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一文解密上億的 ASML 光刻機到底金貴在哪兒?

2019-06-04由 數字化企業 發表于資訊

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不久前,一台價值 1.06 億元的設備經空運從荷蘭飛抵廈門,由於該設備價值高,而且對保存和運輸有


著很高的要求——必須保持在 23℃恆溫狀態下。為了避免影響設備的精度,在運輸中也對穩定性有極
高的要求。因此,機場海關以機坪查驗的方式對該貨物實行全程機邊監管,待貨物裝入特製溫控氣墊車,
移至海關的機坪視頻監控探頭之下,完成緊急查驗後當晚就得到放行。

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那麼到底是什麼設備能獲得機場海關如此嚴陣以待,而且能有單台破億的價格呢?

什麼是光刻機?

光刻機是晶片製造的核心設備之一,按照用途可以分為好幾種:有用於生產晶片的光刻機;有用於封裝
的光刻機;還有用於 LED 製造領域的投影光刻機。用於生產晶片的光刻機是中國在半導體設備製造上
最大的短板,國內晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口,本次廈門企業從荷蘭進口的光刻機就是用於
晶片生產的設備。

在高端光刻機上,除了龍頭老大 ASML,尼康和佳能也曾做過光刻機,而且尼康還曾經得到過 Intel 的訂


單。但是近些年,尼康在 ASML 面前被打的毫無還手之力,高端光刻機市場基本被 ASML 占據——即
便是尼康最新的 Ar-F immersion 630 賣價還不到 ASML Ar-F immersion 1980D 平均售價的一半,也無法挽
回敗局。

原因何在?一方面是 Intel 新 CEO 上台後,不再延續與尼康的 620D 合同,這使得尼康失去了一個大客戶。


另一方面,也和尼康自身技術實力不足有關,尼康的光刻機相對於 ASML 有不少瑕疵,在作業系統上
設計的架構有缺陷,而且尼康的光刻機的實際性能和尼康官方宣傳的有不小差距,這使得台積電、
Intel、三星、格羅方德等晶圓大廠不可能為了省一點錢去賣有瑕疵的產品。

目前,尼康的高端光刻機基本被 ASML 吊打,主流半導體產線中只有少數低階老機齡的光刻機還是尼


康或者佳能,其他基本都是 ASML 的天下。某種程度上,尼康的光刻機也只能用賣的超級便宜來搶市
場了。那麼,賣的到底有多便宜呢?

用數據來說話,ASML 的 EUV NXE 3350B 單價超過 1 億美元,ArF Immersion 售價大約在 7000 萬美元左
右。相比之下,尼康光刻機的單價只相當於 ASML 價格的三分之一。

光刻機工作原理

上圖是一張 ASML 光刻機介紹圖。下面,簡單介紹一下圖中各設備的作用。

測量台、曝光台:是承載矽片的工作檯。

雷射器:也就是光源,光刻機核心設備之一。

光束矯正器:矯正光束入射方向,讓雷射束儘量平行。

能量控制器:控制最終照射到矽片上的能量,曝光不足或過足都會嚴重影響成像質量。

光束形狀設置:設置光束為圓型、環型等不同形狀,不同的光束狀態有不同的光學特性。
遮光器:在不需要曝光的時候,阻止光束照射到矽片。

能量探測器:檢測光束最終入射能量是否符合曝光要求,並反饋給能量控制器進行調整。

掩模版:一塊在內部刻著線路設計圖的玻璃板,貴的要數十萬美元。

掩膜台:承載掩模版運動的設備,運動控制精度是 nm 級的。

物鏡:物鏡用來補償光學誤差,並將線路圖等比例縮小。

矽片:用矽晶製成的圓片。矽片有多種尺寸,尺寸越大,產率越高。題外話,由於矽片是圓的,所以需
要在矽片上剪一個缺口來確認矽片的坐標系,根據缺口的形狀不同分為兩種,分別叫 flat、 notch。

內部封閉框架、減振器:將工作檯與外部環境隔離,保持水平,減少外界振動干擾,並維持穩定的溫度、
壓力。

在加工晶片的過程中,光刻機通過一系列的光源能量、形狀控制手段,將光束透射過畫著線路圖的掩模,
經物鏡補償各種光學誤差,將線路圖成比例縮小後映射到矽片上,然後使用化學方法顯影,得到刻在矽
片上的電路圖。一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準曝光、後烘、
顯影、硬烘、雷射刻蝕等工序。經過一次光刻的晶片可以繼續塗膠、曝光。越複雜的晶片,線路圖的層
數越多,也需要更精密的曝光控制過程。

EUV:半導體業的終極武器

台積電、英特爾都寄望,這台史上最昂貴的「工具機」,會在 2017 年開始試產的七奈米製程大發神威,


成為主力機種。

全球每年生產上百億片的手機晶片、記憶體,數十年來都仰賴程序繁瑣,但原理與沖洗照片類似的曝光
顯影製程生產。

其中以投射出電路圖案的微影機台最關鍵、也最昂貴。過去十多年,全球最先進的微影機,都採用波長
一九三奈米的深紫外光,然而英特爾、台積電量產的最先進電晶體,大小已細小到僅有數十個奈米。這
形同用同一支筆,要寫的字卻愈來愈小,最後筆尖比要寫的字還粗的窘境。

要接替的「超細字筆」,技術源自美國雷根時代「星戰計劃」,波長僅有十三奈米的 EUV;依照該技
術的主要推動者英特爾規劃,2005 年就該上陣,量產時程卻一延再延。

因為這個技術實在太難了。EUV 光線的能量、破壞性極高,製程的所有零件、材料,樣樣挑戰人類工
藝的極限。例如,因為空氣分子會干擾 EUV 光線,生產過程得在真空環境。而且,機械的動作得精確
到誤差僅以皮秒(兆分之一秒)計。

最關鍵零件之一,由德國蔡司生產的反射鏡得做到史無前例的完美無瑕,瑕疵大小僅能以皮米(奈米的
千分之一)計。

這是什麼概念?ASML 總裁暨執行長溫彼得(Peter Wennink)接受《天下》獨家專訪時解釋,如果反射


鏡面積有整個德國大,最高的突起處不能高於一公分高。

「滿足這類(瘋狂)的要求,就是我們的日常工作,」兩年前由財務長接任執行長的溫彼得說。
因為 EUV 的技術難度、需要的投資金額太高,另外兩大微影設備廠──日本的 Nikon 和佳能,都已放
棄開發。ASML 儼然成為半導體業能否繼續衝刺下一代先進位程,開發出更省電、運算速度更快的電晶
體的最後希望。

「如果我們交不出 EUV 的話,摩爾定律就會從此停止,」溫彼得緩緩地說。因此,三年前,才會出現


讓 ASML 聲名大噪的驚天交易。

英特爾、台積電、三星等彼此競爭的三大巨頭,竟聯袂投資 ASML41 億、8.38 億、5.03 億歐元。(台積


電已於今年五月出售 ASML 的 5%持股,獲利 214 億台幣)

溫彼得解釋,當時各大廠都要求 EUV 的研發進度加快,他告訴這些顧客,「希望加快 EUV 的研發進度,


我們就得加倍研發支出。」

於是,ASML 研發經費倍增到現在的每年十三億歐元的規模。多出的一倍,ASML 自己出一半,三大半


導體巨頭合出另一半。

高端光刻機完全依賴進口

目前,光刻機領域的龍頭老大是荷蘭 ASML,並已經占據了高達 80%的市場份額,壟斷了高端光刻機市


場。日本尼康在高端光刻機上完全被 ASML 擊敗,即便尼康的 ArF 光刻機售價僅僅不到 ASML 的一半也
無補於事。Intel、台積電、三星用來加工 14/16nm 晶片的光刻機都是買自 ASML,格羅方德、聯電以及
中芯國際等晶圓廠的光刻機主要也是來自 ASML。

更關鍵的是,最先進的 EUV 光刻機全球僅僅 ASML 能夠生產,ASML 在今年第三季度和第四季度出售


的兩台 EUV 光刻機售價都超過 1 億美元,落後 EUV 一代的 ArF 光刻機平均售價也在 4000 萬至 5000 萬歐
元左右,從高企的報價和 EUV 光刻機全球僅此一家出售可以看出,光刻機的技術門檻極高,是人類智
慧集大成的產物。

相比之下,國內光刻機廠商則顯得非常寒酸,處於技術領先的上海微電子裝備有限公司已量產的光刻機
中,性能最好的是能用來加工 90nm 晶片的光刻機,技術差距說是鴻溝都不為過。正是因此,國內晶圓
廠所需的高端光刻機完全依賴進口,本次從荷蘭空運至廈門機場的 ASML 光刻機,就是用於晶片生產
製造的高端光刻機,由於是廈門的一家公司申報進口的,筆者猜測,這台設備很有可能是廈門當地政府
與台灣聯華電子合資的晶圓廠從荷蘭 ASML 採購的。不過,由於西方瓦森納協議的限制,中國只能買
到 ASML 的中低產品,這一點從廈門當地企業進口的光刻機報價僅 1 億人民幣就可以看出來了。

眾所周知,設備是信息產業的源頭:我們開發設備、設備製造晶片、晶片構成器件、器件改變世界!

等價波音 737 的光刻機是個啥?

晶片製造中,設備龍頭就是光刻機,而光刻機的源頭就是 ASML!現階段,ASML 已經成為光刻機的代


名詞。

ASML 是做什麼的?生產&銷售:光!刻!機!

光刻機又是用來做什麼的?印製:芯!片! (晶片被成為工業石油)

ASML 是公司,光刻機是設備。而 ASML 有三大客戶: 三星(samsung),英特爾(intel)和台積電


(TSMC)。
半導體行業有一句不成規的名言:艾司摩爾(ASML)的技術到哪裡,全球半導體的製程就在哪裡。

荷蘭 ASML,總部位於荷蘭 Veldhoven,歐洲人均科研經費排名第二。

在 ASML 的 2015 年 Q4 季度報中,ArF Immersion 共銷售 11 台,銷售額 881million 歐元 乘以 72%(不包


括 solution 收入),算下來平均每台售價達到 5800 萬歐元,約合 7300 萬美

波音 737 的官網報價 7000 萬到 9000 萬美元,航空公司購買還有折扣(據說 3-4 折)!!

下圖是荷蘭 ASML 公司顛覆時代的 EUV 光刻機 NXE 3350B 示意圖,單價超過 6 億人民幣,現貨還要


等!!

這是賣飛機嗎?賣機器都賣一個多億,搶錢麼?!!!不,他們提供的商品是高端光刻機用來刻蝕最精
密的晶片的全球只有這一家企業能提供中端一些的光刻機,是日本的佳能、尼康做的光刻機對,就是做
相機做的很好的廠商技術上有些相通之處以佳能、尼康雄厚的技術積累,以及在相機界的霸主地位到了
光刻機行業卻只能做中低端產品所以你可以想像下 ASML 的高端光刻機是有多麼變態了其最貴的 EUV
極紫外線光刻機,單價要 1 億美元左右,相當於美帝四代戰鬥機 F35 的價格這台機器的長相如圖
(來源:半導體內參)

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