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本地光刻
钛的氧化
Nanosurf® 应用说明 00304
原子力显微镜（AFM）
因其制造纳米结构的能力而对纳米技术的发展产生了巨大影响。
通过原子力显微镜对金属表面进行局部氧化已被证
明是一种用于纳米级器件制造和结构图案化的光刻方法。

一个例子是 AFM 诱导的氧化

产生钛氧化物结构的钛薄膜。
二氧化钛具有优异的

微电子或⾼密度存储应用的介电特性。
此外，
氧化钛薄膜还可用
于许多其他应用，
例如耐磨涂层和作为低粘附性表面材料，
以减
少细菌的形成

关于生物材料。

在这项技术中，
氧化物结构生长在
通过施加偏置电压的表面
表面和 AFM 探针尖端之间。
AFM 探针用作阴极，
由调节的环境湿度产生的吸附水用作电解
质。
水中的离子对表面的形成起着重要作用。
除了

短路电流，
液体中离子携带的电流从尖端流过

水到钛表面。
此电流
图 1：
静态模式下的光刻
引起电化学反应
表面将钛转变为

通过结合 OH‑ 和 O2‑ 生成二氧化钛

来自水膜的离子。
二氧化钛

图案是通过 AFM 尖端扫描样品表面来创建的。

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所呈现的图像是通过
easyScan 2 大扫描 AFM。
图 1 显示了以静态模式写入的
氧化图案。
线的⾼度在1nm到5nm之间。

这些线大约有 100nm 大。
不同的
线条尺寸因书写速度不同而异。
图 2 显示了以动态模式写
入的氧化图案。
线的⾼度为2nm。
这些线大约120nm大。

图 2：
动态模式下的光刻

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