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CREO 阵列经典实例解析（高级篇）
——BY 落枫之影（413624704）

一．阵列的定义：

通过重复复制、改变某一个（或一组）特征的指定尺寸，根据设定的变化规

律和数量，自动生成一系列具有参数相关性的特征(组）
。

在 CREO 软件中，阵列的方式有以下八种：

1.尺寸阵列 ：需选取特征尺寸，并指定这些尺寸的增量变化以及阵列中特征实体数。

2.方向阵列：需选取平整面、线、轴来定义方向，同时也可以使用特征尺寸增量来控

制阵列实体的形状及位置的变化。

3.轴阵列：通过围绕一个选定的旋转轴（基准轴等）创建特征副本的阵列方式。

4.填充阵列：指定的物体表面或部分表面区域，生成均匀的阵列。

5.表阵列：使用表格的方式设定阵列特征的空间尺寸和本身尺寸。

6.参考阵列：借助已有的阵列实现新阵列的方法，参考阵列操作对象必须与已有阵列

的源实体有定位尺寸关系。

7.曲线阵列;指定阵列成员间距离或成员个数，来沿着草绘曲线创建其阵列特征。

8.点阵列：通过创建基准点或草绘几何点来创建其阵列特征。

温馨提示：

1.阵列特征不能直接使用【删除】命令来删除，因为这样会连你的原始特征也一

起删掉，如果要保留原始特征，请使用【删除阵列】命令来删除

2.阵列预览中的黑点代表要进行阵列的位置，单击黑点将其变成白点，表示此位

置不需要阵列。

3.若阵列的特征有多个，需将这些特征编组，然后再进行阵列

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二．CREO 软件阵列操作界面

三．需要使用关系来控制阵列时，你会用到以下符号:

memb_v - 指定方向中的关系驱动最终尺寸

memb_i - 指定方向中的关系驱动增量

lead_v - leader 值(选择尺寸确定方向)

idx1 -阵列实例索引在第一方向(代表当前实例特征在阵列中的位置，其值从

0 开始，第一方向第一个实例特征 idx1=0,第五个实例特征 idx1=4）

idx2 -阵列实例索引在第二方向(同上，只是方向不同而已）

不能在同一关系中使用 memb_v 和 memb_i，这些符号所代表的含义我将会在下

面的这些实例中详细说明。

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四．实例解析:

1.随形阵列

解析：阵列成员的高度随曲线的波动而变化，技巧就在于草绘特征截面时让其与

曲线连系起来。

A.先草绘一条曲线

B.选择拉伸工具，在原草绘平面中绘制矩形截面

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C.直接阵列拉抻特征即可。

刚才上面讲到的是到曲线，下面这种则是到面面，操作更简单。

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解析：直接拉伸到选定曲面，然后阵列即可，这里就不做详细说明了，只要注意一下

草绘截面与参考基准的位置尺寸。

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2.方向阵列及轴阵列

相信很多朋友都见到过此题，现在我就重点讲解如何阵列完成上图的台阶。

解析：整个楼梯台阶呈 360 度旋转，高度从圆柱最使低位置到最高位置，题目解法很

多，无论解法多少，思路都一样，一个旋转角度和一个高度变化。

方法一：轴阵列+高度尺寸增量（注意此高度尺寸必须为位置尺寸，如果你选择楼梯

板的厚度作为高度尺寸增量，那么每一级台阶厚度为叠加尺寸，这种效果相

对于图片上的来还是比较现实，但我们要的是图片效果）

在这里，我新建的一个基准面，然后在基准面上绘制台阶，最后再使用轴阵

列，通过阵列基准面的位置尺寸来控制台阶高度变化，完成如下图

（建议将创建基准面的工作放在拉伸台阶的特征内完成）

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方法二;方向阵列+角度尺寸增量（还是一样，角度尺寸必须是位置尺寸,方能完成上图效果）

d152 是一个角度定位尺寸，其值为 360*5/100=18 度（100 为圆柱的高度，5 是

台阶的高度）如下图所示。

在使用阵列尺寸的时候，我们必须清楚知道自己阵列的尺寸是位置尺寸的还是形状尺

寸，位置尺寸只控制阵列后成员位置的变化，而形状尺寸则会改变成员的原始外形。

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3.关系阵列（尺寸阵列）

关系阵列是本次阵列教程中的重点，以下讲解内容都是比较常见的，包含尺寸阵列、

数字阵列、行为建模中刻度的阵列以及字符串阵列。

A.尺寸阵列（关系应用）

解析：此题是两个方向阵列，

第一方向特征呈波形曲线排布且圆柱直径由大到小，高度由低到高

第二方向特征呈直线均匀排布，无论直径大小，高度都一样

再看下图

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第一方向的尺寸

A.控制圆柱呈曲线排布的尺寸 1（初始值为 50）

，这里需要用到参数

B.控制圆柱直径变化的尺寸 3 (初始值为 30）

C.控制圆柱高度变化的尺寸 4（初始值为 20）

D 控制圆柱第一方向间距大小的尺寸 2（初始值为 40）

第二方向的尺寸

A.控制圆柱在第二方向间距大小的尺寸 1（初始值为 50）

选中尺寸 1，勾选【按关系定义增量】输入关系式 memb_v=lead_v+25*sin(45*idx1)

现在我们一起来看一下这个关系式的意思。

Memb_v 前面有记载是关系驱动最终尺寸的参数符号，lead_v 是导引尺寸参数符号，就是

你选取的原始尺寸值，比如说此题我选择尺寸 d282，而 d282 原始尺寸值为 50，那么在此

尺寸下编辑的关系中，lead_v 值恒为 50。你可以将 lead_v 改为 50，其结果是不会发生变

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化，25*sin（45*idx1),其中 25 是振幅，Idx1 是阵列实例在第一方向的位置，比如说第二个

阵列实例吧，那么它的最终尺寸值是 50+25*sin(45*1)，也就是说第二个圆柱的圆心到板的

边缘尺寸值为 50+25*sin(45*1)。

为了方便大家理解，在这里我用一简图来表达这些符号的意思。

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B.数字阵列

解析：本题难点在于数字的变化及均匀排布在圆周之上，方法有很多，这里介绍一种

常规的解题思路

进入草绘，在草绘中设置字符符参数

使用文本工具，将文体行设为使用参数

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尺寸阵列，如下图所示。

在钟表表盘上的数字除了圆形排布外，还有一种方形排布的，那又该如何解决呢？

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解析：要完成上图数字阵列，需借助参考曲线，让数字只能绕参考曲线均布。

草绘一条曲线，如下图所示

在这里我们要将此曲线合并成一条曲线链，你可以使用造型或者复制工具完成

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温馨提示：启用复制工具的方法是：

选中草绘曲线——在草绘曲线上点击至加粗——Ctrl+C 打开复制面板

使用先前草绘平面，再次进入草绘平面，选取复制曲线作为参考，在其上输入文本，将文本

行改为使用参数（详细可参考上例）

使用关系，在关系窗口中输入 a=itos(floor(sd0/30))(此关系式控制数字变化）

完成草绘后，阵列即可

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完成后，如下图所示

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C.关于刻度阵列

解析：此题难点在于控制刻度长短，由于这些刻度一端在圆周上，而另一端变化有规

律，因此我们需绘制两个构造圆，通过控制构造圆直径的变化来更改刻度长短

先草绘一条刻度

再阵列这个刻度

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关系式并不难理解，这里不作详细解释

行为建模中也有使用阵列来绘制刻度

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解析：这道题目主要通过分析工具，测量瓶体体积，然后在其上按实际体积标上刻度

关于行为建模内容，三言两语无法说清楚，所以只讲解阵列刻度部分，其实方法同上

例一样。

先选取一个平面草绘第一条刻度

然后将刻度投影到瓶子表面，再将刻度草绘和投影编组阵列

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4.曲面 U-V 线阵列

解析：此例是在曲面的 UV 线交点上阵列出高度不等的圆柱体。边界混合平面与填

充平面的 UV 线是不相同的。填充平面的 UV 线是相互垂直直线，所以在这里

我使用边界混合来绘制平面。

a.在同一个平面上草绘四条曲线（分开草绘）

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b.使用边界混合工具，创建平面

c.选择造型工具，创建两条曲面上的曲线，按下图设置其软件位置

接着选择相切控制面板，将约束更改为沿 U 方向（如果你更改的是另一条曲线，

那么就将约束设置为沿 V 方向）

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再选择曲线的另一端点，按下图修改软点参数

然后就是切点约束

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另一条曲线也是同样设置，就不重复讲解了。

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d.确定退出造型工具后，然后在这两条曲线交点处拉抻一个直径为 30mm 的圆柱

将造型与拉抻特征编组，为阵列作准备

e.阵列，选择尺寸阵列，将 UV 两条曲线分别作为阵列的两个方向，在第一方向选择

U 曲线的两端软点参数值，如果参数值为 0.1，那么增量设置为 0.1，如果参数值

为 0.9，那么增量值设置为-0.1（其软点参数值的取值范围为 0~1）
，，在第二方向

选择 V 曲线的两端软点参数值，增量设置方法和 U 曲线一样。

将两个方向阵列成员数均设为 9。

在此阵列中我还在第一方向加入了高度的关系变化，第二方向加入直径的增量。

很大程度上提高了阵列的难度。足够让人深思！

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第一方向中圆柱高度添加了关系 memb_v=10+idx1*idx2*2

确定并退出阵列。

此题方法并不是唯一的，下面为大家介绍另一种方法获取 UV 线

a 还是同一平面上分别草绘 4 条曲线。(参考第一种方法）

b.选择一条草绘曲线，在其上创建基准点

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c.选择此曲线相邻曲线，在其上创建另一基准点。

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d.使用修剪工具，将曲线从基准点处断开。

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e.使用边界混合创建平面

UV 线已经创建完毕，下面的工作就是在其交点处绘制圆柱，再将其阵列即可。

详细请参考第一种方法。

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5.表阵列

解析:此题有点难度，主要是表格的制作有些繁琐，我们要通这个表格再给阵列成员

指定位置。需要注意的是阵列成员形状没有发生变化只是位置变动而已，所以在

草绘时注意位置尺寸的标注。

A.创建一个基准面（最好用 TOP 面创建偏移基准面，当时自己做此题没注意，

选了 RIGHT 面作为偏移参考，结果肯定是没有什么影响，当你点标准方向的时

候就很头痛啦）

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B.选择刚创建的基准平面作为拉伸特征的草绘平面，绘制如图截面

C.然后将基准平面和拉伸特征打包编组，再使用阵列工具

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选择编辑表格，在表格中输入正方体的位置尺寸

其实这个表格不难理解

我们可以把这三个尺寸理解为三维空间中的 XYZ 轴，D1137 就是 Z 轴，D1172 和 D1171 是

XY 轴。当这三个值均为 0 时，那么此点就是这个三维空间的坐标原点。

如果这个没有问题的话，那么下面这一个呢？

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解析：同上题做法一样，一个基准平面和一个拉伸特征再加上表阵列完成

1.创建基准平面，参考选择 TOP 平面。

2.在刚创建的基准平面上拉伸边长为 99 的正方体，草绘截面如下图所示

3.编组阵列

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编辑表格

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6.填充阵列

填充阵列的操作界面，如下图所示

CREO 软件提供了 6 种填充排列方式，分别是正方形、菱形、六边形、圆形、螺旋形、

沿曲线，所以其应用范围比较广，操作比较简单

填充阵列的应用

解析：最常规的解法：在圆形薄板上填充正六边形孔，然后使用钣金中的成型工

具完成（以前做此题时我是在实体中阵列孔后,再转到钣金中冲压，所以才有

上图的模型树，其实根本没这个必要，可直接在钣金件中完成)

1.创建平面壁，绘制直径为 500 的圆形截面。厚度为 2mm

2.在平面壁上任意位置裁剪出一个正六边形孔（填充阵列不需考虑初始特征的

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位置）

3.使用填充阵列。

4.使用成型工具（曲于冲压的形状特殊，所以我们要自己绘制一个冲孔模型，

如下图所示 ）

使用自定义的冲孔模型来冲压零件

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再看下一例，此例也是通过填充阵列完成的

解析：球面上的小正方体，可以使用偏移工具完成，然后面使用填充阵列即可。

1.点选已绘制好直径为 100 的球体表面，使用偏移工具

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2.选择偏移特征，阵列

映射到曲面空间：阵列导引被直接投影到曲面上，阵列成员会从草绘平面映射到

曲面空间，曲面间距与草绘间距匹配。

按照投影：阵列导引和阵列成员直接投影到曲面，间距不会进行调整，不能投影

到曲面上的阵列成员将会从阵列中移除

映射到曲面 UV 空间：阵列成员会从草绘平面映射到曲面的 UV 空间

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7.曲线阵列

曲线阵列操作界面，如下图所示

曲线阵列同填充阵列中的沿曲线排列类似，操作比较简单。

此例是临时做教程的时候随手画的，目的在于讲解曲线阵列的应用。

解析：本例涉及到的知识点有曲线方程、变截面扫描、随形曲线阵列。

A.输入我们所要的星形曲线方程（你也可以在草绘中绘制一个星形曲线）

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B.新建基准平面，在平面上草绘两个圆

C.使用变截面扫描工具。

草绘截面，配合关系函数。

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D.使用拉伸工具，绘制一个直径为 1 的圆柱，深度选择拉伸到曲面

E.曲线阵列

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8.参考阵列

参考阵列一般情况下都是呈不可用状态，除非它所阵列的对象和先前已有阵列的源

实体有定位尺寸关系。

当你选择要阵列的特征与先前阵列的特征有定位尺寸关系时，系统会默认进入参考

阵列，如果你不需要参考阵列，可下拉菜单选择其它阵列方式。

既然参考阵列与原有阵列结果一样，那为什么不直接将其编组，用一个组阵

列搞定呢？参考阵列与组阵列到底有什么区别？这个则需要大家在以后的使

用中留意和总结啦！笔者就不再多讲

9.点阵列

点阵列操作界面，如下图所示

草绘的参考点只能存在于二维空间中，而我们创建的基准点则可以是三维空间中的

点。点阵列就是通通参考点的位置来确定阵列成员的位置，操作简单，值得注意的是

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草绘参考点，一定要选择基准里面的点工具，方能阵列。

用参考阵列须注意的是：草绘小圆柱的截面时，要以基准点作为截面圆心。

如果使用点阵列，那么草绘参考点时选择需要的基准点作为参考即可。

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10.八种阵列方式，已经讲完了，最后留一道题给大家思考

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本次 CREO 阵列实例解析到此为止，如有错漏或不明白之处可直接联系本人。这篇文章

算不上什么教程，只是记录个人在学习阵列和使用阵列的过程中，总结的经验与方法，文章

大部分实例均来自网络，由于内容较多、知识点涉及较广，所以文章只记录关键步骤，适合

有一定基础的朋友阅读。感谢大家支持，希望对你们有所帮助，留下邮箱和 QQ 方便大家交

流。

联系方式 邮箱：scwsk062@163.com QQ:413624704

注：本次教程制作使用软件版本为 Creo 2.0 F000 正式版

完成日期：20120517

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