Chương I

Tổng quan về hệ thống mạ điện công nghiệp

1. Sự hình thành lớp mạ điện

1.1.Khái niệm:
Mạ điện là một công nghệ điện phân, là quá trình kết tủa kim loại lên bề mặt
nền một lớp phủ có tính chất cơ, lý, hoá.... đáp ứng được yêu cầu kỹ thuật
mong muốn.

1.2 Sơ đồ điện phân :

Cùng với sự phát triển của khoa học kỹ thuật và công nghệ vật liệu thì ccông
nghệ mạ điện cũng có những bước tiến dài. Đối với vật liệu nền về nguyên tắc
là kim loại nhưng ngày nay nó có thể là phi kim đôi khi còn là chất dẻo, gồm
sứ hoặc composit. Lớp mạ cũng vậy ngoài kim loại ra còn có thể là phi kim
hoặc kim loại - gốm.

Tuy nhiên việc chọn vật liệu nền và mạ còn tuỳ thuộc vào trình độ công nghệ,
vào tính chất cần có của lớp mạ và giá thành. Chỉ có những công nghệ nào ổn
định trong một thời gian dài mới được ứng dụng vào trong sản xuất nhưng nhìn
chung các công nghệ đó đều sử dụng sơ đồ điện phản như sau:

Hình 1.1.Sơ đồ tổng quát dùng trong mạ điện

a) Nguồn điện một chiều :

Có một vai trò rất quan trọng bởi vì nó cung cấp năng lượng cho quá trình mạ,
đồng thời chất lượng của nguồn một chiều sẽ ảnh hưởng trực tiếp đến chất
lượng mạ .

b) Anot:

Là điện cực nối với cực dương của nguồn điện một chiều, anot dùng trong mạ
điện có hai loại : anot hoà tan và anot không hoà tan.
› Anot hoà tan :

Trong quá trình điện phân trên bề mặt anốt xảy ra phản ứng oxi hoá nhờ vậy
mà anot có thể hoà tan vào trong dung dịch mạ tạo thành các cation kim loại,
các cation này sẽ đến catot và kết tủa trên bề mặt catot hình thành nên lớp mạ.
Anot hoà tan được dùng trong các trường hợp mạ Ni, Cu, Zn, Sn

› Anot không hoà tan :

Trên bề mặt anot chỉ xảy ra quá trình oxi hoá H₂O hoặc các gốc OH-, Anot
không hoà tan dùng trong trường hợp mạ: Cr.

› Catot :
Là điện cực nối với cực âm của nguồn điện một chiều, trong mạ điện catot
là vật mạ. Trên bề mặt catot luôn diễn ra các phản ứng khử ion kim loại mạ và
ion H,O. Catot cần phải nhúng ngập vào dung dịch, thường ngập dưới mặt
nước từ 8 + 15 cm và cách đáy bể khoảng 15 cm, các chỗ nối phải đảm bảo
tiếp xúc thật tốt không để gây ra phóng điện trong chất điện phân. Tuyệt đối
không để chạm trực tiếp giữa anot và catot khi đã nối mạch điện .

d) Dung dịch chất điện phân :

Dung dịch chất điện phân dùng để mạ thường có hai phần :
› Thành phần cơ bản : gồm muối và hợp chất chứa ion của kim loại mạ và một
số hoá chất thiết yếu khác nếu thiếu hoá chất này thì dung dịch không thể
dùng để mạ được
› Thành phần các chất phụ gia bao gồm :
 Chất làm bóng lớp mạ
 Chất đệm để giữ cho pH của dung dịch ổn định Chất giảm sức căng nội tại
đảm bảo lớp mạ không bong nứt .
 Chất san bằng đảm bảo lớp mạ đồng đều hơn
 Chất làm tăng độ dẫn điện cho dung dịch .
 Chất chống thụ động hoá anot nhằm ổn định mạ

e) Bể điện phân :
Làm từ vật liệu cách điện, bền hoá học, bền nhiệt. Thành và mặt trong
của bể thường được lót bằng chất dẻo, lớp chất dẻo này phải kín tuyệt đối,
nước không thấm qua được. Mặt ngoài sơn nhiều lớp chống gỉ Bể mạ
thường có hình chữ nhật điều này giúp cho lớp mạ được phân bố đều hơn bề
có hình dạng khác.
Trong thực tế ta có thể gặp nhiều loại bề mạ như là : bể mạ tĩnh, thùng
mạ quay.

1.3 Điều kiện để tạo thành lớp mạ :

Vì mạ điện là một quá trình điện phân nên quá trình điện hoá xảy ra trên
các điện cực tông quát như sau:
a) Trên anot xảy ra quá trình hoà tan kim loại anot :
 M-ne→ M n+¿ ¿ (1)
Trong một số trường hợp phải dùng anot không tan khi đó dung dịch sẽ đóng
vai trò chất nhường điện tử vì vậy ion kim loại sẽ được định kỳ bổ xung
dưới dạng muối vào dung dịch, lúc đó phản ứng chính trên anot chỉ là quá
trình oxi hoá OH,C:
2C1-2eCl₂ ↑
4OH-4e2H₂O+O2↑

b) Trên catot, các cation kim loại giải phóng điện từ tạo thành nguyên tử kim
loại mạ :
M +ne → M n+¿ ¿ (2)
Nếu ta khống chế các điều kiện điện phân như thế nào đó để cho hiệu suất của
hai phản ứng (1) và (2) bằng nhau thì nồng độ ion M trong dung dịch sẽ luôn
luôn không thay đổi điều này ảnh hưởng lớn đến chất lượng lớp mạ.

2 Các yếu tố ảnh hưởng đến chất lượng lớp mạ

2.1 Vật liệu nền và sự thoát hiđro :
a) Trạng thái bề mặt kim loại nền : Trong kỹ thuật mạ chỉ quan tâm đến hai
trạng thái bề mặt nền là độ sạch và độ nhẵn:
› Độ sạch :
Bề mặt nền được làm sạch tuyệt đối sẽ đảm bảo cho các nguyên tử kim
loại mạ liên kết trực tiếp vào mạng tinh thể, kim loại nền đạt độ gắn bám cao
nhất. Nếu thông số mạng của chúng khác nhau không nhiều (từ 2,5 + 12,5%)
và bề mặt được làm sạch hoàn toàn thì kim loại mạ có thể tiếp tục phát triển
và lặp lại kiểu mạng của cấu trúc nền ( hiện tượng lai ghép mạng tinh thể ),
khi đó độ gắn bám của lớp mạ đạt đến độ bền của kim loại. Do vậy trước khi
mạ bề mặt phải được gia công, xử lý bằng các phương pháp khác nhau sao
cho không còn gì, không còn màng oxit mỏng mới hình thành ngay trong quá
trình gia công bề mặt tại xưởn, không còn dính dầu mỡ, mồ hôi tay hoặc các
chất bẩn khác.
› Độ nhẵn :
Độ nhẵn của nền ảnh hưởng rất lớn đến độ nhẵn bóng và vẻ đẹp của lớp
mạ. Bề mặt nền nhám, xước làm cho phân bố điện thế và mật độ dòng điện
không đều :
Chỗ lõm, rãnh sâu ... điện thế và mật độ dòng điện cục bộ bé, tốc độ mạ chậm
thậm chí không mạ được
Chỗ lồi cao, đinh nhọn điện thế và mật độ dòng điện sẽ cao hơn nên tốc độ mạ
ở đó rất lớn có thể sinh ra gai, cháy ... kết quả là độ nhám của nền được
khuyếch đại lên sau khi mạ. Do vậy người ta thường dùng chất san bằng để
làm cho bề mặt nền không quá nhám.
b) Bản chất kim loại nền :
› Nếu kim loại nền dương hơn kim loại mạ thì lớp mạ đóng vai trò anot trong
pin, bị ăn mòn và hoà tan còn kim loại nền được bảo vệ cho đến khi nào kớp
mạ tan hết. Vì vậy tác dụng và khả năng bảo vệ của lớp mạ này phụ thuộc chủ
yếu vào chiều dày của nó, độ kín tuy rất quan trọng nhưng không phải là chủ
yếu. Công nghệ điện kết tủa loại lớp mạ anot này tương đối đơn giản.
Ví dụ : Mạ Zn lên Fe, thép từ dung dịch sunfat.
› Nếu kim loại nền âm hơn kim loại mạ thì tác dụng và khả năng bảo vệ của
lớp mạ phụ thuộc vào độ kín của nó còn độ dày chỉ là thứ yếu. Vì nếu có lỗ
thủng vi pin ăn mòn sẽ xuất hiện trong kim loại nền đóng vai trò là anot và bị
hoà tan. Lớp mạ tuy vẫn sáng đẹp, dày nhưng dễ bong ra từng mảng lớn do
nền đã bị gì ở dưới lớp mạ. Công nghệ điện kết tủa loại lớp mạ catot này khá
phức tạp
Ví dụ : Mạ Cu từ dung dịch sunfat lên Fe, thép, Zn ...
c) Sự thoát hiđrô :
Mạ điện thường được thực hiện trong môi trường nước nên phản ứng phụ
catot hay gặp nhất là ion H+ phóng điện tạo thành hiđrô. Nguyên nhân có
hiđrô thoát ra đồng thời với kim loại mạ là do điện thế phóng điện của chúng
xấp xỉ nhau.
Các kim loại có quá điện thế hiđrô lớn như : Zn, Pb, Sn dù kết tủa trong
môi trường axit hiđrô vẫn không thể thoát ra được và hiệu suất dòng điện vẫn
rất cao (xấp xỉ 100%) còn các kim loại có quá điện thế hiđrô
như: Fe, Ni, Co, Pt ... thì hiđrô thoát ra rất dễ. Việc thoát hiđrô trên bề mặt
catot trong quá trình mạ gây nhiều tác hại :
› Giảm hiệu suất dòng điện : Vì phải tiêu phí điện năng vào việc giải phóng
hiđrô vô ích, tốc độ mạ lại giảm đi
› Thay đổi pH của dung dịch : Do phản ứng phụ catot
2H+2e→H2↑
mà nồng độ H+ giảm đi ( giảm trước tiên trong lớp sát catot) pH sẽ tăng đến
giá trị đủ để tạo hiđrôxit hoặc muối kiềm khi tan là nguyên nhân sinh gai,
cây ... cấu tạo lớp mạ bị xô lệch làm tăng ứng suất nội. Để khắc phục hiện
tượng này ta phải điện phân ở nhiệt độ cao hơn, khuấy mạnh dung dịch, tăng
nồng độ ion kim loại và ion H+.
› Gây ra hiện tượng “giòn hiđrô" :
Hiđrô vừa thoát ra ở dạng nguyên từ rất dễ bị hấp thụ bởi kim loại nền, mạ
tạo thành hợp chất hiđrua hay hoà tan trong kim loại thành dung dịch rắn hoặc
chui vào mạng tinh thể làm xô lệch tổ chức kim loại gây nên cứng và giòn
hiđrô, lớp mạ có ứng suất lớn dễ bong hoặc phồng rộp .
› Gây ra hiện tượng rỗ :
Hiđrô thoát ra còn có thể đóng lại thành bọt bám trên mặt catot lớn dần rồi
tách ra. Trong suốt trời gian bám trên catot, bọt đã che chắn không cho quá
trình mạ xảy ra tại chân bám của nó tạo nên các vết rỗ, lỗ thủng.

2.2 Ảnh hưởng của thành phần dung dịch mạ

a) Muối và các hợp chất chứa ion của kim loại mạ :
Đây là thành phần thiết yếu của dung dịch mạ, tạo môi trường để diễn ra các
quá trình điện hoá ở catot, anot.
 Thành phần cation trong hợp chất này giúp giữ cho pH của dung dịch mạ
xác định ổn định.
Thành phần anion ảnh hưởng khá mạnh tới khả năng hấp thụ lên catot.
b) Chất dẫn điện :
Các chất này không tham gia vào quá trình catot, anot mà chỉ đóng vai trò
chuyển điện trong dung dịch làm giảm điện thế bể mạ, giảm nhiệt Jun thoát
ra, nâng cao hiệu suất dòng điện.

Ví dụ : Dùng H₂SO₄ trong bể mạ CuSO4 hoặc ZnSO4

Dùng Na2SO4, MgSO4 trong bể mạ Ni

c) Chất đệm :

Nhiều dung dịch mạ chỉ làm việc trong một khoảng pH nhất định mà thôi
cho nên phải dùng chất đệm thích hợp để khống chế. Chất đệm thường dùng
là các axít yếu như : bôric, axêtic, xitric Al2(SO4)3, phèn nhôm. ... hoặc các
muối như axêtat,

d) Chất hoạt động bề mặt và chất keo :

Một số chất hữu cơ hoạt động bề mặt hoặc chất keo lẫn vào bể mạ hoặc do
ta chủ động đưa vào tuy nồng độ rất bé nhưng có ảnh hưởng rất lớn đến cấu
trúc kết tủa catot. Nếu chọn được chất hoạt động bề mặt thích hợp cho ta hiệu
ứng tốt, làm cho kết tủa catot nhỏ mịn, sít chặt ... ngược lại có thể làm kết tùa
rất giòn, dễ bong, sần sùi.

e) Chất bóng :

Là một loại của chất hoạt động bề mặt có tính chất đặc biệt cho phép thu
được lớp mạ bóng trực tiếp ngay từ bể mạ không cần đánh bóng hoặc tẩy
bóng thêm

f) Chất thấm ướt :

Có tác dụng thúc đẩy bọt (khí hiđrô ) mau tách khỏi bề mặt mạ tránh được rỗ,
châm kim. Các chất thấm ướt thường dùng: Ankylsunfat, rượu êtylíc

g) Chất chống thụ động anot :

Đa số các quá trình mạ đều dùng anot hoà tan để giữ cho nồng độ ion kim loại
trong dung dịch không bị nghèo đi do chúng đã giải phóng ra trên catot. Trên
thực tế một phần hoặc toàn bộ bề mặt anot bị phủ một lớp muối,hiđrôxit hoặc
lớp oxit khó tan làm cho diện tích hoạt động của anot bị thu hẹp phân cực
anot tăng lên, dẫn đến thoát khí O2 trên anot, anot bị thụ động trầm trọng
hơn .
Để khắc phục hiện tượng này người ta phải đưa vào dung dịch mạ chất chống
thụ động anot như: Ion Cl- trong mạ Ni; ion CN-,CNS- trong mạ đồng xianua
với mục đích ngăn cản việc hình thành các chất khó tan trên bề mặt catot.

h) Tạp chất :

Đây là thành phần không mong muốn nhưng khó tránh khỏi trong các thành
phần dung dịch kỹ thuật. Chúng có thể là các chất vô cơ hoặc hữu cơ, tan hay
không tan, có thể phóng điện hay hấp phụ trên catot và lẫn vào lớp mạ gây
nên bong, rộp, giòn, gai. Vì vậy làm sạch dung dịch mạ thường xuyên và triệt
để là một yêu cầu bắt buộc nhất là đối với các bể mạ bóng, mạ tốc độ cao, mạ
có khuấy dung dịch.

Ta có thể loại bỏ chất hữu cơ bằng các chất oxihoá (H ₂O ₂, oxi thoát ra từ
anot ...) hoặc bằng cách hấp phụ trên than hoạt tính.

Loại bỏ các cation dương hơn ion kim loại mạ bằng cách điện phân ở mật độ
dòng điện bé và pH thích hợp hoặc bằng phản ứng đầy bởi chính chất bột kim
loại mạ.
Loại bỏ cation âm hơn ion kim loại mạ có gây hại bằng cách tăng pH để kết
tủa chúng dưới dạng hiđrôxit (nếu được).

Loại bỏ các chất không tan bằng cách lọc dung dịch tốt nhất là lọc liên tục,
bao anot trong túi vải để giữ mùn cặn lại.

2.3 Mật độ dòng điện :

Là đại lượng gây ra sự phân cực điện cực.

Mật độ dòng điện cao sẽ thu được lớp mạ có tinh thể nhỏ mịn, sít chặt và
đồng đều, bởi vì lúc đó mầm tinh thể được sinh ra ồ ạt không chỉ tại những
điểm lồi (có lợi thế) mà cả trên các mặt phẳng (ít lợi thế hơn) của tinh thể.
Mặt khác mật độ dòng điện cao sẽ làm cho ion kim loại mạ bị nghèo nhanh
trong lớp dung dịch sát catot. Do đó phân cực sẽ tăng lên tạo điều kiện sinh ra
lớp mạ có tinh thể nhỏ mịn. Nhưng nếu mật độ dòng điện quá cao (gần đến
dòng giới hạn) cũng không được bởi vì lúc đố lớp mạ sẽ bị gai, cây hoặc
cháy. Khi mạ tại dòng giới hạn thì chỉ thu được bột kim loại ngoài ra còn làm
anot dễ bị thụ động hiđrô dễ thoát hơn và biến động mạnh pH ở lớp dung dịch
sát catot.

Như vậy để tăng mật độ dòng điện mà chất lượng mạ vẫn tốt ta cần tăng mật
độ dòng điện giới hạn igh lên trước đã như là tăng nhiệt độ, tăng nồng độ ion
chính hoặc tăng sự đối lưu trong dung dịch :
 Hình 1.2:Thay đổi dạng kết tủa theo mật độ dòng điện

2.4. Nguồn điện một chiều

Có một vai trò rất quan trọng, là yếu tố quyết định đến chất lượng lớp mạ thu
được. Vì vậy nếu chỉ quan tâm đến việc nâng cao, thay đổi chất lượng của vật
liệu nền, vật liệu mạ thì chưa hẳn đã thu được sản phẩm mạ với chất lượng
mong muốn một khi chất lượng nguồn một chiều không được đảm bảo. Do đó
trong công nghệ mạ điện luôn đòi hỏi nguồn một chiều phải có chất lượng tốt,
không gián đoạn, hiệu suất cao, ổn định, làm việc lâu dài, dễ dàng sửa chữa và
thay thế .
Trong một số trường hợp đặc biệt do yêu cầu về công nghệ cũng như của
sản phẩm mạ mà ta có thể thực hiện các phương pháp như là : Dùng dòng
xung từ vài ba giây đến 30 giây đầu tiên với mật độ dòng điện cao gấp từ 2 –
3 lần bình thường hoặc là dòng đổi chiều không đối xứng, dòng không liên
tục. Tuy nhiên thông thường nhất người ta vẫn quan tâm đến việc làm sao để
có thể tạo ra nguồn một chiều với chất lượng tốt nhất :
a) Sử dụng máy phát điện một chiều
› Sơ đồ:

Hình 1.3.Mô hình sử dụng máy phát điện một chiều

Để điều chỉnh được điện áp ra U ta cần thay đổi dòng điện kịch từ I t
bằng cách mắc thêm một biến trở vào mạch kích thích.
› Nhận xét : Nhìn chung máy phát điện một chiều cho dải điều chỉnh điện
áp rộng, đáp ứng được yêu cầu về công suất cho tài mạ. Song bên cạnh đó
máy phát điện một chiều vẫn còn tồn tại nhiều khuyết điểm như là : Thiết
bị cồng kềnh, làm việc có tiếng ồn lớn, khó khăn trong việc bảo dưỡng và
sửa chữa, chi phí ban đầu cao do máy phát điện một chiều cần phải đặt
trong một phòng kín riêng biệt, dòng điện đưa tới các bể mạ qua hai thanh
cái lớn nên tốn đồng. Chính vì vậy mà ngày nay trong công nghệ mạ điện
máy phát điện một chiều không được sử dụng

b) Sử dụng bộ biến đổi

Hiện nay, trong công nghiệp thì dòng điện xoay chiều được sử dụng
rộng rãi, thêm vào đó công nghệ chế tạo các thiết bị bán dẫn ngày càng
được hoàn thiện đặc biệt là công nghệ sản xuất tiristo đã đạt được nhiều
thành tựu. Chính vì vậy các bộ biến đổi dòng xoay chiều thành dòng một
chiều được dùng phổ biến trong các nghành công nghiệp.

› Bộ biến đổi sử dụng biến áp tự ngẫu

Sơ đồ:

Hình 1.4.Sơ đồ sử dụng biến áp tự ngẫu

• Nhận xét : Với sơ đồ sử dụng máy biến áp tự ngẫu thì tổn hao sẽ lớn hơn
khi ta dùng bộ biến đổi mặt khác ta gặp khó khăn trong quá trình tự động
hoá bởi lẽ muốn thay đổi liên tục điện áp trên tải ta cần thay đổi số vòng
dây thứ cấp của biến áp tự ngẫu bằng cách dùng chổi than tiếp xúc trượt
với dây dẫn. Chính điều này làm phát sinh tia lửa điện trong quá trình làm
việc, làm hư hỏng phần dây dẫn tiếp xúc với chổi than.

› Bộ biến đổi sử dụng điều áp xoay chiều

Sơ đồ:

Hình 1.5.Sơ đồ sử dụng điện áp xoay chiều

• Nhận xét : Với sơ đồ sử dụng điều áp xoay chiều ta nhận thấy có nhược
điểm : Nếu góc mở giữa hai van liên tiếp trong một chu kỳ không bằng
nhau thì sẽ xuất hiện một điện áp trung bình một chiều, chính điện áp này
sẽ gây ra quá dòng trong máy biến áp, có thể phá hỏng cách điện của máy
biến áp cả về nhiệt lẫn cơ.
› Bộ biến đổi sử dụng chỉnh lưu có điều khiển
Sơ đồ :

Hình 1.6.Sơ đồ sử dụng điện áp xoay chiều

• Nhận xét : Sơ đồ này nếu đem so sánh với sơ đồ sử dụng biến áp tự ngẫu
thì ta thấy có những ưu điểm nổi bật : Thiết bị gọn nhẹ, tác động nhanh, dễ
tự động hoá, dễ điều khiển và ổn định dòng áp đồng thời đã khắc phục
được nhược điểm mà điều áp xoay chiều mắc phải như đã nêu ở trên vì
điện áp đưa vào biến chỉnh lưu là hình sin nên dòng điện trung bình trong
một chu kỳ luôn bằng 0.
 Chương 2: Tính chọn mạch lực Bộ biến đổi AC/DC 6 pha.

2.1 Phân tích lựa chọn cấu trúc và các thành phần mạch trong lực
2.1.1.Giới thiệu bộ chỉnh lưu 6 pha
2.1.1.1.Sơ đồ dùng điot
Sơ đồ chỉnh lưu 6 pha, có cuộn kháng cân bằng, như được biểu diễn trên
hình 2.1, bao gồm máy biến áp động lực, cuộn kháng cân bằng C ab, 6 điốt chia
làm hai nhóm D1, D3, D5, và D2, D4, D6 .

Máy biến áp có cấu tạo Y/YY hoặc ∆ /YY, có hai hệ thống điện áp thứ cấp
a, b, c và a', b', c'. Các cuộn dây trên một pha a, a'; b, b'; c, c' có số vòng như
nhau nhưng có cực tính ngược nhau. Như vậy điện áp các pha a, b, c, a', b', c'
tạo thành một hệ thống điện áp 6 pha như được biểu diễn bởi biểu đồ vectơ trên
hình 2.1c. Tuy nhiên các cuộn dây thứ cấp máy biến áp có hai điểm trung tính
riêng biệt, P cho a, b, c và Q cho a', b', c'. P và Q được nối với nhau qua cuộn
kháng cân bằng Lcb .

Cuộn kháng cân bằng, được biểu diễn trên hình 2.1b, có cấu tạo như một
máy biến áp tự ngẫu. Với mạch từ hình chữ O và hai nửa cuộn dây như thể hiện
trên hình vẽ, dòng id, đi vào từ điểm M sẽ được chia làm đôi và cuộn kháng sẽ
ở trong chế độ cân bằng sức từ động như một máy biến áp.

Các điôt chia làm hai nhóm, mỗi nhóm sẽ làm việc độc lập như một sơ đồ tia
ba pha. Sự chênh lệch về giá trị tức thời ở đầu ra của hai sơ đồ tia 3 pha sē rơi
trên cuộn kháng La .Dạng dòng điện và điện áp của các phần tử trên sơ đổ được
biểu diễn trên hình 2.2.

Để thấy được vai trò của cuộn kháng cân bằng ta hãy xét một thời điểm, khi
điót D1 và D2 cùng dẫn.Khi đó ta có sơ đồ tương đương như ở hình 2.3.
 a b

Hình 2.1.Sơ đồ chỉnh lưu 6 pha có cuộn kháng cân bằng