半 導 體 製 程 設 備 簡

作 者 ： 蘇 漢 儒
 半 導 體 製 程 設 備 簡
介
➠ 半導體工廠的製程設備區分為五大
項目：
1. 化學及清洗 流程設備。
2. 水處理 及清洗 流程設備。
3. 空調設備。
4. 特殊氣體 設備。
5. 作業人員 及無塵 ( 潔淨 ) 室
設備。 Page 2
 半 導 體 製 程 的 污 染
源
➠ 二種污染 源，在半導體工廠製
程
造成最大的污染問題 。
1. 鈉元 素存在人體中，因此作
業
人員必須小心操作晶片
，減少
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 半 導 體 製 程 的 污 染
源
➠ ( 續 ) 二氧化矽中的游離 離子 (
鈉
、金、和其他元素 ) 擴散於
矽晶
片中，並且沉澱
( Precipitate ) 在
晶片中某處。鈉元素 會造成
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 半 導 體 製 程 的 污 染
源
➠ 2. 某些元素 ( Certain elements )
高溫 時熔解於矽晶片中，
並且
於低溫時 沉澱
( Precipitate ) 在
非晶格 ( Non-lattice
location )
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 半 導 體 製 程 的 污 染
源
➠ 矽晶片 受到污染，將無法把污
染
物質從矽晶 片中完全移除。
因此適當的矽晶片清 洗流 程
是必
要的，不確定是否乾淨的矽
晶片
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 矽晶片油脂去除清洗程序
➠ 油脂去 除清洗流程：
1. 使用三氯乙烯 ，浸泡污染的
矽
晶片。
2. 取出，再使用丙酮或酒精沖
洗
矽晶片。 Page 7
 半導體化學及清洗製程簡介
➠ 化學及清洗程序的目的：
1. 矽晶片 浸泡熱硫酸
( H2SO4 ) ，
可去除光阻劑 或其他物質
。
2. 矽晶片 浸泡王水 ( Aqua regia )
，可溶解黃金 及其它金屬
。 Page 8
 半導體化學及清洗製程簡介
➠ 化學及清洗程序的目的：
3. 矽晶 片浸泡稀釋的氫氟 酸
( HF ) ，可去除二氧 化矽及其
它污染物質。
4. 矽晶 片浸泡純水，可去除殘
留的酸性化學物質。
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 半導體水處理及清洗製程簡介
➠ 水污染來源，區分為 ：
(1) 無機鹽 ( 鈉、鈣、鹽 )
它係
經由岩石、泥土 、輸
水管 線
造成污染。
(2) 有機污 染物 質 ( 工業廢水
、 Page 10
 半導體水處理及清洗製程簡介
➠ 水處理程序：原水 化學處理

濾除矽藻 碳濾 砂濾
陰離子交換 陽離子交換 紫外線殺菌

18MΩ 純水 0.45 µ 濾心
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 半導體水處理及清洗製程簡介
➠ 水處理程序：原水 酸鹼值調整
逆滲
透膜 幫浦 10 µ 濾心

陰離子交換 陽離子交換 紫外線殺菌

18MΩ 純水 0.45 µ 濾心
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 半導體水處理及清洗製程簡介

水 質 規 自 來 純
格 水0.0002 水
15 ~18
阻抗 ( MΩ - cm
) 電解質 ( 每十億 200,000 < 25
) 微粒物質 ( # / cm³ 100,000 < 150
)
活有機物質 ( # / 100 ~10,000 < 10
cm³ )
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半 導 體 工 廠 空 調 設 備
簡 介
➠ 半導體工廠的空調設備必須要
精密的控制溫度、溼度及塵
粒
等三種參數。特別是無塵室
的
塵粒控制 非常重要，因為塵
粒
會影響黃光 室微影顯 影品
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半 導 體 工 廠 空 調 設 備
簡 介
➠ 空調設備：
半導體工廠的空調設備區分
為
1. 一般廠 房空 調設備 ， ( 包
括機
房、辦公室、會議室、
倉庫
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 半 導 體 工 廠 空 調 設 備
簡 介
➠ 空調設備： ( 續 )
2. 無塵 ( 潔淨 ) 室空 調設備
( 包括
光罩室、擴散爐管室、
蝕刻作
業區、 離子佈植設備機
房、化 Page 16
半 導 體 工 廠 空 調 設 備
簡 介
➠ 半導體工廠無塵室 的空氣品質
依
產品製程之性質有不同的規
範。
( 舉例 ) ：
5 µ 製程 的半導體晶片需符合
FED – STD – 209E Class 100 之
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 半 導 體 工 廠 空 調 設 備
簡 介
➠ ( 舉例 ) ：
0.1 µ 製程的半導體晶片屬深次
微
米製程，需符合 FED – STD –
209E Class 1 之標準 ( 每 1ft³
空
氣含  0.5 µ 微粒之數量 )
不超 過 Page 18
 半 導 體 工 廠 空 調 設 備
簡 介
➠ 半導體工廠無塵室 的空調系統
使
用高效率 微粒 濾材 ( HEPA
filter
， High efficiency particulate
air )
它能有效的將空氣中 0.3
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 半 導 體 工 廠 空 調 設 備
簡 介
➠ 無塵室 的工作站，使用層流 台
( Laminar flow hoods ) ，它能提
供最潔淨 的工 作區 ，確保
晶片
品質。無塵 室安裝的塵粒
監測
儀器，若無塵室的塵粒 超 Page 20
半 導 體 工 廠 空 調 設 備
簡 介
層流台圖 示：
前段濾網
高效率微粒濾材
鼓風機

保護網 最潔淨的
最不潔
工作區域
淨的工
作區域 孔狀面板 樓層地板

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 半 導 體 特 殊 氣 體 設
備 簡 介
➠ 特殊氣體設備：
半導體工廠使用的特殊氣體
區
分為氮氣、氧氣、氫氣、
氨氣
、氯氣 、鹽酸氣 及其它特殊
氣 Page 22
 半 導 體 特 殊 氣 體 設
備 簡 介

➠ 特殊氣體設備： ( 續 )
半導體工廠使用銅管輸送氮
氣
和氧氣，其它氣體使用不
銹鋼
管以避免輸送管路腐蝕。
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 半 導 體 特 殊 氣 體 設
備 簡 介
➠ 特殊氣體設備： ( 續 )
半導體工廠大量使用氮氣
，因
此使用大型不銹鋼戶 外儲
存槽
存放液態氮 。
液態氮經由蒸發器 轉變Page 24
 半 導 體 特 殊 氣 體 設
備 簡 介
➠ 特殊氣體設備： ( 續 )
其它氣體因使用量較少，故
使
用小型鋼瓶 分別存放，再經
由
輸送管路配送至製程設備。
➠ 氣體鋼 瓶必須依安全衛生 管理
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 半 導 體 特 殊 氣 體 設
備 簡 介
高 壓 氣 體 氣 體 鋼 瓶
種 類 氮 顏 色 灰
氣
氧 色 黑
氣
氫 色
紅
氣
氨 色
白
氣
氯 色
黃
氣 色 Page 26
 半 導 體 特 殊 氣 體 設
備 簡 介

高 壓 氣 體 氣 體 鋼 瓶
種 類二 氧 顏 色 綠
化
其它種碳類之 氣 色 灰
體 色

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 半 導 體 工 廠 無 塵 室
簡 介
➠ 無塵室作業人員：
半導體工廠的作業 人員是最
大
污染來源之一，因為人類是
活
的有機 體，新陳代謝的關係
， Page 28
 半 導 體 工 廠 無 塵 室
簡 介
➠ 無塵室作業人員： ( 續 )
因此無塵室的作業人員必
須穿
戴無塵 工作服 、手套、鞋
套及
頭套，這些工作服必須定
期清 Page 29
 無 塵 室 含 微 粒 的
標 準
FED – STD – 209E ( 每 1 ft³ 含  0.5 u 微粒之
數量 )
Class 1 1個
Class 10 10 個
Class 100 100 個
Class 1,000 1,000 個
Class 10,000 10,000 個
Class 100,000 100,000 個
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 半 導 體 工 廠 黃 光 室
簡 介
➠ 黃光 室微影 顯影 注意要點：
1. 晶片的平坦 度。
2. 光罩的平坦 度。
3. 黃光室空氣 中的塵 粒。
上述三項因素若不符合規
格，
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 半 導 體 工 廠 黃 光 室
簡 介
➠ 因為晶片與光罩之間若有間隙
存在，會使光線產生折射
現象
使電路的幾何圖 形失 真，
影響
微影顯影 的品質。
➠ 能產生最細微 線條 的微影圖
像 Page 32
 半 導 體 工 廠 黃 光 室
簡 介
➠ 黃光 室光源 ：
使用水銀電 弧燈
( Mercury arc °

lamp ) ，其波長為 4000 A 等

於 0.4 µ 。
➠ 0.4 µ 波長的光源可應用於 0.5
µ
至 1 µ 的微影顯影 製程Page 33
E-mail ： henzusu@ms57.hinet.net

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