tCvn Tiªu chuÈn Quèc gia

TCVN 5400 : 1991

Mèi hµn − Yªu cÇu chung

vÒ lÊy mÉu ®Ó thö c¬ tÝnh

Weld − General requirements of sampling for mechanical test

Hµ Néi - 2008
TCVN 5403 : 1991

2
 TCVN 5403 : 1991

Lêi nãi ®Çu

TCVN 5400 : 1991 do ViÖn C«ng nghÖ Bé C«ng nghiÖp nÆng biªn so¹n,
Tæng côc Tiªu chuÈn §o l−êng ChÊt l−îng tr×nh duyÖt, Uû ban Khoa häc
Nhµ n−íc (nay lµ Bé Khoa häc vµ C«ng nghÖ) ban hµnh.

Tiªu chuÈn nµy ®−îc chuyÓn ®æi n¨m 2008 tõ Tiªu chuÈn ViÖt Nam
cïng sè hiÖu thµnh Tiªu chuÈn Quèc gia theo quy ®Þnh t¹i kho¶n 1
§iÒu 69 cña LuËt Tiªu chuÈn vµ Quy chuÈn kü thuËt vµ ®iÓm a
khoản1 §iÒu 6 NghÞ ®Þnh sè 127/2007/N§-CP ngµy 1/8/2007 cña
ChÝnh phñ quy ®Þnh chi tiÕt thi hµnh mét sè ®iÒu cña LuËt Tiªu chuÈn
vµ Quy chuÈn kü thuËt.

3
TCVN 5403 : 1991

4
 TCVN 5403 : 1991

Tiªu chuÈn quèc gIa TCVN 5400 : 1991

Mèi hµn - Yªu cÇu chung vµ lÊy mÉu ®Ó thö c¬ tÝnh

Weld − General requirements of sampling for mechanical test

1 Tiªu chuÈn nµy quy ®Þnh yªu cÇu chung vÒ lÊy vµ chuÈn bÞ ph«i mÉu, chÕ t¹o mÉu ®Ó thö c¬ tÝnh
cña mèi hµn kim lo¹i vµ hîp kim ®−îc hµn b»ng ph−¬ng ph¸p bÊt kú.

2 NÕu ph«i mÉu ®−îc chÕ t¹o t¸ch biÖt víi s¶n phÈm kiÓm tra th× ®iÒu kiÖn hoµn thµnh ph«i mÉu ph¶i
phï hîp víi ®iÒu kiÖn hoµn thµnh mèi hµn cña s¶n phÈm kiÓm tra (vÒ m¸c vµ chiÒu dµy kim lo¹i c¬
b¶n, vÒ chuÈn bÞ mÐp hµn, vÒ h−íng c¸n cña kim lo¹i c¬ b¶n ®èi víi trôc mèi hµn, vÒ ph−¬ng ph¸p, vÞ
trÝ vµ th«ng sè hµn, vÒ m¸c vµ lo¹i vËt liÖu hµn, vÒ nhiÖt ®é nung vµ gia c«ng nhiÖt).

3 Cã thÓ nhiÖt luyÖn c¸c ph«i mÉu nguyªn hoÆc ph«i mÉu ®−îc c¾t tõ ph«i mÉu thö. Trong tr−êng hîp
s¶n phÈm ®· th−êng ho¸ hoÆc t«i kh«ng cho phÐp nhiÖt luyÖn ph«i mÉu thö.

Ph«i mÉu (hoÆc ph«i mÉu thö) ph¶i ®−îc nhiÖt luyÖn cïng víi mèi hµn cña s¶n phÈm kiÓm tra.

4 L−îng d− gia c«ng cña ph«i mÉu thö phô thuéc vµo ph−¬ng ph¸p c¾t ph«i mÉu thö. Gi¸ trÞ nhá nhÊt
cña l−îng d− ®−îc quy ®Þnh ë b¶ng d−íi.

L−îng d− khi chiÒu dµy kim lo¹i, mm

Ph−¬ng ph¸p cÊt
§Õn 10 Trªn 10 ®Õn 30 Trªn 30 ®Õn 50 Trªn 50

Oxy 3 4 5 6

Plazma 3 5 7 10

C¬ khÝ 2 3 3 3

KÝch th−íc cuèi cïng cña mÉu ®−îc ®¶m b¶o b»ng gia c«ng c¬.

Chó thÝch: Khi c¾t ph«i m·u thö tõ kim lo¹i Ýt nhËy c¶m víi nhiÖt c¾t, cho phÐp gi¶m l−îng d− trong b¶ng nh−ng
kh«ng qu¸ mét nöa.

5
TCVN 5403 : 1991
5 Trªn ph«i mÉu lÊy tõ s¶n phÈm c¸n (tÊm, èng) ph¶i ®¸nh dÊu h−íng c¸n.

6 §é lÖch mÐp e trªn ph«i mÉu kh«ng ®−îc v−ît qu¸ 15 % chiÒu dµy kim lo¹i nh−ng kh«ng lín h¬n
4 mm (h×nh 1), nÕu trong tiªu chuÈn vÒ s¶n phÈm cô thÓ kh«ng cã c¸c chØ dÉn kh¸c.

s – ChiÒu dµy ph«i mÉu;

e - §é lÖch mÐp

H×nh 1

7 §é vâng cña ph«i mÉu f trªn chiÒu dµi 200 mm kh«ng ®−îc v−ît qu¸:

2 mm - khi chiÒu dµy ph«i mÉu ®Õn 10 mm;

3 mm - khi chiÒu dµy ph«i mÉu trªn 10 mm ®Õn 20 mm;

4 mm - khi chiÒu dµy ph«i mÉu trªn 20 mm (h×nh 2), nÕu trong tiªu chuÈn vÒ s¶n phÈm cô thÓ kh«ng
cã c¸c chØ dÉn kh¸c.

H×nh 2

8 Ký hiÖu cña mÉu thö ph¶i ë ngoµi phÇn lµm viÖc cña mÉu thö, kh«ng bÞ mÊt ®i khi thö vµ trong qu¸
tr×nh l−u mÉu.