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吸收型滤色片和干涉型滤色片
 
传统滤色片按工作方式可以分为吸收型滤色片和干涉型滤色片。
 
吸收型滤色片是利用材料分子选择性地吸收特定波长范围的入射光从而达到所需的滤
色效果，主要由化学染料或有色玻璃制成｡虽然这类滤色片的制作成本较低，但是其光
损耗较大，稳定性不足，不能承受长时间的强光照射｡并且滤色性能由材料分子特性决
定，难调控｡
 
相比而言，基于多光束干涉原理的滤色片更加稳定，对强光的耐受能力强，干涉型滤
色片利用多光束干涉效应对入射光谱进行调制从而实现滤色效果，常用的干涉型滤色
片是高低折射率介质膜堆叠构成的全介质滤色片｡这种滤光片基于法布里-珀罗原理，
是一种具有高透射率的人工堆叠滤色片，利用了谐振器结构，基于腔层的光学模式之
间的多次反射、干涉和谐振来选择性滤出颜色｡
但是干涉型滤色片也有其缺点，由于这种多光束干涉效应，不同入射角度会引起不同
光束之间的光程差不再是恒定的，使得其光谱会随着入射角度的变化而偏移｡这种干涉
型滤色片对入射角度极为敏感｡
 
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亚波长光学结构滤色片
 
科研人员通过研究蝴蝶翅膀､蛋白石等发现这些自然存在的颜色是由于它们的光子晶体
结构而产生，如下图所示｡
 
 
 
受此启发，研究人员开始利用人造亚波长结构来设计光学器件｡其中，基于金属材料的
亚波长光学结构由于可以突破衍射极限效应实现光操控而得到了研究人员的广泛关注｡
并且，随着纳米加工技术的不断进步，金属亚波长光学器件不断推陈出新，其应用也
拓展到成像､微加工､能源､信息､生物医学等多个领域｡
 
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超材料概念
 
超材料是一种被人为设计为具有天然存在的材料中没有的属性的材料｡它们由多种元件
的组件制成，这些元件由复合材料制成｡
 
用于研制滤光片的超材料通常以周期图案排列，其尺度小于它们所研究波段的波长｡超
材料的性质一般不是来自基础材料的性质，而是来自它们新设计的结构｡超材料的几何
形状、尺寸、方向和位置使它们具有能够调控电磁波的独特性质，通过阻挡、吸收、
增强或弯曲光波体现其特性｡
 
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分类
 
亚波长光学结构滤色片的种类多种多样。针对金属亚波长窄带滤色片，按照其结构不
同，大致可以分为：
平直金属亚波长结构､金属-介质-金属腔结构､金属或颗粒阵列结构和金属光栅与其它
结构混合结构类型｡
 
1）平直金属亚波长结构窄带滤色片主要是由金属-介质-金属三层膜组成，这种结构的
滤色原理结构是通过光的来回反射､干涉以及由此而引发的共振效应，即法布里-波罗
共振腔原理，来实现滤色的｡
 
2）金属-介质-金属腔结构的窄带滤色片主要是通过横向或者纵向的传播型表面等离激
元的激发或者其与法布里-波罗共振的相互耦合来实现滤色效果｡
 
3）金属或颗粒阵列结构，如狭缝､孔径､颗粒等，主要通过表面等离激元模式的激发来
实现滤色效果｡
 
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亚波长光学结构窄带滤色片的原理
 
平直金属由金属-介质-金属三层膜组成，这种结构的滤色原理结构是通过光的来回反
射､干涉以及由此而引发的共振效应，即法布里-波罗共振腔原理，来实现滤色的。
 
金属狭缝阵列滤色片作为一种典型的一维金属阵列结构，在透射共振的波长处，金属
与介质的水平界面上激发了传播型表面等离激元。通过对电磁场分布的分析，除了发
现传播型表面等离激元模式的激发有利于实现透射共振外，狭缝中的波导共振模式也
是产生透射共振的另外一个重要原因。
 
金属孔阵列结构通过分析，诱导超常透射的根本原因之一是因为小孔阵列周期弥补了
入射面上传播的表面等离激元波矢与入射光波矢之间失配量，从而将入射光大量地耦
合成为表面等离激元波，入射面上激发的表面等离激元波进一步耦合进入小孔，通过
小孔传输到出射面，耦合成为出射面上传播的表面等离激元，等离激元受到小孔阵列
的周期性调制可以进一步耦合成为辐射波，向远场传输。
 
1902 年，Wood 通过研究证明等离激元现象的存在。
在等离激元共振频率下，粒子表面附近的电场大大增强，粒子的光学吸收最大。这种
增强作用随着等离表面距离的增加而迅速减弱。
通常对于贵金属纳米粒子，共振发生在可见波长处。
对于半导体纳米颗粒，最大的光吸收通常在近红外和中红外区域。
 
亚波长金属结构滤色片可以通过激发等离激元共振产生滤色。目前已经使用各种类型
的金属纳米结构，如光栅，孔和环阵列用于色彩全息图，光子色彩分选和彩色滤色片。
 

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亚波长光学结构滤色片分类一：平直金属亚波长窄带滤色
片
 
初步判断其为 F-P 楔形滤光片的特殊形式，可以归类于 F-P 楔形滤光片中的一个台阶。
 
平直金属亚波长窄带滤色片的结构最为简单，由金属-介质-金属三层膜组成，其亚波
长特性主要体现在这三层膜的总厚度比波长小。这种结构是通过光的来回反射､干涉以
及由此而引发的共振效应，即法布里-波罗共振腔原理，来实现滤色。
 
两端的金属充当镜面，中间有限厚度的介质薄膜提供了光来回传输并形成共振的媒介。
对于透射型滤色片，要求上下金属膜的厚度合适，较薄的金属膜既能反射光，同时也
允许入射光从顶层金属膜透射进入微腔以及在微腔中形成共振模式的光从底层金属膜
透射出器件。通过调节介质腔的厚度，便可实现对法布里-波罗共振波长的调控，厚度
越薄，共振波长越短。
 
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目前大部分平直金属亚波长窄带滤色片都是工作在可见光波段：由于金属膜本身所具
有很好的反红外光特性，这种滤色片在红外波段的透射极低，这使得它们相比于由高
低折射率介质膜堆叠而成的滤色片具有优势。
 
例如，2010 年，Yoon 和 Lee 二人设计了由 Ag-SiO2-Ag 堆叠层构成的透射型滤色片，
针对红､绿､蓝三基色，所使用的 SiO2 膜的厚度分别为 160nm､130nm 和 100nm，分
别提供了约 110nm､115nm 和 130nm 的 3dB 带宽和 60%的透射峰值。
 
2015 年，Kedawat 等人表征了 Ag/ZnS/Ag 多层膜滤色片的机械稳定性及热稳定性，
研究表明通过热蒸镀方法制备的这一多层膜结构可以很好的粘附在玻璃衬底上，在 40
摄氏度下对样品进行超声不会影响器件的性能。同年，Kwon 和 Kim 则利用蚕丝蛋白
作为中间的共振腔媒介实现了低成本､生物兼容､可调的窄带滤色片。他们利用蛋白的
吸水膨胀效应，通过调节溶质浓度或酸碱度来调节共振腔的厚度，从而实现对共振波
长的调控。在该工作中，他们还使用紫外光刻蚀的方法改变了蛋白层的厚度，从而改
变了共振波长。
 
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因为辐射模的水平波矢随入射光频率有明显色散，所以基于辐射模的共振腔具有严重
的角度依赖性。为了削弱角度对滤色波长引起的偏移影响，研究者们提出一些方法来
保证入射光在器件中传播一个来回的相位差恒定在 2π 的整数倍。例如，2014 年，
Lee 等人提出使用有损非晶硅代替无损二氧化硅材料来构建中间的共振腔。研究表明，
随着角度的增加，非晶硅腔内的传播相移与在金属薄膜界面处反射引起的相移能基本
抵消，因而器件表现出良好的角度不敏感特性。他们还进一步提出在入射 Ag 薄膜的顶
部引入一层 WO3，以缩小器件的整体导纳与入射空气导纳之间的差别，从而减小了反
射，将透射峰效率从 30%提高至 42%。Park 等人则在入射金属薄膜顶部引入一层
TiO2 介质层，同样使得不同角度入射光通过整个器件一个来回的相位变化均为 2π 的
整数倍，该 TiO2 介质层同时还起到了减小反射的功能。
 
当介质的介电常数与金属的介电常数大小相等且符号相反时，束缚模几乎为一条平带。
这时，共振光频率就可以不再受水平波矢大小的影响，从而实现了金属-介质-金属多
层膜器件光响应不随入射光角度变化而变化的目的。这一想法最早在 2004 年由 Shin
等人提出，他们探讨了反射型器件的性能。随后，在 2007 年，Zhang 等人将底层金
属变薄，实现了首个角度不敏感的透射型窄带滤色片。从另一个角度看，不论入射光
角度如何变化，这些器件均实现了光在器件中传播一个来回的相位差恒定在 2π 的整数
倍。受介质的介电常数与金属的介电常数大小相等条件的约束，当共振腔媒介为折射
率不随波长变化的介质(如 SiO2)时，这些角度不敏感滤色片只能工作在特定波长下。
 
2016 年，Mao 等人制备了氧含量变化的硅氧化物，含氧量不同使得介质折射率从
1.97 到 3.84 之间连续变化，从而使得束缚模的激发覆盖了非常宽的范围。
 
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利用厚度变化来调控共振波长的方法在多光谱集成成像器件中不容易实现，因为高度
起伏的介质膜制备的过程较为繁琐，制备成本高。因此，2012 年，Walls 等人提出在
固定腔厚度的前提下，通过调节共振腔的等效折射率来调节光学厚度，从而实现对共
振波长的调控。他们所提出的设计方案使用的是 PMMA 和 SiN 的复合结构，这两种材
料在空间中形成 PMMA 通孔或 SiN 通孔的结构，由于 PMMA 与 SiN 折射率不同，不
同占空比的复合膜具有不同的等效折射率，从而改变光在空腔中传播的有效距离，调
节了共振波长。PMMA 的折射率低，SiN 的折射率高，复合结构的等效折射率介于
PMMA 和 SiN 之间，通过调节复合结构的形式及占空比，他们实现了共振波长从
400nm 到 760nm 的自由调控，理论上实现的 FWHM 在 13~36nm 之间，而实验测
得的在 22~46nm 之间。由于金属膜所使用的是在光频段损耗较大的铝，所以他们的
器件在透射率指标上表现较差，实验上最高仅为 13%。
 
这种金属-介质-金属多层膜结构的制备方法十分简单，已经被应用于开发彩色太阳电
池。例如，Chen 等人在有机太阳电池顶部加载了由 Ag/NPB/Ag 构成的窄带滤色片，
滤色片底部的 Ag 薄膜还同时作为太阳电池的顶电极来收集载流子。通过改变 NPB 的
厚度，可以使得太阳电池反射不同波段的入射光，从而呈现丰富多彩的颜色。这样的
器件既能发电，同时也能起到装饰环境的作用。
此外，Frey 等人提出将两个透射型微腔级联以实现近似矩形形状的滤色谱，他们利用
套刻的方法为不同颜色制备了不同厚度的共振腔，并将此设计成功应用于 CMOS 图像
传感器。
 
 
(a)简单平直金属亚波长窄带滤色片的结构示意图；
(b)金属-介质-金属三层膜结构的色散关系；
(c)由 Ag-SiO2-Ag 堆叠层构成的透射型滤色片的光谱响应；
(d)角度不敏感的透射型窄带滤色片透射率曲线；
(e)硅氧化物介电常数实部与银介电常数虚部的一系列交点实现角度敏感滤色性能的光
波长；
(f)滤色片垂直截面示意图。
 
(a) Schematic diagram of a simple straight metal subwavelength narrow band
color filter;
(b) Dispersion relationship of metal-dielectric-metal three-layer film structures;
(c) Spectral response of a transmission type filter composed of an Ag-SiO2-Ag
stacked layer;
(d) Transmittance narrowband filter transmission curve for angle insensitivity;
(e) A series of intersections between the real part of the dielectric constant of
silicon oxide and the imaginary part of the dielectric constant of silver to
achieve the wavelength of the light of the angle-sensitive color filter
performance;
(f) Schematic diagram of the vertical section of the color filter.
 
 
 

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亚波长光学结构滤色片分类二：基于金属孔阵列的窄带滤
色片金属孔阵列
 
金属孔阵列在特定波长下的超常透射行为最早由 Ebbesen 等人于 1998 年报道。
 
通过分析，诱导超常透射的原因之一是因为小孔阵列周期弥补了入射面上传播的表面
等离激元波矢与入射光波矢之间失配量，从而将入射光大量地耦合成为表面等离激元
波，入射面上激发的表面等离激元波进一步耦合进入小孔，通过小孔传输到出射面，
耦合成为出射面上传播的表面等离激元，该模式受到小孔阵列的周期性调制可以进一
步耦合成为辐射波，向远场传输。因而，通过调节金属孔阵列的周期，可以随意调节
其透射光谱，获得不同的结构色。
另外小孔的形状､尺寸都会影响所激发的局域表面等离激元。小孔激发的局域表面等离
激元与入射面及出射面上激发的传播型表面等离激元会发生强烈的耦合作用。
 
圆形或方形的金属小孔中所支撑的模式存在截止波长，在截止波长以上，入射光透过
小孔的效率很低。
如果将小孔的形状变为环形或其它传播型孔径，沿着孔传播的模式便可在任意波长下
激发，即不存在截止波长。
 
值得一提的是，一维金属狭缝阵列也是这样一种没有截止波长的特殊孔径。如果金属
孔不通，则会在反射谱上形成低谷，可以被用于设计结构色，也可用于实现光调制器。
 
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不同形状的金属孔阵列中，圆孔是最早也是最广泛被用于滤色片设计的一种结构。
 
2007 年，Lee 等人在玻璃衬底上用 50nm 厚的金属铝制备了周期为 340nm 和 260nm
的圆孔阵列，分别实现了红色和绿色的滤色性能。但是他们所设计的红色滤色片在
400nm 至 500nm 的短波段也有一个明显的峰，这种双峰行为是由于在入射面与出射
面所激发的传播型表面等离激元位于不同的波长所致，通过在铝孔阵列上方引入一层
与玻璃折射率接近的匹配介质，可以消除出射面上金属/空气界面引发的表面等离激元
共振峰，进而使得透射峰变成单峰，并且折射率匹配介质的引入同时使得透光率获得
了约 15%的提高。
 
为了进一步改善滤色片的性能，降低不同颜色之间的串扰，Chen 与 Cumming 提出将
常见的四方晶格分布的圆孔阵列调整为三角晶格分布。利用三角晶格，他们增加了相
邻阶次传播型表面等离激元模式的波长间隔，结合折射率匹配介质的使用，成功地实
现了低颜色串扰的红､绿､蓝三基色滤色片，其透过率在 30%至 40%之间，半峰全宽大
约为 100nm。
 
除了圆孔外，基于三角孔､方孔､十字孔､环形孔的金属孔阵列也被用于开发滤色片。在
其它结构参数恒定的前提下，三角形金属小孔在滤色片应用中不具有优势，因为其透
射效率明显低于圆形金属小孔。然而，十字孔和环形孔作为传播型孔径，可以激发角
度不敏感的局域表面等离激元模式，在用于滤色片设计时拥有更大的优势。
 
2006 年，Labeke 等人首次报道了基于方形环孔阵列的金属亚波长窄带滤色片，他们
通过数值仿真表明了这种局域表面等离激元模式随金属膜厚度的敏感性，该特性类似
于金属狭缝阵列随金属膜厚的依赖关系，侧面反映了模式的局域特性是由与环孔传播
的模式遇到了上下表面的反射后进一步干涉所致，因而其窄带透射特性随角度不敏感，
并且由于该结构本身的对称性，其透射性能对偏振也不敏感。
 
之后，Si 等人于 2011 年报道了基于金属圆环形孔阵列的窄带滤色片，同样其透射特
性主要是由环形间隙腔内的局域等离激元模式决定，而不是由周期决定。他们通过调
节间隙腔的几何参数，能够改变其局域共振模式，从而实现了对透射光谱的调谐。
 
2010 年，Lin 与 Roberts 制备了金属十字孔阵列，通过合理的结构设计，可以使传播
型表面等离激元模式在色散图中不与局域表面等离激元模式发生交叉，从而获得了角
度不敏感的透射性能。
 
2016 年，Li 等人利用非对称的十字形纳米孔洞，即调节十字交叉的两个条形孔的长度
不等，进一步实现了偏振敏感的滤色性能。
 
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金属纳米孔的制备存在较大的难度，通常都是使用聚焦离子束刻蚀法或电子束曝光刻
蚀法在连续金属膜上刻出目标孔阵列，但是这两种制备方法成本高､速度慢，不适合于
大面积加工。为了降低器件制备的成本，新的改进方法被提出。
 
在 2010 年，Li 和 Chou 提出可以先将 SiO2 介质制成宽度仅有 30nm 的网格状，再利
用倾斜蒸镀技术在 SiO2 骨架上沉积一层 20nm 厚的铝膜，该器件实现了在紫外波段
的窄带滤色性能，峰值透射率为 27%，半峰全宽是 100nm。
 
2012 年，陈沁等人提出另一种金属纳米结构的转移制备方法，该方法首先在硅衬底上
制备出目标图案，再在其上保形沉积金属膜，通过在金属膜与硅衬底之间引入一层抗
粘层，硅模具上的金属结构便可以轻松被转移到柔性聚碳酸酯(PC)衬底上。硅模具的
侧壁倾角对实验结果影响很大，具有负倾角的侧壁更利于获得侧壁干净的目标金属结
构。他们进一步利用了这种转移法制得的金属孔阵列实现了窄带滤色。
 
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值得一提的是，金属孔阵列窄带滤色片被成功用于 CMOS 图像传感器中，实现对图像
三基色的传感。最早的工作由陈沁等人于 2012 年报道，他们在 CMOS 图像传感器的
上方制备了用于滤色的铝薄膜，通过光电流的数据直接反映了窄带滤色片的有效性，
但是其半峰全宽较大，造成不同颜色间的串扰明显。
同年，Atwater 小组通过实验研究了孔阵列的大小对透射光谱的影响，因为这与
CMOS 像素的大小直接相关。研究表明，当把孔阵列从 5 平方微米缩小到 1 平方微米
的大小，其透射光谱的改变不大，另外，他们的研究还表明不同颜色滤色片之间的串
扰非常小，并且当部分孔被堵住时，阵列整体的选色性也基本不受影响。
2013 年，该小组进一步通过理论研究指出，小孔的光谱特性主要受到离其最近的两圈
小孔的散射影响。在这一理论模型的基础上，他们进一步发现 6 平方微米大小的阵列
便可实现无限大阵列的透光性。并且，他们成功地将所设计的金属孔阵列与 CMOS 传
感单元相结合，实现了全彩高分辨表面等离激元图像传感。
2015 年，陈沁小组从理论上预言如果将滤色片尽可能的靠近 CMOS 传感单元的探测
器，可以降低串扰，尤其是斜入射下的串扰。
 

 
(a)金属孔洞阵列结构示意图；(b)金属孔洞阵列透射图谱；(c)调节金属孔阵列的周期，
不同的透射滤色；(d)三角晶格分布的圆孔阵列透射图谱；(e)方形环孔阵列滤色片结构
示意图；(f)方形环孔阵列滤色片透射图谱；(g)十字孔阵列透射图谱.
(a)Schematic diagram of metal hole array structure;
(b)Transmission of metal hole arrays;
(c)Adjust the period of the metal hole array,different transmission filters;
(d)Transmission of a circular array of triangular lattices;
(e)Schematic diagram of the structure of the squarering hole array filter;
(f)Transmission of asquarering array filter color;
(g)Cross-hole array transmission map。

 
 
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亚波长光学结构滤色片分类三：基于金属-介质-金属水平腔
结构的窄带滤色片
 
基于金属-介质-金属水平腔结构的窄带滤色片
 
在金属狭缝或金属孔中所激发的金属-介质-金属表面等离激元波导模式中光的传播方
向为纵向，与之相对应的还有一种沿水平方向传播的金属-介质-金属表面等离激元波
导模式。
 
2009 年，Kenneth 等人报道了基于单一金属-介质-金属水平腔的窄带滤色片，该结构
主要由顶层 400nm 厚的银､中间 500nm 厚的氮化硅介质及底层 400nm 厚的金组成，
在顶层银和底层金各自的适当位置通过聚焦离子束刻蚀法开空气槽，空气槽深入到介
质层的内部，一侧的空气槽起到耦合入射光的作用，另一侧的空气槽起到将光耦合出
器件的作用。在该结构中，水平传播的金属-介质-金属表面等离激元波导模式由于受
到来自侧面空气槽的反射，会引发法布里-波罗共振效应。
两侧空气槽的开凿位置决定了共振腔的长度，从而决定了共振滤色的波长，也可通过
改变介质层的折射率或厚度等来调节透射光谱的形状及效率。该工作不仅实验上实现
了无源窄带滤色，同时通过数值仿真探究了将中间的介质层替换为具有电光效应的铌
酸锂晶体来实现有源滤色性能的可能。
 
该单一金属-介质-金属水平腔器件存在的不足在于只有很小部分的入射光能够通过空
气槽进出中间的水平腔结构，因而透射率较低。
 
 
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相比而言，阵列化的金属-介质-金属水平腔与金属狭缝阵列或金属孔阵列类似，光耦
合能力大大加强。这种结构最早的理论报道见于 2006 年，通常由金属衬底､介质层以
及顶层的金属纳米结构组成。对于二维结构，顶部金属呈条状。对于三维结构，顶部
金属的形状十分丰富，有方片状､圆片状､叉丝状､环状等，也可呈孔状。
 
在该设计中，顶层金属纳米结构的厚度较薄，通常只有约 30nm，这样金属纳米结构
本身不会像金属狭缝或孔阵列一样激发出沿纵向传播的共振模式，而是与下端的金属
衬底相互耦合，激发出沿水平方向传播的金属-介质-金属表面等离激元波导模式，该
波导模式由于受到顶部金属突然缺失带来的反射而在水平腔内来回传输并发生干涉效
应，最终形成法布里-波罗共振。
 
金属纳米结构的侧边是入射光耦合进入腔内的主要途径，另一方面较薄的金属纳米结
构允许入射光直接穿透从而进入中间的介质腔中，起到辅助提高耦合效率的作用。金
属-介质-金属水平腔结构中底部的金属衬底通常较厚，不透光，共振时在反射谱中会
形成低谷，可用来实现反射型结构色。如果将多个水平腔结构在水平方向或垂直方向
复合，可用来设计多带或宽带光吸收器件。与平直金属亚波长窄带滤色片中的方法类
似，如果将底部金属衬底的厚度减薄，便可以实现透射型窄带滤色性能，但是我们并
没有找到相关的文献报道。
 
TingXu 等人报道的一个相关研究所采用的是一个改进的结构，底部的金属衬底也不连
通，而是跟顶部的金属一样被阵列化，但是这并没有改变结构所激发的本征模式——
即水平方向传播的金属-介质-金属表面等离激元波导模式。他们在设计中通过调节阵
列的周期改变了滤色的波长，因为结构的占空比被固定为 0.7，改定周期实际上改变的
是金属-介质-金属水平腔的腔长，因而带来共振波长的改变。
 
 
(a)单一金属-介质-金属水平腔的窄带滤色片结构示意图；
(b)阵列化的金属-介质-金属水平腔结构示意图；
(c)金属-介质-金属堆叠阵列形成的等离子体纳米谐振器滤色片示意图；
(d)调节阵列的周期，滤色片的透射光谱。
 
(a) Schematic diagram of the narrow-band color filter structure of a single
metal- insulator -metal horizontal cavity;
(b) Schematic diagram of an arrayed metal- insulator -metal horizontal cavity
structure;
(c) Schematic of a plasmonic nanoresonator color filter formed by a metal-
insulator-metal stack array;
(d) The transmission spectrum of the color filter with adjust the period of the
array.
 

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亚波长光学结构滤色片分类四：基于金属狭缝阵列的窄带
滤色片
 
金属狭缝阵列作为一种典型的一维金属阵列结构而被广泛研究，它们在 TM 偏振光入
射下具有良好的透射滤色性能。
 
最早在 1998 年，Schröter 与 Heitmann 二人就开展了金属狭缝阵列的光学电磁仿真，
他们发现在透射共振的波长处，金属与介质的水平界面上激发了传播型表面等离激元
模式。
 
随后在 1999 年，Porto 等人也发现非常窄的金属狭缝阵列结构在波长大于周期的波段
具有十分强烈的透射共振现象。通过对电磁场分布的分析，他们除了发现传播型表面
等离激元模式的激发有利于实现透射共振外，狭缝中的波导共振模式也是产生透射共
振的另外一个重要原因。不过前期这些工作的研究波段均位于近红外甚至更长的波段。
 
2011 年，D’Aguanno 等人进一步系统地研究了金属狭缝阵列的透射特性，这一工
作涵盖了器件在可见光波段的性能，直接反映了金属狭缝阵列应用于滤色片的潜在能
力。对于周期 p=320nm､缝宽 a=32nm 的银狭缝阵列，一条条亮色的带体现了器件
良好的滤色性能。他们的研究同样表明狭缝中的波导共振模式是该结构实现透射特征
峰的主要原因。狭缝中存在的波导共振模式事实上是金属-介质-金属三层结构中存在
的一种本征模式，它可以看作两个金属-介质界面模的耦合杂化效应，只能在 TM 偏振
下被激发。
 
当缝宽足够大时，该模式无限逼近单一金属-介质界面上的传播型表面等离激元模式。
随着缝宽变小，两个金属-介质界面上的传播型表面等离激元模式相互耦合杂化，使得
其本征模式与单一金属-介质界面上的传播型表面等离激元模式逐渐偏离，缝宽越小，
偏离越大，其相应的等效折射率越大，即等效波长越短。
 
该波导模式一旦被激发便沿着狭缝传导，遇到狭缝的上下端口后光被反射，构成了光
在狭缝中的来回传输，从而形成干涉效应。该结构也可以看作是一个法布里-波罗干涉
腔，狭缝是光来回传输形成干涉的媒介，狭缝的上下端口即为干涉腔的镜面，因而狭
缝的高度便决定了干涉共振的波长。当狭缝高度较小时，只有法布里—波罗共振的基
模被激发，当狭缝高度较大时，多个阶次的法布里—波罗共振模式均可能被激发。基
模位于波长更长的波段，透射效率较高，而高阶模的共振波长较短，透射效率偏低。
 
此外当狭缝高度增大时，透射峰的半峰全宽变大。而且，正是由于法布里-波罗干涉共
振是透射滤色的原因所在，所以这一器件的滤色性能也具有角度不敏感特性，即在色
散关系图中形成一条水平共振带。但是若该水平共振带与传播型表面等离激元色散带
(存在于狭缝阵列的上下表面)相遇，便会形成能带劈裂，激发出半峰全宽非常窄的
Ridge 共振，但是该共振旁带较高，角度敏感，不适用于滤色应用。此外，他们的研
究表明狭缝阵列上下表面上激发的表面等离激元带来的是透射极小值。
 
2016 年，Xu 等人利用金属狭缝阵列与电致变色聚合物相结合实现了高对比度及快速
的电致变色响应。其中金属狭缝阵列所使用的材质是金或者铝，与金相比，铝的成本
较低，并且可以在紫外及可见波段激发表面等离激元。电致变色材料用的是 PANI 或
PolyProDOT-Me2，这些材料均可以通过电镀的方法保型蒸镀在铝狭缝的上方，厚度
仅为 15nm。不加电压时，样品几乎不透光。加电压时，周期为 240nm 样品的呈蓝色，
透射中心波长在 470nm 左右。
 
如果将狭缝阵列的从穿通变为不透光的结构，换言之，就是在金属表面刻出有限厚度
的沟槽阵列，其共振的原理仍然类似于金属狭缝阵列，区别在于沟槽底部的反射相位
与沟槽端口的反射相位存在 π/2 的差别，当共振发生时会导致其反射谱上产生低谷，
能够实现结构色。除了金和银，基于铝的狭缝阵列也得到关注。例如，Yoon 等人及
Honnma 等人都通过实验制备了铝狭缝阵列，但是由于狭缝开孔比例较大，狭缝内波
导模式的激发并未得到有效地激发，从性能看这些器件的透射带宽均较宽，窄带滤色
性能差，角度依赖特性也未得到探讨。
 
高度大于 50nm 的金属狭缝阵列会有效地阻挡光直接通过金属透射穿过器件，而高度
相对较低的金属狭缝阵列则具有不同的性能。2015 年，Ye 等人研究了狭缝高度从
15nm 至 45nm 变化时银狭缝阵列的透射行为。从他们的仿真结果中可以看出，狭缝
高度为 35nm 和 45nm，狭缝周期在 300nm 以上的阵列结构具有明显的窄带滤色性
能。周期增大，滤色中心波长红移，透射率增强。狭缝越宽，滤色中心波长蓝移，透
射率增强。相比而言，狭缝高度为 15nm 的器件几乎不具有这一滤色性能。该工作中
并没有探讨这一滤色性能的机理，相关的研究有待进一步开展。
 
 

 
(a) 金属狭缝阵列示意图。(b) 垂直入射时，金属狭缝阵列随入射光波长以及狭缝高度
变化透射图谱；(c) 器件色散关系图；(d)金属狭缝阵列与电致变色聚合物相结合的滤
色结构示意图；(e)周期为 240 nm，加电时的透射图；(f) 当 d = 35 nm 和 p = 350
nm 时，银狭缝阵列随占空比与入射波长变化的透射光谱。
 
(a) Schematic diagram of a metal slit array;
(b) At normal incidence, the metal slit array of the transmission spectrum with
the wavelength of the incident light and the height of the slit;
(c) Device dispersion diagram;
(d) Schematic diagram of a color filter structure with a metal slit array and an
electrochromic polymer combined;
(e) Transmission diagram with a period of 240 nm and energization;
(f) The transmission spectrum of the silver slit array as a function of duty cycle
and incident wavelength when d = 35 nm and p = 350 nm.

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近年来，随着纳米工艺的不断发展，超材料不断得到发展。
 
超材料滤色性能优于普通光学滤色片，其禁带对透过光有很大抑制作用，并且滤色带
宽较大能够实现大范围的滤色。基于超材料的可调谐滤色是一种新型的波长调谐技术。
基于超材料的结构滤色也引起了人们的关注，因为它通过改变金属的几何排列产生不
同的滤色，可以提高滤色的机械稳定性。
 
基于等离激元滤色有各种各样的结构，如:
 
金属纳米孔阵列滤色片基于非常透射现象。通过调整周期和材料参数等结构尺寸，可
以改变非常透射波长，从而使纳米孔阵列起到透射式滤色片的作用。
 
表面等离激元共振(SPR)在滤色片中起着重要作用。与金属纳米孔阵列滤色片相比，这
种结构既可以用作透射滤色片又可以用作反射滤色片，并且在设计上具有更多的自由
度，但代价是相对复杂的结构。
 
金属-电介质-金属滤色片基于两个金属层之间的耦合。平面空腔滤色片比上述方法具
有主要优点不用光刻制造。它可以像具有一个金属层和有损半导体层的堆叠一样简单，
其中临界耦合效应引起的完美吸收产生滤色。通过改变中间层的厚度和折射率可以调
节滤色波长。
 
衍射光栅和波导层组成的导模谐振滤色片广泛用于从可见光到太赫兹的范围。光谱滤
色是由跟随波矢匹配条件的衍射光和波导模式之间的选择性耦合引起的。匹配条件对
波长和入射角非常敏感。因此，它被用作窄带滤色片。通过改变波导结构､调谐金属光
栅周期可以调节滤色。
 
散射滤色片基于金属颗粒的波长敏感散射。金属纳米粒子同时支持光吸收和散射。对
于尺寸大于 100nm 的粒子，散射占主导地位，并且由单个粒子材料和轮廓确定。同时，
散射被证明很大程度上依赖于颗粒间的间隔和周期性造成的衍射耦合。表面等离激元
共振大大增强了颗粒的散射。如通过调整大小和周期显示不同的颜色。
 
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其他说明：
 
优异窄带滤色片属性包括高滤色效率，高光谱纯度，角度独立性和工艺兼容性。
 
金属-电介质-金属滤色片非常简单，不需要高精度的图案化技术。但光谱响应主要取
决于介质层的厚度。多步光刻图案化是必不可少的，这增加了成本并降低了良品率。
 
纳米孔阵列滤色片可大批量制造并具有角度稳定性。
 
透射率通常受到金属损失的限制并且颜色纯度较低衍射光栅和波导层组成的导模谐振
滤色片具有高透光率和窄通带，即高光效和高色纯度，但它对入射角度非常敏感。衍
射光栅和波导层组成的导模谐振滤色片如果角灵敏度被抑制，那么在光效和色纯度方
面的内在优势最终可能会使其成为一个很好的选择。
 
 
 
 
 
 
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应用现状与未来发展趋势
 
钱学森实验室把光学超结构与 Bolometer 测辐射热计中的 Vox 探测器相结合进行探测，
规模 640*512（后期有改动），12um 处半高宽 20 个波数。
 
多维信息感知探测器项目，属于军委科技委的课题，和技物所合作。探测矢量场的信
息，获取多维数据，起到智能识别的功效。偏振光探测，凸现目标。波前编码实现亚
像元分辨率探测；
 
 

 
 
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