Professional Documents
Culture Documents
20 010
20 010
1 次の(1)∼(4)の問いに答えよ。
(1)写像F:]R3→R2が
(の《1謝
として与冬られているとき・ζρ写像は線形か。 (2)R5の部分空間
㌃{〔i〕・磁灘1§:}
の基底を1組挙げ,yの次元を述べよ。 (3)(2)で与えたR5の部分空間yを牢義域とする線形写像σ:y→IR3が
・γ・
として与えられているとき,この写像の核の次元を求ゆよ。
(4)(3)で与えられた線形写像σ:y→盈3の像の次元を求めよ。
丑・∼変轍梱一4・・痴+圭+1について次の(・),(2)の問ヤ・に答えよ・ (1)関数加ノ(卿の停留髄すべて求めよ・
(2)関数β;ア(の,のの極値とその値を取るときの点(亀〃)とを求めよ。
11
◇M1(558−3)
問題2 電磁気学 設問すべてについて解答すること。
(以下の問題文中の物理量の単位はすべてSI単位系である。)
1 図1に示すように半径泥の一様に帯電した絶縁体球が真空中に置かれている。球内部の体積電
荷密度はρである。また真空中および球内の誘電率は衡である。
球の中心0からの距離をrとする。次の.(1)から(5)の問いに答えよ。なお無限遠方の電位を
ゼロとする。
(1)球の外部z>πにおける電界(電場)の強さを,rの関数:として求めよ。
(5)図2に示すように,球の内部,エニ〃2の点を中心として,半径〃2の球形の空洞をあけ
た。空洞の中心での電界の強さを求めよ。
図1
図2
◇Ml(558−4)
H 図3に示す外半径α,内半径δの中空円筒導体内に半径。の円柱導体が共軸にして置かれ,内外
両導体に電流1を紙面に垂直に互いに反対向きに一様密度で流すとき,次の(1)∼(4)の問いに
答えよ。
(1)
(2)
内部円柱内半径ア(ア<o)の同心円上の磁界を求めよ。 外部円筒内半径r(δ<ア<θ)の同心円上の磁界を求めよ。
(3)
(4)
両導体の間の空間での半径F(o<7<∂)の同心円上の磁界を求めよ。
図3を内部円柱導体と外部円筒導体からなる無限長同軸線路とみなすとき,長さが1m(長さ は紙面に垂直)当りの両導体間(o<7<δ)に鎖交する全磁束Φ,及びそれによる自己イン
ダクタンスLを求めよ。但し,両導体の間の空間の透磁率はμ。である。
一ノ
1
μo
図3(断面図)
◇M1(558−5)
問題3 数理科学設問すべてについて解答すること。
1複素関数
1−cos 7rz
!(z)= (2z−1)2(之一1) について,次の(1)∼(3)の問いに答えよ。
(1)関数プの零点と各零点での位数を答えよ。 (2)関数!の極と各極での位数を答えよ。
(3)曲線0:z=5♂(0≦θ≦2π)とするとき,積分
ゐ伽
の値を求めよ。
H 集合
F一
o(殉鵜実数}、
について,次の(1)∼(3)の問いに答えよ。ただしEは2次単位行列である。
(1)X2=一Eをみたす家∈Fをすべて求めよ。
(2)複素数の全体のなす集合Cと集合Fが同じ代数構造を持つように,すなわちCに
おける複素数の和と積が一Fにおける行列の和と積に対応するように,各複素数に対
しFの元を対応させよ。またその対応が条件をみたしていることを確かめよ。 (3)X2−2X−1=一EをみたすX∈.Fをすべて求めよ。
◇M1(558−6)
問題4A[無機化学], B[無機材料]
AまたはBの設問のどちらかを選択して解答し,解答用紙の選択記号欄に,選択したAまたはBの記
号を記入すること。
A[無機化学]設問すべてについて解答すること。
1.電池Zn(s)IZn2+(aq)llCu2+(aq)iCu(s) (ただし, s, aqはそれぞれ固体,水溶液状態にあることを示
す)に関する問(1)的(3)について途中の計算過程も含めて答えよ。なお,問(3)につい
ては問(1),(2)の答えを計算に使用すること。気体定数Rは831J/(K・mol),ファラデー定数 Fは96500C/molとする。必要ならばln 2=0,693を用いよ。なお,標準状態で酸化体Oxが擁個 の電子を受け取って還元体Redとなる反応Ox+ηe‘=Redにおいて反応の標準酸化還元電位をE。,
モルギブズ自由エネルギー変化を△,G。とすると△,ぴ;一η1rE。という関係がある。 (1)Zn, Zn2+の標準モル生成ギブズ自由エネルギー△石。はそれぞれ0,一147。06 kJ/mo1である。標
準状態で,反応Zn2++2e暫=Znの標準酸化還元電位を求め有効数字3桁で答えよ。
(2)反応Cu++e”;CuにおいてE。=0520 V,反応Cu2++e一=Cu+においてE。;0.154 Vで ある。標準状態で,反応Cu2++2e”=Cuの標準酸化還元電位を求め有効数字3桁で答えよ。
(3)温度25℃で,[Cu2+];0.O16mol/l,[Zn2+];0.602 mol/lのとき,この電池の起電力を求め有効
数字3桁で答えよ。なお,イオンの活量はイオンの濃度で近似できるものとする。
II. 11族である銅を含む金属酵素は数多く報告されている。亜硝酸還元酵素は亜硝酸イオン(NO2り
1・斗ノ 三一1・
’十’
H H2 H
図を記し,それぞれの結合次数を記せ。またこれら3つの化学
例1 水素分子軌道
種の中で常磁性体であるものはどれか。 (3).配位原子,構造ならびに電子吸収スペクトルにおけるタイプ1銅とタイプII銅の違いについ
て述べよ。
(4)下表に示した3つのニッケル錯体は異なる有効磁気モーメント(有効磁気能率(μげ):ボー
ア磁子を単位として算出された磁気モーメント)を示した。結晶場理論に基づいてこれらの
構造を説明せよ・ただし有効磁気モーメントは不学電子数ηとの間にμげ= η(η+2)の関
係が成り立つものとする。
[Ni(en)3]SO4
μθ(B.M,)
[N(C2H5)4]2[Ni14]
K2[Ni(CN)4」
2.83
2.83
en:エチレンジアミン
◇M1(558−7)
B[無機材料]設問すべてについて解答すること。
1 次の(1)∼(6)にあてはまる,式,数値を答えよ。
図1は種々のpHの水溶液中におけるSiO2の安定1生を示したものである。
シリカと水の反応はSi(》+H20オH2SiO3…①で表される。このときの平衡定数κ1をそれぞれの活量
αsi(:㌧OIH、q OIH、siqを用いて表すと,κ1=[亙]である。 SiQゐH20, H2SiO3の標準生成自由エネルギーは,そ
れぞれ,一19240α一56690,一242000ca1であるから,①の反応による標準自由エネルギー変化△ぴは[亘コ。副
である。また,△薦体面R(棚7caMdeg》1腋三三を肌△ぴ=回と表される。①
で生成するH2SiO3は極めて少量であるから, Olslq=OH、o=1と近似でき,25℃でのOIH、sio,は,10901H,si(〉=
[亜コ(図1に示される値)と計算される。つまり,H2SiO3の水に対する溶解度がpHと無関係に一定である。
しかし,アルカリの存在下では,H2sio3⇒H++Hslo3一…②, Hsio∫3H++sio32∴・③ の反応によりケイ酸の
分解がおこる(②,③のそれぞれの平衡定数を鴎,属とする)。10g邸を,10901Hβio,, IogαH・, Iog OIHslα一を用
いて表すと,1・g鴎=[亙コである。上述の①の反応と同様に計算すると,②の反応では1・g鴎一一10となり,pH
=一1090H+を代入すると, log OIHsiα一=一15,198+pH が得られる。同様に,③の反応ではlog角=一l l.994となる
ので囲の関数として,1・9…α』[〈6)]が得られる。
H 次の(1)∼(4)の問いについて答えよ。
シリカガラスを12000C付近で加熱すると,クリストバライトが生成する。このときの単位体積あたりのギブス
自由エネルギー変化を△G.,界面エネルギーをγとする。
(1)この過程を均一核生成とみることができるとき,この系のギブス自由エネルギー変化△Gを△Gv,γを用い
て示せ。新相の生成に伴うひずみの発生はないものと仮定する。
(2)核成長に必要な最小半径(臨界径)r*を△G.,γを用いて示せ。
図2は,過冷却液体中での核生成速度/と結晶成長速度σの温度依存1生を模式的に示したものである。τ1,は結 晶の融点であり,ろはガラス転移温度である。(a)はηと7Uが離れており,しかもノとσが小さい場合で,(b)は
男と恥が接近しており,しかも∫とσが大きい場合である。いずれの場合も乃は男より高温側にある。
(3)(a)のような場合には・融液を冷却してガラスを作製することが比較的容易である。その琿由を述べよ。} (4)高強度セラミックスを作製したいとき,そのひとつの手法として結晶化ガラス法がある。そのためには(a)(b)
どちらの性質をもつものが有利か。理由を付けて答えよ。 .
(a)
u
1
1
↑
2
咽。 興
)一2
ぎ
/
乃ハ
1,u
/
7「u7「m』
¢
多面’’”
H2Sio3 一,,’”桑
’
一_ S
(b)
7 891011121314
pH.
乃 7i 71uτm
図1
図2
→温度
◇M1(558−8)
問題5 A[有機化学】,B[高分子合成]
AまたはBの設問のどちらかを選択して解答し,解答用紙の選択記号欄に,選択したAまたはBの記
号を記入すること。
A[有機化学]
空欄A∼Mに当てはまる化合物の構造式を書き,以下の反応式を完成させよ。ただし,EおよびMに
は当該物質変換を行うために必要な試薬を記入せよ。また,1およびJについては,その立体化学が
わかるよう’に記載すること。
OH ’ 1)BH3,THF
際。ii三三,臣鴎畿慧…、。[司鑑[
H 3)C6H5CH2Br
OH
OH
〔)Oi二二[]
CloH140
一へO
OCH2CH=CH2
◎ 加熱
CH3
[i]
CN
0
ゆ
[]
0
加熱
0
O
py両dine
[町回砧:::
加熱
◇M1(558−9)
B[高分子合成] 設問すべてについて解答すること。
I CH3CH2CH2Brにエタノール中CH3CH20Naを作用させると,化合物Aが91%,化合物Bが9% 生成した。一方,CH3CHBrCH3を同様の条件で反応させると化合物Bが87%,化合物Cが13%生
成した。この結果について以下の問いに答えよ。
(1)化合物A,Bの構造式を示せ。 (2)CH3CH20Naは,どのように合成すればよいか?厚応式を示せ。
(3)CH3CH2CH2Brから化合物Bを主生成物としそ得るためには,どのような試薬を作用させれば
よいか?具体例を化学式で示し,その理由を述べよ。
H 一置換ベンゼン(PhX;X=CH3・CO2CH3・OCH3・q)の求電子置換反応について・以下の問いに答
えよ。
(1)上記の置換基Xをオルトーパラ配向性とメタ配向性に分類しなさい。求電子試薬をE+として,
PhXから生成する反応中間体の構造を示し(置換基はXのままでよい),各置換基の配向性への効果
を説明せよ。
(2)ベンゼン(X=H)を含め,上記の一置換ベンゼンを反応性の高い順に左から右へ並べ(H,CH3,
c62cH3,0cH3, clで示せばよい),その根拠を説明せよ。
皿 以下の高分子合成に関する設問に答えよ。
(1)スチレンを四塩化炭素中でラジカル重合させると,オリゴマーしか生成しない。この生成機構
を反応式で示せ。
(2)リビン腫合の代表的な例として,アルキルリチウムを開始剤とするメタクリル齢チル鍾.
合があ否。しかし,条件によっては,副反応が起こってリビング重合とはならない。その反応にはい くつかのパターンがあるが,その内の1つを反応式で示せ。
(3)H20/BF3を開始剤とするテトラヒドロフランの重合の開始反応,成長反応の反応式を示せ。
(4)芳香族求核置換反応は,エンジニアリングプラスチックを合成する有効な重合方法の1つであ る。その具体例を1つ挙げ,モノマーとポリマーの構造式を示せ。
一10一
◇M1(558−10)
問題6 A[高分子材料],B[生体高分子], C[生化学]
A,BまたはCの設問のいずれかを選択して解答し,解答用紙の選択記号欄に,選択したA, Bまた
はCの記号を記入すること。
A【高分子材料]設問すべてについて解答すること。
I N+1個のセグメントが,長さわの剛体棒でランダムに連結された高分子鎖(自由連結鎖)のモデ
ルに関して,次の(1),(2)の問について答えよ。
(1)末端間距離Rの二乗はR2=1吻2となることを示せ。
(2)一半鴨の二乗はR82・勘2んとなることを示也
Hゲル浸透クロマトグラフィー法による分子量測定に関して,次の(1),(2)の問に答えよ。
(1) ゲル浸透クロマトグラフィー法の測定原理について説明せよ。
(2)あるポリスチレン試料の分子量をゲル浸透クロマトグラフィー法により測定した。溶出体積か
ら換算した分子量(Mi)と溶質高分子の質量(wi)/グラムとを求めたところ,(Mi, wi)=(10400,
0.0104),(15600,0.0312),(26800,0.104),(52000,0.104),(62400,0.0624)であった。こ
の結果から,このポリスチレン試料の数平均分子量,重量平均分子量を求めよ。さらに数平
均分子量より得られる平均重合度を用いて,自由連結鎖としての回転半径を求めよ。ただし,
C二12,H=1とし,ポリスチレンの統計的セグメント長は6Aとする。
皿 混合の自由エネルギーに関して、次の(1),(2)の問いに答えよ。
(1) フローリー一州ギンスの格子モデルを用いると,高分子Pと溶媒5との混合の自由エネルギー
Fは次の様に書ける。
議BT寺φP・φ・㎞φ・争圭[κPPφ多・κ∬φ多・2繍・]
ここで,1覧は町内の格子点の総数乳1>pは1本の高分子鎖を構成するセグメント数,φpとφ3
はそれぞれ高分子と溶媒の平均濃度.(φp+φ3=1),κκκ1(κ旨P,3;1(’躍P,3)はセグメ
ント相互作用パラメータである。また7は絶対温度、㌔はボルツマン定数である。上式より,
φ3を消去した後,1・(1一φP)聞一φP一φ多/2を用いて,φ多の項の係数・を求めよ。
(2)係数:0の物理的意味と温度依存性について考察せよ。
(3)係数0がゼロの時は、高分子鎖はどのような状態か答えよ。
一11一
<>M1(558一=一11)
B[生体高分子]設問すべてについて解答するこ≧。
1 生体膜に関する次の記述のかっこ内に適切な語句を入れて文章を完成させよ。
生体膜は,主に(ア),(イ),(ウ)から形成される分子集合体である。(ウ)は親水性部と炭化水素
部からなる(エ)物質であり,(オ)相互作用により(カ)膜構造を形成している。合成高分子膜とは
異なり,生体膜は分子が(キ)拡散し,流動性を有している。(ア)は膜を貫通しているものがあり,
物質輸送やエネルギー変換に関与している。膜を介する物質輸送には,濃度勾配に逆らった(ク)輸
送があり,(ケ)をエネルギー源とし,無機イオンや(コ)などを特異的に輸送する。二種類の物質が
共役して移動する輸送を(サ)輸送という。
H 次の(1),(2)の問いについて答えよ。
(1)タンパク質の二次構造を2種類挙げ,その構造形成に重要な分子間相互作用(結合)を2種類記
せ。
(2) 酵素反応の基本式を例示し,加水分解酵素の活性サイトで重要な働きをすると考えられるアミ
ノ酸でpKa 7付近のアミノ酸の名前と構造式を記せ。
皿 多糖類に関する次の問いに答えよ。 (1)D一グルコースからなる天然多糖類の物質名をすべて挙げ,それらの構造的な特徴を簡潔に記せ。
(2) 多糖類は植物だけでなく動物にも存在する。動物で見られる多糖類を3種類挙げ,それらの
物質名と存在する部位を記せ。
IV 次の』文章を読み,(1)∼(4)の問いについて答えよ。
相補的な塩基配列を持つ2種類DNAを混ぜ95℃に加熱後,徐冷し二本鎖を形成させた。
(1) この一連の操作は何と呼ばれるか記せ。 1
(2)DNAの二本鎖が形成されたことを分光学的に見分ける方法を30字以内で記せ。
(3)DNA中のGC塩基対はAT塩基対に比べ熱的に安定である理由を30字以内で記せ。
(4)DNA中のAT, GCが塩基対を形成しているときの構造式を記せ。但し,塩基部のみでよい。
一12一
◇M1(558−12)
C[生化学]設問すべてについて解答すること。 『 ・
1 以下の(1),(2)の問いに答えよ。
(1) (ア)∼(カ)に当てはまる最も適切な言葉を記せ。
する。多くの酵素は,その反応に補因子を必要とする。補因子には,NADやFADなどの(エ )と
呼ばれるものと,シトクロム。中のヘム(鉄一ポルフィリン)のように酵素に共有結合して存在する
(オ )がある。
酵素の可逆阻害の分類において,マロン酸はコハク酸と構造が類似しているためコハク酸脱水素酵
素の(カ )阻害剤である。
(2)酵素反応における㎞を説明し,1㎞値の大小の意味も説明せよ。
II 以下の文章を読み,(1)∼(3)の問いに答えよ。
酵素のリン酸化による酵素活性調節は,細胞内の代謝調節に重要な役割を果たしている。.ヒトにお
いて,酵素中のリン酸化されるアミノ酸残基は_LZ_⊥」L一_立」_である。この
リン酸化を触媒する酵素は(エ )であり,リン酸基の供給源は(オ )である。
(1)下線部(ア∼ウ)の3つのアミノ酸の名称とそれらの構造式を記せ。
(2) (エ)の酵素名を英語で記せ。
(3) (オ)の名称を記せ。
III (ア)∼(ク)に当てはまる最も適切な言葉を記せ。
細胞内のエネルギー代謝では,酸素が利用できる場合と利用できない揚合ではエネルギー基質の分
解の過程が異なる。例えば,血糖が細胞内に入り分解される場合,酸素が利用できない場合には
Cア )系のみで分解され,その最:終産物は(イ )である。一方,酸素が利用できる場合には,
その糖の分解物であるピルビン酸はミトコンドリアに入り,完全酸化されて炭酸館スと水になる。こ
の炭酸ガスを生成するのが(ウ )であり,水を生成するのが(エ )系である。
また脂肪酸の分解系もミトコンドリアに存在し,それは(オ )系と呼ばれる。その系の最終産 物は(カ )である。
多くのアミノ酸もエネルギー代謝に関与している。多くのアミノ酸の分解では,最初にアミノ基が
転移されて除去される。このアミノ基は最終的には(キ )として体外へ排泄されるが,それを生 成する臓器は(ク )である。
IV 以下の(1)∼(4)の問いに答えよ。
(1) (ア)∼(エ)に当てはまる最も適切な言葉を記せ。
一13一
◇M1(558−13)
(2)上記の文章の下線部で示した「ホルモン受容体のリシ酸化」のメカニズムを簡単に説明せよ。 (3)骨格筋と脂肪細胞で,上述のホルモンに反応して細胞内への血糖取り込みを促進する酵素名を
記せ。 (4) このホルモンの分泌不全により引き起こされる疾患は何か。
一14一
◇M1(558一14)
問題7 A[基礎物理化学], B[材料物理化学], C[高分子物理化学]
A,BまたはCの設問のどれかを選択して解答し,解答用紙の選択記号欄に,選択したA, Bまたは
Cの記号を記入すること。
A[基礎物理化学]設問すべてについて解答すること。
1.下記文中の①∼③に適切な数値,A,Bに数式,亀bに語句を記せ。
直線分子はE=、8」(」+1)の回転エネルギーをもつ(β:回転定数、」=0,1,2,3,...:回転量子
数)。例えば,回転遷移ノ=4→」=3にともなって放出されるエネルギーは[① ]Bで与えら
れる。さて,二原子分子(質量と重心からの距離はそれぞれ〃2p盈および〃72,ろ)では慣性モーメン トは[A]と示される。重た,換算質量μ=溺1〃22/(〃21+〃22)と結合長7で表すと慣性モーメン
トは[B]となる。例えばH2分子(彫(1H)=1.67×1r27 kg,アニ74 pm)では慣性モーメン
トは[②コkg血2である。また,」=4での縮重度は[③]である。ところで分子軸に垂
直な軸のまわりに180。回転すると,二つの原子核が入れ替わり.
]波動関数妙は(一1)」望となり,」
が偶数のとき元のままで対称,」が奇数のとき符号が変わり反対称となる。さて,全波動関数は回転 部分と核スピン部分の積の形を取るが,二つの陽子(核スピンの大きさ1∠2)の入れ替えに対し反対
称波動関数をもつ。以上より,回転部分が対称であるとスピン部分は[a]となる。また,回転部
分が反対称であるとスピン部分は[b]となる。
II.多数の二原子分子があるとき,回転エネルギー準位」=0と」=2で同じ分布をもつ温度を,奴ボ
ルツマン定数)とB(回転定数)を用いた式で示せ。各準位の分布は縮重度とボルツマン因子e}超耀の
積の形で与えられることに注意せよ。,(対数はそのままでよい。)
B[材料物理化学] 設問すべてについて解答すること。 1.A−B二元系合金の溶体において以下の問いに答えよ。ただし問題文中のR,7,7,ギはそれぞれガス定
し,合金中の成分Aの蒸気圧を求めよ。
(3)二元系においてギブズーデュエムの関係は活量係数を用いた場合以下の式のように表せる。7、を
XAの関数として求めよ。(計算の過程を示すこと)
x。41n7A+κ、41nγB=0
一15一
◇M1(558−15)
IL金属であるAgの酸化物Ag20は常温では安定であるが温度の上昇に伴いAgと02に分解する。以
下の問いに答えよ。ただし,それぞれの物質は互いに純物質として存在しているものとする。また必
要であれば以下のパラメータを適宜用いよ。
ガス定数8.31(Jmorl K曽1)、大気中の酸素分圧p加。=0.2
0℃=273K、自然対数の底2.7、 ln2=0.7、 ln5=1.6
(1)Ag20:1molの分解反応に対する標準反応ギブズエネルギ七変化は△,Go(J morl)=36800−67.07
(ただし7は絶対温度)である。Ag20:1molに対する分解反応式を書け。
(2)上記(1)の反応式に対して,平衡定数はどのように表されるか示せ。
(3)95℃における分解酸素分圧を求めよ。
(4)空気中でのAg20の分解温度を求めよ。
C[高分子物理化学]設問すべてについて解答すること。
L 下記文中の[A ]∼[C ]に当てはまる語句を記せ。
高分子固体をある溶質の溶液と接触させると,高分子固体一溶液の二相問で溶質の分配が平衡に
達する。この平衡過程を律する熱力学的原理は,“移動可能な溶質は,その[A ]の[B ]
相から[C ]相に流れ,[A ]の等しい2相間で平衡的に分配される”という判り易いも
のである。
IL 上記設問1で,高分子固体中に,その溶質に対する特異的な結合サイトが存在した場合,平衡時
におけるその結合量はある溶質濃度以上で一定値をとる。この平衡反応は次式で示される。
た+
溶質 + 高分子固体中の結合サイト享±
左_
「溶質と高分子固体中の結合サイト」の複合体
ここで,ん.および亙はそれぞれ溶質の結合速度定数,解離速度定数である。その比ん+/ん.は平
衡定数1(で,高分子のその溶質に対する親和陛を示す。平衡時には溶質の高分子固体への結合速
度と解離速度が等しくなる。
(・)平鶴において・国を溶桝の溶質灘,固を紛子固体中の全結合サ朴濃度,同
を溶質の結合量(溶質と結合した高分子固体中の結合サイト濃度),【う一司を溶質と結合
,していない高分子固体中の結合サイト濃度(疹一η]=[司一【司)とした時,溶質の高分子
固体への結合速度及び解離速度を示す式を記せ。
(2)平衡時には,[κ]/[司とレ1の間にはどのような関係が成り立つカ㍉グラフを用いて示せ。
一16一
◇M1(558−16)
問題8 A[物質解析],B[無機構造解析】, C[結晶物性]
A,B,またはCの設問のいずれかを選択して解答し,解答用紙の選択記号欄に,選択したA, Bま
たはCの記号を記入すること。
A[物質解析]設問全てについて解答すること。
1試料溶液中のFe2+の濃度をCe4+を用いる酸化還元滴定によって決定する方法について以下の問い
に答えよ。標準酸化還元電位は,Ce4+/Ce3+について1.72 V, Fe3+/Fe2+について0.77 Vとする。
(1)Ce4・/Ce3・とFe3+/Fe2+について,25℃におけるネルンストの式を,標準酸化還元電位の値を含
めて記せ。
(2)Ce4・とFe2・との間の反応式を示し,その平衡定数の対数値を整数で回答せよ。 (3)10−2MのFe2+に対してCe4+が0.5×、10『2 Mとなるまで滴定した溶液中のFe3+, Fe2+および
る必要がある。そのために用いられる方法(例えばジョーンズ還元器や還元性ガスの通気)が
満たしている化学的な条件を述べよ。
II分光分析および分離分析に関する以下の設問に答えよ。
(1)原子吸光分析では化学干渉が起きることがあるが,原子発光分析ではあまり発生しない。その
理由を述べよ。
(2)蛍光とリン光の違いをエネルギー状態に基づいて説明せよ。
(3)あるクロマトグラフィー分離において,試料Aの保持比は2.6であり,試料Bの試料Aに対す
る分離係数は,1.5であった6試料Bの溶出時間を求めよ。ただし,固定相に保持されない物質
の溶出時間(あ)は100秒目する。 (4)ガスクロマトグラフィーにおいて,移動相の流量を大きくすることで分析時間を短縮する場合,
移動相として用いる気体は,N2よりもHeが望ましい。その理由を述べよ。
(5)以下の用語の中から2つを選び,それぞれ要点を簡潔に説明せよ。
a.蛍光量子収率,b.ランベルトーベールの法則, c.水素炎イオン化検出器,
.d.逆相液体クロマトグラフィー, e.ミセル動電クロマトグラフィー, f電気浸透流
一17一
◇M1(558−17)
B[無機構造解析] 設問すべてについて解答すること。
化合物
・
SrTio3
IBaTio3
1)4溺溺 No.99
CaTio3
Pη溺α(P21/η21伽21/α)No.62
ヤ群
ゴ ! 一
、 、
● \
! ●
◎
、●1 α2
’● o
碁●・・ ●
ツ.・
c
、、●
二三
● ●
・’
●● ・
@●
● ●●
\ ●\ 、
● ノ1
◎
α
α1
α1.
一
Vβ配
4〃雌
〃重配〃ε
図1 点群と空間群
(1)ペロブスカイト構造の濯サイト, βサイトの配位数と多面体名を記し,
鰍避脳欝∴艶轡
個々こ1ご攣・講醗ゴ露
それぞれの多面体は何共有でつながっ
ているか。
麟阪鰹:蜥へ墜載鵬
短ノi,.・昌箋メ1
麟ゾ盤 …鰍講
無難幾茜蓼・審轟
○/i 、・BOO
(2) ポーリングの静電原子価則によ
罐◎蕊1耳語・㌔㌔
り,酸素の回りの電荷を求めよ。 途
中経過.も記せ。
図2.立方晶ペロブズカイト
(3)許容因子(tolerance factor)’の式を
構造
図3.CaTio3の構造
導き,各化合物の値を計算せよ。なお,浸,β及び酸素のイオン半径を7A,狛及び70とせよ。シャノ
ンのイオン半径:Sr2+1.44 A, Ba2+1.61 A, Ca2+1.34 A,「Ti4+0.605 A, O}1.40 A。
(4)上記3種の化合物にっき,結晶構造の違いを記せ。なお,CaTio3の結晶構造(図3)を参考に
せよ。
(5)上記3種の化合物にっき,対称中心を持たない化合物を示せ。対称中心の有無は,どの様な誘
電特性を示すか。
(6)CaTio3の空間群Pη〃2αの記号P,η.〃2,0を説明せよ。また,らせん軸21によって生ずる消
滅則を記せ。
(7)CaTiO3の格子定数は,α。篇5.3779 A,ろ。=7.6375 A, o。=5.4401 A,α=90.,β=90.,γ=90。である1
擬i立方晶系から直方(斜方)晶系への変換行列式を導け。
(8) 粉末X線回折において,立方晶系の100回折線は,正方及び直方晶系でどのように現れるか。
一18一
◇M1(558一一18)
(2)同様の変態が起こる実際の元素名の例を、結晶構造変化とともに答えよ。
II B原子を25.Omol%含有する合金を高温から冷却すると、1020℃で変態が生じ、室温でのB原
子の格子座標は(0,0,0)、A原子の格子座標は(%,%,0),(0,%,%)、(%,0,%)となる。
(1)このときの変態は何変態と呼ばれているか答えよ。
(2)変態後の構造における結晶構造因子を計算し、室温での回折実験で観察できる回折ピークを 変態前の状態と比較して説明せよ。なお、鰍1反射の結晶構造因子は、
F=Σ五・xp[2窺(加+如+1w η η η)]
んとせよ。
皿B原子を20.O mol%含有する合金
の小片を1100QCで保持後、拡散が起き
1400
L
L+β
ない速度で直接800℃へ急冷し、つい
でその温度で長時間保持した。この熱 処理における組織変化を推定し、理由
とともに簡潔に説明せよ。
1200
1160。C
β
1020。C
IV格子定数0.2911 nmのα固溶体を
用いてディフラクトメー三法で回折実
験を行った。実験:には波長0.2291nm
91000 \
910。C
800
α
のX線を用いた。このとき検出される
620℃
6
14
回折線の指数のすべて、およびそれぞ
れの格子面間隔(nm)を計算せよ。但し、
歪・1.414、.5=1.732、布=2.236、
600
q
く
400
O
10 20 30 40 『 50
而=2.449、〉宮二2.828とし、格子面
間隔は小数第4位を四捨五入して答え
よ。
→B原子含有量/mol%
一19一
◇M1(558−19)
問題9 A[高分子物性],B[無機材料物性], C[材料物理]
A,BまたはCの設問のいずれかを選択して解答し,解答用紙の選択記号欄に,選択したA, Bまた
はCの記号を記入すること。
A[高分子物性] 設問すべてについて解答すること。
10
、1 右図には,非晶性の単分散直鎖高分子に微小歪みを与えた場合の緩
和弾性率E(∫)の時間∫に対する依存性を,口中に示した各温度で測定し
た結果を示している。この図をもとに,(1)∼(3)の問いについて答えよ。
蚕・
刈00C
・ミ
−350C
§、 一700C
営
(1)各温度における高分子鎖の運動性の特徴を,それぞれ記せ。
(2)同じ高分子で,より分子量の高い試料を用いτ同様の測定を行う
『と,各温度の測定結果はどのように変化するか。理由とともに記せ。
4
1 3 5
109(〃sec)
(3)一70℃を基準温度ろとし,一拍℃および10℃でのEωのカーブを横
3 軸に沿って移動したところ,各々シフトファクターα7=10秒および105秒だけ長時間側にシフ
トすることで,お互いを重ね合わせるζとができた。この時のα7の温度の依存性が,WLF型の
式logα7=一Cl(1’一7;s)/(C2+74s)で表されると仮定し,パラメーターC1, C2の値を求めよ。
H 次の文章を読み,(1),(2)の問いについて答えよ。
化学架橋されたゴム材料を張力ノで一軸伸長したところ,長さが皿伸びた。ゴム材料に与えられた
仕事μは,体積yと温度丁の変化が無ければ,ヘルムホルツの自由エネルギー変化△F=△σ一㎜
(σは内部エネルギー,∫はエントロピー)に等しい。この関係より,張力ノは次式で与えられる。
∫ま@/∂L)・y一[=■コ7[z]×τ
(1)[互],[Z]に当てはまる数式を記せ。 (2)ゴム材料では,([Z]×7)の項は[=Z]の項に比べて圧倒的に大きい。このことから,
ゴム材料の弾性力の特徴について,熱力学的もしくは分子論的に説明せよ。
B[無機材料物性] 設問すべてについて解答すること。数値は有効数字3桁で求めよ。ただレ,光速
。=2.998×108[m/s},プランク定数解6.626x10−34[J/s],電気素量θ=1.602×1σ】9[qとせよ。
1 次の文章を読み,(1),(2)の問いについて答えよ。
酸化亜鉛(ZnO)はウルツ鉱型の構造を持ち, P63〃26の結晶群に属する,バンドギャップEgが約1 3.3eVのワイドギャップ半導体であり,この伝導帯下部はZn4s軌道と02p軌道の混成により形成され,
価電子帯上部は主に02p軌道成分により成っている。Alを添加したときA1はZn位置に置換固溶し, ( (の )帯の直下に( ψ) )準位を形成する。すなわち,( (c) )型である。電
気特性の実験より,この抵抗率は1.9×104[Ω・m1であり,キャリア濃度は1.5×102】[cnゴ3]と見積られた。 (1)(の,㈲,(o)に当てはまる語を記せ。
(2) キャリアの種別と移動度μを求めよ(移動度には単位をつけよ)。
一21一
◇M1(558−20)
】1ある無機酸化物半導体(バンドギャップEg=3.1eV)に波長350 nm,強度1Wの単色光を100秒
間照射すると,光は完全に吸収されて水が分解され,25℃で1.00mしの酸素が発生した。
△(ウ。(H20の)=一237.13[kJ!mo1}として,以下の(1)∼(5)の問いについて答えよ。
(1)単位時間当たりに照射される光子(フォトン)の数を求めよ。
(2)この無機酸化物半導体が光を吸収して,水の光分解反応を起こさせるために必要な光の波長は
何nm以下でなければならないか?
(3)水の分解反応2H20→2H2+02における半導体電極表面での化学反応式を示せ。
(4)pH=0における半導体電極表面での伝導帯の底の電位は一〇.25V(vs SHE(標準水素電位))であ つた。価電子帯上端の電位と標準酸化電位(ガ(02!H20))との電位差を求めよ。 』 (5)この光反応の量子収率φおよびエネルギー変i換効率ηを計算せよ。
φ一物議灘鶏数層,η一驚棄餐≡
である。
C[材料物理]
立方体の金属中に存在する自由電子のエネルギーEが次式で与えられている。
E一嘉鰍+・1)(量子数ηx,ηy,ηz=1,2,3,_)
ここで,乙は立方体の一辺の長さ,用は電子の質量,力はプランク定数を乃として海=〃2πである。
このとき,次の(1)∼(6)の問いについて答えよ。なお,必要に応じボルツマン定数んBを用いよ。L
(1)絶対零度において,1>個の電子がパウリの原理に矛盾しないように土ネルギーの低い量子状態
から順々に席を占めていくと,最後に最も高いエネルギーEm。、の状態が占められる。 E㎜、あ一般的
な名称を答えよ。
(・)麟醗ρ一膿すると・㌦一蓋醐・になること観
(3)エネルギーEmaxをも6電子の(・)速度・。、x,(b)波高_,(・)温度㌦をρを含む式で表せ。
(4)エネルギーがEとE+4Eの間にある単位体積当たりの状態の数は,電子の状態密度をD(E)
として,D(E)惚と表される。 D(E)を求めよ。
(5)貴金属元素のEm、、は,アルカリ金属元素に比べて大きい。両者は共に1価金属でありながらこ
のような差異を生じる理由を説明せよ。
(6)古典的統計論によると自由粒子の比熱は(3/2)んBであるから,ノ〉個の自由電子からなる系の電子
比熱は(3/2)醗Bであることが子想されるが,実験によると室温の電子比熱はこの値の1/100以下で
ある。その理由を説明せよ。
一22一
◇M1(558−21)
問題10 A[化学工学],后[無機材料プロセッシング],C[材料プロセスエ学]
A,BまたはCのいずれかを選択して解答し,解答用紙め選択記号欄に,選択したA, B,またはCの
記号を記入すること。
A[化学工学]設問すべてについて解答すること。
1.内径Dの円筒型反応槽に液高さHまで密度ρ,粘度μの液体を入れ,羽根径4,羽根幅わのパドル
型撹二三を用いて回転数Nで反応操作を行ったとき,所要動力Pに関する次元解析を行え。
II.内径2cmの平滑管内を粘度2mPa・s,密度1,000kg/m3の流体が体積流量1,130〃hで流れている。 (1)管内摩擦係数!を有効数字2桁で求めよ。ただし,このとき流れが層流であれば声16/Rθで,乱流
であればプ』0.079Rε窺25で計算できるものとする。
(2)もし,流れが層流であり,管内壁にスケールが付着している場合,新品の平滑管を使用した場合
と比較して,摩擦係数はどうなるか説明せよ。
皿.二重管二丁交換器を用いて,質量流量φOkg/minで流れている60℃のオイル(Cp=2kJ/(kg・K))を,10℃
の冷却水を用いて30QCまで冷却したい。冷却水の出口温度を20℃,総括三熱係数0」02kW/(m2・K)と
するとき,(1)並流型と(2)向流型で運転した場合の伝熱面積をそれぞれ求め,どちらを用いたら有利か
を述べよ。ただし,ln2=069, ln5=1.6とするご
B[無機材料プロセッシング]次の文章を読み,(1)∼(5)の問いについて答えよ。
(2)1成分系の例としてH20の状態図を縦軸,横軸をそれぞれ圧力,温度どして描き,その図中でF
=0となる箇所を示して特御を述べよ。(ただし,1atmでの融点と沸点が0℃,100℃であることがわか
るように図示すること,』また蓋000atm以上での状態は省略してよい。)
(3)2成分系の状態図として,A1203−Cr203系の1atmでの状態図を考察する。この系は典型的な全率固 溶型を示す。A1203が融点2045℃, Cr203が融点2275℃を持つとして組成,温度をそれぞれ横軸,.縦軸
とした状態図の概略図を描け。
(4)2成分系において,2成分が部分的にしか固溶しない場合に,冷却時にある温度で複数の固相が現
れ,共存状態が生じる反応がある。その代表的な反応に共晶反応,共析反応があるが,どのような反応
か説明せよ。..
(5)図にはジルコニアーイットリア系相図の一部分を示している。ジルコニア固溶体は温度によりA,
B,Cの3つの異なる結晶系に変化する。純粋なジルコニアは結晶構造の変化に伴う体積変化により, 材料合成の際にクラックが生じやすい。そこで,添加剤として,イットリア,カルシア,マグネシアな
どの添加剤を加えて,構造変化を抑制,すなわち「安定化」して様々な材料に用いられている。図中の
一23一
◇M1(558−22)
3000
9
図 ZrO2−Y203系状態図. L:液相,D:Zr3Y4012
殉兆
L+A
\2000
B
1000
A+B
A
A
!十
ロロ コ コ コ コい コ コ ロロ
A+c’、/ D
CD
0 20 40
ZrO2 Y203 /田01% Y203
C[材料プロセスエ学]設問すべてについて解答すること。
1.次の文章を読み,(1)および(2)の問いについて答えよ。
金属精錬において金属中の不純物をスラグを用いて除去する方法がある。金属中に含まれる不純物が
スラグ中へ移行するとき,金属相とスラグ相との界面に二重境膜を仮定して,各相の境膜内の物質移動
速度(ハ砺,1聡)と界面化学反応速度(琉)は次式で与えられるとする。
画一㌔(CM−cを)・嘱(煕)識=砺〔峰〕
ここで,鰍 んsは金属相内およびスラグ相内物質移動係数,碗は化学反応速度定数,溜は平衡定数であ る。また,Cは不純物濃度で,下付きのMとSはそれぞれ金属相とスラグ相,上付きの’は界面を表す。
(1)定常状態を仮定すると怖=塊二焼=/>bvとなる。総括反応速度!>bvを以下の式で表した場合の総
括反応速度定数柘vを煽,んs,秘,配を用いて示せ。
殉畷免一舞)
(2)界面化学反応律速を仮定した場合,総括反応速度定数の各項の条件を示せ。
H・・P+・Q−Rの賊・お・ゆおよびQの消癒をそれぞれ玲=二r争・・=一㌻,・の 生成醗国争としたとき・・…,・・。の間の式関係を枇
皿.ある物質が50%反応するのに要する時間を半減期という。この反応速度がある物質の濃度のη乗に
比例するη次反応め場合の半減期τの一般式を求めよ。
一24一
◇M1(558−23)