Professional Documents
Culture Documents
Microscopies À Champ Proche Et Nanophysique: R. Coratger Cemes Groupe SINANO
Microscopies À Champ Proche Et Nanophysique: R. Coratger Cemes Groupe SINANO
R. Coratger
CEMES
Groupe SINANO
I - Introduction historique
II - La microscopie à effet tunnel (STM)
III - La microscopie à force atomique (AFM)
I - Le concept (1927) 1
Effet tunnel: historique
Ep(z)
U0
ћ. 𝑘𝑧
𝑣𝑧 = E<U0
𝑚
z
0 d
1
𝑇 𝐸 =
2 2
𝑘
1+ 𝑞
1+ 2 𝑠𝑖𝑛ℎ2 (𝑞𝑑)
𝑘
4 𝑞
𝑒 2𝑞𝑑
Lorsque qd >>1 (barrière “épaisse”) 𝑠𝑖𝑛ℎ2 (𝑞𝑑) →
4
16 𝑞 2 𝑘 2
𝑇 𝐸 = 2 2 2
. 𝑒 −2𝑞𝑑
𝑞 +𝑘
I - Le concept (1927) 3
Effet tunnel: historique
Uo = 3 eV
E = 1 eV
I - Le concept (1927) 4
Effet tunnel: historique
d = 0.5 nm
U0 = 3 eV
d = 2 nm
U0 = 3 eV
I - Le concept (1927) 5
Effet tunnel: historique
T(E)
T(E) pour E>U0 1
dans le cas classique!!
0 E
U0
Méthode Brillouin, Kramers, Wentzel pour le calcul de T(E) (barrière quelconque)
Ep(z)
U0
E<U0
z1 z2 z
𝑧2
2𝑚
𝑇 𝐸 ~ exp(−2 𝐸𝑝 𝑧 − 𝐸 . 𝑑𝑧)
ħ2 𝑧1
I - Le concept (1927) 6
Effet tunnel: historique
Ep(z)
Champ électrique: E
Cas particulier d’une barrière de potentiel sous champ U0
2𝑚 𝑧2 E<V0
𝑇 𝐸 ~ exp(−2. . 𝐸𝑝 𝑧 − 𝐸 . 𝑑𝑧)
ħ2 z
𝑧1 z2
𝐸𝑝 𝑧 = 𝑈0 − 𝑒E.z
𝑧2 𝑈0 − 𝐸
2𝑚
𝑇 𝐸 = exp{−2 𝑈0 − 𝑒E.z − 𝐸. 𝑑𝑧} 𝑧2 =
ħ2 0
𝑒E
3
2𝑚 2 (𝑈0 −𝑒E𝑧 − 𝐸) 2 𝑧
𝑇 𝐸 = exp{−2 [ ] 2}
ħ2 3 −𝑒E 0
3
2𝑚 4 (𝑈0 −𝐸) 2
𝑇 𝐸 = exp{− }
ħ2 3 𝑒E
I - Le concept (1927) 7
Effet tunnel: historique
Ep(z)
R ≈ 10 fm
R-z2 ≈ 20 fm
E E ≈ 20 MeV
R z2 z
0
ln 2
𝑇1 2 = ≈ 0.3 ms G. Gamov (1928)
λ
-eEz
Ep(z) 𝑒2
𝑈 𝑟 = Potentiel coulombien
4πε0 𝑟
Potentiel sous champ
z
Potentiel sans champ 0
Eionisation=13.6 eV
ψ1s
Ep(z)
Φ travail de sortie du métal Uv Champ électrique: E
Φ
EF Uv niveau du vide
Métal
O z
𝐸𝑝 𝑧 = 𝑈v − 𝑒E.z
Donc 𝐸𝑝 𝑧 = 𝐸𝐹 + Φ − 𝑒E.z
2𝑚 𝑧2
𝑇 𝐸 ~ exp(−2 𝐸𝑝 𝑧 − 𝐸 . 𝑑𝑧)
ħ2 𝑧1
4 2𝑚 Φ3/2
𝑇 𝐸𝐹 ~ exp(− 3 . )
ħ 2 𝑞E
𝑞
𝐽𝑧 = 2 𝑇 𝐸𝑧 𝑓 𝐸 v𝑧 . 𝑑 3 𝑘
8π3
3/2 E
𝐽𝑧 ~ E2 . 𝑒 −𝐴.Φ Loi de Fowler-Nordheim
Emission d’électrons
par effet de champ
Emission froide: I ≈ 10 μA
Taille de la source < 5 nm
UHV
eV
EF1
e- EF2
0 d z
M1 I M2
16𝑘┴2 𝑞 2 2𝑚 𝑑
𝑇 𝐸 = 2 . exp(−2 𝐸𝑝 𝑧 − 𝐸┴ . 𝑑𝑧)
𝑘┴ + 𝑞 2 ħ2 0
𝐽𝑇 = 𝐽1→2 + 𝐽2→1
𝑞
Chaque Ji se calcule par: 𝐽𝑖 = 2 3 𝑇 𝐸┴ .v┴ . 𝑓1 𝐸 . (1 − 𝑓2 (𝐸)). 𝑑 3 𝑘
8π
J eV Régime Fowler-Nordheim
V3
V
0 V
𝑑𝐽
De fait, la conductance devient : σ 𝑉 = 𝑑𝑉 = α + 3β𝑉 2
Pb
Contacts In sur verre
Al
Réalisation d’un jonction plane Al/Al2O3/Pb
M1
I d?
M2
Echelle microscopique
Echelle macroscopique
ħ2
𝑀μ,ν = ψμ 𝐻𝑇 ψν = ψ∗ν 𝛻ψμ − ψμ 𝛻ψ∗ν 𝑑𝑆
2𝑚 𝑆𝑢𝑟𝑓𝑎𝑐𝑒
2
Dans ce cas : 𝐽~ 𝑀μ,ν
μ,ν
BC
EF1 EF2
BV
z
M1 0 d SC
BC e-
EF
BV
SC dopé p SC dopé n
La jonction pn
La diode tunnel
III – Effet tunnel dans les systèmes 2D 3) Diode tunnel (Esaki 1957) 19
Effet tunnel: historique
Construction de la caractéristique I(V)
NDR
III – Effet tunnel dans les systèmes 2D 3) Diode tunnel (Esaki 1957) 20
Effet tunnel: historique
Ic
V Δ bande interdite du
Δ/e
supraconducteur
I – La publication originale 22
Microscopie à effet tunnel
Calcul de Φ
I – La publication originale 23
Microscopie à effet tunnel
M1
I
M2
Physique nano
Voltmètre Voltmètre
Cylindre piézoélectrique
δ𝑥
Ce coefficient donne le rapport entre la contrainte dans une direction (𝑆1 = 𝑥
)
𝑆
et le champ appliqué (𝑑31 = 𝐸1 )
3 z
z z+δz
x
𝐸3
1 mV ≈ 0.5 pm !!!
x
Electrodes z
h x
𝐿
Δ𝑥 = 𝑑31 . 𝑉. L =1.5 cm, h = 5 mm, V = 300 V, Δx =246.6 nm
ℎ
soit une dilatation de 0.82 nm/V
précision < 1 nm
5 cm
- Courant de consigne
Ampli de courant
Ampli log
Frottement visqueux
Amortissement sur un
dispositif commercial
Ligne de découpe
Ø = 0.2 mm Image MEB de la pointe
Ménisque
W
V ≈ qqs volts
Electrode en inox
NaOH
Orbitale pz
2 𝑒 −2𝑘𝑟
Dans le cas d’une orbitale s, ψ1𝑠 = 𝐴. 2 avec 𝑟 = 𝑥 2 + 𝑧 2
𝑟
𝑒 −2𝑘𝑧. (1+𝑥 2 𝑧 2 )
2
Lorsque 𝑧 ≫ 𝑥 : ψ1𝑠 = 𝐴.
𝑧2
2
2
𝑒 −2𝑘𝑧 . 𝑒 −𝑘𝑥 𝑧
ψ1𝑠 = 𝐴.
𝑧2
2𝑧
Δ𝑥 =
𝑘
IV – Résultats expérimentaux 1) Résolution 39
Microscopie à effet tunnel
2𝑧
Δ𝑥 = donne: Φ=3 eV k= 8.8 Å-1 Δx=0.5. 𝑧
𝑘
𝑧 =𝑅+𝑑 avec R le rayon de courbure de la pointe
2 2
π2
Le contraste est donné par: Δ𝑧 = exp[−2𝑧( 𝑘 + 2 − 𝑘)]
𝑘 𝑎
2𝑧 𝑘𝑎2 )
Lorsque 𝑎 est petit (𝑎 ≫ 𝑘), Δ𝑧 → 𝑒 −(π
Plan (111)
4,6 nm
Plan de graphene
G. Binnig H. Rohrer
0.3
0.25
0.2
Z[Å] 0.15
1.4nm
0.1
0.05
Résolution atomique sur Au(111)
0 2 4 6 8
Stabilité ≈ pm X[nm]
Réseau hexagonal
1.2nm
2 2 2
𝐼= 𝑒 𝑉 𝑀𝑃,𝑆 δ 𝐸𝑃 − 𝐸𝐹 . δ 𝐸𝑆 − 𝐸𝐹 V faible
ћ
𝑃,𝑆
ħ2
avec 𝑀𝑃,𝑆 = ψ𝑃 𝐻𝑇 ψ𝑆 = ψ𝑃∗ 𝛻ψ𝑆 − ψ𝑆 𝛻ψ∗𝑃 𝑑𝑆
2𝑚 𝑆𝑢𝑟𝑓𝑎𝑐𝑒
(H de Bardeen)
Dans le cas simple d’un état s pour la pointe et d’ondes planes pour la surface:
𝑒2𝑉
𝐼~ . ρ𝑆 𝑟0 , 𝐸𝐹 . ρ𝑃 𝐸𝐹
ћ
avec ρ𝑆 𝑟0 , 𝐸𝐹 densité d’état de la
surface à la distance r0
𝑒𝑉
𝐼= ρ𝑆 𝑟0 , 𝐸𝐹 . ρ𝑃 𝐸 − 𝑒𝑉 . 𝑇 𝐸, 𝑒𝑉, 𝑟0 𝑑𝐸
0
Ep(z) Ep(z)
eV eV EF2
EF1 EF1 e-
e- EF2
0 d z 0 d z
Pointe Surface Pointe Surface
𝑑𝐼
On peut montrer que: ~ ρ𝑆 (𝐸)
𝑑𝑉 ce qui suppose : ρ𝑃 (𝐸) ≈ 𝐶 𝑡𝑒
ћ2 𝑘 2
E= où m* est la masse effective qui tient compte du potentiel
2𝑚∗
V – Spectroscopie tunnel 2) Quelques exemples a) Cas des métaux 52
Microscopie à effet tunnel
Etats de dopants
Ga
V =+1.9 V V =-1.9 V
As
Si(111) 7x7
Ga As
Exemple de GaAs(110)
I dI/dV d2I/dV2
VS V VS V VS V
avec eVs= hν 0 < hν < 500 meV
C2HD
Molécule libre
Cu
C-D C-H
Effet isotopique
1 H C C H 2 H C C H
3 H C C H 4 H C C H
Distance (Å)
ℎ
Au point C, R ≈ 1 à 20 kΩ à comparer au quantum de résistance: 𝑅𝐾 = 𝑒 2 = 25.9 𝑘Ω
𝐹 𝐹 𝐹
Hauteur de la pointe
a Saut de l’atome sous l’apex
Déplacement latéral
𝐹
𝐹 𝐹
Hauteur de la pointe
a Saut de l’atome
Déplacement latéral
Hauteur de la pointe
Déplacement latéral
Ep Ep
z z
Surface
−𝑒E.z
Surface
Pointe Pointe
n=2.90.3
n=1.80.2
Effet du champ électrique: les électrons émis brisent les liaisons chimiques
Taux de désorption de H et D
Effet isotopique (Ph. Avouris 1998)
Lignes de désorption de H sur Si(100) 2x1:H
VI– Au-delà des images 2) Déplacement d’atomes et de molécules c) Exemple de la chaine atomique 68
Microscopie à effet tunnel
𝐸 ~ 1/𝐿2
Densité d’état à 1D
2𝑚∗ 𝐿 1
𝑔1𝐷 𝐸 =
ћ 𝐸 − 𝐸0
VI– Au-delà des images 2) Déplacement d’atomes et de molécules c) Exemple de la chaine atomique 69
Microscopie à effet tunnel
VI– Au-delà des images 2) Déplacement d’atomes et de molécules c) Exemples de boîtes quantique 70
Microscopie à force atomique
Microscope qui est basé sur la mesure des forces d’interactions entre atomes
Ep
I – La publication originale 71
Microscopie à force atomique
I – La publication originale 72
Microscopie à force atomique
I – La publication originale 73
Microscopie à force atomique
I – La publication originale 74
Microscopie à force atomique
I – La publication originale 75
Microscopie à force atomique
I – La publication originale 76
Microscopie à force atomique
Levier trés petit: cantilever en Si ou Si3N4
𝐿 de 90 à 350 µm, 𝑙 de 50 µm et 𝑒 de 2 µm 𝑙
𝐿
Constante de raideur: 0.01 < 𝑘 < 10 N/m
𝐸𝑦 .𝑙.𝑒 3
La raideur dépend des dimensions: 𝑘 = 𝐸𝑦 module d’Young du matériau
4𝐿3
𝑒 𝐸𝑦
La fréquence de résonance est donnée par: 𝑓0 = 0.162. 𝐿2 . ρ
Exemple pour du silicium 𝐸𝑦 =47 Gpa, 𝐿=100 µm, 𝑙=35 µm, 𝑒=2 µm et ρ=2330 kg/m3
Interférométrie
Déphasage introduit par la courbure
V
Photodiode à 4 quadrants A
Levier au repos
𝐴−𝐵 B
Levier soumis à la force 𝐹
𝑆𝑖𝑔𝑛𝑎𝑙 =
𝐴+𝐵
Etude possible de la torsion: mode friction
II – La structure d’un AFM 2) Détection de la force 79
Microscopie à force atomique
Ep F
z z
3
2
Feuillet de mica
𝐹(𝑑)
conduit à un décalage constant 𝑥0
𝑚
L’équation devient:
𝐹′ 𝑑
𝑥+α𝑥+ (ω20 − )𝑥 = γ. cos(ω𝑡) + 𝐶𝑡𝑒
𝑚
𝐹′ 𝑑
ω′2
0 = ω20 . (1 − )
𝑘
z ω′2 2
0 < ω0
3
2
Dans la région 1+2, 𝐹 ′ 𝑑 est négatif ω′2 2
0 > ω0 (mais aucun intérêt)
Résolution
Atomique!!
Image NC-AFM d’une surface de KBr(001) Image NC-AFM d’une surface de Si(111) 7x7
A=200 pm A=300 pm
III – Modes de fonctionnement 3) Modes non-contact 89
Microscopie à force atomique
1 𝑑𝐶
Mesure de la force: 𝐹 = 2 𝑑𝑧 𝑉 2 𝐶 est la capacité du système pointe surface
𝑉 la tension de polarisation appliquée
Déflection
Levier libre
A
E Distance z
B
D
Déflection
Levier libre
A E
Distance z
B
D
Protéine
Pointe fonctionalisée
Silanisation
Epaisseur de Au: 13 nm
4 1,8 Monocouche
3
Å
Z[Å]
2 Bicouche
3,5
1 Å
0
0 5 10 15 20 25
X[nm]
Image 150 nm x 150 nm, V = 1,5 V, I = 2pA,
T = 4,5 K
STM NC-AFM
Résolution sub-moléculaire
Topographie
Sn
Si
Topographie
Proteins
Nanogouttes (300 nm)
C60
R. Pawlak, 2012