Theory of Confocal Microscopy

Interference Filters for Fluorescence Microscopy

T

Brochures

,
.F

Confocal Theory

Java Tutorials

,
.T

Glossary

,
interference filters
,

Applications
Im age Gallery

Resource Links
Contact Us
Search
Hom e

C
,

,
.I

,
- -

,
,
.T

,
,
-

.H

,
.V
,
.
H
.M
.I
- ,
.
I
.T
,

,
.T

.T
,
-

.B
,

,
.A
,
,

T
,

,
,

cube
block. T
mirror ( beamsplitter),

excitation
barrier)
,

emission (

dichromatic
F
1. E

,
.C
.I
,
,
,

A
F

1. T

45.T
(F
L

1( )).
,

.T
F

1( ). D
,
(380-420

510-560

). N

,
400

.T
.A

,
.

2
.T
(

surface flatness (F
,
). W

550

2( ))

.T
,
.T
transmitted distortion (F
.C
,
.A
wedge (F
I

2( )),

2( )),

.F
T

,
.I

.
,

.T
.I
-

,
,
40

.I
(
.A

; FWHM),

.A
(

),
.P
.

D
-

.E
.I

,
,

,
,

.P
- .
T

(
45

1). T

dichroic mirror,
.D

,
,
,

.P

45-

,
90,

.S

,
.
T
.T
,

,
,

.I

,
.P
,

1
(

10
),

). I
,
,

T
100-

,
.I

.S

,
,

,
,

.T
,
.T
.

T
,
.T
5.5

,
,
.I
,
,
.L
/

.T

- -

.I
,

1
,

.I

(F

3( ))

(F

3( ))

.T
20-

480-

500

.T
,

520

.U
. T 303( ))
(F
3( )). H
(40
.

(F
)

Interference Filter Principles

T

.E
,
-

.S

.T

,
,
.C

.U

,
,

.
I

.T

.T
,

I
.I

,
,

.W
,

.C

4
50

.C

50

16

). A

.F

,
.T
(

)
.

T
.R
,

.W

,
,

4). T

(i)
n(1)

(r)

n(2),

4,

' L

n 1 sin(i) = n 2 sin (r)

W

(i

r),
:

Rp = [(n 2 cos(i) - n 1 cos(r)) / (n 2 cos(i) + n 1 cos(r))]2

Rs = [(n 1 cos(i) - n 2 cos(r)) / (n 1 cos(i) + n 2 cos(r))]2
R(p)

p-

,
,

R(s)

s-

.A

(R)
:

R = Rp = Rs = [(n 2 - n 1) / (n 2 + n 1)]2
C

,
-

0.08
,

52

1.0)

1.5,
.I
16
(

48(n(1)

(R)
0.96
). T

0.04
16

1.0),

n(2). T
.A
F
180

,
,
n(2)

4( ),

,
n(1),

T
,

,
.B

.B
,
,

.W
,

,
.

.T
Fabry-Perot

,
(F

5( )). T

.T
,
n(2),

.T
F
.

n(3),
-

n(1),

4( ). T

t,

F
4( ),
Fresnel loss ( F

,
reflection,

).

T
(R),

F
(n(2) - n(1))

.A

,
F
.H

),
,

.T
,
,
I

, n(2),

,
4( ) (

). T
.B
(

n(2)
)

n(1),
180-

.I

(
n(2))

, t,

(l/4),
180-

.I

,
.T

(l/2)

180-

180-

,
,
.L

.W
-

.L
,

.A
),

(
.T
n(2)

180,

n(3),
-

,
(l/2)

180(l/4)
180-

.C
),
-

B
A

.T
,

.C

,
,

.C

180

,
.O
-

.D

360

),

absentee
.F

,
.
Interference Filter Design
T

.W
,
.T
(

180

),
.W

,
,
.T

)
.S
,
.

,
.

C
,

,
.M
.B

,
.A

,
(
-

.P

)
6

,
.

,
(CWL)
)

(
(

)
F

,
6

cut-on
.T

cut-off
.

,
F

.T

quarter-wave stack reflector (

5( ))
,
T
principal wavelength
F
5( )
(
(
1.35)
,
A
ringing)
,
.A
,
.Q
,
N
P
F

,
.T

2.35)
550

(
.T

.
(

F
.I
5( )),

,
-P

;
(

.E
.P
,

.T
,

,
,

(n

1.0)

T
,
F

cavity
-

7). I

single-cavity coating. T
(

,
(

). T

-P
,

.T

,
.L
.T
.P

,
,

,
.A

,
.

.A
,
.E
(F

7). M

.I

(MDM)

,
-P

,
(

8). A

period,

T
T

.
.

(
.F

.T

(
.T

9),

.
I

H,
-

L (F

.O

8). V

,
.Z

.T
(

,
.F

9( )

- -

.F

9( )
.A
,

.W

,
.I

,
.

'

.
T
bleed-through

.I

,
.T

,
.F
-

,
435

9( )
,

460

.W

.I

,
.F

'

,
.
I

,
.T
.E
,
.A
attenuation range
,
attenuation level

.F

,
-

.A
,
.
A
,
.C

,
.F

,
'

.
I

(
-

7,

)
.F

7,

.I
,
0.01

.O

,
.

E
.A
.S
(
,

7). T

,
.I

,
.

,
-

,
.I
,

.F

,
,
.

),

,
.S
,

,
,
"

"

10
.N
.

.O
-

T
-

.T
10
.I

60
45

85
T
blocking optimized

blocking complete. F
-

.A

.T

.
M
(

). S
:

,
,

.T

(
.T

),
.F

,
.T

polarization splitting

25
.T

.T

polarization splitting
,

.A
45-

.T
(

11).
T
(
)

.I
(

,
.T
,

.W
,

665LP (
605LP

),
.C

(50

665

45-

T
.B
,
(

25

):

l = l 0 [1 - (n 0/n)2 sin 2( )]1/2

l( )
(

l(0)

, ,
(
n(0); 1.0

). T

(n)
.

T
,
.W

,
1.45

,
2.0,
.T

.I

(
(
.I

,
30

.I
),

,
(
,

.
P

,
.A
,

.A

,
(p-polarization)

(s-polarization). F
0-

11
,

45.S

4545-

,
.T

,
.A
,
-

45,

,
,
.H

,
,

.O
,

.I

.I

,
.M
.
Interference Coating Production Methods
I
.T

O
.T

.T

,
.I

,
,

.
T

,
.P

(PVD)
.P
.V

PVD

.A
(

12). S

.M
.I

,
,

.C
,
-

.M

.T
.D

,
.L
-

.A

,
.T
.T
-

,
.T
.

A
,
-

.T

,
(

,
boats)

resistive thermal evaporation

,
,
,
.T
,
.F
,

.B
.T

.T
,
,

,
-

.I

),
.T
.

bombardment

. Electron
,
,

,
,

.T

)
.A

.I
,
.A
(

evaporation)
I

reactive

.
,

.R
PVD
ion-assisted deposition, ion-beam sputtering,
E
PVD
,
,

,
reactive magnetron sputtering.

10-

PVD
,

,
,

,
,

).
I

.T

,
.R
,
.D

,
-

.A

,
.A

beam sputtering,
,

dual ion,

PVD

,
.T
-

.R
.V

,
.

,
.A
,
,

.T

.S
,

,S

1(

,
),

,S
301 (
, BK7 (

,I
),

),

1(

Additional Considerations for Laser Scanning Confocal Systems

T
,
.A
.A

,
.

A
(

),
.T

- -

.T

.T
,

.A
,

.T
,
.T

)
.A

10

,
.B
.

B
,

,
.D
,
.

T
,
.T
(

.E
,
.T
,

.B
- -

,
.

Conclusion
M
.O
,
.O
,
,

,
.

.
Contributing Authors
Christopher Hardee, Roy Kinoshita, Travis Wakefield,
B
,V
, 05301.
Turan Erdogan - S

, I ., 3625 B

Kenneth R. Spring - S
Thom as J. Fellers
F
S
U

R
,L

,R

,N

,M

Michael W. Davidson - N
,T
,F
, 32310.

Robert Johnson - O
Y

, I ., 210 M

, 14624.

, 20657.
H

, 1800 E

BACK TO THEORY OF CONFOCAL MICROSCOPY

Copyright 2004-2009 OLYMPUS CORPORATION All Rights Reserved

D ., T