中國材料科學學會111年年會

MRS-Taiwan Annual Meeting 2022

2022年11月18-19日 國立聯合大學
MoOx薄膜之結構與光學性質
鄭勝壬 蔡定侃 吳泓昱 蔡適澤
虎尾科技大學材料科學與綠色能源研究所

過渡金屬氧化物具可大範圍調變之光、電、磁性質，可藉由改變氧含量，調整鍵結型態，呈現不同之光學性質。本實驗利用反應式磁控濺鍍系統濺鍍膜厚100 nm
之Mo與不同氧含量的MoOx薄膜，使用能量散射光譜儀(EDS)分析，MoOx薄膜之氧含量分別35.0 at. %、60.3 at. %、71.5 at. %及75.7 at. %；XRD、 XPS及Raman光譜
分析顯示，氧含量增加，MoOx晶體結構由Cubic-Mo及Hexagonal-MoO2混和相，經非計量之γ-Mo4O11及m-Mo9O26相，變成計量比之-MoO3相；UV/Vis/NIR光譜儀
量測光學性質， MoOx薄膜隨氧含量增加，反射率下降、穿透率上升、光學能隙值增加。
關鍵字：Mo、MoOx、光學能隙

實驗方法
本實驗以反應式磁控濺鍍系統將Mo、MoOx單層薄膜濺鍍於p-type Si (100)及玻璃上，使用鉬靶(99.99 wt%)，背景壓力為5.0×10-6 torr，工作壓力為4.0×10-3 torr，濺
鍍源與基材距離為8 cm，功率為150 W。MoOx薄膜依O2/Ar+O2比率0.01、0.05、0.1、0.2，分別以MoO-0.01、MoO-0.05、MoO-0.1及MoO-0.2標示。
Mo膜層之濺鍍參數，使用直流(DC)濺鍍源，氬氣通量為40 sccm。MoOx膜層之濺鍍參數，皆使用射頻(RF)濺鍍源，氣體通量分別為：MoO-0.01，氬氣通量為30
sccm、混合氣體通量(95%Ar+5%O2)為10 sccm；MoO-0.05，混合氣體通量(95%Ar+5%O2)為40 sccm；MoO-0.1，氬氣通量為36 sccm、氧氣通量為4 sccm；MoO-0.2，
氬氣通量為32 sccm、氧氣通量為8 sccm。

結果與討論
EDS成份分析 拉曼光譜分析
Mo MoO-0.01 MoO-0.05 MoO-0.1 MoO-0.2
Mo 86.1 65.0 39.7 28.5 24.3
O 13.9 35.0 60.3 71.5 75.7 1. Mo 與 MoO-0.01 沒 有 明 顯 拉 曼 峰
MoOx 薄膜中氧含量隨O2/Ar+O2 比率增加而增加，MoO-0.01、MoO-0.05 位出現，推測由於氧化鉬的量很
的成分低於MoO2之計量比，MoO-0.1、MoO-0.2則接近MoO3計量比，分 少，訊號強度太弱所致。
別顯現金屬(MoO2)與電介(MoO3)屬性的成分。 2. MoO-0.05 的 組 成 相 有 MoO2 、
Mo4O11及Mo9O26相。
3. MoO-0.1的主要組成相有Mo4O11 、
XRD分析 Mo9O26及-MoO3相。
4. MoO-0.2則有更多的 Mo9O26 及 -
MoO3相生成。

光學性質分析

1. Mo薄膜主要組成相是Cubic-Mo相。
2. MoO-0.01薄膜為Cubic-Mo與Hexagonal-MoO2混和組成相。
3. MoO-0.05、MoO-0.1及MoO-0.2薄膜之繞射峰呈寬化現象，分布於2θ
= 20°〜40°：
(1) MoO-0.05主要由Hexagonal-MoO2、γ-Mo4O11及m-Mo9O26相構成。
(2) MoO-0.1主要組成相有γ-Mo4O11、m-Mo9O26及-MoO3相。
(3) MoO-0.2則由m-Mo9O26與-MoO3相構成。
組成相由Cubic-Mo相改變至低氧計量比之Hexagonal-MoO2 相，經非計
量之γ-Mo4O11及m-Mo9O26相，最後變成高氧計量比之-MoO3相。
MoO薄膜氧含量增加，晶體結構由Mo、MoO2變成MoO3相，金屬屬性降低，
介電屬性增加，導致反射率下降、穿透率上升。
XPS分析
Mo Mo-0.01 Mo-0.05

1 1−𝑅
𝛼= × ln[ ] (1)
𝑑 𝑇

(hv)2 = B(hv − Egopt) (2)

Mo-0.1 Mo-0.2
MoO 薄 膜 隨 著 氧 含 量
增加，Mo之鍵結型態
逐 漸 由 Mo 、 Mo+4 、
Mo+5 轉 變 至 Mo+6 。 鍵 利用量測到的反射率與穿透率，代入公式(1)求得光學吸收係數，再藉
結型態改變的趨勢與 由公式(2)作圖可得光學能隙。將公式(2)作圖曲線做切線，切線與X軸的
XRD 結 構 組 成 相 的 變 截距即為光學能隙值。
化趨勢一致。 MoO薄膜隨氧含量增加，光學能隙值由1.32 eV增至3.48 eV。

結論
1. 利用反應式磁控濺鍍系統製備Mo與氧含量35.0 at. %、60.3 at. %、71.5 at. %及75.7 at. %之MoOx單層膜。
2. MoOx氧含量由35.0 at. %增至75.7 at. %，晶體結構由Cubic-Mo與Hexagonal-MoO2混合相，經非計量之γ-Mo4O11及m-Mo9O26相，最後變成計量比之-MoO3相。
3. MoOx薄膜隨氧含量增加，反射率下降、穿透率上升、光學能隙值由1.32 eV增至3.48 eV。