Professional Documents
Culture Documents
Cementacijai Siliciranje
Cementacijai Siliciranje
Cementacija
ugljenikom. Konana svojstva cementirani delovi dobijaju tek posle kaljenja i niskog otputanja.
Cilj cementacije je da se dobije visoka tvrdoa povrinskog sloja (55-65 HRC), a time i visoka
Dubina cementiranog sloja zavisi od: vremena i temperature, a u manjoj meri i od hemijskog
sastava, kao i od aktivnosti sredstva za cementaciju. Dubina cementiranog sloja moe biti od
0,51,5 mm, izuzetno i do 10 mm. Sadraj ugljenika u cementiranom sloju je od 0,91% C.
Delovi koji se podvrgavaju procesu cementacije moraju se pripremiti. Priprema obuhvata
ienje i odmaivanje povrina, kao i zatitu povrina koje se ne cementiraju. Povrine koje se
ne cementiraju prevlae se bakrom, niklom ili premazima na bazi meavine azbesta, gline, talka i
tenog stakla.
2) naneti prevlake na one delove povrine gde nije potrebna cementacija (na primer,
nanoenjem Cu, galvanizacijom, ili Ni, ili specijalnim premazima).
Cementacija u gasovitoj sredini. Ovaj proce se ostvaruje zagrevanjem u gasovitoj sredini koja je
Proces termike obrade posle cementacije bira se u zavisnosti od hemijskog sastava i odnosa
(1) delovi se zagrevaju do temperature 880900C i kale, ovim se dobija sitnozrna struktura
jezgra i odstranjuje se cementitna mrea u povrinskom sloju;
(2) ponovo zagrevanjc do temperature 760780C i kale, ovim se postie usitnjavanje strukture
cementiranog sloja i dobijanje njegove maksimalne tvrdoe. Nedostatak dvostrukog kaljenja je
sloeniji proces obrade, poveanje deformacija, naroito kod delova sloenog oblika i mogunost
pojave oksidacije i razugljenisavanja.
Delovi posle cementacije najee se jednostruko kale i to: (1) delovi se ponovo zagrevaju
povrinskog sloja) i kale, tako da povrinski sloj dobija maksimalnu tvrdou dok jezgro ostaje
nepotpuno okaljeno.
Posle cementacije u gasovitoj sredini delovi se vade iz pei za cementaciju, sporo hlade do
Siliciranje
Siliciranje je termohemijski proces difuzionog obogaivanja povrinskog sloja
Siliciranje se izvodi obino u gasovitoj sredini razlaganjem para SiCl 4 na 9501050C u trajanju 2
5 asova. Struktura siliciranog sloja je vrst rastvor silicijuma u Fe. Dubina sloja iznosi 0,31
mm, a tvrdoa 200300 HV.