การเคลือบด้วยไอเคมี (Chemical Vapor Deposition)

การเคลือบ CVD (Chemical Vapor Deposition) เป็นวิธีการเคลือบที่ใช้กระบวนการทางเคมีในการ

สร้างชั้นเคลือบผิวที่มีความบริสุทธิ์สูง อาศัยปฏิกิริยาเคมีในการสังเคราะห์สารเคลือบที่อยู่ในสถานะ
ของแข็งจากสารตั้งต้นที่อยู่ในสถานะไอ ทั้งนี้สารเคลือบที่ได้เป็นผลลัพธ์จากการทำ ปฏิกิริยากันระหว่างไอ
เคมีตั้งต้นกับพื้นผิวที่ต้องการเคลือบโดยตรง หรืออาจเป็นการทำ ปฏิกิริยาระหว่างไอเคมีมากกว่าหนึ่งชนิดที่
อยู่เหนือพื้นผิวแล้วเกิดเป็นสารเคลือบบนพื้นผิวที่ต้องการก็ได้ ซึ่งกระบวนทั้งหมดนี้จะต้องทำในห้อง
ปฏิบัติการโดยเฉพาะ เนื่องจากกระบวนการเคลือบจำเป็นต้องมีการใช้งานสารเคมีที่มักมีความอันตรายและ
เป็นพิษ และปฏิกิริยาเคมีส่วนใหญ่ต้องใช้อุณหภูมิสูงถึง 700-1,000 องศาเซลเซียส เพื่อป้ องกันอันตรายที่
อาจเกิดขึ้นจากการระเหยของสารเคมีในกระบวนการดังกล่าวได้ สำหรับชิ้นงานที่ทำการเคลือบ CVD นั้น
ถือว่ามีคุณภาพ ทนต่อการขัดสี และทนต่อการสึกหรอได้ดีกว่าการเคลือบ PVD อีกทั้งยังเหมาะกับการ
เคลือบพื้นผิววัสดุอุปกรณ์ที่มีรูปทรงแปลก ๆ อย่าง ดอกเจาะ และอุปกรณ์ที่เป็นเกลียวต่าง ๆ หรือชิ้นงานที่มี
รูปร่างซับซ้อนได้ดี และยังสามารถใช้เคลือบผิว เพื่อสร้างเซมิคอนดักเตอร์ หรือสารกึ่งตัวนำสำหรับอุปกรณ์
ไฟฟ้ าได้อีกด้วย

การเคลือบด้วยสปุตเตอริ่ง (Sputtering)
 กระบวนการสปุตเตอริ่งคือกระบวนการที่ใช้เคลือบฟิ ล์มบาง(Thin film process) โดยไอเชิง
ฟิ สิกส์(Physical Vapor Deposition process: PVD )ในสุญญากาศประเภทหนึ่งที่ใช้หลักการส่งผ่าน
โมเมนตัม โดยการปล่อยให้ผิวหน้าของของแข็ง(Target) ถูกระดมยิงด้วยอนุภาคที่มีพลังงานจลน์ อะตอมที่
ผิวของแข็งจะหลุดกระเด็นออกมาเนื่องจากการชนกันระหว่างอะตอมที่ผิวและอนุภาคพลังงาน และอะตอม
ที่หลุดออกมาจากผิวของแข็งนี้จะไปก่อตัวบนชิ้นงาน (Substrate) เกิดเป็นฟิ ล์มบางขึ้นตามต้องการ

ข้อดีของฟิ ล์มที่ผลิตด้วยกระบวนการสปัตเตอริ่ง
• ชั้นของวัสดุที่เคลือบด้วยกระบวนการนี้จะสวย เรียบ เนียน สม่ำเสมอ
• สามารถควบคุมความหนาของชั้นเคลือบได้อย่างแม่นยำ และปรับแต่งคุณสมบัติได้อย่างกว้างขวาง
• เนื้อชั้นเคลือบมีจุดบกพร่องต่ำมากเมื่อเทียบกับวิธีการผลิตแบบอื่น จึงเหมาะกับการผลิตสินค้าระดับ
คุณภาพสูง
• ฟิ ล์มสปัตเตอร์มีประสิทธิภาพสูงมากในการต่อต้านรังสีความร้อนจากดวงอาทิตย์
• ฟิ ล์มสปัตเตอร์มีคุณสมบัติลดการสะท้อนเมื่อมองผ่านฟิ ล์มจากข้างในห้องโดยสาร คุณจึงมองผ่านฟิ ล์มได้
อย่างชัดเจนมากกว่าฟิ ล์มธรรมดาทั่วไป

การเคลือบด้วยไอออน (lon Pleting)

การชุบไอออนเป็นการพัฒนาเทคโนโลยีการเคลือบสูญญากาศใหม่ เคลือบสูญญากาศธรรมดา
(หรือที่เรียกว่าการระเหยสูญญากาศ) ชิ้นงานยึดในฝาปิ ดสูญญากาศเมื่ออุณหภูมิสูงการระเหยแหล่งความ
ร้อนไฟฟ้ าความร้อนส่งเสริมให้เป็นวัสดุชุบ - วัสดุระเหยละลายระเหย เนื่องจากอุณหภูมิเพิ่มขึ้นอนุภาค
เครื่องระเหยจะได้พลังงานจลน์บางส่วนจากนั้นจะเพิ่มขึ้นอย่างช้า ๆ ตามแนวสายตาและในที่สุดก็เกาะติด
กับพื้นผิวของชิ้นงานที่สะสมอยู่ในแผ่นฟิ ล์ม ชั้นชุบที่สร้างขึ้นด้วยงานฝีมือชนิดนี้ไม่มีการรวมกันทางเคมีที่
มั่นคงกับพื้นผิวของชิ้นส่วนโดยไม่ต้องเชื่อมต่อการแพร่กระจายประสิทธิภาพการทำงานของสานุศิษย์แย่
มากฝุ่ นที่ตกลงมาบนเดสก์ท็อปบางครั้งเหมือนกัน สามารถลบได้ อย่างไรก็ตามกระบวนการชุบไอออนจะ
แตกต่างกันแม้ว่าจะอยู่ในสุญญากาศ แต่กระบวนการเคลือบอยู่ในรูปแบบของการถ่ายโอนประจุเพื่อให้
บรรลุ กล่าวอีกนัยหนึ่งอนุภาคของเครื่องระเหยเป็นไอออนพลังงานสูงที่มีประจุบวกถูกดึงดูดโดยแคโทด
แรงดันสูง (เช่นชิ้นงาน) และฉีดเข้าไปในผิวชิ้นงานด้วยความเร็วสูง เทียบเท่ากับกระสุนยิงความเร็วสูงจาก
กระบอกสูบมันสามารถเจาะลึกเข้าไปในเป้ าหมายสร้างการเคลือบแข็งแบบกระจายบนชิ้นงาน
กระบวนการชุบไอออนมีดังต่อไปนี้: แหล่งกำเนิดการระเหยเชื่อมต่อกับขั้วบวกและชิ้นงานเชื่อมต่อกับ
แคโทด การปล่อยแสงจะถูกสร้างขึ้นระหว่างแหล่งกำเนิดการระเหยและชิ้นงานหลังจากใช้กระแสตรงแรง
ดันสูงสามถึงห้าพันโวลต์ เมื่อก๊าซเฉื่อยถูกเติมในสุญญากาศส่วนหนึ่งของก๊าซอาร์กอนจะแตกตัวเป็น
ไอออนภายใต้การกระทำของสนามไฟฟ้ าที่มีการปล่อยดังนั้นจึงสร้างพื้นที่มืดของพลาสมารอบชิ้นงาน
แคโทด อิออนอาร์กอนเชิงบวกดึงดูดโดยแรงดันสูงลบของแคโทดอย่างรุนแรงส่งผลกระทบอย่างรุนแรงต่อ
พื้นผิวของชิ้นงานทำให้เกิดอนุภาคและสิ่งสกปรกบนพื้นผิวของชิ้นงานที่จะถูกสาดออกมาเพื่อให้ชิ้นงานที่
ชุบเสร็จ ทำความสะอาดด้วยการทิ้งระเบิดไอออน อนุภาคเครื่องระเหยจะหลอมละลายและระเหยเข้าสู่
บริเวณที่ปล่อยแสงและมีการแตกตัวเป็นไอออน ไอออนระเหยที่มีประจุบวกจะถูกดึงดูดโดยแคโทดวิ่งไปที่
ชิ้นงานพร้อมกับอาร์กอนไอออน เมื่อปริมาณของอีแวปเพอเรเตอร์บนพื้นผิวชิ้นงานเกินจำนวนไอออนที่
โปรยลงมาพวกมันจะค่อยๆสะสมเป็นชั้นของการเคลือบที่ยึดติดกับพื้นผิวชิ้นงานอย่างแน่นหนา นี่เป็นกระ
บวนการง่ายๆในการชุบไอออน

การทำความสะอาดผิวงานด้วยวิธีทางเคมี ได้แก่
1.การทำความสะอาดด้วยด่าง (Alkaline Cleaning)
การทำความสะอาดอัลคาไลน์เป็นวิธีการที่ใช้กันทั่วไปในการกำจัดดินหลายชนิดออกจากพื้นผิว
โลหะ ดินที่ถูกกำจัดออกโดยการทำความสะอาดด้วยอัลคาไลน์ ได้แก่ น้ำมัน จาระบี แว็กซ์ โลหะละเอียด
และสิ่งสกปรก น้ำยาทำความสะอาดแบบอัลคาไลน์ใช้ได้ทั้งแบบสเปรย์หรือแบบจุ่ม และมักจะตามด้วยการ
ล้างด้วยน้ำอุ่น
2.การทำความสะอาดด้วยสารแขวนลอย (Emulsion Cleaning)
 เป็นกระบวนการทำความสะอาดทางอุตสาหกรรมที่ใช้ตัวทำละลายอินทรีย์เป็นสารออกฤทธิ์หลัก
ตัวทำละลายมักเป็นไฮโดรคาร์บอนของปิ โตรเลียมกลั่นที่กระจายอยู่ในน้ำ อิมัลชัน ซึ่งเพียงอย่างเดียวอาจมี
การระเหยได้ ถูกแขวนลอยอยู่ในพาหะนำน้ำที่ไม่ระเหย
3.การทำความสะอาดด้วยตัวทำละลาย (Solvent Cleaning)
การทำความสะอาดด้วยตัวทำละลายเป็นกระบวนการทำความสะอาดที่ใช้สารละลายเคมีเพื่อขจัด
คราบไขมัน น้ำมัน สารตกค้าง สารเคลือบ หรือสีที่ไม่ต้องการออกจากพื้นผิวของวัสดุ
4.การทำความสะอาดด้วยกรด (Acid Cleaning)
การทำความสะอาดที่เป็นกรดมักใช้กำจัดสิ่งสกปรกอนินทรีย์ เช่น สนิม ส่วนประกอบหลักของ
น้ำยาทำความสะอาดประเภทนี้คือ กรดแร่เข้มข้นและคีแลนต์ (Chelant) นอกจากสารเคมีที่เป็นกรดแล้ว ยัง
มักเติมสารลดแรงตึงผิวและสารป้ องกันสนิมลงไปด้วย
5.การทำความสะอาดด้วยอุลตร้าไซนิค (Ultrasonic Cleaning)
การทำสะอาดสิ่งสกปรกที่เกาะติดแน่นกับวัตถุ เกิดจากทรานสดิวเซอร์ ดังนั้นพลังการทำความ
สะอาดของ Ultrasonic cleaning machine เกิดจากประสิทธิภาพของทรานสดิวเซอร์
มีตัวแปรมากมายที่ต้องคำนึงถึงเมื่อต้องการทำความสะอาดวัตถุด้วยเครื่องล้างความถี่สูง เช่น
- ความร้อน
- กำลังของ Ultrasonic
- ความถี่ Ultrasonic
- ประเภทของ Solvent น้ำยาทำความสะอาด
- เวลาในการทำความสะอาด
 อ้างอิง
https://www.tpa.or.th/writer/read_this_book_topic.php?
bookID=4148&pageid=1&read=true&count=true#:~:text=
%E0%B8%A7%E0%B8%B4%E0%B8%98%E0%B8%B5%E0%B8%81%E0%B8%B2%E0%B8%A3%
E0%B8%97%E0%B8%B3%E0%B8%87%E0%B8%B2%E0%B8%99%E0%B8%82%E0%B8%AD
%E0%B8%87%E0%B9%80%E0%B8%84%E0%B8%A3%E0%B8%B7%E0%B9%88%E0%B8%AD
%E0%B8%87,%E0%B8%9B%E0%B8%A3%E0%B8%B2%E0%B8%81%E0%B8%8F
%E0%B8%81%E0%B8%B2%E0%B8%A3%E0%B8%93%E0%B9%8C
%E0%B8%99%E0%B8%B5%E0%B9%89%E0%B9%80%E0%B8%A3%E0%B8%B5%E0%B8%A2%E
0%B8%81%E0%B8%A7%E0%B9%88%E0%B8%B2%20Cavitation
https://pp-infinite.com/blog/chemicals-in-cleaning-products.html
https://www.corrosionpedia.com/definition/2346/solvent-cleaning#:~:text=Solvent%20cleaning%20is
%20a%20cleansing,the%20surface%20of%20a%20material.
https://th.ikstechnology.com/info/principle-and-application-of-ion-coating-33408766.html
https://kontrast.in.th/sputtering/process#:~:text=
%E0%B8%81%E0%B8%A3%E0%B8%B0%E0%B8%9A
%E0%B8%A7%E0%B8%99%E0%B8%81%E0%B8%B2%E0%B8%A3%E0%B8%AA%E0%B8%9B
%E0%B8%B1%E0%B8%95%E0%B9%80%E0%B8%95%E0%B8%AD
%E0%B8%A3%E0%B8%B4%E0%B9%88%E0%B8%87%E0%B8%84%E0%B8%B7%E0%B8%AD
%E0%B8%81%E0%B8%A3%E0%B8%B0%E0%B8%9A
%E0%B8%A7%E0%B8%99%E0%B8%81%E0%B8%B2%E0%B8%A3,%E0%B9%80%E0%B8%99%
E0%B8%B7%E0%B9%88%E0%B8%AD
%E0%B8%87%E0%B8%88%E0%B8%B2%E0%B8%81%E0%B8%81%E0%B8%B2%E0%B8%A3%E
0%B8%8A
%E0%B8%99%E0%B8%81%E0%B8%B1%E0%B8%99%E0%B8%A3%E0%B8%B0%E0%B8%AB
%E0%B8%A7%E0%B9%88%E0%B8%B2%E0%B8%87
https://www.thaiparker.co.th/th/articles/processing-service/difference-between-PVD-vs-CVD#:~:text=
%E0%B8%81%E0%B8%B2%E0%B8%A3%E0%B9%80%E0%B8%84%E0%B8%A5%E0%B8%B7%E
0%B8%AD%E0%B8%9A%20CVD%20(Chemical%20Vapor,%E0%B8%9E
%E0%B8%B7%E0%B9%89%E0%B8%99%E0%B8%9C
%E0%B8%B4%E0%B8%A7%E0%B8%97%E0%B8%B5%E0%B9%88%E0%B8%95%E0%B9%89%E
0%B8%AD
%E0%B8%87%E0%B8%81%E0%B8%B2%E0%B8%A3%E0%B9%80%E0%B8%84%E0%B8%A5%E
0%B8%B7%E0%B8%AD%E0%B8%9A