Chapter 2

雷射光源準直實驗
Laser beam alignment

2.1 實驗目的
ˆ 學習利用透鏡進行光路的校正以及雷射的擴束與縮束原理 。

2.2 器材清單
器材清單如表2.1。

Table 2.1: 器材清單(僅提供核心器材，相關光機元件請自行評估)

項目 器材名稱 數量 重點規格
1 綠光固態雷射 DPSS Laser 1 λ = 532 nm
2 鋁反射鏡 Aluminum mirror 4
3 顯微物鏡 Objective 1 10X
4 針孔 Pinhole 1 φ = 35 µm
5 空間濾波器 Spatial Filter 1
Plano-Convex
6 平凸透鏡 1 f = 200 mm、d = 3 inch
Lens
Double Convex
7 雙凸透鏡 1 f = 50 mm、d = 2 inch
Lens
Plano-Concave
8 平凹透鏡 1 f = −50 mm、d = 1 inch
Lens

1
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2.3. 預習問題 LASER BEAM ALIGNMENT

2.3 預習問題
1. 在架設光學實驗設備時，雷射光出口通常要經鏡面反射後之後，再送入後端的光
學系統。其原因是通常雷射系統裝設完成後，就會固定不移動，不能隨意調整雷
任意 入 射 角 」的雷
射的方向，因此需要利用平面鏡調整雷射光的位置。為了讓「任
射光，經過一些平面鏡之後，出射光能夠滿足實驗需求這樣的需求。請問您覺得
用幾片平面鏡才適合？請說明你的理由。

2
 CHAPTER 2. 雷射光源準直實驗
2.4. 實驗原理 LASER BEAM ALIGNMENT

2.4 實驗原理
雷射光通常有良好的單色性 (monochromatic) 及指向性(小發散角)，是光電實驗中的理
想光源。常用雷射如氦氖雷射、DPSS雷射，光束直徑為毫米尺度(mm)，但實驗有時需
要較大直徑的雷射光束。因此，擴 擴束與準 準直 是架設雷射光路的基本技巧。 1

2.4.1 擴束原理
若雷射光束直徑太小而不利於觀察時，我們可以利用擴束的方法，將光束的截面積放
大到我們需要的大小。其裝置如圖2.1。

L2 L2
L1 L1

f1
f1 f2
f2

(a) 凸透鏡＋凸透鏡 (b) 凹透鏡＋凸透鏡

Figure 2.1: 擴束系統架構

用兩個凸透鏡L1 與L2 ，焦距分別為f1 ，f2 ，將兩透鏡共焦後，利用三角形相似，將

雷射光束放大。可以得到光束直徑放大倍率為M = |f2 /f1 |，光束面積放大倍率為M 2 。
但使用兩個凸透鏡來做光學共焦，缺點為光路會加長，且若使用高功率雷射光，在匯
聚焦點處的能量密度大，使用上要考量安全性。優點是可以搭配濾波系統來使雜訊比
例降低。第二種架構，是將第一個凸透鏡換成凹透鏡，當入射光在凹透鏡後發散時，
再通過透鏡L2 後使光束放大並減低發散角，達成擴束的目標。 如果單純使用透鏡難以
達到所需要的放大率，可以將第一面透鏡改為光學物鏡；物鏡是由數個透鏡組成的透
鏡組，其焦距往往較單一透鏡來的短，由放大率公式M = |f2 /f1 |可了解，當f1 越小；
放大率M 就會越大。

2.4.2 空間濾波2
為了得到強度分布均勻的光束(無光斑的現象)，以便做其他光學運用，我們必須去除光
雜訊，這些雜訊可能來自雷射管或光學系統中光學元件的瑕疵或塵粒。這樣的技巧稱
之為「空間濾波 Spatial Filter」，其架構如圖2.2a。在物鏡的聚焦位置放入一針孔P。
光通過針孔時近似為點光源，光線經L2 之後擴束而得到較大直徑光束。
1 平行光束有兩種解讀方式，一是指光束「發散程度很小」，內含的光線以平面波的方式向前傳遞；
另一種解讀法是與某平面平行，如「平行於桌面」。請依上下文意自行判斷。
2 原理部分會使用到繞射光學與傅立葉光學理論，未修過相關課程的同學可略過原理部分；但空間濾
波架構常被用於幾何光學實驗，操作方式與架構請先了解。

3
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2.4. 實驗原理 LASER BEAM ALIGNMENT

L2
Lobj

(a) 空間濾波器裝置圖 (b) Airy Disk

Figure 2.2: 空間濾波器與Airy Disk

由繞射公式或是傅立葉光學的公式，高斯分佈的雷射光束使用理想且無限大的透鏡
時，可以在焦平面處得到同為高斯分布的雷射聚焦光點。 然而，實際上光學系統的孔
徑尺寸是有限的。當平面波經過一個有限尺寸的物鏡時，在焦平面處會形成一個圓形
亮斑及外圍明暗相間的許多同心圓(稱為 Airy 斑)，如圖2.2b所示。 Airy 斑的中心與外
圍緊鄰的亮圈光波相位相反（即直徑最小的暗環內、外兩個亮光的區域）。在焦平面
上放入一針孔P，可對 Airy 斑進行「濾波（即擋掉外圍不要的光）」，使擴束後的光
接近理想的高斯分佈。除了擋掉不要的外圍光之外，針孔也可以將雷射光束傳播路徑
上，由灰塵或物鏡造成的散射(Scattering)影響濾除。

計 算 所需 針 孔 大 小 Airy 斑的第一暗帶的夾角 θ可以用公式2.1計算 3

1.22λ
sin θ w (2.1)
D1

其中λ為光波長；D1 為物鏡孔徑直徑。此時的 θ 可以理解為系統的角解析力，當兩個

遠處光源的夾角恰為1.22λ/D1 時，兩光源的Airy 斑的中央亮帶，恰好坐落於另一方的
第一暗帶上，此時的兩光源恰好滿足瑞立判據(Rayleigh Criterion)。也因此，公式中
的θ也可以想成是Airy 斑的張半角。 Airy 斑的直徑 φ對應張角的關係為 sin θ ' 0.5φ/f1
，φ 也同樣是所需的針孔最小直徑。 因次可以推算出所需的針孔大小為：

2.44λf1
φ= = 2.44λf# (2.2)
D1

f# = f /D，稱為f-number。顯微物鏡一般只會刻上「倍率(M.P.，Magnifying Power)、N.A.」，
焦距可用公式f ' 160 (mm)估算。選擇直徑約為 φ 的針孔，可使通過針孔後的雷射光
M.P.

強度分佈接近理想的高斯分佈。
3 細節計算請參考光學繞射理論

4
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2.5. 實驗步驟 LASER BEAM ALIGNMENT

2.5 實驗步驟
2.5.1 光路準直
1. 架設穩固的雷射光源，先不論雷射光束是否與桌面水平。

2. 參考圖2.3將兩個相同高度的可調式光圈(IRIS)分別擺放於預計架設方向的近
端(Iris 1)與遠端(Iris 2)。

3. 架設兩片反射鏡導引雷射光通過兩個光圈周圍，偏差不可過大。

M1
Laser

Iris 1 Iris 2

M2

Figure 2.3: 架設平行光

4. 使用調節紐，調整M1的傾斜方向，使雷射光束穿過近端(Iris 1)光圈的中心。

5. 微調M2讓光束通過遠端(Iris 2)光圈。

6. 重複4、5步驟，直到 Iris 1 與 Iris 2 的光，都通過光圈中心，此時我們即可確定

P1P2 之間的光線為平行桌面。

7. 重複此次實驗，但是把M1對應到遠端(Iris 2光圈，M2對應到近端(Iris 1)光圈，可

否順利完成實驗？

2.5.2 雷射擴束
1. 準備一屏幕，利用上個步驟調出之平行光束，將光在屏幕的投影點作一記號，或
是使用可標記光束位置的指高器。

2. 在雷射前面放置一焦距為fDCV = −50 mm的凹透鏡使光束擴大，調整凹透鏡位

置，使擴大光束射至屏幕並將光束圓心對正之前的記號或是指高器。

3. 參考圖2.1b，在凹透鏡後側放置焦距為 fDCX = 200 mm的凸透鏡，使形成一擴束

光，要注意其中心位置要保持不變，將擴束光投影到屏幕上。

4. 先將屏幕貼近凸透鏡，測量屏幕上的擴束光直徑大小。再將屏幕拉遠至2 m後再
記錄一次。調整兩透鏡之間的距離，使直徑變化量小於3 mm。

5
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2.5. 實驗步驟 LASER BEAM ALIGNMENT

5. 將凹透鏡改為凸透鏡，再進行一次雷射擴束實驗

2.5.3 空間濾波器
1. 重置架構為2.5.1，將空間濾波器架設於光路上，僅安裝上物鏡Lobj 。架設時，光
束中心位置不可偏移。先記錄未安裝針孔時的投影。

2. 將針孔安裝到空間濾波器上，先調整針孔 P 位置使光束打在中心。由於針孔大小
無法以肉眼辨認，可將屏幕置於針孔後觀察雷射光投影，並減低環境光的影響。
微調針孔位置使光強度最大且繞射條紋圓形對稱。

3. 調整物鏡與針孔距離使繞射條紋消失。但調整物鏡距離時，因機械上的公差，鏡
架並非完美水平光路移動，很容易偏離光軸，因此需與上一步驟反覆執行。完成
後紀錄順利通過時的光束投影。

4. 架設置放焦距為fDCX = 200 mm的凸透鏡於針孔後，調整為擴束的平行光。記錄

此時的擴束光直徑大小，推算物鏡NA值。

6
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2.6. 問題與討論 LASER BEAM ALIGNMENT

2.6 問題與討論
1. 光 學 物 鏡 是 常 用 的 光 學 元 件 ， 請 解 釋 以 下 相 關 名 詞 ， 可 搜 尋 光 學 儀 器 公
司(如Edmund Optics，ThorLabs，Melles Griot)的規格說明幫助了解。 4

(a) Magnication
(b) Numerical aperture
(c) Working Distance
(d) Eective Focal Length
(e) Depth of Focus
(f) Focal Spot size
(g) Entrance Aperture

2. 2.5.1中，圖2.3中的兩面鏡子之間的距離遠近對你的實驗有何影響，如，遞迴次
數。

3. 常見空間濾波器通常使用物鏡(Objective lens)來聚焦光束，可否使用凸透鏡來代
替，如果不適合，請說明原因。

4. 公式2.1中，D1 代表物鏡的孔徑大小。但此次實驗中，入射雷射光的直徑會小於
物鏡的設計孔徑。此時，雷射光的聚焦光點半徑(適當的針孔大小)會如何改變？

4 各類物鏡的用途並不相同，光學儀器公司的單一物鏡不一定會包含所有規格。

7
Bibliography

[1] Edmund Optics 物鏡網頁，https://www.edmundoptics.com/microscopy/

[2] ThorLabs 物鏡網頁，https://www.thorlabs.com/navigation.cfm?guide_id=2027

[3] Melles Griot 物 鏡 資 料 ，http://www.mellesgriot.com/Products/Optical-

Systems/Lens-Assemblies

Acknowledgement

8
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Our objectives are made to the highest quality and standards, utilizing a
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Plan APO ULWD Plan APO ULWD
Plan APO 2X Plan APO 5X Plan APO 10X Plan APO 20X Plan APO 50X Plan APO 100X
50X 100X
Numerical Aperture, NA: 0.055 0.14 0.28 0.42 0.55 0.8 0.42 0.55
Working Distance, WD (mm): 34 34 33.5 20 13 3 20.5 13
Focal Length (mm): 100 40 20 10 4 2 4 2
Resolving Power (µm): 5 2 1 0.7 0.5 0.34 0.7 0.5
Depth of Focus (µm): 91 14 3.58 1.6 0.9 0.43 1.6 0.9
Field of View - Dia. (mm):
Eyepiece, 24 Dia. field: 12 4.8 2.4 1.2 0.48 0.24 0.48 0.24
X\c” Sensor (H x V): 4.4 x 3.3 1.76 x 1.32 0.88 x 0.66 0.44 x 0.33 0.176 x 0.132 0.088 x 0.066 0.176 x 0.132 0.088 x 0.066
Z\x” Sensor (H x V): 3.2 x 2.4 1.28 x 0.96 0.64 x 0.48 0.32 x 0.24 0.064 x 0.048 0.256 x 0.192 0.064 x 0.048 0.064 x 0.048
Stock Number #59-875 #59-876 #59-877 #59-878 #59-879 #59-880 #59-881 #59-882

Edmund Optics® ReflX™ objectives are available in two configurations:

infinity-corrected for focusing applications and finite conjugate for imag-
ing applications. The infinity-corrected objectives may also be used for
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and may be used interchangeably with common DIN objectives.
Our High Performance (HP) ReflX™ is built on the same design as our

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o Long Working Distance, High NA
original but with a ¼λ peak-to-valley (P-V) transmitted wavefront and a
o Ultra-Wide Spectral Band with No Chromatic Aberration
tapered mechanical design, which permits use at angles of incidence
o Infinite and Finite Conjugate Designs
(AOI) up to 45°. Customization available.
o Specially Treated to Reduce Stray Light

DUV Enhanced UV Enhanced Numerical Aperture, NA: 0.28

Protected Gold Working Distance WD (mm): 23.6
AI Aluminum AI Aluminum
ReflX™ Objectives (R>94%, Focal Length (mm): 13.3
(R>88%, (R>85%,
700nm – 11µm) Entrance Pupil Diameter (mm): 8.5
190nm – 11µm) 200 – 700nm)
Small Mirror Diameter (mm): 8.8
15X ReflX™, Infinite Conjugate #59-315 #58-417 #58-418 Mounting: RMS
Field of View (mm):
15X ReflX™, Finite Conjugate #59-316 #58-421 #58-422 X\c” Sensor (H x V): 0.59 x 0.44
Z\x” Sensor (H x V): 0.43 x 0.32
15X HP ReflX™, Infinite Conjugate #59-884 #59-886 #59-888 Obscuration: 27%
Reflx™ HP ReflX™
15X HP ReflX™, Finite Conjugate #59-885 #59-887 #59-889 Transmitted Wavefront: Z\z/l (RMS) Z\vl (P-V)

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& uv OBJECTIVES

Mitutoyo’s NIR, NUV, and UV infinity-corrected long working distance ob-

jectives combine the benefits of the standard M Plan Apo and M Plan Apo
SL series objectives with enhanced spectral ranges. The NIR objectives
are corrected from 480 to 1800nm, making them ideal for semiconduc- o Ideal for Bright Field Imaging in UV, Visible,
tor and telecommunication inspection, or for laser cutting with common and NIR Spectral Regions
mitutoyo nir, nuv, & uv objectives

Nd:YAG lasers. The HR series offers an increased numerical aperture, pro- o Excellent Performance at Nd:YAG Laser Lines
viding smaller spot sizes and higher resolution. o Broad Spectral Ranges

m plan apo nir and nir hr series (corrected from 480nm to 1800nm)
NIR 5X NIR 10X NIR 20X NIR 50X NIR 100X NIR HR 50X NIR HR 100X
Numerical Aperture, NA: 0.14 0.26 0.40 0.42 0.50 0.65 0.70
Working Dist., WD (mm): 37.5 30.5 20.0 17.0 12.0 10.0 10.0
Focal Length (mm): 40.0 20.0 10.0 4.0 2.0 4.0 2.0
Resolution Power (µm): 2.0 1.1 0.7 0.7 0.6 0.42 0.39
Depth of Focus (µm): 14.0 4.1 1.7 1.6 1.1 0.65 0.56
Field of View: (mm):
Eyepiece, 24 Dia. Field: 4.8 2.4 1.2 0.48 0.24 0.48 0.24
2/3” Sensor (HxV): 1.8 x 1.32 0.88 x 0.66 0.44 x 0.33 0.18 x 0.13 0.09 x 0.07 0.18 x 0.13 0.09 x 0.07
1/2” Sensor (HxV): 1.28 x 0.96 0.64 x 0.48 0.32 x 0.24 0.13 x 0.10 0.06 x 0.05 0.13 x 0.10 0.06 x 0.05
Stock Number #46-402 #46-403 #46-404 #46-405 #46-406 #56-982 #56-983

m plan apo nUV series (corrected from 355nm to 620nm) and uv series (corrected from 266nm to 500nm)
NUV 20X NUV 50X NUV 100X UV 20X UV 50X UV 80X
Numerical Aperture, NA: 0.40 0.42 0.50 0.36 0.40 0.55
Working Dist., WD (mm): 17.0 15.0 11.0 15.0 12.0 10.0
Focal Length (mm): 10.0 4.0 2.0 10.0 4.0 2.5
Resolution Power (µm): 0.7 0.7 0.6 0.8 0.7 0.5
Depth of Focus (µm): 1.7 1.6 1.1 2.1 1.7 0.9
Field of View: (mm):
Eyepiece, 24 Dia. Field: 1.2 0.48 0.24 1.2 0.48 0.30
2/3” Sensor (HxV): 0.44 x 0.33 0.18 x 0.13 0.09 x0.07 0.44 x 0.33 0.18 x 0.13 0.11 x0.08
1/2” Sensor (HxV): 0.32 x 0.24 0.13 x 0.10 0.06 x 0.05 0.32 x 0.24 0.13 x 0.10 0.08 x 0.06
Stock Number #46-407 #46-408 #46-409 #56-320 #56-321 #56-322

Spectral Transmission Characteristics

® COPYRIGHT 2009 EDMUND OPTICS, INC. ALL RIGHTS RESERVED 1/09

100
M Plan Apo NIR 100x
Spectral transmission factor (%)

o High Quality Apochromat Design 80 M Plan UV 80x

M Plan Apo NUV 100x
60
o Flat Image Surface Over Entire Field of View 40

o Good Color Reproducibility 20

0
300 600 900 1200 1500 1800
Wavelength (nm)

m plan apo sl series (super long working distance) and hr series (high resolution)
Apo SL 20X Apo SL 50X Apo SL 80X Apo SL 100X Apo SL 200X Apo HR 10X Apo HR 50X Apo HR 100X
Numerical Aperture, NA: 0.28 0.42 0.5 0.55 0.62 0.42 0.75 0.90
Working Dist., WD (mm): 30.5 20.5 15.0 13.0 13.0 15.0 5.2 1.3
Focal Length (mm): 10 4 2.5 2 1 20.0 4.0 2.0
Resolution Power (µm): 1.0 0.7 0.6 0.5 0.4 0.6 0.3 0.3
Depth of Focus (µm): 3.5 1.6 1.1 0.9 0.7 1.55 0.5 0.3
Field of View: (mm):
Eyepiece, 24 Dia. Field: 1.2 0.48 0.30 0.24 0.12 2.4 0.48 0.24
2/3” Sensor (H x V):
0.44 x 0.33 0.18 x 0.13 0.11 x 0.08 0.09 x 0.07 0.04 x 0.034 0.88 x 0.66 0.18 x 0.13 0.09 x 0.07
1/2” Sensor (H x V): 0.32 x 0.24 0.13 x 0.10 0.08 x 0.06 0.06 x 0.05 0.03 x 0.025 0.64 x 0.48 0.13 x 0.10 0.06 x 0.05
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20X 0.75 Extended Visible ± 3.6° < 0.07λ

10X 0.25 Visible ± 4.3° < 0.05λ

7.5X 0.12 UV (200nm) to NIR ± 1° < 0.025λ on axis @633nm, lateral color < 2µm

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