Professional Documents
Culture Documents
Postrojenje za katodno elektro lakiranje - KTL postrojenje: 1 - bazen za potapanje sa prepustom, 2 - povratni kruni tok, 3 - kruni tok filtriranja laka, 4 - kruni tok hlaenja laka 5 - ultrafiltracija, 6 - anolit kruni tok, 7 - anode, 8 - doziranje koncetrata laka, 9 - sistemi za ispiranje, 10 - snabdijevanje strujom, 11 - transportni sistem za obratke sa prelazom za uranjanje, 12 - ispusni spremnik
Postupak elektrostatike zatite prahom: 1 - priprema, 2 - suewe, 3 - hladna pruga, 4 - elektrostatika separacija praka, 5 - zagrijavanje, 6 - hladna pruga, a - regeneracija praka, b - ventilacija, c - zatitna kabina, d - skupljanje nenaneenog praha (Overspray), e elektrostatiki pitolj za prskanje praha, f - generator visokog napona,
Najvanija oblast primjene zatite iz gasnog ili parnog stanja je u: -elektroindustriji kod proizvodnje poluprovodnikih elemenata kao vezivnih slojeva (npr. TiN sloj izmeu Cu i Si slojeva u ipovima), vieslojnih konekcija (npr. Poli-Si i SiO2 u tankoslojnim tranzistorima mikroprocesora),
-optikoj industriji kod zatite optikih elemenata, nanoenja refleksionih, polupropusnih i antirefleksionih slojeva u optici, nanoenja talasnih filter-slojeva (UV, IC i kolor filteri) u fototehnici,
-mainstvu kod zatite proizvodnih alata i za zatitni sloj protiv habanja, troenja i korodiranja (npr. lopatice turbina), i dr.
PVD postupke razlikujemo prema nainu formiranja evaporiranog (isparenog) metala: . termalna atomizacija - visokotemperaturno zagrijavanje izvora atoma metalnih presvlaka u vakumu (starija tehnologija) i
katodna evaporacija - argon-jonsko bombardovawe katode kao izvora jona metalnih presvlaka u vakumu
Prikaz PVD postupka zatite (Physical Vapor Deposition): a) termalno naparivanje u visokom vakumu, b) katodno naparivanje, 1 - substrat (obradak), 2 - zagrijana elektroda, 3 - zagrijavanje, 4 - pumpni nastavak, 5 - meta (materijal za atomizaciju (a) ili evaporaciju (b), 6 dovod argona, 7 - reakcioni gas
ematski prikaz CVD postupka zatite (Chemical Vapor Deposition): a) LPCVD sa snienim pritiskom, b) PECVD postupak plazmom, 1 - substrat, 2 - izvor energije, 3 - zagrijavanje, 4 - nastavak vakum-pumpe, 5 - dovod argona, 6 - dovod reaktivnog gasa, 7 - molekule reaktanta