2EMARI2 L134 2 SeSCe Mreix aoe oe sesseecess mike anes ccamare neon Laborales + Sige 4750 yBogots fie Circular No. 1799 ‘Quitoa, 13 MAR 2012 MINISTROS DE ESTADO, PRESIDENTES EJECUTIVOS, SECRETARIOS EJECUTIVOS. GUMENTES GENERALES, DIRECTORES NACIONALES, DIRECTORES EJECUTIVOS, RETORIDADES “DE LOS ORGANISMOS DE CONTROL, DE LOS GOBIERNOS AUTONOMOS DESCENTRALIZADOS, RECTORES DE LAS INSTITUCIONES ABUGATIVAS, DIRECTORES GENERALES DE ENTIDADES, ORGANISMOS, EMPRESAS, FONDOS ¥ PROYECTOS DEL SECTOR PUBLICO. Presente, De mi consideracion: Gonforme al Art. 115 del reglamento de la Ley Organica del Servicio Publico LOSEP. que se Gantorme (3! Mtponsabiided de Ministerio de Relaciones Laborales MRL. para elaborar y ‘eontener el registo actualizado del catasiro de las instiucienes, entidades empresas y ransom del Gstado; ¥ de acuerdo con los Ar.3 y 51 de LOSEP. que te facuita a ejercer |a Pagina de ta administracion institucional y del talento humanos dei Sectar Publico EI MRL ha disefiado varias herramientas tecnicas y tecnologicas para lograr ¢| mejoramiente Bennanente de la atencion al ciudadano y Ia eficiencia de las instituciones del Sector Publico y cere cidores, El impulso a la instalacion y operacion permanente de sistema de contral Bes Jottios de entrada y satida de quienes trabajan en cade instiucion Publica, es una de elias Les sistemas biometricos estaran interconectades con el Sistema informatica Integrado de Yehaate Humano. SIITH que este Ministero esta desarroliando para todo ei Sector Publico, THERE que contempla un médulo de ingresos y salidas del personal. Por tal razon estas Misme Guns de medicion deboran tener las siguientes caracteristicas minimas para Cmpatariae eon este software + Los mecanismes biométricos miden e identifican alguna caracteristica distintiva © [Reanefedle de las personas como por ejemplo los de huelias dactiares, los cuales debe tener las siguientes caractaristicas minimas Poe ena Capacidad de almacenamiento__| 000 Huellas dactlares __[rcesr [0/200 mei | opeional = Opeional Opcional | TMiNinao 256 KB. i Janta durabuiidad (Tasa de fatsa acoptacién) | Maximo 0.03% TFRR (Tasa de falso rechaz0)_ ‘Maximo 0.01 | ontine y Offtine [Proximidad as 4443-6) ONTOT UIO S623 MAR "12 10:23ae ott esa Laborales be3nzs000. SE. 02 286 9260 Torjeta Huetla (2:8) Tarjeta + Huella (2:1) Gédigo + Hucita (1:2) Teclado, _____| Teelas de tuncion y tectado nur Pantalla eae ~~ | te ttuminaes = wo [Temperatura de funcionamiento | 0°C 2 SoC = Humedad Hasta 95% i Ambiente de operacion Indoor (Opcional Ouidoor) Bateria backup Si (Deseable hasta 48 horas) en Dimensiones Propias del equip: 2 1 Peso. = Propio del equipe at | Energiadefuncionamiento | 12 Voltios, Opcionel (120/230VAC@100 mA) 2. El sistema escogide debe interactuar con el teclade del biamétrico y debe exportar las entradas, salides ¥ permisos del personal en formato TXT, tal como se muestra el formato adjunto tidad | Acékon Chenirada y salida del Wabalo 2 | Fecia ynore | entrada y salida ai aimuerso 3: entrada y { sorzmira0 oB:00. gorzietge 1260] 7 {2012/01/26 13.30 2012/0726 1430) 1712885847 +30120136-18 30] “rigesssa7——— | {2012/01/26 16.30 Cada institucién debe contar con los sistemas de control de asistencias y equipos que aqui se Gescriben. Aquelias entidades que ya poseen sistemas similares, deberan adaplarse 2 los Fequerimientos de informacion detallades en el numeral 2, reportar la existencia y enviar os Gales perinentes af MRL a traves del Sistema Informatico integrado de Talento Humano (su. Favor coordinar con la Direccibn de Tecnologias de la Informacién y Comunicaciones dei MRL. 51 telefono 3614000, extensiones 11200 - 11239 o | emall biometricos@mrl.gob ec para su implementacion @ més tardar asia et $1 de julio de! 2012, 2 parr de esta fecna el MRL realzara los respectives controles Recordamos que con Ofcio Circular ~ D - No. 0002082 SENRES, de fecha 11 de marzo de 2009 ya se hizo este requerimiento para las compras de equipos de esa fecha en adelante Aprovecho para enviarie mis sentimientos de consideracion y estima “Cn [9 @ Richard Espinosa duzman BA MINISTRO DE RELACIONES LABORALES: ©. DIRECCION TALENTO HUMANO- © © DIRECCION TECNOLOGICA