉면 측의 필름의 표면 평활성이 향상된다.

[0088] 상기한 방법에 있어서, 캐스트 롤 표면의 산술 평균 조도 Ra(JIS B-0601-2001에 준거하여 측정한 경우의 산술
평균 조도 Ra)가 50㎚ 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 40㎚ 이하, 더욱 바람직하게는 20㎚ 이하이
다. 또한, 캐스트 롤의 산술 평균 조도 Ra의 하한은 특별히 제한은 없지만, 필름의 롤 권취성을 고려하면 2㎚
이상이 바람직하다.

[0089] 캐스트 롤의 표면 조도는, 종래 공지된 연삭 방법으로부터 적절하게 선택함으로써 원하는 표면 조도를 얻으면
되지만, 보다 정밀하게 표면성을 제어하기 위해서는 연삭 후에 버프 연마 공정을 거치는 것이 바람직하다. 또
한, 캐스트 롤의 표면 조도를 측정하는 방법으로서는, 트리아세틸셀룰로오스 등을 유기 용매에 용해시킨 것을
롤면에 압착, 건조시켜 롤 표면 형상을 전사시킨 샘플을 모형(replica) 샘플로서 제조하고, 그 모형 샘플의 표
면 조도를 측정하는 방법, 롤 표면을 직접 표면 조도계로 측정하는 방법 등을 들 수 있다.

[0090] 또한, 캐스트 롤의 평활성을 필름에 보다 강하게 전사시켜 표면 평활성을 향상시키는 방법으로서는, 와이어상
전극을 이용하여 정전 인가에 의해 필름을 캐스트 롤에 밀착시키는 방법, 에어나이프, 에어챔버로 공기를 분사
함으로써 롤에 밀착시키는 방법, T 다이로부터 압출된 시트상의 용융 중합체를 캐스트 롤과 닙롤로 이루어지는
한쌍의 냉각 롤에 의해 닙핑하고, 계속해서 캐스트 롤에 밀착시키면서 인취하는 방법 등을 사용할 수 있다.

[0091] 한편 Y면의 표면 조도 SRa를 50㎚ 이상 1,000㎚ 이하의 범위로 하거나, SRmax를 500㎚ 이상 10,000㎚의 범위로
하기 위해서는, 필름을 적층 구성으로 하고 Y면 측의 층에 입자를 첨가하여 표면을 조면화하는 방법, 필름을 캐
스트 롤 상에서 성형할 때에 중합체를 결정화시켜 표면을 조면화하는 방법, T 다이로부터 압출된 시트상의 용융
중합체를 캐스트 롤과 닙롤로 이루어지는 한쌍의 냉각 롤에 의해 닙핑하고, 계속해서 캐스트 롤에 밀착시키면서
인취하는 방법에 있어서, 닙롤의 표면을 적절한 표면 조도로 가공해 두고 필름면에 전사시키는 방법 등이 있지
만, 필름의 표면 조도의 제어성이라는 관점에서, T 다이로부터 압출된 시트상의 용융 중합체를 캐스트 롤과 닙
롤로 이루어지는 한쌍의 냉각 롤에 의해 닙핑하고, 계속해서 캐스트 롤에 밀착시키면서 인취하는 방법에

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있어서, 닙롤의 표면을 적절한 표면 조도로 가공해 두고 필름면에 전사시키는 방법이 바람직하다. 필름을 제조
할 때의 캐스트 롤, 및 닙롤에 이용되는 재료는 특별히 제한은 없지만, 평활한 면을 형성하고자 하는 경우에는
금속 재료가 바람직하고, 또한, 권취성 향상을 위해 표면을 거칠게 하고자 하는 경우에는 고무 재료가 바람직하
다.

[0092] 또한 본 발명의 성형용 필름은, Y면을 갖는 층의 전체 성분 합계를 100 질량％로 했을 때에, Y면을 갖는 층이
입자를 0 질량％보다 많고 1.0 질량％ 이하로 함유하는 것이 바람직하다. Y면을 갖는 층 중의 입자의 함유량이
1.0 질량％ 이하인 경우, X면에 가공한 가식층에 Y면의 표면 형상이 영향을 미치는 것을 억제하여, 성형 부재의
표면 외관을 보다 양호한 것으로 할 수 있는 경우가 많기 때문에 바람직하다. Y층의 전체 성분 합계를 100 질
량％로 했을 때의, Y층 중의 입자의 함유량은, 보다 바람직하게는 0 질량％보다 많고 0.5 질량％ 이하이고, 보
다 바람직하게는 0 질량％보다 많고 0.3 질량％ 이하이다.

[0093] Y면을 갖는 층에 함유시키는 입자는, Y면을 갖는 층을 구성하는 수지에 대하여 불활성인 것이면 특별히 한정되
지 않지만, 무기 입자, 유기 입자, 가교 고분자 입자 등을 들 수 있다. 이들 입자를 2종류 이상 첨가해도 상관
없다. 무기 입자의 종류로서는, 특별히 한정되지 않지만, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 탄산바륨 등의 각종
탄산염, 황산칼슘, 황산바륨 등의 각종 황산염, 카올린, 탈크 등의 각종 복합 산화물, 인산리튬, 인산칼슘, 인
산마그네슘 등의 각종 인산염, 산화알루미늄, 이산화규소, 산화티탄 등의 각종 산화물, 불화리튬 등의 각종 염
을 사용할 수 있다.

[0094] 또한 유기 입자로서는, 칼슘, 바륨, 아연, 망간, 마그네슘 등의 테레프탈산염 등이 사용된다.

[0095] 가교 고분자 입자로서는, 디비닐벤젠, 스티렌, 아크릴산, 메타크릴산의 비닐계 단량체로부터의 단독중합체 또는
공중합체를 들 수 있다. 그 밖에, 폴리테트라플루오로에틸렌, 벤조구아나민 수지, 열 경화 에폭시 수지, 불포
화 폴리에스테르 수지, 열 경화성 요소 수지, 열 경화성 페놀 수지 등의 유기 입자도 적합하게 사용된다.

[0096] 본 발명의 성형용 필름은 품위, 표면 외관의 관점에서 필름의 전체 성분의 합계 100 질량％에 대하여, 산화 방
지제 및/또는 지방산 금속염을 0.005 질량％ 이상 0.5 질량％ 이하로 함유하는 것이 바람직하다. 필름의 품위
를 향상시키기 위해서는 폴리에틸렌계 수지나 폴리프로필렌계 수지를 함유시킴으로써 압출 공정에서의 전단 응
력을 저하시킬 수 있어, 가교에 의한 이물의 발생을 억제시키는 것이 가능해지고, 나아가 인성도 향상시킬 수
있지만, 표면에 주름 형상의 불균일이 발생하기 쉬워진다. 이 때문에, 본 발명의 성형용 필름은, 특히 필름의
품위, 표면 외관이 엄격한 용도로 전개되기 위해서는, 필름의 전체 성분의 합계 100 질량％에 대하여 산화 방지
제 및/또는 지방산 금속염을 0.005 질량％ 이상 0.5 질량％ 이하로 함유하는 것이 바람직하다. 산화 방지제 및
/또는 지방산 금속염을 0.005 질량％ 이상 0.5 질량％ 이하 함유시킴으로써, 폴리에틸렌계 수지나 폴리프로필렌
계 수지를 함유시켰을 때와 마찬가지로, 가교에 의한 이물의 발생을 억제시키는 것이 가능해진다. 이 때문에,
본 발명의 성형용 필름의 표면 외관이 향상되어, 성형 후의 성형 부재에 대해서도 우수한 표면 외관의 것을 얻
을 수 있다.

[0097] 또한, 본 발명의 성형용 필름이 산화 방지제 및 지방산 금속염을 함께 함유하는 경우에는, 산화 방지제 및 지방
산 금속염의 합계량이 중요하여, 구체적으로는, 필름의 전체 성분의 합계 100 질량％에 대하여, 산화 방지제 및
지방산 금속염의 합계가 0.005 질량％ 이상 0.5 질량％ 이하가 되는 것이 중요하다.

[0098] 여기서 산화 방지제로서는, 특별히 한정되지 않지만, 포스파이트계 산화 방지제, 유기 황계 산화 방지제, 힌더

드 페놀계 산화 방지제 등을 적합하게 사용할 수 있다.

[0099] 포스파이트계 산화 방지제로서는 화학 구조식에 포스파이트를 포함하는 것, 구체적으로는 이르가포스 38, 이르

가포스 P-EPQ, 이르가포스 126(이상, 모두 치바·스페셜티·케미컬즈사 제조), 스밀라이저 TNP, 스밀라이저
TPP-P, 스밀라이저 P-16(이상 모두 스미토모 가가꾸 고교사 제조), 아데카스탭 PEP-4C, 아데카스탭 PEP-8, 아데
카스탭 11C, 아데카스탭 PEP-36, 아데카스탭 HP-11, 아데카스탭 260, 아데카스탭 522A, 아데카스탭 329K, 아데
카스탭 1500, 아데카스탭 C, 아데카스탭 135A, 아데카스탭 3010(이상 모두 아사히 덴카 고교사 제조) 등을 들
수 있다.

[0100] 유기 황계 산화 방지제로서는 화학 구조식에 티오에테르를 포함하는 것, 구체적으로는, 시판품으로서 이르가녹

스 PS800FL, 이르가녹스 PS802FL(이상 모두 치바·스페셜티·케미컬즈사 제조), 스밀라이저 TP-M, 스밀라이저
TP-D, 스밀라이저 TL, 스밀라이저 MB(이상 모두 스미토모 가가꾸 고교사 제조), 아데카스탭 AO-23(아사히 덴카
고교사 제조) 등을 들 수 있다.

[0101] 힌더드 페놀계 산화 방지제로서는 화학 구조식에 2,6-알킬페놀을 갖는 것, 구체적으로는, 시판품으로서 이르가

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녹스 245, 이르가녹스 259, 이르가녹스 565, 이르가녹스 1010, 이르가녹스 1035, 이르가녹스 1076, 이르가녹스
1098, 이르가녹스 1222, 이르가녹스 1330, 이르가녹스 1425, 이르가녹스 3114, 이르가녹스 1520, 이르가녹스
1135, 이르가녹스 1141, 이르가녹스 HP2251(이상 모두 치바·스페셜티·케미컬즈사 제조), 스밀라이저 BHT, 스
밀라이저 MDP-S, 스밀라이저 GA-80, 스밀라이저 BBM-S, 스밀라이저 WX-R, 스밀라이저 GM, 스밀라이저 GS(이상
모두 스미토모 가가꾸 고교사 제조), 아데카스탭 AO-30(아사히 덴카 고교사 제조) 등을 들 수 있다.

[0102] 이들 산화 방지제는 1종류를 단독으로 이용할 수도 있고, 2종류 이상을 조합하여 이용할 수도 있다.

[0103] 또한, 지방산 금속염의 구체예로서는, 아세트산나트륨, 아세트산칼륨, 아세트산마그네슘, 아세트산칼슘 등의 아

세트산염, 라우르산나트륨, 라우르산칼륨, 라우르산수소칼륨, 라우르산마그네슘, 라우르산칼슘, 라우르산아연,
라우르산은 등의 라우르산염, 미리스트산리튬, 미리스트산나트륨, 미리스트산수소칼륨, 미리스트산마그네슘, 미
리스트산칼슘, 미리스트산아연, 미리스트산은 등의 미리스트산염, 팔미트산리튬, 팔미트산칼륨, 팔미트산마그네
슘, 팔미트산칼슘, 팔미트산아연, 팔미트산구리, 팔미트산납, 팔미트산탈륨, 팔미트산코발트 등의 팔미트산염,
올레산나트륨, 올레산칼륨, 올레산마그네슘, 올레산칼슘, 올레산아연, 올레산납, 올레산탈륨, 올레산구리, 올레
산니켈 등의 올레산염, 스테아르산나트륨, 스테아르산리튬, 스테아르산마그네슘, 스테아르산칼슘, 스테아르산바
륨, 스테아르산알루미늄, 스테아르산탈륨, 스테아르산납, 스테아르산니켈, 스테아르산베릴륨 등의
스테아르산염, 이소스테아르산나트륨, 이소스테아르산칼륨, 이소스테아르산마그네슘, 이소스테아르산칼슘, 이소
스테아르산바륨, 이소스테아르산알루미늄, 이소스테아르산아연, 이소스테아르산니켈 등의 이소스테아르산염, 베
헤닌산나트륨, 베헤닌산칼륨, 베헤닌산마그네슘, 베헤닌산칼슘, 베헤닌산바륨, 베헤닌산알루미늄,
베헤닌산아연, 베헤닌산니켈 등의 베헤닌산염, 몬탄산나트륨, 몬탄산칼륨, 몬탄산마그네슘, 몬탄산칼슘, 몬탄산
바륨, 몬탄산알루미늄, 몬탄산아연, 몬탄산니켈 등의 몬탄산염 등을 사용할 수 있다. 이들은 1종류 또는 2종류
이상의 혼합물일 수도 있다. 지방산 금속염은 스테아르산의 염류나 몬탄산의 염류가 적합하게 이용되고, 특히
스테아르산나트륨, 스테아르산칼슘, 스테아르산칼륨, 스테아르산아연, 스테아르산바륨, 몬탄산나트륨 등이 적합
하게 이용된다.

[0104] 또한, 본 발명의 성형용 필름이, A층과 B층을 갖는 2층 이상의 적층 필름인 경우, 산화 방지제 및/또는 지방산
금속염은 A층, B층 중 어느 쪽의 층에 함유시키더라도 효과가 있기 때문에 바람직한데, 특히 B층에 함유시키는
것이 품위, 표면 외관의 관점에서 매우 바람직하다.

[0105] 본 발명의 성형용 필름은 성형성의 관점에서, 적어도 한 방향의 160℃에 있어서의 파단 신도가 300％ 이상인 것
이 바람직하다. 본 발명의 성형용 필름은 진공 성형, 압공 성형, 진공 압공 성형, 프레스 성형 등과 같은 여러
가지 성형 방법을 이용하여 성형할 수 있지만, 딥드로잉 형상에 대응하기 위해서는 성형 온도에서의 파단 신도
가 300％ 이상인 것이 바람직하다. 코팅, 인쇄, 증착과 같은 가공시의 치수 안정성을 보유하면서, 가능한 한
성형의 택트 타임을 짧게 하기 위해서, 성형 온도로서는 160℃ 이하인 것이 바람직하기 때문에, 160℃에 있어서
의 파단 신도가 300％ 이상이면 바람직하다. 성형성과 치수 안정성의 관점에서, 보다 바람직하게는, 적어도 한
방향의 160℃에 있어서의 파단 신도는 500％ 이상이고, 800％ 이상이면 더욱 바람직하다. 또한, 딥드로잉 성형
성이 요구되는 용도로 전개되는 경우에는, 적어도 한 방향의 160℃에 있어서의 파단 신도가 1000％ 이상인 것이
특히 바람직하다. 성형성의 관점에서는 160℃의 파단 신도는 높은 쪽이 바람직하지만, 치수 안정성을 고려한
경우, 바람직한 파단 신도는 2000％ 이하이다.

[0106] 적어도 한 방향의 160℃에 있어서의 파단 신도를 500％ 이상으로 하는 방법으로서는 특별히 한정되지 않지만,
유리 전이 온도가 150℃ 이하인 층의 합계 두께를, 필름 전체 두께를 100％로 하여 50％ 이상의 두께로 하는 것
이 바람직하다. 유리 전이 온도가 145℃ 이하인 층의 합계 두께를, 필름 전체 두께를 100％로 하여 50％ 이상
의 두께로 하는 것이 보다 바람직하고, 유리 전이 온도가 140℃ 이하인 층의 합계 두께를, 필름 전체 두께를
100％로 하여 50％ 이상의 두께로 하는 것이 가장 바람직하다. 또한, 1개의 층 중에 복수종의 수지가 혼합되어
있는 경우 등과 같이, 유리 전이 온도가 복수개 존재하는 경우에는, 고온측의 유리 전이 온도를 그 층의 유리
전이 온도로 한다.

[0107] 본 발명의 성형용 필름은 생산 안정성, 성형성, 치수 안정성의 관점에서, 20 내지 500㎛인 것이 바람직하다.
보다 바람직하게는 50 내지 400㎛, 특히 바람직하게는 70 내지 300㎛이다.

[0108] 본 발명의 성형용 필름은, 성형성, 가공성의 관점에서 두께 불균일이 10％ 이하인 것이 바람직하다. 두께 불균
일을 10％ 이하로 함으로써 균일하게 성형할 수 있고, 또한 코팅, 라미네이트, 인쇄, 증착 등의 가공시의 얼룩
을 억제할 수 있기 때문에 바람직하다. 본 발명의 성형용 필름의 두께 불균일을 10％ 이하로 하는 방법은 특별
히 한정되지 않지만, 예를 들면 점착되지 않을 정도로 캐스트 온도를 고온화하는 방법, 캐스트 위치를 전방 캐

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스트로 하는 방법, 구금의 립 간극을 좁게 하는 방법 등을 들 수 있다. 두께 불균일은 8％ 이하이면 더욱 바람

직하고, 5％ 이하이면 가장 바람직하다.

[0109] 또한, 본 발명의 성형용 필름(적층 필름에 있어서는, 그것을 구성하는 각 층)은 필요에 따라서 난연제, 열 안정
제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 대전 방지제, 가소제, 점착성 부여제, 폴리실록산 등의 소포제, 안료 또는 염
료 등의 착색제를 적량 함유할 수 있다.

[0110] 본 발명의 성형용 필름은 환상 올레핀계 수지를 주성분으로 하고 있기 때문에, 표면 외관, 이형성이 우수하여,
성형 용도 중에서도 성형 이형 용도, 성형 전사박 용도로 바람직하게 이용된다.

[0111] 여기서, 성형 이형 용도란, 예를 들면 FPC(플렉서블 인쇄 회로)의 제조에 있어서의 열 프레스 성형 공정에서 사

용되는 이형 필름 등을 들 수 있다. 예를 들면, 표면 요철 형상을 갖는 회로 기판 표면에 보강용 라미네이트
필름을 열 프레스 압착시킬 때, 본 발명의 성형용 필름을 프레스 금형과 라미네이트 필름 사이에 설치하여(프레
스 금형/본 발명의 성형용 필름/라미네이트 필름/회로 기판의 구성), 금형과 라미네이트 필름의 융착을 억제시
키기 위한 이형 필름 용도 등으로 사용할 수 있다.

[0112] 또한, 성형 전사박 용도로서는, 예를 들면 다음과 같은 용도를 들 수 있다.

[0113] ·본 발명의 성형용 필름에 가식층을 적층하고, 성형과 동시에 가식층을 부재에 전사시킨 후, 본 발명의 성형용
필름을 박리하여, 장식 부재를 얻는 용도.

[0114] ·본 발명의 성형용 필름에 기능층(예를 들면, 내후층, 내상성층, 도전성층, 열선 흡수층, 열선 반사층 등)을
적층하여, 성형과 동시에 기능층을 부재에 전사시킨 후, 본 발명의 성형용 필름을 박리하여, 기능성 부재를 얻
는 용도.

[0115] 본 발명의 성형용 필름은 금형, 라미네이트 필름, 가식층 및 기능층과의 박리성이 우수하기 때문에, 표면 외관
이 우수한 성형 부재를 얻을 수 있다.

[0116] 본 발명의 성형용 필름은 성형 전사박 용도로 이용되는 것이 바람직한데, 성형 도중에 필름과, 필름 상에 적층
된 도막이 자연 박리되는 것을 방지하기 위해서, 적어도 한쪽 면의 표면 자유 에너지가 33mN 이상 45mN/m인 것
이 바람직하고, 보다 바람직하게는 35mN 이상 40mN/m이다. 본 발명의 필름의 표면 자유 에너지를 이러한 범위
로 하기 위해서, 각종 개질 처리를 사용할 수 있고, 예를 들면 코로나 방전 처리, 자외선 조사 처리, 플라즈마
처리, 레이저 처리, 화염 처리, 고주파 처리, 글로 방전 처리, 오존 산화 처리 등을 들 수 있고, 비용, 간편성
의 관점에서, 코로나 방전 처리가 바람직하게 이용된다. 코로나 방전 처리는 공기, 질소, 이산화탄소 및 이들
의 혼합물 중에서 행할 수 도 있다. 필름의 표면 자유 에너지의 측정 방법으로서는, 측정액으로서, 물, 에틸렌
글리콜, 포름아미드 및 요오드화메틸렌의 4종류의 액체를 이용하여, 접촉각계 CA-D(교와 가이멘 가가꾸 제조)를
이용하여, 각 액체의 필름 표면에 대한 정적 접촉각을 구한 후, 각각의 액체에 대해서 얻어진 접촉각과 측정액
의 표면 장력의 각 성분을 아래 식에 각각 대입하여 4개의 식으로 이루어지는 연립방정식을 γSd, γSp, γSh에
대해서 풀어서 구할 수 있다.

[0117] (γSdγLd)1/2 +(γSpγLp)1/2 +(γShγLh)1/2=γL(1+COSθ)/2

[0118] 단, γS=γSd +γSp +γSh

[0119] γL=γLd +γLp +γLh

[0120] γS, γSd, γSp, γSh는 각각 필름 표면의 표면 자유 에너지, 분산력 성분, 극성력 성분, 수소 결합 성분을 나
타내고, 또한 γL, γLd, γLp, γLh는 이용한 측정액의 각각 표면 자유 에너지, 분산력 성분, 극성력 성분, 수
소 결합 성분을 나타내는 것으로 한다. 여기서, 이용한 각 액체의 표면 장력은 문헌 [Panzer(J.Panzer,
J.Colloid Interface Sci., 44, 142(1973)]에 의해서 제안된 값을 이용하고 있다.

[0121] 본 발명의 성형용 필름을 이용한 성형 전사박의 구성으로서는 특별히 한정되지 않지만, 본 발명의 성형용 필름
에 가식층을 적층한 구성인 것이 바람직하다. 여기서, 가식층은, 착색, 무늬 모양, 나무결조, 금속조, 펄조 등
의 장식을 부가시키기 위한 층이다. 전사 후의 성형 부재(피착체)의 내상성, 내후성, 의장성의 관점에서는, 클
리어층을 더 적층하는 것이 바람직하다. 이 경우, 클리어층은 성형용 필름측에 적층하는 것이 바람직하다. 또
한, 전사 후의 성형 부재(피착체)와 가식층의 밀착성의 관점에서, 접착층을 적층하는 것이 바람직하다. 이 경
우, 접착층은, 피착체 측에 적층하는 것이 바람직하다.

[0122] 즉 본 발명의 성형 전사박은 본 발명의 성형용 필름의 적어도 한쪽면에 클리어층, 가식층 및 접착층을 순차로

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갖는 구성인 것이 바람직하다.

[0123] 여기서 말하는 클리어층이란, 성형 부재의 최표층에 위치하는 층이고, 성형 부재의 외관을 향상시키기 위해 고
광택, 고투명의 층이다.

[0124] 또한, 여기서 말하는 가식층이란, 착색, 요철, 무늬 모양, 나무결조, 금속조, 펄조 등의 장식을 부가시키기 위
한 층이다.

[0125] 여기서, 클리어층으로서 사용되는 수지는 고투명 수지이면 특별히 한정되지 않지만, 폴리에스테르계 수지, 폴리
올레핀계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 불소계 수지, 폴리아세트산비닐계 수지, 염화비닐-아세트산비닐
공중합체계 수지, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체계 수지 공중합체 등이 적합하게 사용된다. 내상성의
관점에서, 열 경화 수지, 자외선 경화 수지, 열선 경화 수지가 바람직하게 이용된다. 또한, 클리어층에는 내후
성을 향상시키기 위해서, 자외선 흡수제, 자외선 반사제를 첨가해도 상관없다.

[0126] 또한, 클리어층은 내상성, 의장성의 관점에서, 두께가 10 내지 100㎛인 것이 바람직하고, 15 내지 80㎛이면 더
욱 바람직하고, 20 내지 60㎛이면 가장 바람직하다.

[0127] 클리어층의 형성 방법으로서는, 직접 형성시키는 방법, 캐리어 필름에 일단 형성시키고 전사시키는 방법 등을

들 수 있다. 클리어층을 형성시킨 후의 건조 온도를 고온으로 할 필요가 있는 경우에는, 일단 캐리어 필름에
형성시키고 그 후, 전사시키는 방법이 바람직하게 이용된다. 클리어층의 형성 방법으로서는, 롤러 도장법, 브
러시 도장법, 스프레이 도장법, 침지 도장법 이외에, 그라비아 코터, 다이 코터, 코머 코터, 바 코터, 나이프
코터를 이용한 방법을 들 수 있다. 또한, 본 발명의 성형용 필름은 환상 올레핀계 수지를 주성분으로 하고 있
기 때문에, 톨루엔, 크실렌과 같은 방향족계 용제에 대한 내성이 낮아, 클리어층에 이용되는 용제로서 방향족계
용제를 사용하지 않는 구성으로 하는 것이 바람직하다.

[0128] 가식층의 형성 방법으로서는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 코팅, 인쇄, 금속증착 등에 의해서 형성할 수
있다. 코팅하는 경우에는, 그라비아 코팅법, 롤 코팅법, 코머 코팅법 등의 코팅법을 사용할 수 있다. 또한,
인쇄하는 경우에는, 오프셋 인쇄법, 그라비아 인쇄법, 스크린 인쇄법 등의 인쇄법을 이용할 수 있다. 이 때 사
용되는 수지로서는, 폴리에스테르계 수지, 폴리올레핀계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 불소계 수지, 폴
리아세트산비닐계 수지, 염화비닐-아세트산비닐 공중합체계 수지, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체계 수지 공중합
체 등이 바람직하게 사용된다. 사용되는 착색제로서는 특별히 한정되지 않지만, 분산성 등을 고려하여, 염료,
무기 안료, 유기 안료 등으로부터 적절하게 선택된다.

[0129] 코팅, 인쇄에 의해 형성되는 가식층의 두께로서는, 성형 후의 색조 보유성, 의장성의 관점에서, 10 내지 100㎛
인 것이 바람직하고, 15 내지 80㎛이면 더욱 바람직하고, 20 내지 60㎛이면 가장 바람직하다.

[0130] 또한, 가식층의 형성 방법이 금속 증착인 경우, 증착 박막의 제조 방법으로서는 특별히 한정되지 않지만, 진공
증착법, EB 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법 등을 사용할 수 있다. 또한, 폴리에스테르 필름과 증착층의
밀착성을 향상시키기 위해서, 증착면을 미리 코로나 방전 처리나 앵커 코팅제를 도포하는 등의 방법에 의해 전
처리해 두는 것이 바람직하다. 사용되는 금속으로서는 성형 추종성의 점에서 융점이 150 내지 400℃인 금속 화
합물을 증착시켜 사용하는 것이 바람직하다. 상기 융점 범위의 금속을 사용함으로써, 본 발명의 성형용 필름을
성형 가능한 온도 영역에서, 증착시킨 금속층도 성형 가공이 가능하고, 성형에 의한 증착층 결점의 발생을 억제
하기 쉬워지므로 바람직하다. 보다 바람직한 금속 화합물의 융점은 150 내지 300℃이다. 융점이 150 내지 400
℃인 금속 화합물로서는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 인듐(157℃)이나 주석(232℃)이 바람직하고, 특히 인
듐을 바람직하게 사용할 수 있다. 가식층의 적층 두께는 0.001 내지 100㎛인 것이 바람직하고, 0.01 내지 80㎛
이면 더욱 바람직하고, 0.02 내지 60㎛이면 가장 바람직하다.

[0131] 성형 수지에 대한 접착성을 부여할 목적으로 형성하는 접착층의 소재로서는, 감열 타입 또는 감압 타입을 사용

할 수 있다. 사출 성형 수지, 수지 성형체에 전사시키는 경우에는, 수지에 맞춰, 접착층을 설계할 수 있다.
아크릴계 수지의 경우에는 아크릴계 수지, 폴리페닐렌옥시드·폴리스티렌계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 스티
렌 공중합체계 수지, 폴리스티렌계 수지의 경우에는, 이들 수지와 친화성이 있는 아크릴계 수지, 폴리스티렌계
수지, 폴리아미드계 수지 등을 이용하는 것이 바람직하다. 성형 수지가 폴리프로필렌계 수지인 경우에는, 염소
화폴리올레핀계 수지, 염소화에틸렌-아세트산비닐 공중합체계 수지, 환화 고무, 쿠마론인덴계 수지를 이용하는
것이 바람직하다.

[0132] 접착층의 형성 방법은 여러가지 방법을 이용할 수 있고, 예를 들면 롤 코팅법, 그라비아 코팅법, 코머 코팅법

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등의 코팅법, 또한 예를 들면 그라비아 인쇄법, 스크린 인쇄 등의 인쇄법이 이용된다.

[0133] 본 발명의 성형용 필름을 이용한 성형 전사박을 사용하여 가식시키는 피착체로서는 특별히 한정되지 않지만, 예
를 들면 폴리프로필렌, 아크릴, 폴리스티렌, 폴리아크릴로니트릴·스티렌, 폴리아크릴로니트릴·부타디엔·스티
렌 등과 같은 수지나, 금속 부재 등이 이용된다.

[0134] [실시예]

[0135] 이하, 실시예에 따라서 본 발명을 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다.

[0136] [여러가지 특성의 측정 방법]

[0137] (1) 필름 두께 및 층 두께

[0138] 적층 필름의 전체 두께를 측정할 때에는, 다이얼 게이지를 이용하여, 필름으로부터 잘라낸 시료의 임의의 장소
5곳의 두께를 측정하고, 평균치를 구하였다.

[0139] 또한, 적층 필름의 각 층의 층 두께를 측정할 때는, 라이카 마이크로시스템(주) 제조의 금속 현미경 LeicaDMLM
을 이용하여, 필름의 단면을 배율 100배의 조건으로 투과광을 사진 촬영하고, 적층 필름의 각 층의 층 두께에
대해서, 각 층마다 임의의 5곳을 측정하고, 그의 평균치를 각 층의 층 두께로 하였다.

[0140] (2) 저장 탄성률

[0141] 필름을 임의의 한 방향, 및 그 방향과 직교하는 방향으로 길이 60㎜×폭 5㎜의 직사각형으로 잘라내어 샘플로
하였다. 동적 점탄성 측정 장치(레올로지 제조, DVE-V4 FT 레오스펙트라)를 이용하여, 하기의 조건 하에서 측
정을 행하고, 측정 온도 범위에 있어서의 저장 탄성률(E')을 구하였다.

[0142] 주파수: 10㎐, 시료 거리(척간 거리): 20㎜, 변위 진폭: 10㎛

[0143] 측정 온도 범위: 25℃ 내지 180℃, 승온 속도: 5℃/분.

[0144] 또한, 저장 탄성률(E')이 1000㎫인 온도 T1(℃)이란, 필름의 임의의 한 방향에 있어서의 저장 탄성률 t1과, 그
방향과 직교하는 방향의 저장 탄성률 t2의 평균치(즉, (t1+t2)/2)가 1000㎫가 되는 온도이다. 또한, 저장 탄성
률(E')이 100㎫인 온도 T2(℃)란, 필름의 임의의 한 방향에 있어서의 저장 탄성률 t3과, 그 방향과 직교하는 방
향의 저장 탄성률 t4의 평균치(즉, (t3+t4)/2)가 100㎫가 되는 온도이다.

[0145] (3) 유리 전이 온도

[0146] 시차 주사 열량계(세이코 덴시 고교 제조, RDC220)를 이용하여, JIS K 7121-1987, JIS K 7122-1987에 준거하여
측정 및 해석을 행하였다.

[0147] 필름 5㎎(필름의 특정층의 평가를 행하는 경우에는, 측정을 행하는 층을 깎아서 5㎎으로 함)을 샘플로
이용하고, 25℃에서 20℃/분으로 300℃까지 승온했을 때의 유리 상태로부터 고무 상태로의 전이에 기초한 비열
변화를 판독하고, 각 베이스 라인의 연장된 직선으로부터 종축(열류를 나타내는 축) 방향으로 등 거리에 있는
직선과, 유리 전이의 계단상 변화 부분의 곡선이 교차하는 점의 중간점 유리 전이 온도를 구하여, 유리 전이 온
도로 하였다. 또한, 유리 전이 온도가 복수개 존재하는 경우에는, 고온측의 유리 전이 온도를 채용하였다.

[0148] (4) 파단 신도

[0149] 필름을 임의의 한 방향 및 그 방향과 직교하는 방향으로 길이 100㎜×폭 10㎜의 직사각형으로 잘라내어 샘플로
하였다. 인장 시험기(오리엔텍 제조 텐실론 UCT-100)를 이용하여, 초기 인장 척간 거리 20㎜로 하고, 인장 속
도를 200㎜/분으로 해서 필름의 길이 방향과 폭 방향으로 각각 인장 시험을 행하였다. 측정은 미리 160℃로 설
정한 항온층 중에 필름 샘플을 세팅하고, 60초간의 예열 후에 인장 시험을 행하였다. 샘플이 파단되었을 때의
신도를 파단 신도로 하였다. 또한, 측정은 각 샘플, 각 방향으로 5회씩 행하고, 그의 평균치로 평가를 행하였
다.

[0150] (5) 두께 불균일

[0151] 필름을 임의의 위치에서 200㎜×300㎜의 크기로 잘라내어 샘플로 하였다. 200㎜의 방향에 대하여, 단부로부터
20㎜ 간격으로 11점, 300㎜의 방향에 대해서도 30㎜ 간격으로 11점, 합계 121점의 두께를 측정하고, 최대치, 최
소치, 평균치를 구하여, 하기 식으로부터 두께 불균일을 구하였다.

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[0152] 두께 불균일(％)=((최대치-최소치)/평균치)×100.

[0153] (6) 표면 조도 SRa, 표면 조도 SRmax

[0154] 필름의 표면 조도 SRa 및 표면 조도 SRmax는, 고사카겐큐쇼 제조의 3차원 표면 조도계 ETB-30 HK를 이용하여,
촉침식으로 이하의 조건으로 측정하였다.

[0155] 촉침 선단 직경: 2㎛

[0156] 촉침 가중: 10㎎

[0157] 측정 길이: 1㎜ 이송

[0158] 피치: 50㎛

[0159] 측정 개수: 40개

[0160] 컷오프값: 0.25㎜

[0161] 상기한 조건으로, 조도 곡면 f(x, y)가 얻어졌을 때, SRa는 하기의 식(수학식 1)으로 주어진다.

수학식 1

[0162]

[0163] 단, lx ; 측정 길이=1㎜, ly=(피치)×(측정 갯수)=2㎜

[0164] 상기 측정 범위의 가장 높은 봉우리와 가장 깊은 골짜기를 평균면과 평행한 2면 사이에 끼우고, 그 간격을 표면

조도 SRmax로 한다.

[0165] (7) 롤의 표면 조도 Ra

[0166] 롤 표면을, 표면 조도계(고사카겐큐쇼 제조, SE1700)를 이용하여 롤 표면의 조도를 측정하였다. 촉침 선단 반

경 0.5㎛, 측정력 100μN, 측정 길이 1㎜, 저영역 컷오프 0.200㎜, 고영역 컷오프 0.000㎜의 조건으로
측정하고, JIS B-0601-2001에 준거하여 산술 평균 조도 Ra를 구하였다.

[0167] (8) 품위

[0168] 필름을 임의의 위치에서 200㎜×300㎜의 크기로 잘라내어 샘플로 하였다. 3파장 형광등 아래에서 투과시켜 육
안으로 관찰을 행하여, 장경이 100㎛ 이상인 이물의 개수를 카운트하고, A4 크기당의 이물의 개수를 이하의 기
준으로 평가를 행하였다.

[0169] A: 이물의 개수가 10개 미만이었다.

[0170] B: 이물의 개수가 10개 이상 20개 미만이었다.

[0171] C: 이물의 개수가 20개 이상 30개 미만이었다.

[0172] D: 이물의 개수가 30개 이상이었다.

[0173] (9) 표면 외관

[0174] 필름 연신기(브루크너사 제조, KARO-IV)를 이용하여, 하기의 조건으로 필름을 연신한 후의 필름 표면 외관에 대
해서, 이하의 기준으로 평가를 행하였다.

[0175] 초기 샘플: 100㎜×100㎜, 예열·연신 온도: 각 필름의 Tg+20℃, 예열 시간: 20 s, 연신 속도: 20％/s, 연신 배
율: 2×2

[0176] A: 표면 광택이 매우 높고, 불균일이 전혀 관찰되지 않았다.

[0177] B: 표면 광택이 높고, 불균일이 거의 관찰되지 않았다.

[0178] C: 표면에 약간의 주름 형상의 불균일이 관찰되었지만, 실용상으로 문제없는 수준이었다.

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[0179] D: 표면에 현저한 주름 형상의 불균일이 관찰되었다.

[0180] (10) 도공성

[0181] 필름을 임의의 위치에서 200㎜×300㎜의 크기로 잘라내어 샘플로 하였다. 샘플의 표면(A층과 B층을 갖는 적층
필름의 경우에는, B층측)에, 어플리케이터를 이용하여, 교에이샤 가가꾸 제조 UF-TCI-1을 도공하였다. 도공성
에 대해서, 이하의 기준으로 평가를 행하였다.

[0182] A: 도포 불균일은 발생하지 않고, 도공성은 양호하였다.

[0183] B: 도포 불균일은 거의 발생하지 않고, 도공성은 문제없었다.

[0184] C: 도포 불균일이 약간 발생했지만, 실용상으로 문제없는 수준이었다.

[0185] D: 현저한 도포 불균일이 발생하였다.

[0186] (11) 성형성

[0187] 필름을 임의의 위치에서 200㎜×300㎜의 크기로 잘라내어 샘플로 하였다. 샘플의 표면(A층과 B층을 갖는 적층
필름의 경우에는, A층측)에, 어플리케이터를 이용하여, 닛본 케미컬 제조 892L을 도공하고, 80℃에서 10분간 건
조를 행하여, 도막 두께 20㎛의 접착층을 형성하였다. 얻어진 접착층 적층 필름을 400℃의 원적외선 히터를 이
용하여, 접착층 적층 필름을 가열하고, 50℃로 가열한 폴리프로필렌제 수지형(型)(저면 직경 150㎜)에 따라서
진공·압공 성형(압빔: 0.2Ma)을 행하여, 필름/접착층/폴리프로필렌제 수지형의 구성체를 얻었다. 얻어진 구성
체에 대해서, 형을 따라서 성형된 상태(드로잉비: 성형 높이/저면 직경)를 이하의 기준으로 평가하였다. 즉,
드로잉비가 상이한 복수개의 형을 이용하여 필름의 성형성을 확인하고, 성형된 형의 드로잉비 중에서 가장 높은
값을 채용하여, 이하의 기준으로 평가하였다.

[0188] 또한, 각 실시예에 있어서, 성형을 행했을 때의 접착층 적층 필름의 표면 온도는 이하와 같다.

[0189] 145℃: 실시예 1, 2, 12, 13, 비교예 1, 3, 5

[0190] 155℃: 실시예 3, 4, 8 내지 11, 14, 15, 19 내지 25

[0191] 160℃: 실시예 5 내지 7, 16 내지 18, 26 내지 28, 비교예 2, 4

[0192] S: 드로잉비 1.0 이상으로 성형할 수 있었다.

[0193] A: 드로잉비 0.9 이상 1.0 미만으로 성형할 수 있었다.

[0194] B: 드로잉비 0.8 이상 0.9 미만으로 성형할 수 있었다.

[0195] C: 드로잉비 0.7 이상 0.8 미만으로 성형할 수 있었다

[0196] D: 추종성이 낮아, 드로잉비 0.7의 형태로 성형할 수 없었다.

[0197] S 내지 C이면 합격 수준이다.

[0198] (12) 치수 안정성

[0199] 필름을 임의의 한 방향 및 그 방향과 직교하는 방향으로 길이 50㎜×폭 4㎜의 직사각형으로 잘라내어 샘플로 하
고, 열기계 분석 장치(세이코 인스트루먼츠 제조, TMA EXSTAR6000)를 사용하여, 하기의 조건 하에서 승온시켰을
때에 치수 변화율이 1％를 초과하는 온도에 따라, 이하의 기준으로 평가하였다.

[0200] 시료 길이: 15㎜, 하중: 19.6mN, 승온 속도: 5℃/분,

[0201] 측정 온도 범위: 25 내지 220℃

[0202] 치수 변화율(％)

[0203] ={|시료 길이(mm)-보유 후의 필름 길이(mm)|/시료 길이(mm)}×100.

[0204] S: 150℃ 이상

[0205] A: 145℃ 이상 150℃ 미만.

[0206] B: 140℃ 이상 145℃ 미만.

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[0207] C: 130℃ 이상 140℃ 미만.

[0208] D: 130℃ 미만.

[0209] (13) 이형성

[0210] 필름을 임의의 위치에서 200㎜×300㎜의 크기로 잘라내어 샘플로 하였다. 샘플의 표면(A층과 B층을 갖는 적층
필름의 경우에는, B층측)에, 어플리케이터를 이용하여, 교에이샤 가가꾸 제조 UF-TCI-1을 도공하고, 80℃에서
10분간 건조를 행하여, 도막 두께 50㎛의 클리어층을 형성하였다. 또한, 클리어층 상에 어플리케이터를 이용하
여, 아크릴/우레탄계의 실버 잉크를 도공하고, 80℃에서 10분간 건조를 행하여, 도막 두께 30㎛의 가식층을 얻
었다. 또한 가식층 상에, 어플리케이터를 이용하여, 닛본 케미컬 제조 892L을 도공하고, 80℃에서 10분간 건조
를 행하여, 도막 두께 20㎛의 접착층을 형성하여, 성형 전사박을 얻었다.

[0211] 얻어진 성형 전사박을 이용하여, (11)과 마찬가지로 하여 진공·압공 성형을 행하여, 성형용 필름/클리어층/가
식층/접착층/폴리프로필렌 수지형의 구성체를 얻었다. 얻어진 구성체에 조사 강도가 2000 mJ/㎠가 되도록 자외
선을 조사하여 도제(塗劑)를 경화시킨 후, 구성체로부터, 임의의 한 방향으로 길이 100㎜×폭 10㎜의 직사각형
으로 잘라내어 샘플로 하였다. 샘플의 성형용 필름과 클리어층의 일부를 박리시킨 후, 인장 시험기(오리엔텍제
조 텐실론 UCT-100)를 이용하여, 성형용 필름측, 클리어층측(클리어층/가식층/접착층/폴리프로필렌제 수지형)을
각각 척에 끼운 후, 180° 박리 시험을 행하여, 박리 시의 하중의 평균치를 구하고, 이하의 규준으로 판정하였
다.

[0212] 또한, 초기 척간 거리 100㎜, 인장 속도 300㎜/분, 25℃에서, 필름의 임의의 한 방향 및 그 방향과 직교하는 방

향으로 각각 시험을 행하였다. 또한, 측정은 각 샘플, 각 방향으로 5회씩 행하고, 그의 평균치로 평가를 행하
였다.

[0213] A: 0N/10㎜ 이상 0.2N/10㎜ 미만

[0214] B: 0.2N/10㎜ 이상 0.5N/10㎜ 미만

[0215] C: 0.5N/10㎜ 이상 1N/10㎜ 미만

[0216] D: 1N/10㎜ 이상.

[0217] (14) 내취성

[0218] 필름을 임의의 한 방향 및, 그 방향과 직교하는 방향으로 길이 150㎜×폭 15㎜의 직사각형으로 잘라내어 샘플로
하고, 도요세이끼 제조의 MIT 내절 피로 시험기를 이용하여, JIS P 8115(1994)에 준거하는 방법으로
실시하였다. 파단까지의 절곡 횟수 N(각 방향 5회, 합계 10회 측정한 평균치)을 이하의 기준으로 평가하였다.

[0219] MIT 척: R=2.0, t=0.25㎜, 장력: 1.25kg/㎟

[0220] 절곡 각도: 135± 2°, 절곡 횟수 매분 175±10회

[0221] A: 파단까지의 절곡 횟수 N이 10회 이상

[0222] B: 파단까지의 절곡 횟수 N이 10회 미만.

[0223] (15) 권취성

[0224] 각 필름에 대해서, 폭 400㎜, 길이 200m의 필름 롤(직경 3인치, 폭 550㎜의 코어에 감긴 필름 롤)을 준비하고,
하기 조건으로, 해당 필름으로부터 필름을 권출하여, 직경 3인치, 폭 550㎜의 코어에 권취하였다.

[0225] 권출 장력: 180N/m, 권취 장력: 120N/m

[0226] 속도: 20m/min

[0227] 감긴 모습을 하기의 기준으로 평가를 행하였다.

[0228] A: 핵이 없고 알맹이 결점이 보이지 않고, 또한, 감긴 모습이 매우 양호하였다.

[0229] B: 핵이 없고 알맹이 결점이 보이거나, 감긴 모습이 불량하였다(핵이 없고 알맹이 결점이 보이고, 또한 감긴 모

습이 불량한 경우를 포함함).

[0230] (16) 공정 안정성

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[0231] 500㎜ 폭의 필름 롤을 권출하고, 미리 온도를 T1(저장 탄성률이 1000㎫인 온도)로 설정한 로 길이 2m의 플로팅
건조기 내에 1m/min의 속도로 통과시켰을 때의 로 내의 필름을 관찰하고, 이하의 기준으로 평가하였다.

[0232] A: 필름의 주름, 느슨함의 발생 없음.

[0233] B: 필름에 약간의 주름은 보이지만 느슨함은 발생하지 않음.

[0234] C: 필름에 주름이 발생. 느슨함은 발생하지 않음.

[0235] D: 필름에 느슨함이 발생.

[0236] (17) 성형체 표면 외관

[0237] 필름 롤의 X면 측에, 다이코터로 교에이샤 가가꾸 제조 UF-TCI-1을 도공하고, 80℃에서 10분간 건조를 행하여,
도막 두께 50㎛의 클리어층을 형성하였다. 계속해서, 클리어층 상에 동일 다이코터를 이용하여, 아크릴/우레탄
계의 실버 잉크를 도공하고, 80℃에서 10분간 건조를 행하여, 도막 두께 30㎛의 가식층을 형성하였다. 또한 가
식층 상에, 어플리케이터를 이용하여, 닛본 케미컬 제조 892L을 도공하고, 80℃에서 10분간 건조를 행하고, 도
막 두께 20㎛의 접착층을 형성하여, 성형 전사박 롤을 제조하였다.

[0238] 얻어진 성형 전사박 롤로부터 임의의 위치에서 200㎜×300㎜의 크기로 필름을 잘라내고, (11)과 마찬가지로 하
여 진공·압공 성형을 행하여, 성형용 필름/클리어층/가식층/접착층/폴리프로필렌제 수지형의 성형 부재를 얻었
다. 얻어진 성형 부재에 조사 강도가 2,000mJ/㎠가 되도록 자외선을 조사하여 도제를 경화시켰다. 필름을 박
리한 곳의 전사체(클리어층/가식층/접착층/폴리프로필렌제 수지형)를 3파장 형광등 아래에서 클리어층 측에서
표면을 관찰하고, 다음의 기준으로 표면 외관을 평가하였다.

[0239] A: 형광등의 형상이 확실히 비쳐서 관찰되었다.

[0240] B: 형광등의 형상이 비쳐서 관찰되었지만, 약간 희미하게 보이는 곳이 있었다.

[0241] C: 형광등의 형상이 불명료하고 전체적으로 희미해져 있었다.

[0242] [원료]

[0243] (환상 올레핀계 수지 A)

[0244] 폴리플라스틱스사 제조 "TOPAS 8007 F-04"를 이용하였다.

[0245] (환상 올레핀계 수지 B)

[0246] 폴리플라스틱스사 제조 "TOPAS 6013 F-04"를 이용하였다.

[0247] (환상 올레핀계 수지 C)

[0248] 폴리플라스틱스사 제조 "TOPAS 6015 S-04"를 이용하였다.

[0249] (환상 올레핀계 수지 D)

[0250] 니혼제온사 제조 "ZEONOR 1060 R"을 이용하였다.

[0251] (환상 올레핀 수지 E)

[0252] 니혼제온사 제조 "ZEONOR 1430 R"을 이용하였다.

[0253] (환상 올레핀 수지 F)

[0254] 폴리플라스틱스사 제조 "TOPAS 6017 S-04"를 이용하였다.

[0255] (폴리에틸렌계 수지)

[0256] 프라임폴리머사 제조 "에볼류 SP2540"을 이용하였다.

[0257] ※ 표 중에서는, PE라고 표기.

[0258] (폴리프로필렌계 수지)

[0259] 프라임폴리머사 제조 "P204"를 이용하였다.

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[0260] ※ 표 중에서는, PP라고 표기

[0261] (지방산 금속염)

[0262] 나카라이테스크사 제조의 스테아르산아연을 이용하였다.

[0263] (산화 방지제)

[0264] 치바·스페셜티·케미컬즈사 제조의 "이르가녹스 1010"을 이용하였다.

[0265] [실시예 1]

[0266] 표의 조성, 구성으로 수지를 혼합, 단축 압출기(L/D=30)에 공급하고, 공급부 온도 250℃, 그 이후의 온도 260℃
에서 용융시키고, 여과 정밀도 30㎛의 리프 디스크 필터(leaf disk filter)를 통과시킨 후, T 다이(립 간극:
0.4㎜)로부터, 100℃로 온도 제어한 경면 드럼(표면 조도 0.2s) 상에 시트상으로 토출시켰다. 그 때, 탄성 금
속 롤로 닙핑을 하여(닙압: 0.2㎫), 필름 두께 100㎛의 본 발명의 성형용 필름을 얻었다.

[0267] [실시예 2]

[0268] 표의 조성, 구성으로 한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 본 발명의 성형용 필름을
얻었다.

[0269] [실시예 3]

[0270] 표의 조성, 구성으로 한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 본 발명의 성형용 필름을
얻었다.

[0271] [실시예 4]

[0272] 표의 조성, 구성으로 하고, 공급부 온도 260℃, 그 이후의 온도를 270℃, 경면 드럼 온도를 110℃로 온도 제어
한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 본 발명의 성형용 필름을 얻었다.

[0273] [실시예 5]

[0274] 표의 조성, 구성으로 한 것 이외에는 실시예 4와 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 본 발명의 성형용 필름을
얻었다.

[0275] [실시예 6]

[0276] 표의 조성, 구성으로 하고, 공급부 온도 270℃, 그 이후의 온도를 280℃, 경면 드럼 온도를 120℃로 온도 제어
한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 본 발명의 성형용 필름을 얻었다.

[0277] [실시예 7]

[0278] 표의 조성, 구성으로 한 것 이외에는 실시예 6과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 본 발명의 성형용 필름을
얻었다.

[0279] [실시예 8]

[0280] 표의 조성, 구성으로 한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 본 발명의 성형용 필름을
얻었다.

[0281] [실시예 9]

[0282] 표의 조성, 구성으로 한 것 이외에는 실시예 4와 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 본 발명의 성형용 필름을
얻었다.

[0283] [실시예 10]

[0284] 표의 조성, 구성으로 한 것 이외에는 실시예 4와 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 본 발명의 성형용 필름을
얻었다.

[0285] [실시예 11]

[0286] 표의 조성, 구성으로 한 것 이외에는 실시예 4와 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 본 발명의 성형용 필름을

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얻었다.

[0287] [실시예 12]

[0288] 표의 조성, 구성으로 하여, 각각 단축 압출기(L/D=30)에 공급하고, 공급부 온도 250℃, 그 이후의 온도를 260℃
에서 용융하고, 여과 정밀도 30㎛의 리프 디스크 필터를 통과시킨 후, 다이의 상부에 설치한 공급 블록 내에서
B층/A층/B층(적층 두께비는 표 참조)이 되도록 적층한 후, T 다이(립 간극: 0.4㎜)로부터, 100℃로 온도 제어한
경면 드럼(표면 조도 0.2s) 상에 시트상으로 토출시켰다. 그 때, 탄성 금속 롤로 닙핑을 하여(닙압: 0.2㎫),
필름 두께 100㎛의 본 발명의 성형용 지(脂) 필름을 얻었다.

[0289] [실시예 13]

[0290] 표의 조성, 구성으로 한 것 이외에는 실시예 12와 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 본 발명의 성형용 필름을
얻었다.

[0291] [실시예 14]

[0292] 표의 조성, 구성으로 한 것 이외에는 실시예 12와 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 본 발명의 성형용 필름을
얻었다.

[0293] [실시예 15]

[0294] 표의 조성, 구성으로 하고, 공급부 온도 260℃, 그 이후의 온도를 270℃, 경면 드럼 온도를 110℃로 온도 제어
한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 본 발명의 성형용 필름을 얻었다.

[0295] [실시예 16]

[0296] 표의 조성, 구성으로 한 것 이외에는 실시예 15와 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 본 발명의 성형용 필름을
얻었다.

[0297] [실시예 17]

[0298] 표의 조성, 구성으로 하고, B층 압출기의 공급부 온도 270℃, 그 이후의 온도를 280℃, 경면 드럼 온도를 120℃
로 온도 제어한 것 이외에는, 실시예 15와 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 본 발명의 성형용 필름을
얻었다.

[0299] [실시예 18]

[0300] 표의 조성, 구성으로 한 것 이외에는 실시예 17과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 본 발명의 성형용 필름을
얻었다.

[0301] [실시예 19]

[0302] 표의 조성, 구성으로 한 것 이외에는 실시예 15와 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 본 발명의 성형용 필름을
얻었다.

[0303] [실시예 20]

[0304] 표의 조성, 구성으로 한 것 이외에는 실시예 15와 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 본 발명의 성형용 필름을
얻었다.

[0305] [실시예 21]

[0306] 표의 조성, 구성으로 한 것 이외에는 실시예 15와 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 본 발명의 성형용 필름을
얻었다.

[0307] [실시예 22]

[0308] 표의 조성, 구성으로 한 것 이외에는 실시예 15와 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 본 발명의 성형용 필름을
얻었다.

[0309] [실시예 23]

[0310] 표의 조성, 구성으로 하여, 각각 단축 압출기(L/D=30)에 공급하고, 공급부 온도 260℃, 그 이후의 온도를 270℃
에서 용융하고, 여과 정밀도 30㎛의 리프 디스크 필터를 통과시킨 후, 다이의 상부에 설치한 공급 블록 내에서

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B층/A층/B층(적층 두께비는 표 참조)이 되도록 적층한 후, T 다이(립 간극: 1㎜)로부터, 100℃로 온도 제어한
경면 드럼(표면 조도 0.2s)상에 시트상으로 토출시켰다. 그 때, 탄성 금속 롤로 닙핑을 하여(닙압: 0.2㎫), 필
름 두께 100㎛의 본 발명의 성형용 지 필름을 얻었다.

[0311] [실시예 24]

[0312] 표의 조성, 구성으로 하여, 각각 단축 압출기(L/D=30)에 공급하고, 공급부 온도 260℃, 그 이후의 온도를 270℃
에서 용융하고, 여과 정밀도 30㎛의 리프 디스크 필터를 통과시킨 후, 다이의 상부에 설치한 공급 블록 내에서
B층/A층/B층(적층 두께 비는 표 참조)이 되도록 적층한 후, T 다이(립 간극: 1㎜)로부터, 80℃로 온도 제어한
경면 드럼(표면 조도 0.2s) 상에 시트상으로 토출시켰다. 그 때, 탄성 금속 롤로 닙핑을 하여(닙압: 0.2㎫),
필름 두께 100㎛의 본 발명의 성형용 지 필름을 얻었다.

[0313] [실시예 25]

[0314] 표의 조성, 구성으로 하여, 각각 단축 압출기(L/D=30)에 공급하고, 공급부 온도 250℃, 그 이후의 온도를 260℃
에서 용융하고, 여과 정밀도 30㎛의 리프 디스크 필터를 통과시킨 후, 다이의 상부에 설치한 공급 블록 내에서
B층/A층/B층(적층 두께비는 표 참조)이 되도록 적층한 후, T 다이(립 간극: 1㎜)로부터, 40℃로 온도 제어한 경
면 드럼(표면 조도 0.2s) 상에 시트상으로 토출시켰다. 그 때, 탄성 금속 롤로 닙핑을 하여(닙압: 0.2㎫), 필
름 두께 100㎛의 본 발명의 성형용 지 필름을 얻었다.

[0315] [실시예 26]

[0316] 표의 조성, 구성으로 한 것 이외에는 실시예 17과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 본 발명의 성형용 필름을
얻었다.

[0317] [실시예 27]

[0318] 표의 조성, 구성으로 한 것 이외에는 실시예 17과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 본 발명의 성형용 필름을
얻었다.

[0319] [실시예 28]

[0320] 표의 조성, 구성으로 한 것 이외에는 실시예 17과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 본 발명의 성형용 필름을
얻었다.

[0321] [비교예 1]

[0322] 표의 조성, 구성으로 한 것 이외에는 실시예 12와 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 본 발명의 성형용 필름을
얻었다.

[0323] [비교예 2]

[0324] 표의 조성, 구성으로 한 것 이외에는 실시예 6과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 본 발명의 성형용 필름을
얻었다.

[0325] [비교예 3]

[0326] 표의 조성, 구성으로 한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 본 발명의 성형용 필름을
얻었다.

[0327] [비교예 4]

[0328] 표의 조성, 구성으로 한 것 이외에는 실시예 17과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 본 발명의 성형용 필름을
얻었다.

[0329] [비교예 5]

[0330] 표의 조성, 구성으로 한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 본 발명의 성형용 필름을
얻었다.

[0331] [실시예 29]

[0332] 탄성 금속 롤로서, 탄성 금속 롤(표면 조도 0.2s, Ra0.01㎛)을 이용한 것 이외에는, 실시예 16과 마찬가지로 하

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여, 필름 두께 100㎛의 본 발명의 성형용 필름을 얻었다.

[0333] [실시예 30]

[0334] 경면 드럼(표면 조도 0.2s) 상에 시트상으로 토출시킬 때의 닙을, 탄성 금속 롤이 아닌 고무 롤(표면 조도 0.8

s, Ra0.1㎛)을 사용한 것 이외에는, 실시예 16과 마찬가지로 하여, 필름 두께 100㎛의 본 발명의 성형용 필름을
얻었다.

[0335] [실시예 31]

[0336] 경면 드럼(표면 조도 0.2s) 상에 시트상으로 토출시킬 때의 닙을, 탄성 금속 롤이 아닌 고무 롤(표면 조도 6.3

s, Ra0.6㎛)을 사용한 것 이외에는, 실시예 16과 마찬가지로 하여, 필름 두께 100㎛의 본 발명의 성형용 필름을
얻었다.

[0337] [실시예 32]

[0338] 경면 드럼(표면 조도 0.2s) 상에 시트상으로 토출시킬 때의 닙을, 탄성 금속 롤이 아닌 고무 롤(표면 조도 18

s, Ra1.6㎛)을 사용한 것 이외에는, 실시예 16과 마찬가지로 하여, 필름 두께 100㎛의 본 발명의 성형용 필름을
얻었다.

표 1

[0339]

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표 2

[0340]

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표 3

[0341]

- 27 -
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표 4

[0342]

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표 5

[0343]

- 29 -
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표 6

[0344]

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표 7

[0345]

- 31 -
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표 8

[0346]

- 32 -
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표 9

[0347]

- 33 -
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표 10

[0348]

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표 11

[0349]

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표 12

[0350]

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표 13

[0351]

[0352] 또한 표 중의 저장 탄성률, 파단 신도에 대해서는, 임의의 한 방향 및 그것과 직교하는 방향에 대한 측정 결과

를 기재하고 있다.

산업상 이용가능성
[0353] 본 발명의 성형용 필름은, 환상 올레핀계 수지를 주성분으로 하고, 120℃에 있어서의 저장 탄성률을 101㎫ 이상
3000㎫ 이하, 170℃에 있어서의 저장 탄성률을 100㎫ 이하로 함으로써, 코팅, 라미네이트, 인쇄, 증착 등의 가
공시에 우수한 치수 안정성을 나타내고, 또한 진공 성형, 압공 성형, 프레스 성형과 같은 각종 성형 방법에 있
어서, 성형 온도를 높게 함으로써 양호한 성형성을 달성할 수 있기 때문에, 여러가지 성형 가공 공정에 적용이
가능하고, 예를 들면 건재, 자동차 부품이나 휴대 전화, 전기 제품, 유기기 부품 등의 성형 부재의 장식에 적합
하게 사용할 수 있다.

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