Professional Documents
Culture Documents
Nanotechnologie
Garant předmětu:
Prof. RNDr. Pavel Tománek, CSc.
Autor textu:
Prof. RNDr. Pavel Tománek, CSc.
2 FEKT Vysokého učení technického v Brně
Seznam obrázků
Obr. 2.1: Multidisciplinární charakter nanověd a nanotechnologie....................................................................... 15
Obr. 2.2: Charakteristické rozměry předmětů ....................................................................................................... 17
Obr. 2.3: Mendělejevova periodická tabulka prvků .............................................................................................. 18
Obr. 2.4: Současné aplikace nanotechnologie a předpokládaný vývoj.................................................................. 20
Obr. 3.1: (a) Amorfní B2O3 vykazuje krátkodosahové uspořádání. (b) Krystalický B2O3 vykazuje též
dalekodosahové uspořádání ......................................................................................................................... 21
Obr. 3.2: (a) Plošně centrovaná kubická struktura krystalu NaCI. Koordinačni číslo (počet nejbližších sousedů u
každého iontu) je 6. (b) Model krystalu NaCI v reálném měřítku ............................................................... 23
Obr. 3.3: (a) Prostá kubická struktura v krystalu CsCl. Koordinační číslo je 8. (b) Model krystalu CsCl v reálném
měřítku......................................................................................................................................................... 23
Obr. 3.4: (a) Tetraedrická struktura diamantu. Koordinační číslo je 4. (b) Model krystalu diamantu v reálném
měřítku......................................................................................................................................................... 26
Obr. 3.5: Molekula vody je polární, protože sdílené elektrony se s největší pravděpodobností vyskytují mezi
atomem kyslíku a vodíkovými atomy .......................................................................................................... 27
Obr. 3.6: Polární molekuly se navzájem přitahují ................................................................................................. 28
Obr. 3.7: Polární molekula přitahuje polarizovatelné molekuly............................................................................ 28
Obr. 3.8: Nepolární molekuly mají v průměru symetrické rozdělení náboje, avšak v libovolném okamžiku je
takové rozdělení asymetrické. Na obrázku je znázorněno, jak probíhají fluktuace nábojového rozdělení
dvou blízkých molekul s výslednou přitažlivou silou mezi nimi, jejíž velikost je úměrná 1/r7 ................... 29
Obr. 3.9: V molekule H2O obsazují čtyři páry valenčních elektronů u atomu kyslíku (čtyřmi elektrony přispívá
atom O a po jednom každý atom H) čtyři hybridní orbity sp3, jež tvoří tetraedrickou strukturu. Každá
molekula H2O může vytvářet vodíkové vazby se čtyřmi jinými molekulami H2O...................................... 30
Obr. 3.10: Pohled shora a z boku na krystal ledu ukazující otevřené hexagonální uspořádáni molekul H20. Každá
molekula má čtyři nejbližší sousedy, s nimiž je spojena vodíkovými vazbami ........................................... 30
Obr. 3.11: Grafit se skládá z vrstev uhlíkových atomů v hexagonálních útvarech, kde každý atom je vázán se
třemi ostatními. Vrstvy jsou navzájem vázány slabými van der Waalsovými silami .................................. 33
Obr. 3.12: Vazby Si-O křemičitých strukturách jsou částečně kovalentního a částečně iontového charakteru .... 34
Obr. 3.13: a) Jednoduchý řetězec čtyřstěnů SiO4. Každá strukturní jednotka má vzorec [SiO3]2-. Ionty O-
navrchu a na boku řetězce mohou tvořit iontové vazby s kovovými ionty. b) Dvojrozměrné znázornění
řetězce. Nepřerušované čáry představují vazby Si-O................................................................................... 34
Obr. 3.14: Sousední řetězce [SiO3]2- v MgSiO3 jsou vázány prostřednictvím iontů Mg2+ .................................... 34
Obr. 3.15: Plástev čtyřstěnů SiO4. Každá strukturní jednotka má vzorec [Si2O5]2-. Ionty O- navrchu plástve
mohou tvořit iontové vazby s kovovými ionty .......................................................................................... 35
Obr. 3.16: Struktura Al(OH)3 ................................................................................................................................ 35
Obr. 3.17: Boční pohled na strukturu jílového nerostu kaolinitu. Sousední vrstvy jsou navzájem poutány slabými
van der Waalsovými silami.......................................................................................................................... 35
Obr. 3.18: Struktura kaolinitu snadno absorbuje molekuly vody, protože atomy O vykazují nevelký záporný
náboj a skupiny OH nevelký kladný náboj .................................................................................................. 35
Obr. 3.19: Prostorovou mřížku lze zkonstruovat opakovanou translací elementární buňky podél jejích hran.... 37
Obr. 3.20: Typy elementárních buněk ................................................................................................................... 38
Obr. 3.21: Pět rovinných Bravaisových mřížek. Jejich základní buňka má tvar a) čtverce, b) prázdného
obdélníka, c) centrovaného obdélníka, d) kosočtverce, e) kosodélníka ....................................................... 38
Obr. 3.22: Bravaisovy mřížky krystalů ................................................................................................................. 40
Obr. 3.23: Vrstvy identických koulí. a) Ve čtvercové struktuře zaplňují koule 78,5% celkové plochy.
b) V hexagonální struktuře zaplňují koule 90,7% celkové plochy............................................................... 41
Obr. 3.24: Hexagonální těsně uspořádaná struktura. a) Schematický pohled. b) Model v reálném měřítku......... 41
Obr. 3.25: a) Atomy v těsně uspořádaných vrstvách B a C leží nad dvěma různými soubory prohlubní v těsně
uspořádané vrstvě A. b) Hexagonální těsně uspořádaná struktura se skládá ze střídajících se vrstev A a B.
c) Plošně centrovaná kubická struktura se skládá z posloupností vrstev A, B a C ...................................... 42
Obr. 3.26: Plošně centrovaná kubická struktura. (a) Těsně uspořádané vrstvy. (b) Schematický pohled. (c) Model
v reálném měřítku ........................................................................................................................................ 42
Obr. 3.27: Těsná vazba kuliček na rovinném povrchu: (a) pro monovrstvu, (b) s další přidanou vrstvou. Kroužky
druhé vrstvy jsou znázorněny menší pro větší názornost. Poloha oktaedric-kého místa je označena X,
poloha tetraedrického místa T v obr b) ........................................................................................................ 43
Obr. 3.28: Prostorově centrovaná kubická struktura zobrazující 12 nejbližších atomů, které obklopují atom ve
středu krychle (tmavý kroužek) ................................................................................................................... 44
Obr. 3.29: Nanočástice s 13 atomy rozmístěnými v fcc elementární buňce vytváří čtrnáctistěn sdružený
s nanoklastrem. Tři prázdná kolečka v pravém horním rohu odpovídají atomům horní vrstvy nanočástice,
6 FEKT Vysokého učení technického v Brně
šest plných kroužků plus atom ve středu krychle (nezobrazen) tvoří střední hexagonální vrstvu a prázdný
kroužek v dolním levém rohu krychle je jedním za tří atomů dolní vrstvy klastru ......................................44
Obr. 3.30: Geometrie plošně centrované kubické elementární buňky ...................................................................45
Obr. 3.31: Závislost pozorovaných křivek hmotnostních spekter Nan nanočástic na n1/3 počtu atomů N v klastru.
Křivky jsou označeny indexem n jejich elektronových a strukturálních magických číslech (Martin et al,
1990) ............................................................................................................................................................46
Obr. 3.32: Elementární buňka: (a) diamantové struktury, která obsahuje pouze 1 typ atomů. (b) blejna zinkového
(sfalerit) se dvěma typy atomů. Tyčinky představují tetraedrickou vazbu mezi nejbližšími atomy. Malá
čárkovaná rychle představuje čtyřstěn. (G. Burns, Solid state physics, Academic Press, Boston, 1985, s.
148) ..............................................................................................................................................................47
Obr. 3.33: Seskupení velkých atomů síry s menšími atomy zinku ve sfaleritu (ZnS). Každý atom je centrován ve
čtyřstěnu jiného typu atomu (dle R.W.G. Wyckoff, Crystal structures, vol. 1, Wiley, New York, 1964, s.
109) ..............................................................................................................................................................47
Obr. 3.34: Koordinační číslo 3 při různých poměrech atomových poloměrů........................................................48
Obr. 3.35: Minimální poměr atomových poloměrů pro koordinační číslo 3 .........................................................48
Obr. 3.36: Závislost podélného normálního módu kmitů o frekvenci ω na vlnovém čísle k = 2π/λ pro lineární
dvouatomový řetězec se střídajícími se hmotnostmi m < M. Klidová vzdálenost mezi nimi je a, tuhost
pružiny C......................................................................................................................................................49
Obr. 3.37: Energetické pásy a) nevodiče, b) vlastního polovodiče, c) vodiče. Šrafování představuje přítomnost
elektronů v pásech........................................................................................................................................51
Obr. 3.38: Nákres zakázaného energetického pásu, v němž jsou vyznačeny akceptorové hladiny v typické
vzdálenosti ΔA nad vrškem valenčního pásu a donorové hladiny v typické vzdálenosti ΔD pod spodní
hranou vodivostního pásu a hluboké pasti blíže ke středu zakázaného pásu. Velikost tepelné energie kBT je
zobrazena vpravo nahoře..............................................................................................................................51
Obr. 3.39: (a) 2D elementární buňka v souřadnicovém prostoru x,y. (b) Odpovídající Brillouinova zóna
v recipročním prostoru kx, ky pro pravoúhlou Bravaisovu mřížku................................................................52
Obr. 3.40: Brillouinova zóna GaS a ZnS polovodičů vykazuje vysokou symetrii v bodech Γ, K, L, U, W, X a
křivky vysoké symetrie Δ,Λ,Σ,Q, S, Z .........................................................................................................53
Obr. 3.41: Pásová struktura GaAs polovodiče vypočítaná pomocí pseudopotenciálové metody (M.L. Cohen, J.
Chelikowsky, Electronic structure and electronic properties of semiconductors, 2nd ed. Springer-Verlag,
Solid State Science., Vol. 75, 1989) .............................................................................................................54
Obr. 3.42: Parabolické vyjádření nejnižšího valenčního pásu a horního vodivostního pásu polovodiče. Oblast ve
valenčním pásu obsahující díry a oblast ve vodivostním pásu obsahující elektrony jsou vyšrafovány.
Fermiho energie EF a E´F označují nejvyšší obsazenou hladinu vodivostního pásu a nejníže neobsazenou
hladinu valenčního pásu. Nulová energie je na vrcholu valenčního pásu a přímý přechod zakázaného pásu
Eg je vyznačen ..............................................................................................................................................55
Obr. 3.43: Teplotní závislost vlastní hustoty náboje polovodičů Ge, Si a GaAs. V nejnižší oblasti teplot závislost
není zcela lineární, pochází od faktoru T3/2 z rovnice (3.25) .......................................................................55
Obr. 3.44: Pásová struktura energetických pásů polovodičů s nepřímým přechodem tj. (a) Si a (b) Ge. Zakázaný
pás leží mírně nad Fermiho energií E = 0 na obou obrázcích s vodivostním pásem nad a valenčním pásem
pod zakázaným pásem. Obrázek ukazuje že nejnižší bod vodivostního pásu Ge je při energii E = 0,6
v symetrickém bodě L (L6+) a pro Si je v 85% cesty ve směru Δ1 mezi Γ15 a X1. Z Obr. 3.41 je zřejmé, že
dno vodivostního pásu pro polovodič s přímým přechodem GaAs je v symetrickém bodě Γ6. Vrchol
valenčního pásu je ve středním bodě Brillouinovy zóny pro oba materiály.................................................56
Obr. 3.45: Elipsoidní plochy konstantní energie ve vodivostním pásu germania (vlevo) a křemíku (vpravo). Tyto
plochy pro Ge jsou orientovány podél směru symetrie Λ a centrovány v bodě symetrie L. Výsledkem je, že
leží jednou polovinou (spojitá čára) uvnitř a druhou (čárkovaná) vně první Brillouinovy zóny, tedy tato
zóna obsahuje ekvivalent čtyř kompletních energetických ploch. Pro Si leží plochy ve 6 směrech symetrií
Δ (tj. podél ± kx, ± ky, ± kz) a jsou centrovány v 85% vzdálenosti od středového bodu G k bodu symetrie X.
Všech šest leží zcela uvnitř Brillouinovy zóny. Obr. 3.40 znázorňuje pozice symetrických bodů Γ, L a X a
symetrických čar Δ a Λ v Brillouinově zóně................................................................................................56
Obr. 3.46: První energetické hladiny v Rydbergově serii atomu vodíku (vlevo), pozitronia (uprostřed) a
typického excitonu (vpravo).........................................................................................................................60
Obr. 4.1: Odraz svazku X-paprsků, dopadající pod úhlem θ na dvě rovnoběžné roviny vzdálené od sebe d. Jejich
dráhový rozdíl je 2d sin θ .............................................................................................................................64
Obr. 4.2: 2D kubická matice vyjadřuje projekci párů rovin (110) a (120) (kolmých k povrchu), jejichž vzájemná
vzdálenost je d..............................................................................................................................................65
Obr. 4.3: Histogram rozložení velikosti zrnek v nanokrystalickém TiN určeném na základě TEM mikrogramu.
Fitovací parametry pro čárkovanou křivku jsou D0 = 5,8 nm a σ = 1,71 nm. (C. E. Krill et al., v Nalwa
(2000), vol. 2, chapter 5, p. 207) ..................................................................................................................65
Nanotechnologie 7
Obr. 4.4: Difrakční sken nanokrystalků TiN pomocí X-paprsků. Velikost zrnek je určena v Obr. 4.3. Bylo
použito záření Kα molybdenu o vlnové délce λ = 0,07093 nm, vypočtené z (4.1). Rentgenové čáry jsou
označeny jejich odpovídajícími indexy krystalografických rovin hkl. Všimněme si, že všechny indexy jsou
nebo záporné, jak se očekává pro fcc kubickou stěnově centrovanou strukturu. Neindexovaná čára
v blízkosti 2θ = 15°je způsobena neidentifikovatelnou nečistotou. (C. E. Krill et al., v Nalwa (2000), vol.
2, chapter 5, p. 200) ..................................................................................................................................... 66
Obr. 4.5: Debyeova-Schererova metoda difrakce X-paprsků na prášku. Schéma zařízení (nahoře). Dráha X-
paprsků pro Braggův úhel θ (dole vlevo) a obrázky kužele difrakčního svazku z oblouku stočeného filmu
(dole vpravo). (Dle G. Burns, Solid state physics, Academic Press, Boston, 1985, p. 81) .......................... 67
Obr. 4.6: Mikrofotografie z TEM mikroskopie polyanilinových nanočástic v matrici polymeru. (B. Wessling, in
Handbook of organic conductive molecules and polymers, H.S.Nalwa, ed. Wiley, New York, 1997, Vol. 3.
p. 497) .......................................................................................................................................................... 67
Obr. 4.7: Dopplerovské laserové měření rozdělení velikosti vodivých polymerových částic rozptýlených
v organickém rozpouštědle. Velikost částic 9-30 nm s maximem 12 nm. (B. Wessling, in Handbook of
organic conductive molecules and polymers, H.S.Nalwa, Ed. Wiley, New York, 2000, Vol. 5. p. 508) .... 68
Obr. 4.8: Schéma hmotnostního spektrometru s 90°magnetickým analyzátorem. A- destička akcelerátoru nebo
extraktoru, E – elektronová past, f – žhavicí vlákno , I – ionizační komora, R – odpuzovací destička, L –
čočky, S – štěrbiny. Indukce magnetického pole B je kolmá k rovině schématu........................................ 69
Obr. 4.9: Time-of-flight hmotnostní spektra sazí získaných laserovým odpařováním lanthano-uhlíkového terčíku,
vykazují přítomnost několika fulerenových molekul: C60, C70, C76, C78, C82, C84 a LaC82. Spektra
odpovídají a) původním hrubým sazovým extraktům, b) frakce po průchodu chromatografickým sloupcem,
c) druhá frakce izolující a oncentrující endoedrální sloučeninu LaC82. (Dle K. Kikuchi, S. Suzuki, Y.
Nakao, N.Yakahara, T. Wakabayashi, I.Ikemoto and Y. Achiba, Chem. Phys. Lett., Vol. 216, p. 67 1993)
..................................................................................................................................................................... 69
Obr. 4.10: Schéma konvenčního TEM (horní šipka) a skenovacího TEM (dolní šipka). SAED – Selected area of
electron diffraction. (Upraveno dle P.R. Busech, J.M. Cowley, L. Eyring, High-resolution transmission
electron microscopy, Oxford University Press, New York, 1988, p.6)........................................................ 71
Obr. 4.11: Poloha detektorů v elektronovém mikroskopu..................................................................................... 72
Obr. 4.12: TEM obrazy 2-3 nm γ´ precipitátů Ni2(Ti,Al) v superslitině na bázi železe s fcc austenitovou
strukturou. a) Difrakční obraz [100] fcc zóny s jasnými skvrnami od superslitiny a stěží viditelnými
skvrnkami γ´ precipitátů. b) Obraz v jasném poli představující pole pružného napětí o průměru 25 nm
kolem stěží viditelných γ´ částic. c) Obraz v tmavém poli získaný pomocí SAED apertury, které umožní
průchod jen γ´ difrakčních skvrnek označených šipkou v Obr. 4.12a.. Na Obr. 4.12c jsou znázorněny jen
γ´ částice precipitátu. (Dle T.J. Headley, in R.E. Whan, 1986, p.442)......................................................... 72
Obr. 4.13: Postup techniky zpracování obrazu na příkladu obrazu z TEM mikroskopu nanočástic niklu na SiO2
substrátu. a) Původní obraz ve světlém poli, b) rychlá FT připomíná difrakční obrazec, c) obraz
zpracovaný pomocí apertury ve výřezu, d) obraz po dalším zpracování pomocí jiné apertury, e) finální
výsledek, f) obraz SiO2 substrátu po odečtení obrazu částice, g) model nanočástice vytvořený na základě
zpracovaných dat ......................................................................................................................................... 73
Obr. 4.14: Mikroskopie pomocí iontového pole wolframového hrotu (TJ. Godfrey) vysvětlená stereografickou
projekcí Obr. 4.15 (podle G.D.W. Smith, chapter in Whan, p.585, 1986)................................................... 74
Obr. 4.15: Stereografická [011] projekce kubického krystalu odpovídající iontovému poli wolframu z Obr. 4.14
(podle G.D.W. Smith, chapter in Whan, p.583, 1986)................................................................................. 74
Obr. 4.16: Vychylování elektronů ve dvou směrech v SEM. Když horní cívky I1-I1 vychýlí svazek elektronů o
úhel θ, dolní cívky I2-I2 jej vychýlí zpět o úhel 2θ. Elektrony přitom skenují vzorek podél skenovaní čáry.
Obrázek vlevo nahoře ukazuje pilovité napětí, které řídí proud při průchodu skenovacími cívkami Ii. Dolní
obrázek vlevo ukazuje posloupnost bodů na vzorku pro různé dráhy elektronů 1,2,3,4,5 podél osy
mikroskopu. Skenovaní cívky f1-f1 a f2-f2 vytvářejí odchylku svazku pro řadu bodů 1, 1´, 1´´. (Dle J.D.
Verhoeven, chapter in Whan, p. 493, 1986) ................................................................................................ 75
Obr. 4.17: SEM Mikrofotografie 3nm zlatých částic na uhlíkovém substrátu. (Dle J.D. Verhoeven, chapter in
Whan, p. 497, 1986)..................................................................................................................................... 76
Obr. 4.18: Pracovní režimy STM: a) režim konstantní výšky, b) režim konstantního proudu .............................. 76
Obr. 4.19: Skenovaní mechanismus STM: (1) piezoelektrická základní deska se vzorkem, (2) trojnožka, (3) 3D
piezo skener s hrotem směřujícím k vzorku................................................................................................. 77
Obr. 4.20: Schéma AFM: Raménko sondy s hrotem skenuje vzorek. Na horním obrázku je senzor pro měření
výchylky interferenčního obrazu, na dolním je zvětšený obraz raménka a hrotu s kvadrantovým detektorem
pro měření výchylky laserového svazku od raménka .................................................................................. 77
Obr. 4.21: 3D AFM obraz nanostruktury vytvořené laserovou depozici atomového chromu ve tvaru Gaussovy
stojaté vlny na povrch SiO2. (Dle J.J.Mc Clelland, R. Gupta, Z, Jabbour and R.L. Celotta, Aust. J. Phys.,
vol.49, p. 555, 1996) .................................................................................................................................... 78
8 FEKT Vysokého učení technického v Brně
Obr. 4.22: AFM obraz stejné situace jako v Obr. 4.21, vytvořený pomocí dvou vzájemně kolmých Gaussových
stojatých vln. (dle R. Gupta, J.J.Mc Clelland, Z, Jabbour and R.L. Celotta, Appl. Phys Lett.,., vol. 67,
p.1378, 1995) ...............................................................................................................................................78
Obr. 4.23: FTIR spektrum nanoprášku Si3N4 (a) při pokojové teplotě získané ve vakuu, (b) po aktivaci při 773K.
(Dle G. Ramis, G. Busta, V. Lorenzelli, M.-I. Baraton, T. Merle-Méjean and P. Quintard, surfaře and
interface of ceramic materials, Kluwer, Dordrecht, p. 173, 1989................................................................80
Obr. 4.24: FTIR spektrum nanoprášku SiCN. (a) registrované po aktivaci při 873 K, (b) registrované po dalším
ohřevu kyslíkem při 773 K po dobu 1 hodiny. (Dle M-I.Baraton, W. Chang and B.H. Kear, J. Phys. Chem,
vol. 100, p.16647, 1996) ..............................................................................................................................80
Obr. 4.25: Závislost Ramanova spektra germaniových mikrokrystalů (μc-Ge) usazených v tenké vrstvě SiO2 na
velikosti krystalu. V obrázku je vyznačena průměrná velikost a pološířka FWHM Ramanovy čáry každého
vzorku. (Dle M.Fuji, S. Hayashi, and K. Yamomoto, Jpn.J.Appl. Phys., vol.30, p. 657, 1991) ..................81
Obr. 4.26: Ramanovo spektrum nanokrystalů germania a histogram rozložení jejich velikostí. Střední hodnota je
6,5 nm (vpravo). Částice byly použity k simulaci (spojitá čára) Ramanova spektra (tečkovaně) (nahoře).
Rozložení částic bylo získání pomocí TEM. (C.E. Bottani, C. Mantini, P. Milani, M. Manfredini, A. Stella,
P. Tognini, P. Cheysaac, R. Kofman, Appl. Phys. Lett., vol. 69, p. 2409, 1996) .........................................81
Obr. 4.27: Absorpční spektra koloidních nanokrystalů CdSe o průměrné hodnotě poloměru 1,2 - 4,1 nm měřená
při pokojové teplotě. (Dle V.I.Klimov, v Nalwa (2000), vol. 4, Chapter 7, p. 464).....................................82
Obr. 4.28: Závislost zakázaného pásu CdSe polovodičových nanočástic ve tvaru skla ( ) a koloidního roztoku
(•) na poloměru částic. Hodnoty pro koloidní roztok jsou na Obr. 3.27. Spojitá čára je fitovací křivkou,
vypočtenou z parabolického pásového modelu vibračního potenciálu. (Dle V.I.Klimow, in Nalwa (2000),
vol.4. kap. 7, p. 465).....................................................................................................................................83
Obr. 4.29: X-paprsky o energii hv dopadají na vzorek a generují fotoelektrony e-, které jsou charakteristické pro
materiál vzorku. Ty pak procházejí analyzátorem rychlostí a dopadají přes štěrbinu na detektor, kde se
měří jejich kinetická energie ........................................................................................................................83
Obr. 4.30: Spektra rentgenových fotoelektronů (XPS) nanokrystalického InP vykazují a) signál od 3d5/2 india a
b) 2p fosforový pík. (Dle Q. Yitai, in Nalwa (2000), vol.1, Chapt. 9, p.427) ..............................................84
Obr. 4.31: Závislost Moseleyovy křivky Kα a Lα charakteristických frekvencí x-paprsků na atomovém čísle Z.
(Dle C.P. Poole, Jr., H.A.Farach a R.J. Creswick, Superconductivity, Academic Press, Boston, 1995,
p.515) ...........................................................................................................................................................85
Obr. 4.32: Experimentálně určená ionizační energie vnějšího elektronu v různých prvcích. (Dle R. Eisberg a R.
Resnick, Quantum Physics, Wilex, New York, 1994, p. 364) .....................................................................85
Obr. 4.33: Energiový diagram molybdenu ukazuje přechody K a L serií rentgenových čar .................................86
Obr. 4.34: Spektrum jaderné magnetické rezonance fullerenových molekul C70 obohacených izotopem 13C. Pět
NMR čar od a,b,c,d,e karbonů z molekuly vpravo dole mají v hořejším spektrum poměr intenzit
10:10:20:20:10, což odpovídá počtu každého typu uhlíku v molekule. Tzv. 2D NMR spektrum (vlevo
dole), což je závislost konstantních frekvencí spin-spinové vazby na chemickém posuvu, vyjádřený v ppm,
ukazuje dublety odpovídající určeným párům uhlíkové vazby. Ppm měřítko je použito jak na 2D spektrum
(dole), tak i na konvenční NMR spektrum (nahoře). Jedna z NMR čar odovídá fullerenu C60, který zde
představuje nečistotu. (K. Kikuchi, S. Sužuji, Y. Nakao, N. Nakahara, T. Wakayabashi, H. Shiromaru, I.
Ikemoto, and A. Achiba, Chem.Phys. Lett., 216, 67, 1993) .........................................................................87
Obr. 4.35: Spektrum elektronové paramagnetické rezonance endoedrální fullerenové molekuly LaC82 rozpuštěné
v toluenu při T = 220 K. Nepárový elektron delokalizovaný na uhlíkové mřížce interaguje s I = 7/2
jaderným spinem atomu lanthanu uvnitř mřížky aby vytvořil pozorovaný hyperjemný multiplet s osmi
čarami. (R.D.HJohnson, D.S.Bethune, C.S.Yannoni, Acc. Chem. Res.,25, 169, 1992) ...............................88
Obr. 5.1: Rozdíl mezi molekulami, nanočásticemi a objemovým materiálem podle počtu atomů v klastru .........90
Obr. 5.2: Magická čísla:Data z hmotnostní spektrometru Pb klastru.....................................................................90
Obr. 5.3: Hmotnostní spektrum olověných klastrů ................................................................................................91
Obr. 5.4: Závislost ionizační energie na a) atomovém čísle jednoho atomu sodíku (ionizační energie atomu
sodíku při Z = 11 je 5,14 eV), b) sodíkových nanočástic na počtu atomů v klastru (dle A.Herman et al,
J.Chem.Phys, 80, 1780, 1984)......................................................................................................................91
Obr. 5.5: Srovnání energetických hladin atomu vodíku a pudinkového modelu klastru. Elektronová magická čísla
jsou pro He: 2, Ne: 10, Ar: 18 a Kr: 36 (krypton není zobrazen) a pro klastry 2, 18, 40. (dle B.K. Rao et al.
J. Cluster Sci., 10, 477, 1999) ......................................................................................................................92
Obr. 5.6: a) Elementární buňka objemového hliníku. b) Tři možné struktury Al13: kubická plošně centrovaná
struktura fcc, šesterečná těsně vázaná struktura hcp a icosaedrální struktura icos ......................................93
Obr. 5.7: Závislost poměru délky osy c k ose a čtyřstěnné elementární buňky nanočástic india na průměru částic.
(A. Yokozeki, G.D. Stein, J. Appl. Phys. 49, 224 (1978)) ...........................................................................94
Obr. 5.8: Ilustrace několika vypočtených struktur nanočástic bóru.......................................................................95
Nanotechnologie 9
Obr. 5.9: Ukázka, jak se hladiny energie kovu mění při snižování počtu atomů: a) valenční pás objemového
kovu, b) velký kovový klastr se 100 atomy vyjadřuje otevření zakázaného pásu, c) malý kovový klastr
obsahující tři atomy ..................................................................................................................................... 96
Obr. 5.10: Výpočet hustoty excitovaných stavů nanočástic B6, B8, B12. Fotonově indukované přechody mezi
nejnižšími a vyššími hladinami určují barvu částic ..................................................................................... 96
Obr. 5.11: UV spektrum fotoelektronů v oblasti valenčního pásu nanočástic mědi s 20 a 40 atomy. (Upraveno dle
C.L. Pettiete et al. Chem.Phys,, 88, 5377, 1988).......................................................................................... 97
Obr. 5.12: Závislost afinity elektronů mědi na počtu atomů v nanočástici .......................................................... 97
Obr. 5.13: Hmotností spektrum nanočástic hliníku před (vlevo) a po (vpravo) expozici kyslíkem (upraveno
z R.A.Leuchner et al,, J. Chem Phys, 91, 2753 1989) ................................................................................. 98
Obr. 5.14: Závislost relativní reaktivity vodíku s nanočásticemi železa v závislosti na počtu atomů v částici.
(Upraveno dle R.L. Whetten et al., Phys. Rev. Lett., 54, 1494, 1985) ......................................................... 98
Obr. 5.15: Série snímků z elektronového mikroskopu zlatých nanočástic s asi 460 atomy, ukazující vývoj v čase
fluktuačně indukovaných změn struktury (S. Sutano, H.Koizumi, Microcluster Physics, Springer, Berlin,
1998, p. 18) .................................................................................................................................................. 99
Obr. 5.16: Sternův-Gerlachův experiment pro měření magnetických momentů nanočástic. Svazek kovových
klastrů ze zdroje je vyslán mezi póly permanentního magnetu, které vytvářejí gradientní magnetické pole,
které působí silou na magnetické momenty dipólů klastru, čímž dochází k vychylování svazku.
Magnetický moment může být určen z měření odchylek na stínítku (fotodeska nebo obrazovka)............ 100
Obr. 5.17: Závislost magnetického momentu nanočástic rhenia na počtu atomů v částici. (A.J.Cox et al., Phys.
Rev., B49, 12295, 1994) ............................................................................................................................ 101
Obr. 5.18: Závislost bodu tání zlatých nanočástic na průměru částice ................................................................ 101
Obr. 5.19: Optické absorpční spektrum přechodů vodíkového typu excitonů Cu2O........................................... 102
Obr. 5.20: Optické absorpční spektrum pro dvě nanočástice o velikosti 2 nm a 4 nm........................................ 103
Obr. 5.21: Závislost průřezu fotodisociace nanočástic křemíku na počtu atom v částici (upraveno z L. Bloomfield
et al., Phys. Rev. Lett., 54, 2266, 1985)...................................................................................................... 104
Obr. 5.22: Ilustrace, jak jsou fermiony a bosony rozloženy v energetických hladinách systému při vysoké a úzké
teplotě ........................................................................................................................................................ 106
Obr. 5.23: Závislost specifického tepla na teplotě pro kapalné helium (spojitá čára) a kapalinu obsahující klastr
64 atomů helia (čárkovaně). Pík odpovídá přechodu do supertekutého stavu (P. Sindzingre, Phys. Rev.
Lett., 63, 1601, 1989) ................................................................................................................................ 107
Obr. 5.24: Vodíkově vázaný klastr pěti molekul vody. Velké koule jsou kyslíkové, malé vodíkové atomy ...... 107
Obr. 5.25: Zařízení na syntézu nanočástic použitím plasmy produkované RF ohřevem helia ............................ 108
Obr. 5.26: Zařízení k výrobě kovových nanočástic teplotním rozkladem kovových kationtů a molekulových
aniontů nebo kovových organických pevných látek .................................................................................. 109
Obr. 5.27: Spektra paramagnetické rezonance elektronů při teplotě a) 300 K, b) 77 K. Pocházejí od vodivostních
elektronů v nanočásticích lithia, které vznikly tepelným rozkladem LiN3................................................. 110
Obr. 5.28: Zařízení na výrobu nanočástic stříbra, které používá pulsní laser k tvorbě horkých míst na povrchu
rotujícího disku (J.Singh, Mater. Today, 2, 10, 2001) ............................................................................... 110
Obr. 6.1: a) Zobrazení px, py a pz orbitálů atomu uhlíku. b) struktura metanu CH4, kdy předpokládáme, že
valenční orbitály uhlíku jsou čistě px, py a pz orbitály, c) skutečná struktura CH4 vysvětlovaná pomocí sp4
hybridizace................................................................................................................................................. 112
Obr. 6.2: a) Kuban C8H8 – kubická struktura uhlíku, b) 12stěnná struktura C20H20 ........................................ 113
Obr. 6.3: Hmotností spektrum uhlíkových klastrů. Výrazné píky jsou v případě C60 a C70 ............................. 114
Obr. 6.4: Ukázky struktur malých uhlíkových klastrů......................................................................................... 114
Obr. 6.5: Optické spektrum světla od hvězd. Maximum pro 5,6 eV je způsobeno absorpcí na C60 v
mezihvězdném prachu ............................................................................................................................... 115
Obr. 6.6: Struktura molekuly fullerenu C60 ........................................................................................................ 116
Obr. 6.7: Buňka krystalové mřížky molekuly C60 (velké koule) dotovaná alkalickými atomy (tmavé kuličky). 116
Obr. 6.8: Závislost magnetizace na teplotě pro K3C60 ukazuje přechod k supravodivému stavu ........................ 117
Obr. 6.9: Závislost teploty přechodu A3C60 na parametru mřížky, kde A je poloměr alkalického atomu......... 117
Obr. 6.10: Zobrazení předpověděné struktury molekuly N20 vypočtené pomocí teorie hustoty ........................ 118
Obr. 6.11: Ukázka možných struktur uhlíkových nanotrubiček. Závisí na tom, jak jsou grafitové listy stočeny: a)
struktura lenošky (armchair), b) cikcak struktura, c) chirální struktura d) krystalová mřížka grafenu.
Tečkovaně jsou vyjádřeny slabé van der Waalsovy síly, které se snadno přeruší a oddělí se jednotlivé listy
................................................................................................................................................................... 119
Obr. 6.12: Experimentální zařízení pro syntézu uhlíkových nanotrubiček laserovým odpařováním .................. 119
Obr. 6.13: Jednovrstvá a vícevrstvá trubička....................................................................................................... 120
10 FEKT Vysokého učení technického v Brně
Obr. 6.14: Na listu grafitu jsou zobrazeny základní vektory a1, a2 2D elementární buňky, vektor osy T, kolem
níž se list stáčí, aby vytvořil lenoškovou strukturu nanotrubičky z Obr. 6.11a a obvodový vektor Ch
(kolmý k T). Další orientace T (čárkovaně) vytvářejí další struktury nanotrubičky z Obr. 6.11b a Obr.
6.11c...........................................................................................................................................................121
Obr. 6.15: Závislost energie zakázaného pásu polovodivé chirální uhlíkové trubičky na převrácené hodnotě
jejího poloměru ..........................................................................................................................................121
Obr. 6.16: Závislost normované diferenciální vodivosti (dI/dV)/(I/V) z měření pomocí STM mikroskopu
tunelového proudu a) kovových a b) polovodičových nanotrubiček. (C. Dekker, Phys. Today 22, květen
1999) ..........................................................................................................................................................122
Obr. 6.17: V-A charakteristiky pro 2 různá napětí na hradle v případě přenosu elektronů jednoduchou kovovou
strukturou – vykazují stupňovitý průběh....................................................................................................123
Obr. 6.18: Vliv SS magnetického pole na rezistivitu nanotrubiček při teplotě 0,35 K a 2,3 K. (dle R.Saito, G.
Dresselhaus a M. S. Dresselhaus, Physical properties of nanotubes, Imperial College Press, 1998) ........124
Obr. 6.19: Obraz dvou normálních vibračních modů uhlíkových nanotrubiček..................................................124
Obr. 6.20: Závislost frekvence Ramanova A1g normálního vibračního modu na poloměru nanotrubičky ..........125
Obr. 6.21: Schéma FET vyrobeného z uhlíkových nanotrubiček ........................................................................127
Obr. 6.22: Ilustrace konceptu počítačového přepínače z nanotrubiček (C. M. Lieber, Sci.Am., 59, září 2001)...128
Obr. 6.23: Elektrochemická buňka použitá k injektování vodíku do uhlíkových nanotrubiček. Buňka sestává
z elektrolytického roztoku KOH se zápornou elektrodou tvořenou listem z uhlíkových nanotrubiček.
Přiložení napětí na elektrody způsobí, že H+ iont je přitahován k záporné elektrodě ................................128
Obr. 6.24: Ramanovské spektrum uhlíkových nanotrubiček s maximální intenzitou při 2667 cm-1, zaznamenané
před (nenabité) a po (nabité) zpracováním v elektrochemické buňce z Obr. 6.23 .....................................129
Obr. 6.25: V-A charakteristika pro FET z uhlíkových trubiček před (a) a po (b) expozici NO2. Data byla získána
při hradlovém napětí 4V.............................................................................................................................129
Obr. 6.26: Pevnost v tahu v závislosti na % objemu uhlíkových nanotrubiček vůči oceli, vypočtená dle Kellyho-
Tysonova vzorce Rozměr nanotrubiček - délka 100 μm, průměr 10 nm ...................................................131
Obr. 7.1: (a) Hypotetická uspořádaná 2D mřížka Al12 nanočástic, (b) 2D neuspořádaná nanostruktura týchž
nanočástic...................................................................................................................................................132
Obr. 7.2: Rozložení velikostí Fe-Cu nanočástic vyrobených horkou kompaktní metodou..................................132
Obr. 7.3: Závislost napětí na poměrném prodloužení pro kompaktní Fe-Cu nanostrukturovaný materiál vykazuje
lom při napětí 2,8 GPa ...............................................................................................................................133
Obr. 7.4: Ilustrace metody „chlazení taveniny na rotujícím bubnu“ na výrobu nanostruktorovaných materiálů
pomocí rychlým tuhnutím na rotujícím bubnu. (z I. Chang, Handbook of Nanostructured Materiále and
Nanotechnology, H.S. Nalwa (Ed.), Academic Press, San Diego, 2000, vol. 1, Chapter 11, p. 501) .......133
Obr. 7.5: Zařízení na výrobu kapiček kovových nanočástic atomizací plynu. (z I. Chang, Handbook of
Nanostructured Materiále and Nanotechnology, H.S. Nalwa (Ed.), Academic Press, San Dieogo, 2000,
vol. 1, Chapter 11, p. 501)..........................................................................................................................134
Obr. 7.6: Trhlina v 2D mřížce..............................................................................................................................135
Obr. 7.7: Hranová dislokace v 2D obdélníkové mřížce .......................................................................................135
Obr. 7.8: Závislost poměru Youngova modulu nanostrukturovaného železa E a objemového železa E0,
v závislosti na velikosti zrnek ....................................................................................................................136
Obr. 7.9: Závislost meze v kluzu slitiny Fe-Co na 1/ d . d je velikost zrnka. (Dle C.H. Slang et al, J.
Mater.Res. 15, 835, 2000) ..........................................................................................................................136
Obr. 7.10: Křivka závislosti napětí na relativním prodloužení pro nanostrukturovanou měď připravenou
depozicí. (L.Lu et al, J. Mater. Res., 15, 270, 2000) ..................................................................................137
Obr. 7.11: Závislost tvrdosti TiN/NbN multivrstev na tloušťce vrstev. (Dle B.M.Clemens, MRS Bulletin,
Feb.1999, p.20.) .........................................................................................................................................138
Obr. 7.12: Průřez litograficky vyrobeným zařízením pro měření vodivosti v 2D poli zlatých nanočástic
spojených navzájem organickými molekulami. (R.P.Anders et al, Handbook of Nanostructured Materials
and Nanotechnology, H.S.Nalwa (Ed.), Academic Press, San diego, 2000, vol. 3, Chapter 4, 217) .........138
Obr. 7.13: Volt-ampérová charakteristika 2D pole klastru zlata při pokojové teplotě: bez spojení částic (čára a) a
pro částice spojené pomocí (CN)2C18H12 molekul (čára b). (Dle D.James et al. Superpart. Microstruct. 18,
275, 1995) ..................................................................................................................................................139
Obr. 7.14: Měřená volt-ampérová charakteristika 2D pole spojeného klastru při teplotě 85, 140 a 180 K. (Dle
D.James et al. Superpart. Microstruct. 18, 275, 1995.)..............................................................................139
Obr. 7.15: Nákres modelu, který vysvětluje elektrickou vodivost v ideálním šestiúhelníkovém poli
jednokrystalových atomových klastrů s homogenními spoji mezi klastry modelované rezistory spojenými
molekulami. (R.P.Anders et al, Handbook of Nanostructured Materials and Nanotechnology, H.S.Nalwa
(Ed.), Academic Press, San Diego, 2000, vol. 3, Chapter 4, 221.).............................................................140
Nanotechnologie 11
Obr. 7.16: (a) Přechod kov-nevodič-kov; (b) hustota stavů obsazených hladin a Fermiho hladina před přiložením
napětí na přechod; (c) hustota stavů a Fermiho hladina po přiložení napětí. V obr. (b) a (c) je energie na
svislé ose a hustota stavů na vodorovné ose. Hladiny nad Fermiho hladinou neobsahují elektronu a nejsou
na obrázku znázorněné............................................................................................................................... 140
Obr. 7.17: Absorpční spektrum zlatých nanočástic o rozměrech 20-80 nm rozptýlených ve skle. (Dle F. Gondola
et al. Handbook of Nanostructured Materials and Nanotechnology, H.S.Nalwa (Ed.), Academic Press, San
Diego, 2000, vol. 4, Chapter 2, 85.)........................................................................................................... 142
Obr. 7.18: Iontová implantace inotů kovu (zde Ag+) do skleněného substrátu (dle G. De Marci et al., J. Non-
Cryst. Solids, 196, 79, 1996.)..................................................................................................................... 143
Obr. 7.19: SEM obraz leptaného povrchu křemíku. Mikrometrické póry jsou tmavé oblasti. (C.Levy-Clement et
al. J. Electrochem. Soc. 141, 958, 1994.)................................................................................................... 143
Obr. 7.20: Spektrum fotoluminiscence porézního křemíku pro dvě různé doby leptání. (L.T. Camham, Appl.
Phys. Lett., 57, 1046, 1990.) ...................................................................................................................... 144
Obr. 7.21: Schéma zařízení pro leptání pórů v křemíkové destičce v kyselině fluorovodíkové (HF). (D.F.Thomas
et al., Handbook of Nanostructured Materials and Nanotechnology, H.S.Nalwa (Ed.), Academic Press, San
Diego, 2000, vol. 4, Chapter 3, 173.)......................................................................................................... 144
Obr. 7.22: Dvacetistěnový klastr bóru B12. Tento klastr je základní buňkou několika dalších mřížek bóru ....... 145
Obr. 7.23: Možná prostorově centrovaná struktura mřížky nanočástic Al13 (uvnitř) a draslíku (velké kroužky).
(N.S. Khanna, P. Jena, Phys. Rev., 51, 13705, 1995)................................................................................. 146
Obr. 7.24: Schéma klastru v pórech zeolitu. (S.G.Romanov et al., Handbook of Nanostructured Materials and
Nanotechnology, H.S.Nalwa (Ed.), Academic Press, San Diego, 2000, vol. 4, Chapter 4, 236.) .............. 147
Obr. 7.25: Dlouhé paralelní kanálky v krystalu modernitu, což je ortorombická varieta zeolitu
(Ca,Na2,K2)(Al2Si10)O24.7H2O. (S.G.Romanov et al., totéž, str. 238.)....................................................... 147
Obr. 7.26: Optické spektrum absorpce řetězce atomů selenu v mordenitu (spojitá křivka Se–M) a v krystalickém
selenu (čárkovaně, t–Se) vykazuje posuv maxima absorpce a změnu tvaru (V.N.Bogomolov, Solid State
Commun., 47, 181, 1983)........................................................................................................................... 147
Obr. 7.27: Závislost rovnic stavů (čárkovaně) na frakci polystyrenových kuliček o průměru 720 nm v 3-mM
solném roztoku. Konstanta N0 je Avogadrovo číslo. (A.P.Gast, W.B.Russell, Phys. Today, Dec. 1998.) 149
Obr. 7.28: Fázový diagram pro měkké kulové částice v suspenzi ukazuje kapalný stav, prostorově centrovanou
(bcc) a stěnově centrovanou (fcc) fázi. Na svislé ose je objem, který je nedostupný pro jednu částici,
protože jsou v něm další částice. Tento nedostupný objem je krychle o hraně odpovídající Debyeově
skríníngové délce, která charakterizuje rozsah interakce (A.P.Gast, W.B.Russell, Phys. Today, Dec. 1998.)
................................................................................................................................................................... 149
Obr. 7.29: Závislost energie E na vlnovém vektoru k pro 1D sestavu atomů...................................................... 150
Obr. 7.30: Jednoduché příklady fotonických krystalů s jedno- až trojrozměrnou periodicitou........................... 150
Obr. 7.31: 2D fotonický krystal zhotovený z dlouhých dielektrických válečků ve čtvercové mřížce................. 151
Obr. 7.32: Část disperzního vztahu TM módu fotonického krystalu vytvořeného ze čtvercové mřížky hliníkových
válečků. Na svislé ose je frekvence f násobena mřížkovým parametrem a dělená rychlostí světla c. (J.D.
Joannopoulos, Nature, 386, 143, 1997) ..................................................................................................... 151
Obr. 7.33: Vliv odstranění jedné řady válečků ze čtvercové mřížky fotonického krystalu, který zavádí hladinu
(vedený mód) v zakázaném pásu. Na svislé ose je frekvence f násobena mřížkovým parametrem a dělená
rychlostí světla c. (J.D. Joannopoulos, Nature, 386, 143, 1997)................................................................ 152
Obr. 7.34: Závislost frekvence lokalizovaných stavů v zakázaném pásu vytvořených na poloměru r jednoho
válečku ze čtvercové mřížky. Na svislé ose je frekvence f násobena mřížkovým parametrem a dělená
rychlostí světla c. (J.D. Joannopoulos, Nature, 386, 143, 1997)................................................................ 152
Obr. 8.1: a) GaAs kvantová jáma na substrátu, b) kvantový drátek a kvantová tečka na substrátu .................... 155
Obr. 8.2: Postup přípravy kvantového drátku nebo kvantové tečky pomocí litografie elektronovým svazkem:
a) původní kvantová jáma na substrátu je překryta rezistem, b) ozáření materiálu přes kryt, c) konfigurace
po rozpuštění ozářené části rezistu, d) vyplnění mezery leptací maskou, e) sestava po odstranění
zbývajícího rezistu, f) konfigurace po odleptání nežádoucího materiálu kvantové jámy, g) finální
nanostruktura po odstranění leptací masky (T. P. Sidili a C.M. S Torres, in Nalwa (2000) Vol. 3, Chapter
5, p. 250) .................................................................................................................................................... 155
Obr. 8.3: Čtyři vrstvy materiálu kvantové jámy jsou naneseny na substrátu a překryty rezistem. Šablona pro
litografii je nad vzorkem............................................................................................................................ 156
Obr. 8.4: Výsledek litografického leptání více kvantových teček z Obr. 8.3. Tato sestava 24násobné kvantové
jámy sestává ze 6 sloupečků, na nichž jsou 4 kvantové tečky .................................................................. 156
Obr. 8.5: Spektrum fotoluminiscence sestavy kvantových teček o průměru 60 nm, vytvořených litografií,
porovnávané se spektrem původní rostlé násobné kvantové jámy. Intenzivní pík v 0,7654 eV je přisuzován
lokalizovanému excitonu (LE) v supermřížce (SL). (T. P. Sidili a C.M. S Torres, in Nalwa (2000) Vol. 3,
Chapter 5, p. 251) ...................................................................................................................................... 156
12 FEKT Vysokého učení technického v Brně
Obr. 8.6: Fermiho-Diracova distribuční (rozdělovací) funkce vykazuje stejnou hustotu v k-prostoru pro teploty a)
T = 0 K a b) T= 300 K ...............................................................................................................................161
Obr. 8.7: Závislost počtu elektronů N(E) na energii elektronů vodivostního pásu delokalizovaných v 1D
kvantovém drátku, 2D kvantové jámě a 3D objemovém materiálu ...........................................................162
Obr. 8.8: Závislost hustoty stavů D(E) = dN(E)/dE na energii elektronů E vodivostního pásu nelokalizovaných v
1D kvantovém drátku, 2D kvantové jámě a 3D objemovém materiálu .....................................................162
Obr. 8.9: Vlnové funkce pro první čtyři (nejnižší) energetické hladiny (n = 1-4) v 1D nekonečně hluboké
pravoúhlé jámě. Tvar vlnové funkce pro každou hladinu je vyjádřen vlevo, její parita (lichá, sudá) vpravo
...................................................................................................................................................................163
Obr. 8.10: Nákres 1D pravoúhlé kvantové jámy konečné hloubky ukazuje, jak energetické hladiny En jámy
konečné hloubky (vpravo, spojité čáry) leží pod odpovídajícími hladinami nekonečně hluboké jámy
(vlevo, čárkovaně)......................................................................................................................................164
Obr. 8.11: Nákres 2D potenciálové jámy konečné hloubky kruhového průřezu. Jsou zobrazeny 3 energetické
hladiny........................................................................................................................................................165
Obr. 8.12: Nákres 1D parabolické potenciální jámy s polohou čtyř nejnižších energetických hladin.................165
Obr. 8.13: Závislost elektronů N(E) a hustoty stavů D(E) na energii pro čtyři kvantové struktury v aproximaci
pravoúhlé jámy-Fermiho plynu..................................................................................................................166
Obr. 8.14: Kvantová tečka spojená s vnějším obvodem emitorem a kolektorem ................................................168
Obr. 8.15: Kvantová tečka spojená přes emitor a kolektor s vnějším obvodem obsahujícím zdroj předpětí Vsd,
kapacitor Cg, přes nějž napětí na gatu Vg řídí odpor v elektricky aktivní oblasti .......................................168
Obr. 8.16: Voltampérová charakteristika z jednoelektronového tunelování na 10 nm indiové kapičce vykazuje
stupňovitou strukturu. Experimentální křivka A byla měřena pomocí STM, křivky B a C jsou simulace.
Pík-pík proud je 1,8 nA. (R.Wilkins, E. Ben-Jacob, R.C. Jaklevic,Phys. Rev. Lett., 59, 109, 1989) .........169
Obr. 8.17: Řada ligandově stabilizovaných Au55 nanočástic. RT - rezistivita mezi částicemi, kapacitance Cmicro.
Hustota jednoelektronového tunelového proudu jy ....................................................................................170
Obr. 8.18: Schéma přechodu elektronů do vodivostního pásu (označeného šrafovaně) pro: a) vázaný stav –
vázaný stav; b) vázaný stav – spojitý stav; c) vázaný stav – téměř vázaný stav; d) vázaný stav – minipás
pro IČ fotodetektor s kvantovou jámou (S.S.Li, M.Z.Tidrow, in Nalwa, Vol. 4, Chapter 9, p.563, 2000.)
...................................................................................................................................................................170
Obr. 8.19: Závislost hustoty temného proudu na předpětí pro GaAs/GaAlAs detektor s kvantovými tečkami
pracující ve vzdálené IČ oblasti pro tři různé teploty. Čárkovaně je označen proud pozadí (BG) při T = 300
K. (M.Z.Tidrow, J.C.Chiang, S.S.Li, K. Bachor, Appl. Phys. Lett.,70, 859, 1997) ...................................171
Obr. 8.20: Závislost maximální odezvy na vlnové délce při předpětí 2 V a T = 77 K pro kolmý dopad a dopad
pod úhlem 45°. (M.Z.Tidrow, J.C.Chiang, S.S.Li, K. Bacher, Appl. Phys. Lett.,70, 859, 1997) ..............171
Obr. 8.21: Závislost maximální odezvy na předpětí při T = 77 K pro kolmý dopad a dopad pod úhlem 45°.
(M.Z.Tidrow, J.C.Chiang, S.S.Li, K. Bacher, Appl. Phys. Lett.,70, 859, 1997).........................................171
Obr. 8.22: Schéma laseru vyzařujícího z hrany v blízké IČ oblasti s kvantovými tečkami. Spodní výřez zobrazuje
detaily 190 nm široké oblasti vlnovodné struktury (Al0,85Ga0,15As), která obsahuje 12 monovrstev
In0,5Ga0,5As kvantových teček (QD), které mohou zářit ............................................................................172
Obr. 8.23: Závislost výstupního výkonu v blízké IČ na proudu pro z hrany vyzařující laserovou diodu
s kvantovými tečkami (kontinuální režim, pokojová teplota) z Obr. 8.22 .................................................173
Obr. 8.24: Teplotní závislost hustoty prahového proudu pro z hrany vyzařující laserovou diodu s kvantovými
tečkami (pulsní režim) z Obr. 8.22.............................................................................................................173
Obr. 8.25: 2D šestiúhelníková mřížka vortexových jader. (C.P.Poole, Jr, H.A.Farach, R.J. Creswick,
Superconductivity, Academic Press, Boston, 1995, p. 227.) ......................................................................174
Obr. 8.26: Coulombova schodovitá struktura vyjadřující závislost proudu I a derivaci dI/dV na předpětí V na
Josephsonově přechodu vytvořeném vrstvou zrnitého olova. Je zřejmé, že odezva na první derivaci
poskytne mnohem lepší rozlišení (K. A. McGreer, J-C. Wan, N. Nand, A.M. Goldman, Phys. Rev. B39
12260, 1989) ..............................................................................................................................................175
Nanotechnologie 13
Seznam tabulek
Tab. 3.1: Typy krystalů ......................................................................................................................................... 36
Tab. 3.2: Počet atomů (strukturálních magických čísel) v nanočástici vzácného plynu nebo kovu s bazálně
středovanou těsnou strukturou ..................................................................................................................... 45
Tab. 4.1: Krystalografické soustavy a jim odpovídající počet prostorových grup v 2D a 3D ............................... 63
Tab. 5.1: Vypočtená vazební energie na atom a vzdálenost atomů v některých nanočásticích hliníku ve srovnání
s objemovým hliníkem................................................................................................................................. 94
Tab. 5.2: Několik příkladů různých typů nejmenších dosažitelných klastrů s násobnými náboji (menší klastry
explodují)................................................................................................................................................... 104
Tab. 6.1: Typy spn hybridizace, výsledné vazební úhly. Příklady molekul ........................................................ 112
Tab. 8.1: Počet atomů nacházejících se na povrchu Ns, v objemu Nv a procentní podíl atomů Ns/Nv na povrchu
nanočástice................................................................................................................................................. 158
Tab. 8.2: Počet vodivostních elektronů malých (vlevo) a velkých (vpravo) kvantových struktur, které mají
koncentraci donorů 1014-1018 cm3 .............................................................................................................. 159
Tab. 8.3: Dimenze delokalizace a lokalizace kvantových nanostruktur .............................................................. 160
Tab. 8.4: Počet elektronů N a hustota stavů D(E) = dN(E)/dE jako funkce energie E pro elektrony vodivostního
pásu delokalizované v 1D, 2D a 3D rozměrech ......................................................................................... 161
Tab. 8.5: Závislost počtu elektronů N(E) a hustoty stavů D(E) = dN(E)/dE na energii i elektronů E vodivostního
pásu delokalizovaných/uvězněných v kvantové tečce, kvantovém drátku, kvantové jámě a objemovém
materiálu .................................................................................................................................................... 166
Tab. 8.6: Teplota přechodu Tc, koherenční délka ξ, penetrační hloubka λ některých typických supravodičů ... 173
14 FEKT Vysokého učení technického v Brně
1 Úvod
Hlavním cílem předkládaných elektronických textů Nanotechnologie je poskytnout
studentům přehled o současném výzkumu a trendech v oblasti nanotechnologie, i jasný a
logický výklad základních fyzikálních pojmů, zákonů a metod souvisejících s tímto novým
oborem. Studium nových fyzikálních, chemických, biologických, elektrických, magnetických
a optických jevů a vlastností materiálů v nanoměřítku je nezbytnou podmínkou k pochopení
obsahu nanotechnologie. Ta je moderním přístupem k řešení problémů v mnoha současných i
budoucích vědních i technických oborech.
Nanotechnologie představuje interdisciplinární a multidisciplinární přístup
k řešení problémů v mnoha vědních i technických oborech. Z tohoto pohledu je vhodná pro
základní studium, neboť ji lze vyučovat jako celek a ne po jednotlivých disciplinách. Aby se
toho dosáhlo, je přitom rozhodující, aby si studenti udělali představu nejen o výzkumu v této
oblasti, ale i o jeho základních metodách. Proto jsou formy výuky zaměřeny na cílenou
interdisciplinární výuku, při níž se stírají obvyklé hranice mezi obory. Zřetelný důraz je
přitom kladen na použité základní principy a charakteristiky, kterými se hmota v nanosvětě
odlišuje od objemových materiálů.
Cílem výuky je seznámit se s tímto novým oborem formou individualizovaného
a interaktivního vzdělávání. K dosažení těchto cílů by studenti měli v tomto kursu:
1) Studovat a porozumět, jak může být řízena struktura materiálů směrem k nanoroz-
měrům pomocí rozmanitých metod zpracování.
2) Studovat vztahy mezi strukturou a jejími vlastnostmi v nanoměřítku.
3) Studovat aplikace vyžadující nanostrukturované materiály.
4) Rozvíjet efektivní interdisciplinární komunikační dovednosti.
5) Kriticky hodnotit témata v současných oblastech nanomateriálů (tj. rozlišovat
pokrok od hypotéz).
Tento elektronický text je základním, i když jen pracovním materiálem, který se bude
postupně inovovat v závislosti na upřesnění kurzu a nových směrech výzkumu a aplikací
nanotechnologie.
2.1 Úvod
Kvantová mechanika a standardní model fyziky částic jsou velmi úspěšné vědní oblasti
popisující chování elementárních částic v atomu a jednotlivých atomů v molekulách. Klasická
fyzika je rovněž úspěšná v popisu vlastností hmoty ve větších objemech, v rozměrech, se
kterými máme každodenní zkušenosti. Mezi světem atomů a současným reálným světem leží
oblast nanosvěta, území částic a struktur v rozměrovém oboru 1-100 nm, která nebyla v
minulosti středem přílišné pozornosti.
Nanostruktury, které jsou základními prvky nanomateriálů, jsou dostatečně malé na
to, aby se v nich mohly uplatňovat kvantové jevy. Jsou však i tak rozměrné, že aplikace
Nanotechnologie 15
zákonů kvantové mechaniky při zkoumání jejich vlastností nemá význam. Dnes rozumíme
individuálním vlastnostem atomů, ale prozatím málo rozumíme tomu jak se chovají jejich
seskupení a tomu, jak vznikají jejich leckdy neočekávané vlastnosti.
Zkoumání těchto jevů je předmětem nanověd, vědních oblastí na průsečíku fyziky
pevné fáze, chemie, inženýrství a molekulární biologie. V současné době však nejde jen o
poznání a charakterizování jevů, které se v nanosvětě projevují, ale i o praktické využití
nových a neobvyklých vlastností nanomateriálů, nanosystémů a nanozařízení, které se
snažíme cílevědomě vytvářet a spojovat je s objekty vyšších rozměrů. Je málo odborných
výrazů v chemii a fyzice, které by se tak často používaly (a zneužívaly) v posledních létech,
jako jsou „nanoscience“ (nanověda) a „nanotechnology“ (nanotechnologie).
Ještě v polovině minulého století nebylo zřejmé, že bychom někdy byli schopni ovládat
hmotu na atomární či molekulární úrovni. Převládala především Schrödingerova představa, že
atomy nelze přesně v prostoru lokalizovat, protože „atomy nelze pokládat za individuality,
které lze identifikovat“. O něco později Heisenberg doplnil, že atomy „jsou formou
potenciality či možnosti, spíše než jedna z věcí nebo skutečnosti“. Ve světle těchto prohlášení
byla většina vědců přesvědčena o praktické nemožnosti využívat atomy záměrně jako
stavební jednotky prakticky použitelných zařízení.
Koncem padesátých let 20. století se však našli jednotlivci, kteří předpověděli možnost
konstrukce zařízení o molekulárních rozměrech, tak jak to od pradávna dělá příroda.
Pravděpodobně prvním byl von Hippel, elektroinženýr z Massachussetts Institute of
Technology (MIT), který zavedl pojem „molekulární inženýrství“, a poté fyzik R. Feynman,
nositel Nobelovy ceny za fyziku, který v roce 1959 svou památnou přednáškou „There`s
Plenty Room at the Bottom“, přednesenou na výročním zasedání American Physical Society v
Pasadeně, California, upozornil na možnost manipulace s objekty o nepatrných rozměrech.
Hovořil tehdy o mikrotechnologii. řekl mj.: „Zákony fyziky, jak mohu posoudit, nejsou proti
možnosti manipulovat s věcmi atom po atomu. Není to pokus porušit žádný zákon, je to něco,
co může být v zásadě uděláno“.
Uplynulo přibližně dvacet let, kdy na uvedené průkopníky navázal K. E. Drexler, který
uveřejnil článek o molekulárním inženýrství a upozornil na možnost použít jako základní
stavební kameny proteiny. K. E. Drexler svoje představy rozvinul ve svých dalších pracích,
přičemž upozornil na pozitivní i negativní stránky molekulární nanotechnologie, jak nazval
technologie vytváření komplexních struktur na molekulární úrovni.
Jelikož molekuly mají rozměry řádově v nanometrech, vžil se postupně pro molekulární
inženýrství či molekulární technologie termín nanotechnologie, který jako první použil
Nanotechnologie 17
v roce 1974 Taniguchi ve zcela jiné technické oblasti, když popisoval výrobní způsoby a
měřicí techniku, při kterých je možné dosáhnout přesnost výroby součástí v nanometrech.
Souběžně s uvedenými úvahami probíhaly v druhé polovině 20. století s rostoucí intenzitou
výzkumné práce zaměřené na poznání vlastností základních stavebních prvků hmoty a jevů,
které se na atomové a molekulární úrovni projevují, které mj. prokázaly, že atomy jsou
dostatečně robustní, takže je můžeme izolovat, počítat, pozorovat a manipulovat s nimi.
Výzkumné práce se orientovaly na poznání způsobů jak konstruuje struktury příroda a jak se
chovají biologické entity o rozměrech na úrovni molekul. V osmdesátých letech bylo
postupně rozvinuto zkoumání možnosti syntézy a vlastností částic, krystalů, povrchů atd. o
rozměrech řádově v nanometrech. Přelomovou událostí bylo vynalezení nových přístrojů
umožňující nejen pozorování, ale i manipulaci s jednotlivými atomy a molekulami (rastrovací
tunelový mikroskop, mikroskop atomových sil). Strojní inženýři započali obrábět povrchy
s nanometrickou přesností a výroba čipů velké integrace se začala blížit rozměru 100 nm.
Možnosti využití vlastností stavebních prvků a zařízení o rozměrech nanometrů byly
rozpoznány i biology a začal výzkum jejich aplikace v medicíně, farmacii a biotechnologiích.
Zrodil se nový interdisciplinární obor - nanotechnologie, který má podnítit novou
průmyslovou i sociální revoluci.
Svět v rozměru nanometrů je velmi malý. Jak je zřejmé z Obr. 2.2, je poměr velikosti
fotbalového míče ke struktuře o rozměru 100 nm přibližně stejný jako poměr velikosti
zeměkoule k rozměru kopacího míče.
Všechny materiály a systémy mají své „základy“ v malých rozměrech. Molekula vody
má průměr asi 1 nm, jednostěnná uhlíková nanotrubička má průměr přibližně 1,2 nm,
biomolekulární zařízení mají velikost v rozsahu několika nanometrů, kvantová tečka germania
na křemíkové podložce je asi 10 nm široká a 1,5 nm vysoká, nejmenší tranzistory měří dnes
pouze kolem 20 nm. Molekula DNA je asi 2,5 nm široká, typický protein má velikost 1-20
nm a ATP syntáza - biochemický motor - má průměr 10 nm. V předložené práci jsou podány
pro širokou veřejnost základní všeobecné informace o nanotechnologii, jejím významu pro
technický pokrok, o možných směrech jejího vývoje i o potenciálním nebezpečí, které v sobě
skrývá.
skládat dohromady přesně definovaným způsobem, abychom mohli vytvořit nové materiály s
novými úžasnými charakteristikami.
H He
Li Be B C N O F Ne
Na Mg Al Si P S Cl Ar
K Ca Sc Ti V Cr Mn Fe Co Ni Cu Zn Ga Ge As Se Br Kr
Rb Sr Y Zr Nb Mo Tc Ru Rh Pd Ag Cd In Sn Sb Te I Xe
Cs Ba La Hf Ta W Re Os Ir Pt Au Hg Tl Pb Bi Po At Rn
Fr Ra Ac
Ce Pr Nd Pm Sm Eu Gd Tb Dy Ho Er Tm Yb
Th Pa U
Obr. 2.3: Mendělejevova periodická tabulka prvků
Atomy, jejichž symboly jsou v Obr. 2.3 označeny tučně (červeně), budou mít pro
nanotechnologické koncepce základní význam: H, C, N, O, F, Si, P, S, Cl. Ostatní se budou
pravděpodobně používat méně.
V současné době to jsou především nanomateriály, které již v mnoha případech opustily
laboratoře a staly se předmětem praktického využití. První aplikace nanomateriálů se objevily
v systémech, ve kterých mohou být ve volné formě použity prášky o rozměrech nanometrů,
bez zhutnění a smíšení. Např. nanoprášky TiO2 a ZrO2 se nyní běžně používají v kosmetice
v krémech na obličej a v opalovacích pleťových vodách a krémech. Nanoprášky Fe2O3 se
Nanotechnologie 19
např. používají jako základní materiál do rtěnek a líčidel. S přísadou nanočástic TiO2 se dnes
vyrábějí laky s reflexními vlastnostmi. Již několik let se používají nanostrukturní
otěruvzdorné povlaky řezných nástrojů a komponent. Na trh byly uvedeny obkladačky
s povrchovým filmem z nanočástic, na kterých se nedrží ani voda, ani špína. Již delší dobu se
v automobilovém průmyslu používají nanokompozity polymer - jíl. Rozmístění pouze 5 %
nanočástic montmorillonitu v polymerové matrici způsobuje významné zvýšení pevnosti
kompozitu. Zkouší se i přísada nanočástic CeO do motorového paliva s cílem snížení jeho
spotřeby.
V informačních technologiích se podařilo uskutečnit mnohem sofistikovanější využití
nanomateriálů. Výroba křemíkových tranzistorů již využívá řízené depozice vrstvených
struktur o tloušťce pouze několik atomů (1 nm) a příčné rozměry kritické délky hradla
tranzistoru dosáhly hodnoty 90 nm.
Kratší délka hradla umožňuje výrobu menších, rychlejších a energeticky účinnějších
tranzistorů a odpovídající zlepšení ceny a výkonnosti každého digitálního zařízení. Podobně,
čtecí hlavy standardních harddisků využívají, díky vrstveným heterostrukturám o
nanorozměrech, jevu obřího magnetického odporu, což významně zvyšuje jejich paměťovou
kapacitu a snižuje jejich cenu. Mikroelektronika směřuje k nanoelektronice.
V oblasti biomedicíny byly syntetizovány struktury, zvané liposomy, které umožňují
zlepšenou cílenou distribuci terapeutických látek. Liposomy jsou lipidové koule o průměru
kolem 100 nm. Používají se např. k zapouzdření protirakovinných léků pro léčení Kaposiho
sarkomu, který má vztah k AIDS. Různé firmy používají při analýze krve, moči a jiných
tělních tekutin pro urychlení separace a zlepšení rozlišitelnosti magnetické nanočástice. Jiné
společnosti vyvinuly fluorescentní nanočástice, které tvoří základ nových technik detekce.
Tyto aktivní nanočástice se používají v nových zařízeních a systémech pro analýzu infekčních
a genetických chorob a výzkum léčiv.
Rozsáhlé využití nanočástic je také ohlašováno obranným průmyslem a průmyslem
vědeckých a technických přístrojů. Výrobci optických materiálů a elektronických substrátů,
jako jsou např. křemík a galium arsenid, používají nanočástice pro chemomechanické leštění.
Nanočástice karbidu křemíku, diamantu a karbidu bóru se používají pro lapování součástí
s cílem omezit vlnitost povrchu na 1-2 nm. Možnost výroby tak vysoce kvalitních součástí je
významná pro vědecké aplikace a bude ještě významnější při postupující miniaturizaci
elektronických zařízení a rozvoji optoelektronických systémů.
Nanotechnologie pronikla již i do odívání a sportu. Vyrábí se např. nemačkavá a
nešpinící se bavlněná tkanina s přísadou nanočástic, tenisové rakety, jejichž rámy jsou
zpevněné uhlíkovými nanotrubicemi a tenisové míčky s vnitřní vrstvou z nanokompozitu
polymer-jíl, která zvyšuje jejich životnost.
Ukazuje se, že během několika let bude realizována řada nových výrobků
produkovaných nanotechnologiemi a využívajících nanomateriály. Na Obr. 2.4 jsou uvedeny
jen nejpravděpodobnější aplikace.
Zkoušejí se speciálně připravené polovodičové krystaly - kvantové tečky, které mají
sloužit m.j. pro analýzu biologických systémů. Po osvětlení vyzařují tyto tečky světlo
specifických barev, v závislosti na jejich rozměrech. Kvantové tečky různých rozměrů mohou
být připojeny při biologických reakcích k různým molekulám, což dovoluje sledovat všechny
molekuly účastnící se biologických procesů současně. Kvantové tečky mohou být rovněž
20 FEKT Vysokého učení technického v Brně
použity jako nástroj pro rychlejší, méně pracné testování DNA a protilátek, než je tomu
v současnosti.
Slibný je pokrok v plnění nanoprášků do komerčních sprejů. V nedaleké budoucnosti to
umožní povlékat plasty nanoprášky, což zlepší jejich otěruvzdornost a korozivzdornost.
Automobilový průmysl již zkoumá možnost využití polymerních nanokompozitních materiálů
v dílech, které vyžadují současné splnění podmínek malé hmotnosti a vysoké rázové pevnosti.
Obr. 3.1: (a) Amorfní B2O3 vykazuje krátkodosahové uspořádání. (b) Krystalický B2O3 vykazuje též
dalekodosahové uspořádání
Analogii mezi amorfními pevnými látkami a kapalinami stojí zato sledovat jako
prostředek pro lepší pochopení obou fázových stavů hmoty. Kapaliny se obvykle považují za
bližší plynům než pevným látkám; kapaliny i plyny jsou přece tekutiny a při teplotách nad
kritickým bodem rozdíly mezi nimi mizí. Z mikroskopického hlediska však mají kapaliny
také s pevnými látkami mnoho společného. Například hustota dané kapaliny je obvykle blíže
k hustotě příslušné pevné látky, což napovídá, že stěsnání částic je srovnatelné; tento závěr
podporuje i stlačitelnost těchto stavů. Navíc difrakce rentgenových paprsků ukazuje, že
mnohé kapaliny mají nesporně v každém okamžiku určitou krátkodosahovou strukturu, úplně
podobnou jako amorfní pevné látky až na to, že shluky molekul kapaliny se neustále
posouvají.
Význačný příklad krátkodosahového uspořádání v kapalinách nastává u vody hned nad
bodem tání, kde je výsledkem menší hustota než při vyšších teplotách, poněvadž molekuly
H2O v uspořádaném stavu v krystalech jsou od sebe navzájem více vzdálené, než když se
mohou volně pohybovat. Ještě podivuhodnější jsou "kapalné krystaly", které vykazují
dvojlom - vlastnost vyhrazenou obvykle jen anizotropním krystalům, jako je křemen nebo
kalcit - v určité teplotní oblasti nad bodem tání. Například pevné, pravidelné uspořádání
molekul v krystalickém p-azoxyanisolu mizí v bodě tání při 116°C, ale kapalný
p-azoxyanisol si zachovává schopnost dvojlomu až do 135°C. Protáhlé molekuly
p-azoxyanisolu tedy přes to, že se mohou pohybovat, zůstávají mezi 116 °C a 135 °C
navzájem rovnoběžné, vytvářejíce anizotropní kapalinu.
Nyní se podívejme, co se bude dít při ochlazování kapaliny až k jejímu bodu tuhnutí.
Přeměna kapaliny na pevnou látku se začíná projevovat výskytem drobných krystalků
zvaných jádra, která se stále zvětšují, až je přeměna úplně dokončena. Jádra se mohou objevit
samovolně anebo mohou v jejich roli působit cizí částice, jako jsou zrnka prachu či krystalky
nečistot. Je-li kapalina čistá a neporušená, je možno ji ochladit pod bod tuhnutí, aniž by
krystalizovala. Taková přechlazená kapalina je obyčejně nestabilní a bude krystalizovat při
sebemenším vzruchu, ale v některých případech je viskozita při snížené teplotě tak velká, že
se molekuly nemohou přemísťovat a utvořit krystalovou mřížku. Výsledkem je pevná látka s
vnitřní konfigurací kapaliny: nedošlo k žádné změně stavu, ale místo toho se zachovalo jedno
z přechodných uspořádání molekul kapaliny tím, že se omezila jejich pohyblivost. Sklovitá
pevná látka je tedy metastabilní, neboť její vnitřní energie by se snížila, kdyby látka při téže
teplotě krystalizovala. Krystalizace z takového stavu je ovšem tak pomalá, že k ní obvykle
nedochází, avšak není neznámá: sklo se může odskelnit při zahřátí na takovou teplotu, kdy
právě začíná měknout, a u velmi starých vzorků skla se někdy zjistí, že krystalizovaly.
Poněvadž amorfní pevné látky jsou v podstatě kapalinami, nemají žádný ostrý bod táni.
Toto chování můžeme z mikroskopického hlediska interpretovat odkazem na skutečnost, že
v amorfních pevných látkách není dalekodosahové uspořádání, a proto je síla vazeb mezi
jejich molekulami různá. Při zahřívání se nejslabší vazby trhají při nižších teplotách než
ostatní, takže látka měkne pozvolna. V krystalické pevné látce přechod mezi
dalekodosahovým a krátkodosahovým uspořádáním (nebo vůbec žádným uspořádáním)
představuje zhroucení vazeb, jejichž síly jsou více méně stejné a tání nastává při zcela určité
teplotě.
Nanotechnologie 23
(a) (b)
Obr. 3.2: (a) Plošně centrovaná kubická struktura krystalu NaCI. Koordinačni číslo (počet nejbližších sousedů u
každého iontu) je 6. (b) Model krystalu NaCI v reálném měřítku
(a) (b)
Obr. 3.3: (a) Prostá kubická struktura v krystalu CsCl. Koordinační číslo je 8. (b) Model krystalu CsCl v
reálném měřítku
24 FEKT Vysokého učení technického v Brně
Na Obr. 3.2 a Obr. 3.3 jsou dva běžné typy struktury iontových krystalů. Uspořádání
iontů Na+ a Cl- v krystalu chloridu sodného ilustruje Obr. 3.2. Ionty obou druhů si lze
představit umístěné v rozích a uprostřed stěn soustavy krychlí tak, že soustavy Na+ a Cl- se
vzájemně prostupují. Každý iont má tak šest nejbližších sousedů druhého typu. Taková
krystalová struktura, kterou zde tvoří samostatně ionty obou druhů, se nazývá kubická plošně
centrovaná. V krystalech NaCl je vzdálenost mezi ionty stejného druhu 5,62 Å. V krystalech
chloridu cesného nalézáme jiné uspořádání, kde každý iont je umístěn v rozích krychle a
soustavy krychlí Cs+ a Cl- se prostupují tak, že ve středu každé krychle je vždy iont druhého
typu (Obr. 3.3). Tato struktura, tvořená samostatně ionty obou druhů, se nazývá prostá
kubická a každý iont má osm nejbližších sousedů druhého typu. V krystalech CsCl je
vzdálenost mezi ionty téhož druhu rovna 4,11 Å.
Iontové pevné látky jsou většinou tvrdé v důsledku síly vazeb mezi ionty, z nichž se
skládají, a mají vysoký bod tání. Jsou obvykle též křehké, poněvadž klouzání atomů vůči sobě
navzájem, jež vysvětluje kujnost kovů, je zamezeno uspořádáním kladných a záporných iontů,
které je důsledkem povahy vazeb. Polární kapaliny, jako je voda, jsou schopny rozpouštět
mnohé iontové krystaly, což kovalentní kapaliny, jako je benzin, obvykle nedovedou.
Energie vazby (kohezní energie) iontového krystalu je energie, která by se uvolnila
utvořením krystalu z jednotlivých neutrálních atomů. Energie vazby se obvykle vyjadřuje
v eV/atom, v eV/molekulu nebo v kcal/mol, kde "molekula" a "mol" se zde vztahuje na
soubor atomů daný vzorcem uvažované sloučeniny (například NaCl u krystalu chloridu
sodného), i když molekuly jako takové v krystalu neexistují. Vazebná energie molekuly
s iontovou vazbou není totožná s energií vazby odpovídajícího krystalu, poněvadž v krystalu
každý iont interaguje se všemi ostatními přítomnými ionty a nejenom s jedním, dvěma či
třemi ionty opačné polarity.
Hlavním příspěvkem k energii vazby iontového krystalu je elektrostatická potenciální
energie Vcoulomb iontů. Uvažujme iont Na+ v NaCl. Jeho nejbližšími sousedy (viz Obr. 3.2) je
šest iontů Cl-, každý ve vzdálenosti r. Potenciální energie iontu Na+ v poli těchto šesti iontů
Cl- je proto
6e 2
V1 = − .
4πε 0 r
Dále je pak nejblíže 12 iontů Na+, každý ve vzdálenosti 2 r , neboť úhlopříčka čtverce
+
o straně r je 2 r . Potenciální energie iontu Na vzhledem k těmto 12 iontům je
12e2
V2 = + .
4 πε 0 2 r
Pokračujeme-li ve sčítání přes všechny kladné a záporné ionty v krystalu nekonečných
rozměrů, dostaneme Coulombovskou energii iontového krystalu ve tvaru
e2 ⎛ 12 ⎞ e2 e2
VCoulomb = − ⎜ 6 − + ... ⎟ = − 1, 748 = α . (3.1)
4πε 0 r ⎝ 4πε 0 r 4πε 0 r
M
2 ⎠
(Tento výsledek samozřejmě platí též pro potenciální energii iontu Cl-.) Veličina α M se
nazývá Madelungova konstanta krystalu a má stejnou hodnotu pro všechny krystaly téhož
typu. Podobné výpočty pro jiné krystalové struktury dávají jiné Madelungovy konstanty: tak
například krystaly typu chloridu cesného (Obr. 3.3) mají α M = 1,763 a krystaly se
Nanotechnologie 25
strukturou sfaleritu (zinkového blejna - jedné z forem ZnS) mají α M = 1,638. Jednoduché
krystalové struktury mají hodnoty Madelungovy. konstanty mezi 1,6 a 1,8.
Příspěvek potenciální energie odpudivých (repulzních) sil v důsledku působení
vylučovacího principu lze velmi přibližně vyjádřit ve tvaru
B
Vrep = . (3.2)
rn
Znaménko Vrep je kladné, což odpovídá vzájemnému odpuzování, a závislost na rn (kde
n je velké číslo) odpovídá síle krátkého dosahu, jež roste rychle s klesající mezijadernou
vzdáleností r. Celková potenciální energie V každého iontu následkem jeho interakcí se
všemi ostatními ionty je tedy
α M e2 B
V = VCoulomb + Vrep =− + n. (3.3)
4πε 0 r r
V rovnovážné vzdálenosti r0 iontů je V podle definice minimální, a tak je
dV/dr = 0 při r = r0. Proto
⎛ dV ⎞ α M e2 nB α M e2 nB α M e 2 n −1
⎜ ⎟ = − n +1 = 0, = , B= r0 (3.4)
⎝ dr ⎠r = r0 4πε 0 r0 r0
2
4πε 0 r02 r0n + 1 4πε 0 n
a celková potenciální energie je
α M e2 1
V = VCoulomb + Vrep =− (1 − ). (3.5)
4πε 0 r0 n
Exponent n je možno vypočítat z měřených hodnot stlačitelnosti iontových
krystalů. Průměrný výsledek je n ≈ 9, takže repulzní síla se mění poměrně prudce
v závislosti na r: obrazně řečeno ionty jsou spíše "tvrdé" než "měkké" a silně se brání
přílišnému stěsnání v krystalu. Při rovnovážné vzdálenosti mezi ionty vzájemné
odpuzování v důsledku Pauliho principu (odlišné od elektrostatického odpuzování mezi
ionty stejné polarity) snižuje potenciální energii přibližně o 11%. Hodně přesná znalost n
zřejmě není podstatná: je-li n = 10 místo n = 9, změní se V jen o 1%.
V krystalu NaCl je rovnovážná vzdálenost r0 mezi ionty 2,81 Å. Poněvadž je
α = 1,748 a n = 9, je potenciální energie iontu každé polarity
α M e2 1 9.109 Nm 2 /C2 .1, 748.(1, 602.10−19 C) 2 1
V = − (1 − ) = − (1 − ) =
4πε 0 r0 n 2,81.10 m −10
9
= − 1, 27.10−18 J = − 7,97 eV.
Jelikož nesmíme počítat každý iont více než jednou, představuje příspěvek jednoho
iontu k energii vazby krystalu jen polovinu této potenciální energie, tj. - 3,99 eV.
Musíme také vzít v úvahu energii potřebnou k přesunu elektronu od atomu Na k atomu
Cl, čímž vzniká dvojice iontů Na + - Cl-. Tato energie je rozdíl mezi ionizační energií 5,14 eV
sodíku a elektronovou afinitou 3,61 eV chloru, tj. 1,53 eV. Každý atom tedy odtud přispívá
0,77 eV k energii vazby. Celková energie vazby na jeden atom je tak
Evazby = (– 3,99 + 0,77) eV/atom = – 3,22eV/atom.
Vazebná energie molekuly NaCl je ve skutečnosti 4,2 eV neboli 2,1 eV/atom. Poněvadž
je energie vazby v krystalickém NaCl o tolik větší než vazebná energie v molekulárním NaCl,
vyskytují se samostatné mo1ekuly NaCl jen v parách chloridu sodného.
26 FEKT Vysokého učení technického v Brně
Empirické hodnoty kohezní energie iontového krystalu se dají získat z měření jeho
výparného tepla, disociační energie a elektronové výměnné energie. Výsledek pro NaCl
(– 3,28 eV/atom) je v dobrém souladu s vypočtenou hodnotou. (Někdy se místo energie vazby
tabeluje energie mřížky, tj. energie uvolněná při vzniku krystalu nikoli z jednotlivých atomů,
ale z jednotlivých iontů; energie mřížky je rovna veličině V ze vztahu (3.5). V případě NaCl
je experimentálně zjištěná energie mřížky 183 kcal/mol, což je 7,96 eV na iontový pár. Toto
číslo souhlasí s dříve vypočtenou hodnotou 7,97 eV pro iontový pár.)
Existují ještě dva další příspěvky k energii vazby iontového krystalu, které jsme dosud
neuvažovali:
1. van der Waalsovy přitažlivé síly mezi sousedními ionty, které zvětšují energii vazby a
které budeme vyšetřovat dále a
2. nulové kmity iontů kolem jejich rovnovážných poloh, které energii vazby zmenšují,
neboť představují typ energie vyskytující se jen v pevných látkách, a nikoli u jednotlivých
atomů. Oba tyto efekty jsou v iontových krystalech malé a lze je obvykle zanedbat.
Obr. 3.4: (a) Tetraedrická struktura diamantu. Koordinační číslo je 4. (b) Model krystalu diamantu v reálném
měřítku
Nanotechnologie 27
Existuje několik způsobů jak stanovit, zda jsou vazby v daném nekovovém,
nemolekulárním krystalu převážně iontového nebo kovalentního charakteru. Obecně
sloučenina prvku z 1. nebo II. grupy periodické soustavy s prvkem ze VI. nebo VII. grupy
vykazuje v pevné fázi iontové vazby. Dalším vodítkem je koordinační číslo krystalu, což je
počet nejbližších sousedů každé základní částice krystalu. Velké koordinační číslo ukazuje na
iontový krystal, protože je těžké si představit, jak by atom mohl tvořit čistě kovalentní vazby
se šesti (jako v plošně centrované kubické struktuře typu NaCl) nebo s osmi (jako v prosté
kubické struktuře typu CsCl) jinými atomy. Avšak koordinační číslo 4, které má třeba
diamantová struktura, je slučitelné s výhradně kovalentním charakterem. Stejně jako u
molekul není ovšem vždycky možné klasifikovat daný krystal jako úplně iontový nebo
kovalentní: AgCl se stejnou strukturou jakou má NaCl a CuCl se strukturou, která je blízká
diamantové struktuře, oba mají vazby smíšeného, přechodného typu podobně jako spousta
jiných pevných látek.
Existují také více či méně přímé metody na zkoumání povahy vazeb v krystalu.
Jedna z nich zahrnuje mapování hustoty elektronů uvnitř krystalu pomocí velmi přesné
techniky rentgenových paprsků: v případě lehkých atomů jako u LiF lze ověřit přítomnost
samostatných kladných a záporných iontů. Jinou je elegantní metoda srovnávání dielektrické
konstanty Knf krystalu měřené při nízkých kmitočtech s jeho dielektrickou konstantou Kvf
měřenou při vysokých kmitočtech (>1013 s-1); ta se pohodlně dostane z optického indexu lomu
n, neboť je n = (Kvf)1/2. Reakce iontového krystalu (a tedy i jeho dielektrická konstanta) na
působící elektrické pole je při nízkých kmitočtech, kdy se samotné ionty stačí pohybovat
spolu s oscilacemi pole, jiná než při vysokých kmitočtech, kdy je polem ovlivněno jen
elektronové rozdělenÍ. Například v KCl je Knf = 4,7 a Kvf = 2,1. Naproti tomu v kovalent-
ním krystalu dielektrická konstanta na kmitočtu nezávisí.
Obr. 3.5: Molekula vody je polární, protože sdílené elektrony se s největší pravděpodobností vyskytují mezi
atomem kyslíku a vodíkovými atomy
28 FEKT Vysokého učení technického v Brně
Obr. 3.6: Polární molekuly se navzájem přitahují Obr. 3.7: Polární molekula přitahuje polarizovatelné
molekuly
Polární molekula může přitahovat rovněž molekuly, jež normálně nemají permanentní
dipólový moment. Takový proces je znázorněn na Obr. 3.7: elektrické pole polární molekuly
způsobuje rozdělení náboje ve druhé molekule, s indukovaným momentem ve stejném směru,
jako je moment polární molekuly - výsledkem je přitažlivá síla. (Tento efekt je stejný jako
v případě přitahování nezmagnetizovaného kousku železa magnetem.) Není těžké určit
vlastnosti této přitažlivé síly. Elektrické pole E ve vzdálenosti r od dipólu s momentem p
je
r r rr
1 ⎡ p 3( p.r ) r ⎤
E= − .r ⎥ , (3.6)
4πε ⎢⎣ r 3
0 r5 ⎦
rr r r
( p.r = pr cos θ , kde θ je úhel mezi p a r ). Pole indukuje ve druhé, normálně nepolární
molekule elektrický dipólový moment p´ úměrný E co do velikosti a v ideálním případě
i téhož směru. Je tedy
r r
p′ = α E, (3.7)
kde α je konstanta zvaná polarizovatelnost molekuly. Energie indukovaného dipólu
v elektrickém poli E je
r r
V = − p ′.E =
α ⎛ p2 3 p2 3 p2 9 p2 ⎞
=− 2 ⎜ 6
− cos 2
θ − cos 2
θ + cos 2 θ ⎟ =
(4πε 0 ) ⎝ r r 6
r 6
r 6
⎠
α p2 (3.8)
=− (1 + 3cos 2
θ ) .
(4πε 0 ) 2 r6
Vzájemná energie dvou molekul vznikající jejich interakcí je tudíž záporná, což zna-
mená přitažlivou sílu mezi molekulami, a úměrná 1/r6. Síla samotná se rovná - dV/dr, a je
tedy úměrná 1/r7, takže rychle klesá s rostoucí vzdáleností. Zdvojnásobení vzdálenosti mezi
dvěma molekulami sníží přitažlivou sílu působící mezi nimi jen na 0,8% její původní
hodnoty.
Nanotechnologie 29
Obr. 3.8: Nepolární molekuly mají v průměru symetrické rozdělení náboje, avšak v libovolném okamžiku je
takové rozdělení asymetrické. Na obrázku je znázorněno, jak probíhají fluktuace nábojového rozdělení dvou
blízkých molekul s výslednou přitažlivou silou mezi nimi, jejíž velikost je úměrná 1/r7
Zatímco počet polárních molekul je omezený, van der Waalsovy síly působí mezi všemi
molekulami. V tom však není žádný rozpor, poněvadž energie interakce V je úměrná p 2 ,
čtverci dipólového momentu. I když je rozdělení elektronů v nepolární molekule v průměru
symetrické, je v každém okamžiku ve skutečnosti asymetrické, a má tak elektrický dipólový
moment. Tento okamžitý moment fluktuuje co do velikosti a směru, avšak zatímco střední
moment p je nula, střední hodnota čtverce momentu p 2 není nulová, ale má konečnou
hodnotu. Síly vznikající z takových okamžitých molekulových momentů mechanismem
z Obr. 3.7 působí nejenom mezi všemi molekulami, ale i mezi všemi atomy včetně atomů
vzácných plynů, které jinak neinteragují (Obr. 3.8). Hodnoty p 2 a α jsou srovnatelné pro
většinu molekul; to je částečně důvod, proč hustoty a výparná tepla kapalin - vlastnosti, jež
závisejí na velikosti sil mezi molekulami - mají hodnoty v celkem úzkém intervalu.
Van der Waalsovy síly jsou mnohem slabší než síly iontových a kovalentních vazeb, a
v důsledku toho mají molekulární krystaly obecně nízký bod tání a varu a malou mechanickou
pevnost. Energie vazby jsou nízké – jen 0,08 eV/atom v tuhém argonu (bod tání -189 °C),
0,01 eV/molekulu v tuhém vodíku (bod tání -259 °C) a 0,1 eV/molekulu v tuhém methanu
CH4 (bod tání -183 °C).
elektrostatická síla závisí na r-2. Vodíkové vazby ve fluorovodíku jsou tak silné, že dokonce
v plynné fázi se často vyskytují takové supermolekuly jako H2F2, H3F3, H4F4, H5F5 a H6F6, či
lépe HF.HF.HF, atd.
Molekuly vody tvoří vodíkové vazby mimořádně snadno, protože čtyři páry elektronů u
atomu O obsazují hybridní orbity sp3, jež směřují ven jakoby směrem k vrcholům čtyřstěnu
(Obr. 3.9). Atomy vodíku jsou ve dvou z těchto vrcholů, které podle toho mají lokalizované
kladné náboje, kdežto ostatní dva vrcholy vykazují poněkud rozptýlenější záporné náboje.
Každá molekula H2O tedy může vytvořit vodíkové vazby se čtyřmi jinými molekulami H2O.
Do dvou z těchto vazeb dodává vazebné protony centrální molekula a v ostatních dvou
pocházejí od přidružených molekul. V kapalném stavu jsou vodíkové vazby mezi sousedními
molekulami H20 ustavičně lámány a přetvářeny v důsledku tepelného pohybu, ale přesto jsou
molekuly v každém okamžiku uspořádány v určitých skupinkách. V pevné fázi jsou tyto
skupinky velké a stabilní a tvoří ledové krystaly.
Obr. 3.9: V molekule H2O obsazují čtyři páry valenčních elektronů u atomu kyslíku (čtyřmi elektrony přispívá
atom O a po jednom každý atom H) čtyři hybridní orbity sp3, jež tvoří tetraedrickou strukturu. Každá molekula
H2O může vytvářet vodíkové vazby se čtyřmi jinými molekulami H2O
Obr. 3.10: Pohled shora a z boku na krystal ledu ukazující otevřené hexagonální uspořádáni molekul H20. Každá
molekula má čtyři nejbližší sousedy, s nimiž je spojena vodíkovými vazbami
Jako u všech ostatních pevných látek, atomy kovů drží pohromadě proto, že jejich
kolektivní energie je nižší, když jsou navzájem vázané, než když se vyskytují jako
samostatné, oddělené atomy. K pochopení příčin tohoto snížení energie v kovovém krystalu si
všimněme, že vzhledem k vzájemné blízkosti iontů je každý valenční elektron v průměru
blíže k jednomu nebo druhému jádru, než kdyby náležel izolovanému atomu. Potenciální
energie elektronu je tedy menší v krystalu než v atomu, a právě toto snížení potenciální
energie je odpovědné za kovovou vazbu.
Je však třeba uvážit ještě další faktor. Zatímco potenciální energie elektronů je
v kovovém krystalu snížena, je jejich kinetická energie vyššÍ. Volné elektrony v kovu tvoří
jednotný systém elektronů a vylučovací princip zakazuje, aby více než dva z nich (s opačnými
spiny) obsadily libovolnou energetickou hladinu. Opět například u lithia by se na první pohled
zdálo, že v celém krystalu Li může kvantové stavy n = 2 obsadit jen osm valenčních
elektronů a ostatní elektrony jsou nuceny do vyšších a vyšších stavů s tak velkou energií, že
se celá krystalová struktura rozruší. Skutečnost je však méně dramatická. Valenční
energetické hladiny různých kovových atomů jsou všechny mírně pozměněné vzájemnými
interakcemi, a tak vzniká pás energií, který se skládá z tolika těsně vedle sebe položených
energetických hladin, kolik je valenčních energetických hladin ve všech atomech v krystalu.
Volné elektrony mají podle toho kinetickou energii v rozmezí od O do nějaké maximální
hodnoty EF, zvané Fermiho energie; Fermiho energie například v lithiu je 4,72 eV a střední
kinetická energie volných elektronů v kovovém lithium je 2,8 eV. Jelikož kinetická energie
elektronu je kladná veličina, vede její zvýšení v kovu oproti hodnotě v oddělených atomech
k vzájemnému odpuzování.
Ke kovové vazbě dochází tehdy, když přitahování mezi kladnými kovovými ionty a
elektronovým plynem převýší vzájemné odpuzování elektronů v tomto plynu, tj. když snížení
potenciální energie elektronů co do velikosti převýší původní zvýšení kinetické energie
elektronů. Čím větší je počet valenčních elektronů na jeden atom, tím větší bude v kovovém
krystalu střední kinetická energie elektronů, avšak bez přiměřeného poklesu potenciální
energie. Z tohoto důvodu se· kovové prvky téměř všechny vyskytují v prvních třech grupách
periodické soustavy. Některé prvky jsou zrovna na hranici této oblasti a mohou tvořit jak
kovové, tak kovalentní krystaly. Význačným příkladem je cín. Nad 13,2 °C existuje "bílý
cín", jehož atomy tvoří prostorově centrovanou tetragonální strukturu s koordinačním číslem
6. Pod 13,2 °C se vyskytuje tuhý kovalentní "šedý cín", jehož struktura je stejná jako u
diamantu, s koordinačním číslem 4. Šedý a bílý cín jsou naprosto odlišné látky; mají
například hustotu 5,8, resp. 7,3 g/cm3 a šedý cín je polovodič, kdežto bílý cín má vysokou
elektrickou vodivost typického kovu.
Jak jsme již řekli, kovové vazby nejsou obecně tak silné jako kovalentní nebo iontové
vazby, i když jsou mnohem silnější než vazby van der Waalsovy. Ilustrací energie vazby
v kovech je 1,4 eV/atom u zinku, 1,6 eV/atom u lithia, 2,0 eV/atom u olova a 3,5 eV/atom
u mědi.
Grafit se skládá z vrstev uhlíkových atomů, kde každá vrstva je rovinný, hexagonální
útvar atomů (Obr. 3.11). Každý atom uhlíku je spojen se třemi ostatními atomy,
pravděpodobně hybridními vazbami sp2, neboť vazby svírají úhly 120°. Zbývající valenční
elektrony (jeden na atom) obsazují vazebné orbity n, jež mají koncentrace nad a pod rovinou
vrstvy uhlíkových atomů. Elektrony n jsou delokalizované jako v molekule benzenu a mohou
se s poměrnou volností pohybovat v blízkosti celé vrstvy, k níž patří. Vazba v každé grafitové
vrstvě je tak částečně kovalentní a částečně kovové povahy. Vzorek grafitu vykazuje značnou
elektrickou vodivost podél jeho vrstev, ale malou vodivost ve směru příčném k vrstvám, což
souhlasí s uvedeným obrazem.
Obr. 3.11: Grafit se skládá z vrstev uhlíkových atomů v hexagonálních útvarech, kde každý atom je vázán se
třemi ostatními. Vrstvy jsou navzájem vázány slabými van der Waalsovými silami
Van der Waalsovy síly spojující grafitové vrstvy jsou celkem slabé, na rozdíl od silných
vazebných sil uvnitř vrstev. V důsledku toho mohou vrstvy vůči sobě navzájem snadno
sklouznout a lehce se odlupují - proto je grafit tak užitečný jako mazivo a tuha v tužkách.
Mezijaderná vzdálenost v grafitových vrstvách je 1,42 Å a vzdálenost mezi vrstvami je
3,40 Å, kdežto v diamantu je mezijaderná vzdálenost 1,54 Å všude v krystalu (Obr. 3.4).
Otevřenější struktura grafitu se odráží v jeho hustotě 2,25 g/cm3, ve srovnání s 3,51 g/cm3
u diamantu.
Mimo krystalické formy diamantu a grafitu se uhlík vyskytuje ještě jako amorfní pevná
látka zvaná kopt (saze). Dřevěné uhlí a koks jsou v podstatě také amorfní uhlík, i když se
v uhlíkových zrnech, z nichž se skládají, někdy objevují stopy grafitové struktury.
Mnoho různých křemičitých (silikátových) struktur zahrnuje takové známé příklady
navzájem slabě vázaných jednorozměrných a dvourozměrných krystalů, jako je asbest a slída.
Základní strukturní jednotkou silikátů je čtyřstěn SiO4 (Obr. 3.12), jehož poměrně silné vazby
jsou částečně kovalentní a částečně iontové. Každý atom kyslíku v takovém čtyřstěnu nese
efektivní záporný náboj a může tvořit vazbu buď s kovovým atomem, nebo s jiným atomem
křemíku. V nerostu forsteritu (Mg2SiO4) jsou čtyřstěny Si04 spojeny ionty Mg2+ a tvoří
iontový krystal se střídavě rozloženými ionty [SiO4]4- a Mg2+. V oxidu křemičitém (SiO2)
přísluší každý atom O ke dvěma sousedním čtyřstěnům, a tak celý soubor drží pohromadě
vazbami Si-O a následkem toho je celkem tvrdý. Oxid křemičitý se vyskytuje ve dvou
formách - jako krystalický, v jehož struktuře se projevuje dalekodosahové uspořádání,
a sklovitý (nebo tavený) křemen, sklo, jež má stejné krátkodosahové uspořádání jako
krystalický křemen, ale bez pevných, periodicky se opakujících základních struktur.
34 FEKT Vysokého učení technického v Brně
Obr. 3.12: Vazby Si-O křemičitých strukturách jsou částečně kovalentního a částečně iontového charakteru
Mezi dvěma krajními případy čtyřstěnů Si04 spojených výhradně kovovými ionty a
výhradně sdílením kyslíkových atomů jsou křemičité struktury s oběma typy vazeb. Na
Obr. 3.13 je znázorněn řetězec čtyřstěnů SiO4, z nichž každý sdílí dva atomy O se svými
sousedy, ponechávaje dva ionty O - volné pro vytvoření iontových vazeb mezi kovovými
ionty.
Obr. 3.13: a) Jednoduchý řetězec čtyřstěnů SiO4. Každá strukturní jednotka má vzorec [SiO3]2-. Ionty O-
navrchu a na boku řetězce mohou tvořit iontové vazby s kovovými ionty. b) Dvojrozměrné znázornění řetězce.
Nepřerušované čáry představují vazby Si-O
Obr. 3.14: Sousední řetězce [SiO3]2- v MgSiO3 jsou vázány prostřednictvím iontů Mg2+
Obr. 3.14 ukazuje takové řetězce vázané ionty Mg2+ v nerostu enstatitu MgSiO3.
Iontové vazby mezi řetězci jsou slabší než kovalentně iontové vazby uvnitř každého řetězce;
to vysvětluje vláknitou povahu různých nerostů společně nazývaných asbest (osinek).
Nanotechnologie 35
Jíl (hlína), mastek a slída jsou příklady dvourozměrných křemičitých struktur. Kaolínit,
nejjednodušší jíl, je hlavní složkou kaolínu (porcelánové hlinky) široce používaného ve
výrobě keramiky, papíru, barviv a plastických hmot. Kaolinit má vrstevnatou strukturu, jež se
v podstatě skládá z "plástve" čtyřstěnů SiO4 (Obr. 3.15) a z plástve Al(OH)3, v níž každý iont
Al3+ má šest iontů OH- jako nejbližší sousedními čtyřstěny (Obr. 3.16), takže jeden iont O- na
každý čtyřstěn zůstává obnažený na vnější straně plástve.
Obr. 3.15: Plástev čtyřstěnů SiO4. Každá strukturní Obr. 3.16: Struktura Al(OH)3
jednotka má vzorec [Si2O5]2-. Ionty O- navrchu plástve
mohou tvořit iontové vazby s kovovými ionty
Každý obnažený iont O- nahrazuje jeden iont OH- v plástvi Al(OH)3, čímž spoutává dvě
plástve do jednoho pevně vázaného plochého krystalu (Obr. 3.17). Sousední vrstvy drží
pohromadě van der Waalsovými silami a tvoří jíl, jehož plastičnost (tvárnost) je výsledkem
slabých vazeb mezi vrstvami.
Van der Waalsovy síly v jílu jsou vlastně větší než obvykle, poněvadž každá vrstva v
kaolinitu je polarizovaná, s kyslíkovými atomy na straně křemíku vykazujícími nevelký
záporný náboj a skupinami OH na straně hliníku vykazujícími nevelký kladný náboj. Proto jíl
snadno pohlcuje vodu (Obr. 3.18), jejíž polární molekuly zapadají mezi sousední vrstvy jílu.
Mezi tyto vrstvy může být zachyceno několik vrstev vodních molekul, což vysvětluje
schopnost jílu absorbovat do své struktury velké množství vody a mimořádnou tvárnost
vlhkého jílu. Mastek, jiný vrstevnatý křemičitý nerost, má symetričtější strukturu skládající se
z plástve Mg(OH)2 s plástvemi SiO4 na obou stranách. Nepolární mastkové vrstvy mají podle
toho menší sklon držet pohromadě než vrstvy jílu a neabsorbují tak snadno vodu.
Obr. 3.17: Boční pohled na strukturu jílového nerostu Obr. 3.18: Struktura kaolinitu snadno absorbuje
kaolinitu. Sousední vrstvy jsou navzájem poutány molekuly vody, protože atomy O vykazují nevelký
slabými van der Waalsovými silami záporný náboj a skupiny OH nevelký kladný náboj
36 FEKT Vysokého učení technického v Brně
Atomy v krystalu jsou podle definice periodicky uspořádané. Je tedy v každém typu
krystalu možné vyčlenit reprezentativní elementární buňku - skupinu iontů, atomů nebo
molekul - a konstruovat krystal opakovanou translací buňky v trojrozměrném prostoru
(Obr. 3.19).
Obr. 3.19: Prostorovou mřížku lze zkonstruovat opakovanou translací elementární buňky podél jejích hran
Pro každou elementární buňku na Obr. 3.20 může existovat řada periodických uspořá-
dání různé symetrie a to v rovině či v prostoru.
Na Obr. 3.21 je znázorněno pět základních možností vytvoření bodů mřížky v rovině:
a) čtverec, b) prázdný obdélník, c) obdélník s jedním atomem ve středu, d) šestiúhelník
e) kosodélník. Tato uspořádání se nazývají rovinné Bravaisovy mřížky. Obecná nebo šikmá
Bravaisova mřížka má dvě nestejné strany (konstanty) a ≠ b, které svírají libovolný úhel θ..
Je-li a⊥b, je θ = 90° a mřížka je obdélníkového typu. Pro speciální případ, kdy a = b a
θ = 60°, je mřížka šestiúhelníkového typu tvořená rovnostrannými trojúhelníky. Každá mřížka
na elementární buňku, znázorněnou v obrázcích, která se může opakovat v rovině a generovat
mřížku.
Obr. 3.21: Pět rovinných Bravaisových mřížek. Jejich základní buňka má tvar a) čtverce, b) prázdného
obdélníka, c) centrovaného obdélníka, d) kosočtverce, e) kosodélníka
Třídíme-li tato uspořádání v prostoru jen podle symetrie, dostaneme 230 různých
způsobů periodického uspořádání objektu v prostoru, z nichž každý je možno konkrétně
realizovat řadou strukturních typu (s danou bází, koordinačním číslem apod.). Z těchto
možností se v krystalech běžně vyskytují jen některé a nejdůležitějšími z nich se nyní budeme
zabývat.
Elementární buňky spadají do 14 kategorií odpovídajících 14 možným různým
prostorovým mřížkám. Prostorová mřížka je taková trojrozměrná množina bodů, že každý
z těchto bodů má stejné okolí, tj. že sousední body obklopují každý bod mřížky stejným
způsobem. V nejjednodušších krystalech je v každém mřížovém bodě jediný atom, avšak
častěji je zde soubor dvou nebo více atomů - báze, která je v každém bodě mřížky stejná co do
složení, uspořádání a orientace. Je tedy rozdíl mezi strukturou krystalu, která je konkrétním
prostorovým uspořádáním jeho atomů, iontů či molekul, a odpovídající prostorovou mřížkou,
která je geometrickou abstrakcí užitečnou pro klasifikaci krystalu.
Na Obr. 3.22 je 14 Bravaisových mřížek, pojmenovaných podle autora, který ukázal, že
to jsou jediné možné typy prostorových mřížek. Z obrázku je jasné, že k jejich konstrukci
stačí osy sedmi typů, což vede ke klasifikaci všech krystalů do sedmi krystalografických
Nanotechnologie 39
soustav. (Někdy se trigonální a hexagonální soustavy vyšetřují společně jako jedna soustava.)
Tyto soustavy mají následující vlastnosti:
1. Kubická (krychlová). Krystalové osy jsou navzájem kolmé a periodicky se opakující
interval – perioda identity – je stejný podél všech tří os. Kubické mřížky mohou být prosté a
prostorově nebo plošně centrované.
2. Tetragonální (čtverečná). Krystalové osy jsou navzájem kolmé. Periody identity jsou
podél dvou os stejné, ale perioda podél třetí osy je jiná. Tetragonální mřížky mohou být prosté
nebo prostorově centrované.
3. Rombická (kosočtverečná). Krystalové osy jsou navzájem kolmé, ale periody identity
jsou podél všech tří os různé. Rombické mřížky mohou být prosté, bazálně centrované,
prostorově centrované nebo plošně centrované.
4. Monoklinická (jednoklonná). Dvě krystalové osy nejsou navzájem kolmé, ale třetí osa
je k nim kolmá. Periody identity jsou podle všech tří os různé. Monoklinické mřížky mohou
být prosté nebo bazálně centrované.
5. Triklinická (trojklonná). Žádné dvě z krystalových os nejsou navzájem kolmé a
periody identity jsou podél všech tří os různé.
6. Trigonální (někdy též zvaná romboedrická, klencová). Úhly mezi každými dvěma
krystalovými osami jsou stejné, ale nerovnají se 90°. Perioda identity je stejná podél všech tří
os.
7. Hexagonální (šesterečná). Dvě krystalové osy svírají úhel 60°, kdežto třetí je k nim
kolmá. Periody identity jsou stejné podél os svírajících úhel 60°, ale perioda podél třetí osy je
odlišná.
40 FEKT Vysokého učení technického v Brně
Triklinická
(trojklonná)
P C
Monoklinická
(jednoklonná)
P C I F
Rombická
(kosočtverečná)
3 3
P I
Tetragonální
(čtverečná)
Trigonální
(romboedrická)
(klencová)
Hexagonální
(šesterečná)
P I F
Kubická
(krychlová)
Krystal, jehož atomy jsou uspořádány tak, aby zaujímaly co možná nejmenší objem, má
tzv. těsně uspořádanou strukturu. Těsně uspořádané struktury se vyskytují tehdy, když jsou
vazebné síly sféricky symetrické jako u inertních plynu nebo velmi přibližně sféricky
symetrické jako u mnohých kovu. Koordinační číslo (počet nejbližších sousedů) v těsně
uspořádaném krystalu je 12. Pro ověření této hodnoty si všimneme, že vrstva identických
koulí předpokládá hexagonální konfiguraci, jestliže jsou koule namačkány k sobě co možná
nejtěsněji (Obr. 3.23) a každá koule se dotýká šesti ostatních.
Obr. 3.23: Vrstvy identických koulí. a) Ve čtvercové struktuře zaplňují koule 78,5% celkové plochy.
b) V hexagonální struktuře zaplňují koule 90,7% celkové plochy
Existují dva různé způsoby, jimiž lze takové hexagonální vrstvy nakupit, aby vytvořily
trojrozměrnou těsně uspořádanou strukturu. V obou případech každá koule v dané vrstvě
zapadá do volné prohlubně, tvořené třemi koulemi ve spodní sousední vrstvě; každá koule se
tudíž dotýká tří koulí pod a také tří koulí nad uvažovanou vrstvou. Přidáme-li k tomu ještě
šest koulí, jichž se dotýká v této své vlastní vrstvě, má každá koule v těsně uspořádané
struktuře zřejmě koordinační číslo 12. V takové struktuře je koulemi zaplněno 74% celkového
objemu; odpovídající číslo pro prostorově centrovaný kubický (zkráceně bcc - z anglického
„body-centered cubic“) systém identických koulí s koordinačním číslem 8 je 68% a pro jiné
systémy jsou tyto hodnoty ještě menší až do 34% pro diamantovou strukturu.
V hexagonální těsně uspořádané struktuře, zkráceně hcp (z anglického „hexagonal
close-packed“), jsou koule každé druhé vrstvy vždy přímo nad sebou, jak ukazuje Obr. 3.24.
Obr. 3.24: Hexagonální těsně uspořádaná struktura. a) Schematický pohled. b) Model v reálném měřítku
Mezi prvky se strukturou hcp patří berylium, hořčík, kobalt a zinek. V plošně
centrované kubické struktuře (zkráceně fcc – „face-centered cubic“), někdy též nazývané
kubická těsně uspořádaná, se vrstvení opakuje vždy po třech vrstvách místo po dvou, takže
každá koule ve třetí vrstvě obsazuje prohlubeň umístěnou nad prohlubní v první vrstvě, která
není zaplněna koulí z druhé vrstvy (Obr. 3.25).
42 FEKT Vysokého učení technického v Brně
(a)
Obr. 3.25: a) Atomy v těsně uspořádaných vrstvách B a C leží nad dvěma různými soubory prohlubní v těsně
uspořádané vrstvě A. b) Hexagonální těsně uspořádaná struktura se skládá ze střídajících se vrstev A a B.
c) Plošně centrovaná kubická struktura se skládá z posloupností vrstev A, B a C
Výsledná elementární buňka je na Obr. 3.26; obsahuje atomy, jež leží ve čtyřech
sousedních hexagonálních vrstvách, jak znázorňuje část a) obrázku. Mezi pevné látky se
strukturou fcc patří měď, olovo, zlato a argon.
V rovině se jeví nejúčinnějším způsobem, jakým lze složit identická kolečka (nebo
kuličky), uspořádání stejnoramenných trojúhelníků (Obr. 3.23), což odpovídá šestiúhelníkové
(hexagonální) Bravaisově mřížce z Obr. 3.21d. Druhá hexagonální vrstva kuliček může být
umístěna na první vrstvu, čímž se vytvoří nejúčinnější složení dvou vrstev (Obr. 3.25).
Pro účinné složení můžeme pokračovat třetí vrstvou buď nad první vrstvou s atomem
v poloze T, nebo v třetím možném uspořádání s atomem nad polohou označenou X v Obr.
3.27b. V prvním případě se vytvoří hexagonální mřížka s těsně uspořádanou hexagonální
Nanotechnologie 43
Obr. 3.27: Těsná vazba kuliček na rovinném povrchu: (a) pro monovrstvu, (b) s další přidanou vrstvou. Kroužky
druhé vrstvy jsou znázorněny menší pro větší názornost. Poloha oktaedric-kého místa je označena X, poloha
tetraedrického místa T v obr b)
Mnoho kovů, které tvoří těsně uspořádané mřížky: Ag, Al, Au, Co, Cu, Pb, Pt a Rh, stejně
jako vzácné plyny Ne, Ar, Kr, Xe, jsou plošně centrované kubické (fcc) struktury a Mg, Nd,
Os, Re, Ru, Y, Zn tvoří hexagonálně těsně uspořádanou strukturu (hexagonal closed packed –
hcp). Určitý počet dalších atomů kovů krystalizuje v již ne tak těsné prostorově vázané (body
centered cubic – bcc) mřížce. Některé, jako Cr, Li, Sr, krystalizují ve všech třech typech
struktur podle teploty. Atom v každé ze dvou těsně vázaných mřížek má 12 nejbližších
sousedů.
44 FEKT Vysokého učení technického v Brně
Na Obr. 3.28 je znázorněno 12 nejbližších atomů, které obklopují atom (tmavý kroužek)
umístěný ve středu krychle v případě fcc mřížky. Těchto 13 atomů tvoří nejmenší možno
teoretickou nanočástici pro fcc mřížku. Na Obr. 3.29 je čtrnáctistěnný mnohostěn, zvaný
dekatesaraedron, který je generovaný spojením atomů s planárními stěnami. Sutano a
Koizumi (1998) nazvali tento mnohostěn kuboktaedron. Tři otevřené kroužky nahoře vpravo
v Obr. 3.29 jsou tři atomy horní vrstvy, šest tmavých kroužků a atom ve středu krychle z
Obr. 3.28 tvoří střední vrstvu a otevřený kroužek vlevo dole z Obr. 3.29 je jedním
z tajemných atomů v rovině pod klastrem z Obr. 3.30. Tento čtrnáctistěn má 6 čtvercových
stěn a 8 trojúhelníkových stěn ze stejnostranných trojúhelníků.
Obr. 3.28: Prostorově centrovaná kubická Obr. 3.29: Nanočástice s 13 atomy rozmístěnými v fcc
struktura zobrazující 12 nejbližších atomů, které elementární buňce vytváří čtrnáctistěn sdružený
obklopují atom ve středu krychle (tmavý s nanoklastrem. Tři prázdná kolečka v pravém horním rohu
kroužek) odpovídají atomům horní vrstvy nanočástice, šest plných
kroužků plus atom ve středu krychle (nezobrazen) tvoří střední
hexagonální vrstvu a prázdný kroužek v dolním levém rohu
krychle je jedním za tří atomů dolní vrstvy klastru
Pro každou hodnotu n je v Tab. 3.2 vyjádřen počet povrchových atomů a procento
povrchových atomů. Dále je tam průměr každé nanočástice, daný vztahem (2n-1)d, kde d je
vzdálenost mezi středy nejbližších atomů. d = d = a / 2 , kde a je mřížková konstanta.
Nanotechnologie 45
Tab. 3.2: Počet atomů (strukturálních magických čísel) v nanočástici vzácného plynu nebo kovu s bazálně
středovanou těsnou strukturou
Počet fcc atomů v nanočástici
číslo slupky průměr celkem na povrchu % povrchu
1 1d 1 1 100
2 3d 13 12 92,3
3 5d 55 42 76,4
4 7d 147 92 62,6
5 9d 309 162 52,4
6 11 d 561 252 44,9
7 13 d 923 362 39,2
8 15 d 1415 492 34,8
9 17 d 2057 642 31,2
10 19 d 2869 812 28,3
11 21 d 3871 1002 25,9
12 23 d 5083 1212 23,8
25 49 d 4,90.104 5,76.103 11,7
5 4
50 99 d 4,04.10 2,40.10 5,9
75 149 d 1,38.106 5,48.104 4,0
6 4
100 199 d 3,28.10 9,80.10 3,0
Průměr d pro některé fcc atomy: Al = 0,286 nm, Ar = 0,376 nm, Au = 0,288 nm, Cu = 0,256
nm, Fe = 0,248 nm, Kr = 0,400 nm, Pb = 0,350 nm, Pd = 0,275
možné aproximovat kulovým tvarem, přičemž mají charakteristiky těsně uspořádané struktury
objemové pevné látky. Tato magická čísla se neuvažují v elektronové struktuře atomů, které
tvoří nanočástice. Občas je dominantním faktorem v určení struktury s minimální energií
malých nanočástic interakce valenčních elektronů atomů s průměrným potenciálem molekuly
tak, že elektrony jsou na orbitách spojených s tímto potenciálem. Konfigurace atomových
klastrů, v nichž tyto elektrony zaplňují uzavřené slupky jsou zvláště stabilní a vytvářejí
magické počty elektronů. Jejich atomová struktura se liší od fcc uspořádání a budeme ji
studovat v kap. 4.
Při měření nanočástic sodíku NaN na hmotnostním spektrografu bylo zjištěno, že
maxima hmotností odpovídající prvním 15 elektronickým magickým číslům N =3, 9, 20, 36,
61,… byla pozorována u klastrů až do velikosti N = 1220 atomů (n = 15) a fcc strukturální
magická čísla začínající na N = 1415 pro n = 8 byla pozorována v případě větších velikostí
[Martin et al. 1990, Sutano a Koizumi 1998, s. 90]. Data z hmotnostních spekter byla
zkoumána jako funkce třetí odmocniny počtu atomů N1/3 v Obr. 3.31 a je zřejmé, že křivky
z obou sestav magických čísel jsou přibližně stejně vzdálené, přičemž vzdálenost
strukturálních magických čísel je asi 2,6x větší než mezi elektronovými. Tento výsledek
ozřejmuje fakt, že malé klastry mají tendenci se chovat jako elektrony a větší struktury mají
tendenci být strukturálně determinovány.
Obr. 3.31: Závislost pozorovaných křivek hmotnostních spekter Nan nanočástic na n1/3 počtu atomů N v
klastru. Křivky jsou označeny indexem n jejich elektronových a strukturálních magických číslech (Martin et al,
1990)
Binární polovodičové struktury typu III-V a I-VI, např. GaAs a ZnS, krystalizují
s jedním atomem nacházejícím se na fcc submřížce v poloze 000, ½½0, ½0½ a 0½½ a
dalším atomem na druhé fcc submřížce posunuté od první o ¼¼¼ ve směru tělesné
úhlopříčky (Obr. 3.32b). To se nazývá blejno zinkové(sfalerit) nebo ZnS struktura.
Z obrázku je patrné, že, že každý atom zinku (bílá kulička) je umístěn ve středu čtyřstěnu z
S atomů (černé kuličky) a také každý S atom má čtyři podobně situované nejbližší Zn atomy.
Malá krychle poloviční velikosti čárkovaně zachycuje takový čtyřstěn. Stejná struktura
vznikne, když se atomy Zn a S vzájemně vymění místa.
Podobně křemík a germanium krystalizují ve stejné struktuře, přičemž atomy Si (nebo
Ge) obsazují všechna místa na dvou submřížkách, tedy v elementární buňce se nachází
8 identických atomů. Tato uspořádání atomů (Obr. 3.32a) se nazývá diamantová struktura.
Křemík i galium mají valenci 4, dle vazebních podmínek se mohou vázat na čtyři další atomy
ve tvaru pravidelného čtyřstěnu.
Nanotechnologie 47
Obr. 3.32: Elementární buňka: (a) diamantové struktury, která obsahuje pouze 1 typ atomů. (b) blejna zinkového
(sfalerit) se dvěma typy atomů. Tyčinky představují tetraedrickou vazbu mezi nejbližšími atomy. Malá
čárkovaná rychle představuje čtyřstěn. (G. Burns, Solid state physics, Academic Press, Boston, 1985, s. 148)
Aniony jsou podstatně větší než kationy v souladu s Obr. 3.33 a tento rozdíl ve velikosti
je větší pro skupinu III-V než pro skupinu II-VI. Avšak tento rozdíl velikostí má tendenci se
srovnat tak, že III-V sloučeniny mají mřížkovou konstantu stejného řádu jako skupina II-VI,
přičemž Si a Ge jsou též v této relaci.
Existují dva jednoduché modely pro reprezentaci těchto struktur dvou neutrálních
atomů A a C v binárních sloučeninách. Pro iontový model mřížka An-Cn+ sestává z fcc
uspořádání velkých anionů An- s malými kationy Cn+ ležícími v tetraedrických místech anionu
a
fcc mřížky. Jestliže se aniony vzájemně dotýkají, jejich poloměry mají velikost a0 = 2, kde
2
a je mřížková konstanta. Poloměr aT = 0,2247 a0 tetraedrického místa je dán vztahem (3.10).
To platí pro velmi malý kationt Al3+ ve struktuře AlSb.
Použijí-li se větší kationy, odtlačují aniony tak, že se již nebudou dotýkat (Obr. 3.34).
V kovalentním modelu pro strukturu z neutrálních atomů A a C je velikost atomů srovnatelná
a struktura se podobá struktuře Si nebo Ge. Pro porovnání uvažujme, že vzdálenost mezi
atomem A nacházejícím se v místě 000 mřížky a nejbližším atomem C v poloze ¼ ¼ ¼ je
a
rovna 3.
4
V těchto sloučeninách každý atomový typ tvoří fcc mřížku s atomy jedné fcc mřížky
umístěné v oktaedrickém místě další mřížky. Oktaedrické místo má poloměr aoct = 0,41411 a0,
což je víc než poloměr tetraedrického místa daný rovnicí (3.9).
Obr. 3.33: Seskupení velkých atomů síry s menšími atomy zinku ve sfaleritu (ZnS). Každý atom je centrován ve
čtyřstěnu jiného typu atomu (dle R.W.G. Wyckoff, Crystal structures, vol. 1, Wiley, New York, 1964, s. 109)
48 FEKT Vysokého učení technického v Brně
Obr. 3.34: Koordinační číslo 3 při různých poměrech Obr. 3.35: Minimální poměr atomových
atomových poloměrů poloměrů pro koordinační číslo 3
mřížky je 0,180 nm3, což přibližně odpovídá počtu 22 atomů stejného typu v 1 nm3.
Vzdálenosti mezi vrstvami atomů ve směrech 100, 110 a 111 jsou 0,565 nm, 0,400 nm a
0,326 nm pro GaAs. Různé III-V polovodičové sloučeniny tvoří smíšené krystaly různých
koncentrací než sloučeniny II-VI.
Ve smíšených krystalech typu InxGa1-xAs je obvykle vhodné předpokládat, že Vegardův
zákon (přibližné empirické pravidlo ukazující, že při T = konst. existuje lineární vztah mezi
mřížkovou konstantou a krystalické mřížky slitiny a koncentrací x jejich součástí).
Výsledkem je vztah
a(x) = a(GaAs) + [a(InAs) – a(GaAs)]x = 0,565 + 0,041 x, (3.16)
kde 0 ≤ x ≤ 1. Pro AlxGa1-xAs bude místo členu +0,041 x člen + 0,001 x.
Diskutovali jsme atomy v krystalu ležící v určitých místech mřížky, ale v realitě
neustále podléhají spojitým fluktuacím v okolí jejich pravidelné polohy v mřížce. Tyto
fluktuace pocházejí z tepelné energie v mřížce a jsou samozřejmě výraznější převyšších
teplotách. Protože atomy jsou vzájemně spojeny chemickými vazbami, pohyb atomu
v jednom místě vyvolává v jeho okolí reakci na tento pohyb. Chemické vazby působí jako
pružiny, které se opakovaně natahují a smršťují při kmitavém pohybu. Výsledkem je, že
četné atomy kmitají ve fázi (unisono) a tento společný pohyb se šíří krystalem. Každý typ
mřížky má své charakteristické módy (tj. frekvence) kmitů – zvané normální módy – a
celkový kmitavý pohyb mřížky je kombinací nebo superpozicí velmi mnoha normálních
módů. Pro mřížky dvouatomových molekul (např. GaAs) existují nízkofrekvenční módy –
zvané akustické módy – v nichž těžké a lehké atomy ve fázi s ostatními, a vysokofrekvenční
módy – optické módy – v nichž existují tendence kmitat rozfázované.
Jednoduchým modelem pro analýzu těchto kmitavým módů je lineární řetězec
střídajících se atomů s vyšší hmotností M a nižší hmotností m, navzájem propojených
pružinkami (~):
~m~M~m~M~m~M~m~M~
Obr. 3.36: Závislost podélného normálního módu kmitů o frekvenci ω na vlnovém čísle k = 2π/λ pro lineární
dvouatomový řetězec se střídajícími se hmotnostmi m < M. Klidová vzdálenost mezi nimi je a, tuhost pružiny C
50 FEKT Vysokého učení technického v Brně
Když se jedna pružinka natáhne nebo stlačí o Δx, síla působí na vedlejší částice je
F = CΔx, kde C je tuhost pružiny. Jak se jednotlivé pružinky postupně natahují a stlačují,
objeví se podélné (longitudální) vibrační módy a každý atom kmitá ve směru řetězce. Každý
takový normální mód má vlastní frekvenci ω a vlnový vektor k = 2π/λ, kde λ je vlnová délka
a energie módu je E = ħω. Existují také příčné (transversální) módy, v nichž atomy kmitají ve
směru kolmém k řetězci atomů. Na Obr. 3.36 je závislost ω na k pro nízkofrekvenční
akustické a vysokofrekvenční optické podélné módy. Vidíme, že akustická větev stále zvyšuje
frekvenci s rostoucím k, zatímco v optické oblasti frekvence spojitě klesá. Obě větve mají
2C 2C
limitní hodnoty frekvencí a a pro něž je rozdíl energií na hranici Brillouinovy zóny
M m
kmax = π/a, kde a je vzdálenost mezi atomy m a M v rovnovážném stavu.
Brillouinova zóna je elementární buňka vyjádřená pomocí vlnového čísla nebo
v recipročním prostoru, jak vysvětlíme později. Optické frekvence kmitů spadají do IČ oblasti
spektra (f = 1012 – 3.1014 Hz), akustické frekvence jsou mnohem nižší. V 3D prostoru je
situace komplikovanější, protože existují podélné akustické (LA), příčné akustické (TA),
podélné optické (LO) a příčné optické (TO) módy.
Atomy v molekulách také podléhají kmitavému pohybu. Molekula obsahující N atomů
má 3N-6 normálních vibračních módů. Některé molekulové skupiny, např. hydroxyly – OH,
amino – NH2 a nitro - NO2 mají charakteristické normální módy, pomocí nichž můžeme určit
jejich přítomnost v molekulách a pevných látkách.
Diskutované atomové kmity odpovídají stojatým vlnám. Tento kmitavý pohyb může
vytvořit postupné vlny v nichž lokalizované oblasti kmitavého pohybu atomů cestují napříč
mřížkou. Příklady takových vln je zvuk ve vzduchu, seismické vlny. Lokalizované postupné
vlny v pevné látce – fonony –jsou kvantovány s energií ħω = hν, kde ν = ω/2π je frekvence
kmitů dané vlny. Fonony hrají důležitou roli ve fyzice pevné fáze.
Obr. 3.37: Energetické pásy a) nevodiče, b) vlastního polovodiče, c) vodiče. Šrafování představuje přítomnost
elektronů v pásech
Obr. 3.38: Nákres zakázaného energetického pásu, v němž jsou vyznačeny akceptorové hladiny v typické
vzdálenosti ΔA nad vrškem valenčního pásu a donorové hladiny v typické vzdálenosti ΔD pod spodní hranou
vodivostního pásu a hluboké pasti blíže ke středu zakázaného pásu. Velikost tepelné energie kBT je zobrazena
vpravo nahoře
52 FEKT Vysokého učení technického v Brně
Obr. 3.39: (a) 2D elementární buňka v souřadnicovém prostoru x,y. (b) Odpovídající Brillouinova zóna
v recipročním prostoru kx, ky pro pravoúhlou Bravaisovu mřížku
Nanotechnologie 53
Obr. 3.40: Brillouinova zóna GaS a ZnS polovodičů vykazuje vysokou symetrii v bodech Γ, K, L, U, W, X a
křivky vysoké symetrie Δ,Λ,Σ,Q, S, Z
Obr. 3.41: Pásová struktura GaAs polovodiče vypočítaná pomocí pseudopotenciálové metody (M.L. Cohen, J.
Chelikowsky, Electronic structure and electronic properties of semiconductors, 2nd ed. Springer-Verlag, Solid
State Science., Vol. 75, 1989)
Při absolutní nule jsou všechny energetické pásy pod zakázaným pásem zaplněny
elektrony a všechny pásy nad zakázaným jsou prázdné. Tedy při T = 0 K je materiál
nevodivý. Při pokojové teplotě je šířka zakázaného pásu dostatečně malá, takže některé
elektrony jsou teplotně excitovány z valenčního pásu do vodivostního, a těchto několik
excitovaných elektronů se shromáždí v oblasti vodivostního pásu těsně nad jeho minimem
v G6, v oblasti která se nazývá „údolí“. Tyto elektrony nesou určitý elektrický proud, tedy
materiál se nazývá polovodič.
Galium arsenid se nazývá polovodičem s přímým přechodem (direct-gap semiconductor)
protože vrchol valenčního pásu a dno vodivostního pásu jsou nad sebou ve stejné středovém
bodu Γ Brilllouinovy zóny (viz Obr. 3.41). Elektrony ve valenčním pásu v bodě Γ8 mohou být
teplotně excitovány do bodu Γ6 vodivostního pásu beze změny vlnového vektoru k.
Sloučeniny GaAs, Gamb, InP, InAs a InSb jsou tohoto typu – s přímým přechodem.
V některých dalších polovodičích, jako Si a Ge je vrchol vodivostního pásu v jiné poloze
Brillouinovy zóny než dno vodivostního pásu. Tyto polovodiče se nazývají s nepřímým
přechodem (indirect-gap semiconductor).
Na Obr. 3.42 je znázorněna popisovaná situace v bodě Γ pro polovodič s přímým
přechodem pro T > 0 K, kdy energetické pásy jsou reprezentovány parabolami. Vodivostní
pás v Ge je obsazen elektrony až do Fermiho hladiny, definované jako energie nejvýše
obsazeného stavu. Excitované elektrony nechávají za sebou prázdné stavy (kladně působící
díry) na vrcholu valenčního pásu v jinak plně obsazeného valenčního pásu. Tyto hladiny děr
existují nad energií – E´F (Obr. 3.42). Protože vlastní nebo nedotovaný polovodič má právě
tolik děr ve valenčním pásu jako volných elektronů ve vodivostním pásu, zaujímají stejné
objemy v k-prostoru. Tyto elektrony a díry jsou nositeli náboje proudu a teplotní závislost
jejich koncentrace pro GaAs, Si a Ge je na Obr. 3.43.
Nanotechnologie 55
Obr. 3.42: Parabolické vyjádření nejnižšího valenčního pásu a horního vodivostního pásu polovodiče. Oblast ve
valenčním pásu obsahující díry a oblast ve vodivostním pásu obsahující elektrony jsou vyšrafovány. Fermiho
energie EF a E´F označují nejvyšší obsazenou hladinu vodivostního pásu a nejníže neobsazenou hladinu
valenčního pásu. Nulová energie je na vrcholu valenčního pásu a přímý přechod zakázaného pásu Eg je vyznačen
Obr. 3.43: Teplotní závislost vlastní hustoty náboje polovodičů Ge, Si a GaAs. V nejnižší oblasti teplot závislost
není zcela lineární, pochází od faktoru T3/2 z rovnice (3.25)
(a) (b)
Obr. 3.44: Pásová struktura energetických pásů polovodičů s nepřímým přechodem tj. (a) Si a (b) Ge. Zakázaný
pás leží mírně nad Fermiho energií E = 0 na obou obrázcích s vodivostním pásem nad a valenčním pásem pod
zakázaným pásem. Obrázek ukazuje že nejnižší bod vodivostního pásu Ge je při energii E = 0,6 v symetrickém
bodě L (L6+) a pro Si je v 85% cesty ve směru Δ1 mezi Γ15 a X1. Z Obr. 3.41 je zřejmé, že dno vodivostního pásu
pro polovodič s přímým přechodem GaAs je v symetrickém bodě Γ6. Vrchol valenčního pásu je ve středním
bodě Brillouinovy zóny pro oba materiály
Obr. 3.45: Elipsoidní plochy konstantní energie ve vodivostním pásu germania (vlevo) a křemíku (vpravo). Tyto
plochy pro Ge jsou orientovány podél směru symetrie Λ a centrovány v bodě symetrie L. Výsledkem je, že leží
jednou polovinou (spojitá čára) uvnitř a druhou (čárkovaná) vně první Brillouinovy zóny, tedy tato zóna
obsahuje ekvivalent čtyř kompletních energetických ploch. Pro Si leží plochy ve 6 směrech symetrií Δ (tj. podél
± kx, ± ky, ± kz) a jsou centrovány v 85% vzdálenosti od středového bodu G k bodu symetrie X. Všech šest leží
zcela uvnitř Brillouinovy zóny. Obr. 3.40 znázorňuje pozice symetrických bodů Γ, L a X a symetrických čar Δ a
Λ v Brillouinově zóně
Sloučenina GaP má své odpovídající údolí podél směru Δ približně 92% vzdálenosti
k bodu X. Z Obr. 3.40 je patrné, že existuje šest takových Δ drah v Brillouinově zóně, tedy
degenerace údolí je rovna 6. S každým údolím je, v bodě L pro Ge a podél směru Δ pro Si,
sdružen 3D povrch konstantní energie tvaru elipsoidu, který uzavírá vodivostní elektrony
v odpovídajících údolích, a tyto elipsoidy jsou zobrazeny v Obr. 3.45 pro Ge a Si.
Nanotechnologie 57
h2 2 h2 2
EF = E g + (k x + k y + kz ) F = Eg +
2 2
kF , (3.22)
2m 2m
kde EF je Fermiho energie, me hmotnost volného elektronu.
Rovnice (3.21) platí pro materiály s přímým přechodem, kde minimum vodivostního
pásu je v bodě Γ. Všechny uvažované polovodičové materiály mají své maximum valenčního
pásu v bodě Γ.
Situace pro Fermiho plochy vodivostního elektronu je mnohem komplikovanější
pro polovodiče s nepřímým přechodem. Již jsme řekli výše, že Si a GaP mají svá minima
vodivostního pásu ve směru Δ v Brillouinově zóně a odpovídajících 6 elipsoidních ploch
energie je v Obr. 3.45b. Podélná mL a a příčná mT efektivní hmotnost mají pro tyto polovodiče
následující hodnoty
mL mT
= 0,92 = 0,19 pro Si
m0 m0
(3.23a)
mL mT
= 7, 25 = 0, 21 pro GaP . (3.23b)
m0 m0
Germanium má minimum pro vodivostní pás v bodě L Brillouinovy zóny (Obr. 3.40) a
jeho Fermiho plocha je sadou elipsoid se středem v L, jejichž osy jsou orientovány podél
směrů Λ nebo (111) (Obr. 3.45a). Příčná efektivní hmotnost pro tyto elipsoidy v Ge je
mT/m0 = 0,081 a podélná mL/m0 = 1,58. K určení efektivních hmotností obou typů
polovodičů se používají cyklotronové rezonanční techniky a zkoušky napětí materiálu.
Tyto donory a akceptory jsou považovány za mělká centra, tj. mělké pasti elektronů a
děr, protože jejich excitační energie je mnohem menší než energie zakázaného pásu
(ΔEA << Eg, ΔED << Eg). Existují ještě další centra, jejichž hladiny energie leží hluboko
v zakázaném pásu, často v blízkosti jeho středu. Poněvadž Eg >> kBT , nejsou tyto pasti příliš
ionizovány a energie potřebná k jejich excitaci či ionizaci není malá. Příklady hlubokých
center – hlubokých pastí jsou poruchy spojené s prolomením vazby nebo napětí způsobené
posuvem atomů.
3.4.2 Mobilita
Dalším důležitým parametrem polovodičů je pohyblivost (mobilita) μ nebo-li driftová
rychlosti nositelů nábojů v na jednotku elektrického pole E, daná vztahem μ = v / E . Tento
parametr je kladný pro elektrony i díry. Elektrická vodivost σ je sumou příspěvků
od koncentrací elektronů n a děr p:
σ = (neμe + peμh ), (3.24)
n
kde e je náboj elektronu. Pohyblivosti slabě závisejí na teplotě T , a značná teplotní závislost
vodivosti je hlavně způsobena závislostí elektronové a děrové koncentrace na teplotě.
V dotovaných polovodičích toto pochází zajména od Boltzmannova faktoru exp(-Ei/kBT)
spojeného s ionizační energií Ei donorů nebo akceptorů. Typické ionizační energie pro donory
a akceptory v Si a Ge jsou v rozsahu 0,0096-0,16 eV, což je podstatně méně než energie
zakázaného pásu Si (Eg = 1,11 eV) a Ge (Eg = 0,66 eV). Na Obr. 3.38 jsou znázorněny polohy
hladin donorů a akceptorů. Odtud je vidět, že jejich ionizační energie jsou mnohem menší než
Eg. Tepelná energie kBT = 0,026 eV při pokojové teplotě T = 300 K je často srovnatelná
s ionizačními energiemi. Ve vlastním či nedotovaném polovodiči je hlavním příspěvkem
exponenciální faktor exp(-Eg/kBT) v
⎛k T⎞
3/ 2
− Eg
ni = pi = 2 ⎜ B ⎟ (me mh )3 / 4 exp , (3.25)
⎝ 2π h ⎠ 2kBT
kde se sobě rovnají vlastní koncentrace elektronů ei a děr pi, protože tepelná excitace ni
elektronů do vodivostního pásu zanechává za sebou stejný počet děr pi ve valenční pásu,
proto ni = pi. Vidíme, že vztah (3.25) obsahuje součin efektivních hmotností elektronů a děr
memh. Poměry me/m0 a mh/m0 těchto efektivních hmotností k hmotnosti volného elektronu
značně ovlivňují vlastnosti excitonů a proto je budeme zkoumat v dalším paragrafu.
Hořejší vztah plyne ze zákona o složení reakční směsi, tedy koncentrace jejich částí
(atomů nebo molekul), v rovnovážném stavu. Např.
[ H 2 ] [ O]
2 2
= K (T , p) , (3.26)
[ H 2 O]
2
3.4.3 Excitony
Víme, že záporně nabitý elektron a kladně nabitý elektron, zvaný pozitron, ležící ve
1 −e 2
vzdálenosti r od sebe, na sebe působí Coulombovou silou F = . Kvantově mechanický
4πε 0 r 2
výpočet ukazuje, že elektron a pozitron interagují a vytvoří typ atomu zvaný pozitronium,
60 FEKT Vysokého učení technického v Brně
který má energie vázaného stavu vyjádřeny pomocí Rydbergova vztahu, který zavedl r. 1913
Niels Bohr, aby vysvětlil chování atomu vodíku
− e2 6,8
E= = − 2 eV , (3.27)
8πε 0 a0 n 2
n
kde a0 je Bohrův poloměr a0 = 4πε0ħ2/m0e2 = 0,0529 nm, m0 je hmotnost volného elektronu
(a pozitronu), a kvantové číslo n = 1, 2, 3, 4, …, ∞. Pro nejnižší energii nebo základní stav
(n = 1), je energie 6,8 eV, což je přesně polovina energie základního stavu vodíkového atomu,
poněvadž efektivní hmotnost vázaného páru elektron-pozitron je polovinou efektivní
hmotnosti páru elektron-proton v atomu vodíku. Na Obr. 3.46 jsou zobrazeny energetické
hladiny pozitronia jako funkce kvantového čísla n. Tato sada energetických hladin se často
nazývá Rydbergova série atomu vodíku. Spojitá oblast v horní části obrázku je oblast kladné
energie, kde elektron a díra jsou od sebe značně vzdáleny, takže Coulombova síla je
zanedbatelná a energie je vyjádřena pomocí Ek = ½ mv2 = p2/m, kde v je rychlost elektronu a
p = mv je jeho hybnost.
Obr. 3.46: První energetické hladiny v Rydbergově serii atomu vodíku (vlevo), pozitronia (uprostřed) a
typického excitonu (vpravo)
Analogií pozitronu v pevných látkách jako je polovodič, je vazební stav páru elektron-
díra, zvaný exciton. U polovodiče je elektron ve vodivostním pásu a díra ve valenčním.
Efektivní hmotnosti me a mh < m0 volného elektronu, takže efektivní hmotnost páru
me mh
m* = ,
(me + mh )
Je-li me << mh, vztah mezi bude
me
m* = ,
me (3.28)
(1 + )
mh
což ukazuje, že v tomto případě bude m* srovnatelné s hmotností elektronu. Např. je-li
me/mh = 0,2, pak m* = 0,83 me. Tyto situace je typická pro polovodiče typu GaAs. Pro tyto
Nanotechnologie 61
materiály je 7,2 < ε/ε0 < 17,7. Oba tyto faktory mají vliv na pokles energie excitonu Eex vůči
pozitronu, a výsledná energie je
m * / m0 e2 13, 6 ( m * / m0 )
E= = eV , (3.29)
(ε / ε 0 ) 4πε 0 a0 n
2 2
n 2 (ε / ε 0 ) 2
jak je patrné z Obr. 3.46. Tyto stejné dva faktory také zvyšují efektivní Bohrův poloměr
elektronového orbitu, který bude
ε / ε0 ε / ε0
aeff = a0 = 0, 0529 nm . (3.30)
m * m0 m * m0
Užitím efektivní hmotnosti elektronu těžké díry v GaAs dostaneme m*/m0 = 0,059.
Pomocí rovnic (3.29) a (3.30) dostaneme pro GaAs
E0 = 4,6 meV, aeff = 11,8 nm, (3.31)
kde E0 je energie základního stavu (n = 1). To demonstruje, že exciton má rozlohu několika
atomů v mřížce a jeho poloměr v GaAs je srovnatelný s rozměry typických nanostruktur.
Exciton vykazuje vlastnosti částice: může se pohybovat kolem mřížky. Vykazuje také
charakteristická optická spektra. Na Obr. 3.46 je energie základního stavu excitonu
E0 = 18 meV.
Právě studovaný exciton je slabě vázaný pár elektron-díra, zvaný Mottův-Wannierův
exciton. Silně vázaný exciton – Frenkelův exciton – se podobá excitované stavu atomu nebo
molekuly s dlouhou dobou života. Ten je též pohyblivý a může se pohybovat kolem mřížky
transferem excitace nebo náboje v excitovaném stavu mezi sousedními atomy nebo
molekulami. Téměř všechny excitony v polovodičích a v nanostrukturách jsou Mottova-
Wannierova typu, takže jen tyto budeme v dalším zkoumat.
62 FEKT Vysokého učení technického v Brně
4.1 Úvod
Prudký rozvoj nanověd přinesl s sebou i rozvoj nových technologií. Jednou z nich je
schopnost vyrábět menší a menší struktury, a druhá kontinuální vylepšování přesnosti,
s kterou takové struktury mohou být vyrobeny.
Jednou z široce používaných metod pro výrobu nanostruktur je litografie, která využívá
světlocitlivé vrstvy k vytvoření definovaných obrazců (vzorů) na povrchu. Epitaxie pomocí
molekulárního svazku, růst jednoho krystalického materiálu na povrchu druhého, je druhou
technikou, které se neustále vylepšuje. Existují také chemické metody, použití
samoorganizace, samoseskupování, spontánní agregace molekulových skupin.
Od počátku 70. let 20.století sleduje technologický pokrok tzv. Moorův zákon
(1975), který říká, že počet tranzistorů, který je možné umístit na jeden čip, se zdvojuje
každých 18 měsíců. To plyne z neustálého zlepšování faktorů návrhů, např. účinnosti
konektorů a ze zmenšování rozměrů součástek. Ekonomické požadavky tlačí tendenci ke
zvyšování kapacity pamětí, k vyšším rychlostem přenosu a většímu rozšiřování informací na
síti. Dalším velkým
faktorem zodpovědným za nanotechnologickou revoluci je zlepšování starých a
zavádění nových měřicích systémů pro zhodnocení a charakterizaci nanostruktur. Mnohé
z těchto systémů jsou velmi velké a drahé (M$) a často vyžadují specialistu pro obsluhu.
4.2 Struktura
Jestliže však umístíme třetí vrstvu do třetí polohy a čtvrtou vrstvu nad první, atd.
dostaneme A-B-C-A-B-C-A-… a struktura bude fcc, jak jsme vysvětlili v kap. 3. Takovéhle
uskupení se nejčastěji nachází v nanokrystalech.
Některé vlastnosti nanostruktur závisejí na jejich krystalové struktuře, zatímco jiné,
např. katalytická reaktivita a adsorpční energie, závisejí na typu vystaveného povrchu.
Epitaxní vrstvy, připravené z fcc nebo hcp krystalů, obecně rostou s právě diskutovanou
planární těsně uspořádanou atomovou strukturou. Plošně centrované kubické krystaly mají
tendenci vystavovat povrchy se stejným hexagonálním 2D uspořádání atomů.
64 FEKT Vysokého učení technického v Brně
4.2.2 Krystalografie
Abychom určili strukturu krystalu a tedy zjistili polohy jeho atomů v mřížce, namíříme
na krystal kolimovaný svazek rentgenových paprsků, elektronů nebo neutronů, a měříme
difrakční úhly. Vysvětlíme tuto teorii pomocí X-paprsků, ale vše platí i pro ostatní dva zdroje
záření. Vlnová délka λ rentgenova záření, vyjádřená v nanometrech, je spojena s energií E
rentgenových paprsků vyjádřené v keV vztahem
1, 240
λ= nm . (4.1)
E
Obvykle má svazek určitý směr a krystal se otáčí v širokém rozsahu úhlů, aby bylo
možné zaznamenat rentgenové spektrum – též zvané difraktometrický záznam nebo difrakční
sken pomocí X-paprsků. Každý detekovaný signál x-paprsků odpovídá koherentnímu odrazu –
Braggovu odrazu na sousedních rovinách krystalů, pro nějž platí Braggův zákon
2d sin θ = mλ , (4.2)
jak je vidět na Obr. 4.1, kde d je vzdálenost rovin, θ je úhel dopadu a m = 1,2,3,… je
řád ohybu. Nejčastěji volíme m = 1.
Obr. 4.1: Odraz svazku X-paprsků, dopadající pod úhlem θ na dvě rovnoběžné roviny vzdálené od sebe d. Jejich
dráhový rozdíl je 2d sin θ
Každá krystalografická rovina má tři indexy h,k,l. Ty jsou pro kubický krystal poměrem
bodů, v nichž roviny protínají kartézské souřadné osy x,y,z. Vzdálenost d mezi rovnoběžnými
krystalografickými rovinami s indexy hkl nabývá pro jednoduchou kubickou mřížku nebo
mřížkovou konstantu a jednoduchý tvar
a
d = , (4.3)
h2 + k 2 + l 2
tak, že roviny s vyšším indexem mají větší Braggovy difrakční úhly θ. Na Obr. 4.2 je
zobrazena vzdálenost d pro roviny 110 a 120, kde index l = 0 odpovídá rovině rovnoběžné se
směrem osy z. Z tohoto obrázku je zřejmé, že roviny s vyššími indexy jsou blíže u sebe,
v souladu s (4.3), tedy svírají dle (4.2) větší Braggovy úhly. Amplituda rentgenových čar od
různých krystalografických rovin závisí také na indexech hkl, přičemž některé roviny mají
Nanotechnologie 65
nulovou amplitudu a tyto relativní amplitudy umožní identifikovat typ struktury. Např. pro
prostorově centrovanou jednoatomovou mřížku jsou jedinými rovinami, které produkují
pozorovaná difrakční maxima jsou ty, pro něž h + k + l = m je sudé číslo, zatímco pro plošně
centrovanou kubickou mřížku jsou jediné pozorované difrakční čáry ty, které mají buď
všechna kladná nebo všechna záporná čísla hkl.
Obr. 4.2: 2D kubická matice vyjadřuje projekci párů rovin (110) a (120) (kolmých k povrchu), jejichž vzájemná
vzdálenost je d
Abychom dostali kompletní strukturu krystalů, jsou rentgenová spektra získávána rotací
kolem tří vzájemně kolmých rovin krystalu. To poskytuje srozumitelnou informaci o různých
krystalografických rovinách mřížky. Dalším krokem analýzy je převést tato data o rovinách
na pochopení a znalosti o polohách atomů v elementární buňce. To se dosáhne pomocí
Fourierovy transformace. Provedení této procedury umožní identifikovat, která z 230
krystalografických prostorových grup odpovídá struktuře a zároveň získat délky mřížkových
konstant a,b,c elementární buňky a hodnoty úhlů α,β,γ. Na základě toho je možné odvodit
souřadnice poloh každého atomu v elementární buňce.
Obr. 4.3: Histogram rozložení velikosti zrnek v nanokrystalickém TiN určeném na základě TEM mikrogramu.
Fitovací parametry pro čárkovanou křivku jsou D0 = 5,8 nm a σ = 1,71 nm. (C. E. Krill et al., v Nalwa (2000),
vol. 2, chapter 5, p. 207)
Jako příklad určení struktury pomocí x-paprsků uvažujme případ nanokrystalků nitridu
titaničitého (TiN), který byl připraven depozicí chemických par (Chemical Vapor Deposition-
CVD) a jehož velikosti zrnek jsou na Obr. 4.3.
66 FEKT Vysokého učení technického v Brně
Difrakční sken pomocí X-paprsků, je zobrazen v Obr. 4.4 spolu s různě označenými
čarami vztahujícími se ke krystalografickým rovinám. Fakt, že všechny roviny mají buď
kladné nebo záporné indexy identifikuje strukturu jako kubickou stěnově centrovanou. Data
ukazují, že TiN má fcc strukturu jako NaCl z Obr. 3.3c, a mřížkovou konstantu a = 0,42417
nm.
Obr. 4.4: Difrakční sken nanokrystalků TiN pomocí X-paprsků. Velikost zrnek je určena v Obr. 4.3. Bylo
použito záření Kα molybdenu o vlnové délce λ = 0,07093 nm, vypočtené z (4.1). Rentgenové čáry jsou označeny
jejich odpovídajícími indexy krystalografických rovin hkl. Všimněme si, že všechny indexy jsou nebo záporné,
jak se očekává pro fcc kubickou stěnově centrovanou strukturu. Neindexovaná čára v blízkosti 2θ = 15°je
způsobena neidentifikovatelnou nečistotou. (C. E. Krill et al., v Nalwa (2000), vol. 2, chapter 5, p. 200)
Z analýzy šířky Braggových maxim skenu pomocí X-paprsků z Obr. 4.4 je možné získat
informace o střední velikosti zrn v TiN vzorku. Poněvadž tyto šířky vznikají jako důsledek
kombinace konvolucí velikosti zrn, mikrokrystalického napětí a rozšiřovacích efektů přístroje,
je nutné provést korekci vlivu přístroje a napěťových složek, aby bylo možné určit průměrnou
velikost zrnka. Pro zjednodušení uvažujeme, že zrnka jsou kuličky o průměru D a objemu V,
mezi nimiž je vztah
6V
D= 3 , (4.4)
π
přičemž existuje několik možností, jak pomocí korekce šířky čáry dostaneme hodnoty
průměrné velikosti zrnek 10-12 nm, tj. o něco víc, než jsme očekávali z TEM histogramu
z Obr. 4.3. Tedy je možné pomocí difrakce X-paprsků určit střední velikost zrnek, ale
transmisní elektronový mikroskop je třeba k určení reálného rozložení částic (viz Obr. 4.3).
Alternativní metodou pro získání úhlů θ, které vyhovují Braggově podmínce (4.2)
v práškovém vzorku je tzv. Debyeova-Schererova metoda (Obr. 4.5). Ta používá svazek
monochromatických X-paprsků, který dopadá na práškový vzorek nacházející se ve velmi
tenkostěnné skleněné trubičce. Trubička se pomalu otáčí tak, aby se vyhladil zaznamenaný
difrakční obrazec. Kuželový obrazec X-paprsků, který pochází z každého úhlu 2θ, kde θ
splňuje Braggovu podmínku, dopadá na filmový pás stočený do oblouku. Z obrázku je
zřejmé, že Braggův úhel má hodnotu θ = S/4R, kde S je vzdálenost mezi dvěma
odpovídajícími odrazy na filmu a R je poloměr válce s filmem. Tedy pomocí jediného
osvětlení prášku X-paprsky dostaneme současně všechny Braggovy úhly. Tato technika se
Nanotechnologie 67
velmi často používá pro identifikaci vzorku. Pro jednoduší identifikaci jsou výsledky této
Debyeovy-Schererovy metody s více než 20 000 sloučeninami dostupné na JCPDS adrese.
Tato metoda se široce používá k dosažení struktury prášků nanočástic.
Rentgenová krystalografie je užitečná ke studiu řady izomorfních krystalů, tj. krystalů
se stejnou krystalovou strukturou, ale různými mřížkovými konstantami, jako jsou např.
pevné roztoky Ga1-xInxAs nebo GaAs1-xSbx, kde 0≤ x ≤1. Pro tyto kubické krystaly bude
záviset mřížková konstanta a na x, poněvadž indium je větší než galium a antimon je větší než
arsen. Pro tento případ je Vegardův zákon velmi dobrým přiblížením pro odhad a ze
známého x nebo naopak.
Obr. 4.5: Debyeova-Schererova metoda difrakce X-paprsků na prášku. Schéma zařízení (nahoře). Dráha X-
paprsků pro Braggův úhel θ (dole vlevo) a obrázky kužele difrakčního svazku z oblouku stočeného filmu (dole
vpravo). (Dle G. Burns, Solid state physics, Academic Press, Boston, 1985, p. 81)
Obr. 4.6: Mikrofotografie z TEM mikroskopie polyanilinových nanočástic v matrici polymeru. (B. Wessling, in
Handbook of organic conductive molecules and polymers, H.S.Nalwa, ed. Wiley, New York, 1997, Vol. 3. p.
497)
68 FEKT Vysokého učení technického v Brně
Obr. 4.7: Dopplerovské laserové měření rozdělení velikosti vodivých polymerových částic rozptýlených
v organickém rozpouštědle. Velikost částic 9-30 nm s maximem 12 nm. (B. Wessling, in Handbook of organic
conductive molecules and polymers, H.S.Nalwa, Ed. Wiley, New York, 2000, Vol. 5. p. 508)
Částice menší než 2 nm mohou být určeny pomocí hmotnostní spektrometru. Typické
zařízení je na Obr. 4.8, kdy vháněný plyn ionizuje nanočástice nárazem elektronů tak, aby
vznikly kationy. Ty jsou poté akcelerovány a fokusovány čočkami a kolimovány do
hmotnostního spektrometru. Magnetické pole v hmotnostním analyzátoru je orientováno
kolmo ke stránce, působí na ionty Lorentzovou silou F = VB, která ohýbá před detektorem
svazek iontů o úhel 90° . Poměr hmotnosti m a náboje q je
m B2r 2
= . (4.5)
q 2V
Poloměr ohybu r dráhy iontů v magnetickém poli je pro daný přístroj konstantní, takže
je možné změnou magnetického pole B nebo urychlovacího napětí V fokusovat ionty různých
hmotností na detektor. Většinou známe náboj q nanorozměrového iontu, takže zbývá určit
Nanotechnologie 69
hmotnost m. Obecně známe materiál nanočástice, tedy i jeho hustotu ρ = m/V. Velikost
nanočástice nebo její lineární rozměr d určíme pomocí vztahu d = (V)1/3 = (m/ρ)1/3.
Obr. 4.8: Schéma hmotnostního spektrometru s 90°magnetickým analyzátorem. A- destička akcelerátoru nebo
extraktoru, E – elektronová past, f – žhavicí vlákno , I – ionizační komora, R – odpuzovací destička, L – čočky,
S – štěrbiny. Indukce magnetického pole B je kolmá k rovině schématu
Obr. 4.9: Time-of-flight hmotnostní spektra sazí získaných laserovým odpařováním lanthano-uhlíkového
terčíku, vykazují přítomnost několika fulerenových molekul: C60, C70, C76, C78, C82, C84 a LaC82. Spektra
odpovídají a) původním hrubým sazovým extraktům, b) frakce po průchodu chromatografickým sloupcem, c)
druhá frakce izolující a oncentrující endoedrální sloučeninu LaC82. (Dle K. Kikuchi, S. Suzuki, Y. Nakao,
N.Yakahara, T. Wakabayashi, I.Ikemoto and Y. Achiba, Chem. Phys. Lett., Vol. 216, p. 67 1993)
70 FEKT Vysokého učení technického v Brně
4.3 Mikroskopie
Obr. 4.10: Schéma konvenčního TEM (horní šipka) a skenovacího TEM (dolní šipka). SAED – Selected area of
electron diffraction. (Upraveno dle P.R. Busech, J.M. Cowley, L. Eyring, High-resolution transmission electron
microscopy, Oxford University Press, New York, 1988, p.6)
Vlnová délka elektronů v dopadajícím svazku je dána upraveným tvarem rovnice (4.6),
0, 0388
λ= nm , (4.7)
V
kde energie elektronů E je vyjádřena v eV a V je urychlovací napětí v kV. Když jsou
přítomny velmi vzdálené těžké atomy, mohou dominovat nad rozptylem s průměrnými úhly
rozptylu θ ~ λ/d, kde d je střední průměr atomů. Pro urychlovací napětí 100 kV a střední
průměr atomů d = 0,15 nm, dostaneme θ ~ 0,026 rad = 1,5°. Vzniknou obrazy, protože různé
atomy interagují s elektrony a určitým způsobem je absorbují. Když je vzdálenost
jednotlivých atomů těžkých prvků větší než e několika mřížkových konstant, mohou být těžké
atomy někdy rozlišeny pomocí TEM technik.
Elektrony interagují lépe s hmotou než X-paprsky či neutrony se srovnatelnými
energiemi nebo vlnovými délkami. Pro klasické pružné srážky 100 keV elektronů je průměrná
vzdálenost mezi srážkami (střední volná dráha) mezi několika desetinami nanometrů pro
částice světla až po desítky a možná stovky nanometrů pro těžké prvky. Nejlepší výsledky sou
dosaženy v elektronové mikroskopii užitím vrstev o tloušťkách srovnatelných se střední
volnou dráhou. Tenčí vrstvy vykazují příliš malý rozptyl na to, abychom dostali užitečné
obrazy a v tlustších vrstvách převládají mnohočetné srážky a tím i rozptyl, takže obrazy jsou
rozmazané a těžko interpretovatelné. Tlusté vzorky mohou být zkoumány pomocí detekce
zpětně odražených elektronů (back-scattered electrons - BSE).
TEM může vytvořit obrazy užitím apertury SAED (selected-area electron diffraction),
která se nachází mezi objektivem a projekční čočkou (Obr. 4.10). Velkou část elektronového
svazku, který prošel vzorkem, tvoří elektrony, které prošly vzorkem beze srážek. Svazek také
obsahuje elektrony, které ztratily energii při nepružných srážkách, ale neodchýlily se ve své
dráze, a z elektronů, které se odrazily na jednotlivých hkl krystalografických rovinách. Aby se
vytvořil obraz v prošlém jasném poli, je třeba vložit aperturu tak, aby umožnila průchod
pouze neodchýlených prošlých elektronů (Obr. 4.11). Obraz jasného pole pak pozorován na
detektoru nebo stínítku. Když je apertura umístěna tak, aby vybrala pouze jeden ze svazků
odražený od určité hkl roviny, výsledkem je generování obrazu v temném poli na stínítku.
Detaily tohoto obrazu mohou záviset na určitém difrakčním svazku (dané hkl rovině), který se
zvolí pro zobrazování. Na Obr. 4.11 jsou patrné polohy apertury pro obraz ve světlém a
tmavém poli.
72 FEKT Vysokého učení technického v Brně
K ilustrování této techniky jsou na Obr. 4.12 obrazy superslitiny na bázi železe s fcc
austenitovou strukturou, která se skládá z 2-3 nm γ´ precipitátů Ni2(Ti,Al) s fcc strukturou.
Difrakční obrazec (Obr. 4.12a) byl získán bez pomoci filtrů, proto vykazuje široké jasné
skvrny ze superslitiny a velmi malé, slaboučké skvrnky od γ´ nanočástic. V jasném poli
(Obr. 4.12b) jsou tyto γ´ částice sotva viditelné, ale pole pružného napětí o průměru 25 nm je
jasně patrné. Jestliže γ´ svazek difrakčních skvrnek, označený v Obr. 4.12a šipkami je vybrán
pro průchod SAED aperturou, vzniká temné pole (Obr. 4.12c), na němž je velmi zřetelně
patrná poloha γ´ precipitátů.
a) b) c)
Obr. 4.12: TEM obrazy 2-3 nm γ´ precipitátů Ni2(Ti,Al) v superslitině na bázi železe s fcc austenitovou
strukturou. a) Difrakční obraz [100] fcc zóny s jasnými skvrnami od superslitiny a stěží viditelnými skvrnkami γ´
precipitátů. b) Obraz v jasném poli představující pole pružného napětí o průměru 25 nm kolem stěží viditelných
γ´ částic. c) Obraz v tmavém poli získaný pomocí SAED apertury, které umožní průchod jen γ´ difrakčních
skvrnek označených šipkou v Obr. 4.12a.. Na Obr. 4.12c jsou znázorněny jen γ´ částice precipitátu. (Dle T.J.
Headley, in R.E. Whan, 1986, p.442)
Nanotechnologie 73
Obr. 4.13: Postup techniky zpracování obrazu na příkladu obrazu z TEM mikroskopu nanočástic niklu na SiO2
substrátu. a) Původní obraz ve světlém poli, b) rychlá FT připomíná difrakční obrazec, c) obraz zpracovaný
pomocí apertury ve výřezu, d) obraz po dalším zpracování pomocí jiné apertury, e) finální výsledek, f) obraz
SiO2 substrátu po odečtení obrazu částice, g) model nanočástice vytvořený na základě zpracovaných dat
Ke zvýšení informačního obsahu TEM obrazu může být použita metoda zpracování
obrazu. Pomocí ní je možné zvýraznit některé detaily či vlastnosti, které se nacházejí blízko
úrovně šumu. Jestliže se obraz zpracuje pomocí rychlé Fourierovy transformace, potom
poskytuje informaci podobnou té v přímém difrakčním obrazci. Jako příklad výhod
zpracování obrazu je sekvence obrázků v Obr. 4.13 pro Ni nanočástice na SiO2 substrátu.
V Obr. 4.13a je původní obraz, na Obr. 4.13b je výsledek rychlé FT, který vypadá jako
difrakční obrazec. V Obr. 4.13c-e jsou postupné kroky zpracování obrazu, Obr. 4.13f je obraz
substrátu SiO2 po odstranění obrazu částic. Konečně Obr. 4.13g je obrázek nanočástice
rekonstruovaný ze zpracovaných dat.
Mimo přímo prošlých nebo difraktovaných elektronů se ve svazku vyskytují ještě další
elektrony, které podléhají nepružným srážkám a ztrácejí energii tím, že excitují vzorek. To
může nastat indukcí kmitavého (vibračního) pohybu v atomech blízko jejich dráhy, a tedy
vytvořením fononů nebo kvantovaných kmitů mřížky, které se šíří krystalem. Je-li vzorkem
kov, potom na něj dopadající elektron se může nepružně srazit a vytvoří plazmón, což je
kolektivní excitace volného elektronového plynu ve vodivostním pásu. Třetí, velmi důležitý
zdroj nepružných srážek se objeví, když dopadající elektron indukuje excitaci jednoho
elektronu v atomu. To může postihnout atomové hladiny vnitřních vrstev atomů, a způsobit
přechod z K hladiny (n = 1) nebo L hladiny (n = 2) na vyšší energii, kterou může mít
diskrétní atomová hladina s velkým kvantovým číslem n nebo elektronový pás, nebo může
dojít k úplnému odstranění elektronu, tj. ionizaci pevné látky. Nižší hladiny ztráty energie se
objeví, když je excitovaný elektron ve valenčním pásu polovodiče. Tato excitace může klesat
při návratu excitovaných elektronů do základních stavů, čímž vzniká sekundární záření.
Povaha tohoto sekundárního záření může často poskytnout užitečné informace o vzorku. Tyto
typy přechodů jsou použity v různých oblastech elektronové mikroskopie. Mohou být citlivé
na povrch v důsledku malé penetrační hloubky elektronů do materiálu.
74 FEKT Vysokého učení technického v Brně
Obr. 4.14: Mikroskopie pomocí iontového pole Obr. 4.15: Stereografická [011] projekce kubického
wolframového hrotu (TJ. Godfrey) vysvětlená krystalu odpovídající iontovému poli wolframu z Obr. 4.14
stereografickou projekcí Obr. 4.15 (podle G.D.W. (podle G.D.W. Smith, chapter in Whan, p.583, 1986)
Smith, chapter in Whan, p.585, 1986)
Obr. 4.16: Vychylování elektronů ve dvou směrech v SEM. Když horní cívky I1-I1 vychýlí svazek elektronů o
úhel θ, dolní cívky I2-I2 jej vychýlí zpět o úhel 2θ. Elektrony přitom skenují vzorek podél skenovaní čáry.
Obrázek vlevo nahoře ukazuje pilovité napětí, které řídí proud při průchodu skenovacími cívkami Ii. Dolní
obrázek vlevo ukazuje posloupnost bodů na vzorku pro různé dráhy elektronů 1,2,3,4,5 podél osy mikroskopu.
Skenovaní cívky f1-f1 a f2-f2 vytvářejí odchylku svazku pro řadu bodů 1, 1´, 1´´. (Dle J.D. Verhoeven, chapter in
Whan, p. 493, 1986)
Změnou magnetického pole v cívkách f1-f1 a f2-f2 se vytvoří malé odchylky od bodu 1
v bodech 1´a 1´´ viditelné na detailu Obr. 4.16. Tedy svazek elektronů skenuje vzorek
opakovaně zleva doprava v osnově, která pokryje plochu r.r vzorku. V Obr. 4.17 jsou 3nm
částice zlata na uhlíkovém substrátu rozlišené pomocí SEM.
76 FEKT Vysokého učení technického v Brně
Obr. 4.17: SEM Mikrofotografie 3nm zlatých částic na uhlíkovém substrátu. (Dle J.D. Verhoeven, chapter in
Whan, p. 497, 1986)
Skenovaní tunelová mikroskopie používá drátek s velmi jemným hrotem. Tento hrot je
kladně nabit a působí jako sondy, když je přiblížen na vzdálenosti 1 nm od povrchu vzorku.
Elektrony jednotlivých atomů povrchu jsou přitahovány ke kladnému náboji sondy a
přeskakují (tunelují) k ní, čímž generují vznik slabého tunelového proudu. Sonda skenuje
postupně zvolený povrch buď v režimu konstantní výšky nebo konstantního proudu, podle
schématu v Obr. 4.18. V režimu konstantního proudu udržuje smyčka zpětné vazby hrot ve
stálé vzdálenosti od povrchu – tzn. pohyb hrotu kopíruje povrch vzorku a změny jeho polohy
nahoru a dolů jsou monitorovány. Tento režim vytváří vlastně konstantní výšku tunelové
bariéry přes celý povrch. V režimu konstantního proudu se pohybuje hrot v určité rovině,
přičemž se mění tunelový proud a tyto změny jsou zaznamenávány. Pomocí smyčky zpětné
vazby se nastaví počáteční výška a poté je zpětná vazba vypnuta po dobu skenování.
Skenující sonda mapuje rozložení atomů na povrchu.
(b)
Obr. 4.18: Pracovní režimy STM: a) režim konstantní výšky, b) režim konstantního proudu
STM často používá piezoelektrickou trojnožku pro skenování a schéma objevitelů STM
Binniga a Rohrera je na Obr. 4.19. Piezoelektrický materiál je materiál, který reaguje
mechanickou odezvou na přiložené napětí a naopak. Piezopřevodník pohybuje se sondou
(nebo vzorkem) po manometrických krocích ve směru x,y nebo z. Počáteční poloha se
Nanotechnologie 77
Obr. 4.19: Skenovaní mechanismus STM: (1) piezoelektrická základní deska se vzorkem, (2) trojnožka, (3) 3D
piezo skener s hrotem směřujícím k vzorku
Obr. 4.20: Schéma AFM: Raménko sondy s hrotem skenuje vzorek. Na horním obrázku je senzor pro měření
výchylky interferenčního obrazu, na dolním je zvětšený obraz raménka a hrotu s kvadrantovým detektorem pro
měření výchylky laserového svazku od raménka
snímán optickým vláknem (Obr. 4.20 nahoře) nebo světlem z laserové diody na
kvadrantovém detektoru (Obr. 4.20 dole).. AFM je citlivá na vertikální (normálovou) složku
povrchových sil.
Podobný, ale všestrannější zařízení je mikroskop třecích sil (friction force microscope-
FFM) nebo mikroskop příčných sil (lateral force microscope), který může současně měřit
normálové a příčné síly, kterými působí povrch na hrot.
Všechny tři typy skenovacích mikroskopů poskytují informaci o topografii a struktuře
defektů povrchu do vzdáleností atomové vrstvy. Na Obr. 4.21 je 3D AFM obraz chromu
naneseném na SiO2. Povrch byl připraven laserově fokusovanou depozicí atomů chromu ve
tvaru Gaussovy stojaté vlny, který reprodukuje pozorované pravidelné uspořádání maxim a
minim na povrchu. Na Obr. 4.22 je tentýž AFM obraz vytvořený pomocí depozice ve tvaru
dvou vzájemně kolmých rovinných vln. Všimněte si,že vzdálenost maxim (212,78 nm) je
v obou případech stejná. Výška maxim je vyšší v 2D případě (13 nm) než v 1D případě (8
nm).
Obr. 4.21: 3D AFM obraz nanostruktury vytvořené laserovou depozici atomového chromu ve tvaru Gaussovy
stojaté vlny na povrch SiO2. (Dle J.J.Mc Clelland, R. Gupta, Z, Jabbour and R.L. Celotta, Aust. J. Phys., vol.49,
p. 555, 1996)
Obr. 4.22: AFM obraz stejné situace jako v Obr. 4.21, vytvořený pomocí dvou vzájemně kolmých Gaussových
stojatých vln. (dle R. Gupta, J.J.Mc Clelland, Z, Jabbour and R.L. Celotta, Appl. Phys Lett.,., vol. 67, p.1378,
1995)
Nanotechnologie 79
4.4 Spektroskopie
Ir ε −1
R= = , (4.10)
I0 ε +1
Obr. 4.23: FTIR spektrum nanoprášku Si3N4 (a) při pokojové teplotě získané ve vakuu, (b) po aktivaci při 773K.
(Dle G. Ramis, G. Busta, V. Lorenzelli, M.-I. Baraton, T. Merle-Méjean and P. Quintard, surfaře and interface
of ceramic materials, Kluwer, Dordrecht, p. 173, 1989
Obr. 4.24: FTIR spektrum nanoprášku SiCN. (a) registrované po aktivaci při 873 K, (b) registrované po dalším
ohřevu kyslíkem při 773 K po dobu 1 hodiny. (Dle M-I.Baraton, W. Chang and B.H. Kear, J. Phys. Chem, vol.
100, p.16647, 1996)
Nanotechnologie 81
Z Obr. 4.25 je vidět, jak se výrazně rozšiřuje šířka Ramanových spektrálních čar
v nanokrystalech germania zabudovaných do tenké vrstvy SiO2 s klesajícím rozměrem částic
v oblasti pod 20 nm.
Obr. 4.25: Závislost Ramanova spektra germaniových mikrokrystalů (μc-Ge) usazených v tenké vrstvě SiO2 na
velikosti krystalu. V obrázku je vyznačena průměrná velikost a pološířka FWHM Ramanovy čáry každého
vzorku. (Dle M.Fuji, S. Hayashi, and K. Yamomoto, Jpn.J.Appl. Phys., vol.30, p. 657, 1991)
Obr. 4.26: Ramanovo spektrum nanokrystalů germania a histogram rozložení jejich velikostí. Střední hodnota je
6,5 nm (vpravo). Částice byly použity k simulaci (spojitá čára) Ramanova spektra (tečkovaně) (nahoře).
Rozložení částic bylo získání pomocí TEM. (C.E. Bottani, C. Mantini, P. Milani, M. Manfredini, A. Stella, P.
Tognini, P. Cheysaac, R. Kofman, Appl. Phys. Lett., vol. 69, p. 2409, 1996)
82 FEKT Vysokého učení technického v Brně
Nyní jsme právě diskutovali o tom, co se tradičně nazývá Ramanův rozptyl světla nebo
Ramanova spektroskopie. To je spektroskopie, v níž vibrace fononu z (4.8) odpovídající
rozdílu energií z (4.9), je optický fonon typu, který jsme probírali v předchozím oddíle, tedy
většinou fonon s vibrační frekvencí v IČ oblasti spektra, což odpovídá vlnočtu ≅ 400 cm-1 a
frekvenci f ≅ 1,2.1013Hz. Když se při rozptylu (4.9) použije akustický fonon s nižší energií,
pak hovoříme o Brillouinově rozptylu. Akustické fonony mají frekvenční vibrace nebo
energie, které jsou asi 1000× menší než pro optické fonony. Typické hodnoty jsou ≅ 0,5 cm-1
a f ≅ 1,5.1010Hz. V Brillouinové spektroskopii se objevují Stokesovy i anti-Stokesovy
spektrální čáry.
V této kapitole se omezíme jen na komentování reprezentativního optického spektra
(Obr. 4.27) koloidních CdSe polovodičových nanokrystalů, které jsou transparentní pro
energie fotonů pod zakázaným pásem, a absorbují světlo nad pásem. Syntéza koloidního
nanokrystalu umožní dosáhnout malý rozptyl velikostí, takže optická spektra mohou přesně
určit závislost zakázaného pásu na poloměru částice. Tato závislost je pro CdSe v Obr. 4.28.
Vidíme, že hodnoty energií zakázaného pásu pro koloidní vzorky odpovídají hodnotám
optických spekter získaných z nanočástic CdSe ve skleněných vzorcích. Spojitá čára je
teoretická křivka, získaná pomocí modelu parabolického pásu pro vibrační potenciál, a
měřená energie je asymptotická k této teoretické hodnotě od velkých částic. Vzrůst
zakázaného pásu pro menší poloměry nanočástic je způsoben kvantovými jevy lokalizace a
prostorového omezení.
Obr. 4.27: Absorpční spektra koloidních nanokrystalů CdSe o průměrné hodnotě poloměru 1,2 - 4,1 nm měřená
při pokojové teplotě. (Dle V.I.Klimov, v Nalwa (2000), vol. 4, Chapter 7, p. 464)
Nanotechnologie 83
Obr. 4.28: Závislost zakázaného pásu CdSe polovodičových nanočástic ve tvaru skla ( ) a koloidního roztoku
(•) na poloměru částic. Hodnoty pro koloidní roztok jsou na Obr. 3.27. Spojitá čára je fitovací křivkou,
vypočtenou z parabolického pásového modelu vibračního potenciálu. (Dle V.I.Klimow, in Nalwa (2000), vol.4.
kap. 7, p. 465)
Obr. 4.29: X-paprsky o energii hv dopadají na vzorek a generují fotoelektrony e-, které jsou charakteristické pro
materiál vzorku. Ty pak procházejí analyzátorem rychlostí a dopadají přes štěrbinu na detektor, kde se měří
jejich kinetická energie
84 FEKT Vysokého učení technického v Brně
Energiové stavy atomů nebo molekulových iontů v oblasti valenčního pásu mají
charakteristické ionizační energie, které odrážejí poruchy vzniklé okolními mřížkami, tedy
toto okolí je zkoumáno měřením. Podobné spektroskopické techniky – inverzní
fotoelektronová spektroskopie (inverse photoelectron spectroscopy – IPS, izochromatická
spektroskopie pomocí brzdného záření – Bremsstrahlung isochromat spectroscopy – BIS,
spektroskopie ztrátové energie elektronu – electron energy-loss spectroscopy – EELS,
Augerova spektroskopie – Auger electron spectroscopy) poskytují velmi podobné informace.
Příkladem užitečnosti rentgenové fotoemisní spektroskopie je měření poměru Ga a N ve
vzorku GaN. Změří se XPS pík galia 3d při energii 1,1185 keV a pík dusíku 1s při 0,3975
keV a výsledek určí průměrné složení Ga0,95N. Pomocí XPS na 10 nm InP lze ukázat, že
existuje asymetrická linie india 3d5/2 (Obr. 4.30a) za účelem odhalení přítomnosti dvou
superponovaných linií; hlavní při 444.6 eV od india v InP a slabší při 442,7 eV od india
z In2O3. XPS spektrum fosforu 2p vykazuje dva rozlišitelné píky, jeden od InP a druhý od
oxidů fosforu.
Obr. 4.30: Spektra rentgenových fotoelektronů (XPS) nanokrystalického InP vykazují a) signál od 3d5/2 india a
b) 2p fosforový pík. (Dle Q. Yitai, in Nalwa (2000), vol.1, Chapt. 9, p.427)
Atomové číslo
Obr. 4.31: Závislost Moseleyovy křivky Kα a Lα charakteristických frekvencí x-paprsků na atomovém čísle Z.
(Dle C.P. Poole, Jr., H.A.Farach a R.J. Creswick, Superconductivity, Academic Press, Boston, 1995, p.515)
Obr. 4.32: Experimentálně určená ionizační energie vnějšího elektronu v různých prvcích. (Dle R. Eisberg a R.
Resnick, Quantum Physics, Wilex, New York, 1994, p. 364)
odstraněn a koeficient absorpce X-paprsků prudce klesá. Nemůže ale nikdy klesnout na nulu,
protože dopadající energie stále postačuje k tomu, aby excitovala elektron n = 1 na vyšší
neobsazenou hladinu, např. 3d a 4p, nebo k vyražení elektronu do slupek L (n=2), M (n=3) a
vyšších. Prudký pokles koeficientu absorpce je vztažen k absorpční hraně spektra – v tomto
případě se jedná o K-absorpční hranu. Z relativní vzdálenosti hladin energie v Obr. 4.33 je
zřejmé, že přechody tohoto typu mají energii blízkou ionizační energii a produkují tzv.
„jemnou strukturu absorpční hrany“. Poskytují informaci o vazebních stavech zkoumaného
atomu. Rozlišovací schopnost jednotlivých přechodů v jemné struktuře může být zlepšena
užitím polarizových X-parsků.
Obr. 4.33: Energiový diagram molybdenu ukazuje přechody K a L serií rentgenových čar
NMR používá interakci jader, které mají nenulový jaderný spin I. Při aplikaci
magnetického pole B dojde k rozštěpení energiové hladiny na 2I + 1 čar, jejichž energie je
Em = hγ Bm , (4.15)
kde γ je gyromagnetický poměr, který charakterizuje jádro, m je celá či půlčíselná hodnota
v oblasti –I < γ < +I, podle toho, je-li I celé nebo půlčíselné. Hodnota γ je citlivá na lokální
chemické okolí jader a bývá zvykem vyjadřovat chemický posuv δ této hodnoty vůči
γ −γ R
referenční hodnotě γR jako δ = .
γR
Chemické posuvy jsou velmi malé, obvykle jsou vyjádřené v jednotkách ppm.
Nejvýhodnější jádra pro studium jsou jádra jejichž jaderný moment I = ½ , jako jsou např. H,
19
F, 31P, 13C. Tento uhlík se vyskytuje pouze v 1,1% případů.
Obr. 4.34: Spektrum jaderné magnetické rezonance fullerenových molekul C70 obohacených izotopem 13C. Pět
NMR čar od a,b,c,d,e karbonů z molekuly vpravo dole mají v hořejším spektrum poměr intenzit 10:10:20:20:10,
což odpovídá počtu každého typu uhlíku v molekule. Tzv. 2D NMR spektrum (vlevo dole), což je závislost
konstantních frekvencí spin-spinové vazby na chemickém posuvu, vyjádřený v ppm, ukazuje dublety
odpovídající určeným párům uhlíkové vazby. Ppm měřítko je použito jak na 2D spektrum (dole), tak i na
konvenční NMR spektrum (nahoře). Jedna z NMR čar odovídá fullerenu C60, který zde představuje nečistotu.
(K. Kikuchi, S. Sužuji, Y. Nakao, N. Nakahara, T. Wakayabashi, H. Shiromaru, I. Ikemoto, and A. Achiba,
Chem.Phys. Lett., 216, 67, 1993)
Obr. 4.35: Spektrum elektronové paramagnetické rezonance endoedrální fullerenové molekuly LaC82 rozpuštěné
v toluenu při T = 220 K. Nepárový elektron delokalizovaný na uhlíkové mřížce interaguje s I = 7/2 jaderným
spinem atomu lanthanu uvnitř mřížky aby vytvořil pozorovaný hyperjemný multiplet s osmi čarami.
(R.D.HJohnson, D.S.Bethune, C.S.Yannoni, Acc. Chem. Res.,25, 169, 1992)
Mikrovlny nebo radarové vlny mohou také přinést užitečné informace o materiálech,
když se použijí nerezonanční podmínky v nepřítomnosti magnetického pole. Např. rozdíly
energií v mikrovlnné oblasti mohou být určeny pomocí frekvenční závislosti absorpce
mikrovlnného signálu. Mikrovlny byly použity ke studiu tunelování jednotlivých elektronů
pomocí fotonů a Coulombových blokádách v kvantových tečkách.
Slova nanotechnologie a nanočástice jsou relativně nová – pojmy ale ne. Např. rozptyl
světla na klastrech oxidů kovů (jejich velikost je srovnatelná s vlnovou délkou viditelného
světla) ve skle dodával antickým sklům různé barvy. Různě velké částice rozptylují různé
vlnové délky a propůjčují sklu barvu. Malé koloidní částice stříbra jsou součástí
fotografických emulzí-důležité pro rozlišovací schopnost, či voda při pokojové teplotě sestává
z klastrů molekul s vodíkovou vazbou.
Fyzikální vlastnosti materiálu mohou být charakterizovány určitou kritickou délkou,
např. délkou termální difúze nebo délkou rozptylu. Např. elektrická vodivost kovů silně
závisí na střední volné dráze (délce rozptylu), kterou elektrony urazí mezi srážkami s
kmitajícími (vibrujícími) atomy nebo nečistotami (příměsemi) pevné látky. Je-li velikost
částic menší než tyto rozměry, mohou se v materiálu objevit nové fyzikální a chemické
vlastnosti.
Abychom mohli s těmito termíny pracovat, musíme si nejdříve uvědomit, co to vlastně
nanočástice je:
Soubor atomů či molekul vázaných spolu v prostoru o poloměru < 100 nm.
Klastr 1 nm ~ 25 atomů –většina atomů je na povrchu klastru.
Tato definice dle poloměru nerozlišuje zcela mezi molekulami a nanočásticemi. Mnoho
molekul (biologické např.) mají více než 25 atomů.
Nanočástice jsou zajímavé zejména tím, že jejich velikost je menší než rozměry
charakterizující mnohé fyzikální děje.
90 FEKT Vysokého učení technického v Brně
Obr. 5.1: Rozdíl mezi molekulami, nanočásticemi a objemovým materiálem podle počtu atomů v klastru
Na Obr. 5.3 jsou data z hmotnostního spektrometru olověných klastrů, kde je závislost
počtu iontů vyjádřena jako funkce počtu atomů v klastru. Z obrázku je vidět, že klastry se 7 a
10 atomy jsou pravděpodobnější než ostatní – tj. jsou stabilnější než klastry jiných velikostí.
Nanotechnologie 91
Na Obr. 5.4a je závislost ionizačního potenciálu atomů na počtu jejich atomových čísel
Z, což je počet elektronů v atomu. Ionizační potenciál je energie nutná k odstranění vnějšího
elektronu z atomu. Maximální ionizační potenciály existují pro atomy vzácných plynů 2He,
10
Ne a 18Ar, protože jejich nejkrajnější s a p orbitály jsou zcela obsazeny. Je potřeba větší
energie k odstranění elektronů ze zaplněné orbitály, než z nezaplněné. Na Obr. 5.4b je
závislost ionizačního potenciálu sodíkových klastrů na počtu atomů v klastru. Maxima
existují pro klastry s 2 nebo 8 atomy. Tato čísla je nazývají magická čísla elektronů. Jejich
existence naznačuje, že se na klastry můžeme dívat jako na superatomy, a tento výsledek
motivoval rozvoj pudinkového modelu klastru. V případě stability velkých klastrů (viz kap. 3)
je určen strukturou a magická čísla se nazývají strukturální magická čísla.
a) b)
Obr. 5.4: Závislost ionizační energie na a) atomovém čísle jednoho atomu sodíku (ionizační energie atomu
sodíku při Z = 11 je 5,14 eV), b) sodíkových nanočástic na počtu atomů v klastru (dle A.Herman et al,
J.Chem.Phys, 80, 1780, 1984)
Obr. 5.5: Srovnání energetických hladin atomu vodíku a pudinkového modelu klastru. Elektronová magická
čísla jsou pro He: 2, Ne: 10, Ar: 18 a Kr: 36 (krypton není zobrazen) a pro klastry 2, 18, 40. (dle B.K. Rao et al.
J. Cluster Sci., 10, 477, 1999)
kolem dvou vodíkových jader jako lineární kombinaci vlnové funkce izolovaných atomů H.
Tedy vlnová funkce elektronů v základním stavu bude
ψ = aψ(1)1s + aψ(2)1s (5.2)
a Schrödingerova rovnice je
⎡⎛ h 2 ⎞ 2 e 2 e 2 ⎤
⎢⎜ − ⎟ ∇ − − ⎥ψ = Eψ . (5.3)
⎣ ⎝ 2 m ⎠ ra rb ⎦
Poslední dva členy v hranatých závorkách jsou elektrostatické přitažlivé síly elektronu
ke dvěma jádrům, jejichž vzdálenosti od elektronu jsou ra a rb. Pro molekulu vodíku, která má
dva elektrony, se musí přidat člen popisující elektrostatickou odpudivou sílu elektronů.
Schrödingerova rovnice je řešena pomocí této lineární kombinace (5.2) vlnových funkcí.
Když je v molekule více atomů a elektronů, stává se problém komplikovanějším a je potřeba
použít aproximace, abychom dostali výsledek.
(a) (b)
Obr. 5.6: a) Elementární buňka objemového hliníku. b) Tři možné struktury Al13: kubická plošně centrovaná
struktura fcc, šesterečná těsně vázaná struktura hcp a icosaedrální struktura icos
Obr. 5.7: Závislost poměru délky osy c k ose a čtyřstěnné elementární buňky nanočástic india na průměru
částic. (A. Yokozeki, G.D. Stein, J. Appl. Phys. 49, 224 (1978))
V Tab. 5.1 jsou výsledky výpočtů elektrických vlastností hliníku Al13. Všimněme si, že
vazební energie, připadající na 1 atom, je v Al13 menší než v objemovém hliníku. Klastr Al13
má nepárový elektron ve vnější slupce. Přidáním elektronu vznikne Al13(-) a uzavře se slupka,
čímž se podstatně zvýší vazební energie. Přístup pomocí molekulárních orbit je také schopen
vysvětlit závislost vazební a ionizační energie na počtu atomů v klastru.
Tab. 5.1: Vypočtená vazební energie na atom a vzdálenost atomů v některých nanočásticích hliníku ve srovnání
s objemovým hliníkem
Klastr Energie vazby (eV) Vzdálenost atomů (Å)
Al 13 2,77 2,814
Al 13(-) 3,10 2,75
Objemový Al 3,39 2,86
Na Obr. 5.8 jsou příklady struktury nanočástic bóru o různých velikostech. Obr. 5.6 a
Obr. 5.8 ilustrují další vlastnost kovových nanočástic. U těchto malých částic jsou prakticky
všechny atomy, které je tvoří, na povrchu. To má značný dopad pro mnohé vlastnosti
nanočástic – vibrační strukturu, stability, schopnost chemických reakcí. Ačkoliv jsme v této
Nanotechnologie 95
modelovány pomocí kvantové mechaniky – tj. částice v krabici. Tomu se říká quantum size
effect – vliv kvantové velikosti.
Obr. 5.9: Ukázka, jak se hladiny energie kovu mění při snižování počtu atomů: a) valenční pás objemového
kovu, b) velký kovový klastr se 100 atomy vyjadřuje otevření zakázaného pásu, c) malý kovový klastr obsahující
tři atomy
Obr. 5.10: Výpočet hustoty excitovaných stavů nanočástic B6, B8, B12. Fotonově indukované přechody mezi
nejnižšími a vyššími hladinami určují barvu částic
Elektrony jsou počítány a jejich energie měřena. Data, získaná z tohoto měření ukazují
závislost počtu elektronů na energii. Protože klastry mají diskrétní energetické hladiny, data
se budou skládat z řady píků, jejichž vzdálenost odpovídá vzdálenosti energetických hladin
klastru. Na Obr. 5.11 je spektrum UV fotoelektronů ve vnějších hladinách měděných klastrů
s 20 a 40 atomy. Je jasné, že struktura elektronů ve valenční oblasti se mění v závislosti na
velikosti klastru, tj. počtu atomů. Energie nejnižšího píku je mírou elektronové afinity klastru.
Elektronová afinita je definována jako vzrůst energie elektronů klastru, když se k němu přidá
jeden elektron. Na Obr. 5.12 je závislost měřené afinity elektronů na velikosti Cu klastrů.
Opět, pro některé velikosti klastru, jsou patrné píky energie.
Obr. 5.11: UV spektrum fotoelektronů v oblasti valenčního pásu nanočástic mědi s 20 a 40 atomy. (Upraveno
dle C.L. Pettiete et al. Chem.Phys,, 88, 5377, 1988)
částeček z terčíku. Ty byly směrovány pomocí toku helia k hmotnostnímu spektrometru. Před
dopadem částic do hmotnostního spektrometru byly do svazku částic zavedeny různé plyny.
V Obr. 5.13 je výsledek reakce kyslíku s hliníkovými částicemi. Na horním obrázku je
hmotnostní spektrum před reakcí kyslíku s hliníkem, na dolní po vzájemné reakci. Výsledkem
jsou dva píky, které výrazně vzrostly, a některé (12,14,19 a 20), které zmizely (tzn. píky pro
Al13 a Al23 vzrostly, píky Al15-Al22 značně poklesly).
Obr. 5.13: Hmotností spektrum nanočástic hliníku před (vlevo) a po (vpravo) expozici kyslíkem (upraveno
z R.A.Leuchner et al,, J. Chem Phys, 91, 2753 1989)
Tato data jasně dokazují závislost reaktivity hliníkových klastrů na počtu atomů
v klastru. Podobná závislost byla pozorována i u jiných kovů. Na Obr. 5.14 je závislost
poměru reakce železa s vodíkem na velikost želených nanočástic. Je vidět, že částice s 10
atomy a s více než 18 atomy reagují s vodíkem lépe než ostatní.
Pracovnící Osaka National Research Institute objevili vysokou katalytickou aktivitu pro
zlaté nanočástice o velikosti menší než 5 nm, které mají ikosaedrální (dvacetistěnnou)
strukturu místo stěnově centrované kubické pro objemový materiál. Tato práce vedla k vývoji
odorantů pro koupelny založených na nanočásticích zlata v Fe2O3 substrátu.
Obr. 5.14: Závislost relativní reaktivity vodíku s nanočásticemi železa v závislosti na počtu atomů v částici.
(Upraveno dle R.L. Whetten et al., Phys. Rev. Lett., 54, 1494, 1985)
Nanotechnologie 99
5.2.6 Fluktuace
Velmi malé nanočástice mají téměř všechny své atomy na povrchu. Povrchové atomy
jsou méně omezeny ve své schopnosti kmitat než atomy uvnitř, a tedy se mohou více
vychylovat ze své rovnovážné polohy. To vede ke změnám struktur částic. Pomocí
elektronového mikroskopu je možné sledovat časové změny geometrie zlatých nanočástic.
Klastry zlata o poloměru 1-10 nm byly připraveny ve vakuu a deponovány na křemíkový
substrát, který je potom pokryt tenkou vrstvou oxidu křemíku SiO2. Obrázky z elektronové
mikroskopu na Obr. 5.15, které byly snímány v různých časových okamžicích, ukazují počet
změn geometrie způsobených fluktuací, což je způsobeno částicemi, které jsou
transformovány mezi různými uspořádáními struktury. Při vyšších teplotách mohou tyto
fluktuace zapříčinit defekt v symetrii nanočástice, což se projeví vznikem uspořádáním
připomínajícím tvarem kapičku atomů.
Obr. 5.15: Série snímků z elektronového mikroskopu zlatých nanočástic s asi 460 atomy, ukazující vývoj v čase
fluktuačně indukovaných změn struktury (S. Sutano, H.Koizumi, Microcluster Physics, Springer, Berlin, 1998,
p. 18)
Obr. 5.16: Sternův-Gerlachův experiment pro měření magnetických momentů nanočástic. Svazek kovových
klastrů ze zdroje je vyslán mezi póly permanentního magnetu, které vytvářejí gradientní magnetické pole, které
působí silou na magnetické momenty dipólů klastru, čímž dochází k vychylování svazku. Magnetický moment
může být určen z měření odchylek na stínítku (fotodeska nebo obrazovka)
Obr. 5.17: Závislost magnetického momentu nanočástic rhenia na počtu atomů v částici. (A.J.Cox et al., Phys.
Rev., B49, 12295, 1994)
Obr. 5.19: Optické absorpční spektrum přechodů vodíkového typu excitonů Cu2O
Nanotechnologie 103
Mohou nastat dvě konfigurace: režim slabé vazby a režim silné vazby. V režimu slabé
vazby je poloměr částice větší než poloměr orbity páru elektron-díra, ale rozsah pohybu
excitonu je omezen. To způsobí posuv ke kratším vlnovým délkám, tedy modrý posuv
absorpčního spektra. Je-li poloměr částice menší než poloměr orbity páru elektron-díra,
pohyb elektronu a díry je nezávislý a exciton nemůže vzniknout. Díra a elektron mají každý
své energetické hladiny. Zde také dochází k modrému posuvu a vzniká nová řada absorpčních
čar.
Na Obr. 5.20 jsou optická spektra CASE nanočástic dvou různých velikostí, měřená při
10 K. Je možné vidět, že s klesajícím rozměrem nanočástice se oblast absorpce s nejmenší
energií, zvaná hrana absorpce, posouvá směrem k vyšším energiím. Poněvadž absorpční
hrana je způsobená velikostí zakázaného pásu, znamená to, že se šířka zakázaného pásu
zvětšuje s klesajícím rozměrem částice. Navíc intenzita absorpce roste s klesajícím velikostí
částice. Píky s vyšší energií jsou spojeny s excitonem a posouvají se k vyšším energiím
s klesajícím rozměrem částice. Tyto jevy jsou výsledek výše studované prostorového omezení
– lokalizace excitonu. Tedy jak se velikost částice zmenšuje, elektrony a díry jsou tlačeny,
aby byly blíže k sobě, čímž se mění vzdálenosti energetických hladin. To budeme studovat
podrobněji v kap. 7.
5.3.2 Fotofragmentace
Bylo pozorováno, že nanočástice křemíku nebo germania mohou podléhat fragmentaci,
když na ně působí záření z Nd:YAG laseru s Q-spínačem (musí se dosáhnout vysoká energie
pulsu). Výsledek závisí na velikosti klastru, intenzitě světla a jeho vlnové délce. Na Obr. 5.21
je závislost průřezu fotofragmentace (míra pravděpodobnosti pro rozpad klastru) pomocí
vlnové délky λ = 532 nm na velikosti Si fragmentu. Je vidět, že některé velikosti fragmentu
mohou snáze disociovat (rozštěpit se) než jiné. Některá z pozorovaných štěpení jsou
Si12 + hν → Si6 + Si6 (5.4)
Si20 + hν → Si10 + Si10, (5.5)
kde hν je energie fotonu laseru. Podobné výsledky byly dosaženy i pro germaniové
nanočástice. Když má klastr více než 30 atomů, nastává fragmentace explozivně.
104 FEKT Vysokého učení technického v Brně
Obr. 5.21: Závislost průřezu fotodisociace nanočástic křemíku na počtu atom v částici (upraveno z L.
Bloomfield et al., Phys. Rev. Lett., 54, 2266, 1985)
Přitažlivé síly mezi atomy klastru mohou být překonány elektrostatickými odpudivými
silami mezi atomy, které jsou v důsledku fotoionizace kladně nabity. Jedna
Nanotechnologie 105
Obr. 5.22: Ilustrace, jak jsou fermiony a bosony rozloženy v energetických hladinách systému při vysoké a úzké
teplotě
Když dojde ke kondenzaci bosonů v kapalném 4He při teplotě 2,2 K (λ bod), kapalné
helium se stane supertekutým a jeho viskozita klesá k nule. Normálně, když je kapalina hnána
tenkou trubičkou, pohybuje se pomalu v důsledku tření o stěny. Zvyšujeme-li na jednom
konci tlak, zvyšuje se rychlost. V supertekutém stavu se kapalina v trubičce pohybuje rychle a
zvyšování tlaku na jednom konci nezvyšuje rychlost proudění. Přechod k supertekutému stavu
při 2,2 K se vyznačuje nespojitostí specifického tepla zvaného λ-přechod. Specifické teplo je
množství tepelné energie nutné ke zvýšení teploty 1 kilogramu látky o 1 K. Na Obr. 5.23 je
závislost specifického tepla na teplotě pro objemové kapalné helium a pro klastr s 64 atomy
helia. Klastr se stává supertekutým při nižší teplotě než je tomu u objemového kapalného
helia.
Nanotechnologie 107
Obr. 5.23: Závislost specifického tepla na teplotě pro kapalné helium (spojitá čára) a kapalinu obsahující klastr
64 atomů helia (čárkovaně). Pík odpovídá přechodu do supertekutého stavu (P. Sindzingre, Phys. Rev. Lett., 63,
1601, 1989)
Obr. 5.24: Vodíkově vázaný klastr pěti molekul vody. Velké koule jsou kyslíkové, malé vodíkové atomy
108 FEKT Vysokého učení technického v Brně
V předchozím oddíle jsme již popsali jednu z metod výroby nanočástic, která využívá
laseru k odpařování atomů z povrchu kovového terčíku. Tyto kovové atomy jsou potom
ochlazovány a vznikají nanočástice. Existují samozřejmě další metody výroby nanočástic a
zde popíšeme několik z nich.
5.5.1 RF plazma
Na Obr. 5.25 je ilustrována metoda syntézy nanočástic pomocí plazmy generované RF
cívkou. Kov, z nějž chceme nanočástice vyrobit, je umístěn v kontejneru ve vakuové cele.
Kov se zahřeje nad teplotu odpařování pomocí RF vysokonapěťové cívky natočené kolem
vakuové cely v blízkosti kontejneru. Poté vstupuje do systému hélium, vytváří vysokoteplotní
plasmu v oblasti cívky. Kovové páry se srážejí na atomech hélia a difundují do ochlazovací
kolektoru, kde se vytvářejí nanočástice. Částice jsou částečně pasivovány pomocí zavedení
dalších plynů (např. kyslíku) V případě nanočástic hliníku vytvoří kyslík kolem částic vrstvu
oxidu hliníku.
Obr. 5.25: Zařízení na syntézu nanočástic použitím plasmy produkované RF ohřevem helia
Je také možno přidat do roztoku povrchové činidlo jako kyselina olejová, aby se částice
potáhla ochrannou vrstvičkou a jako prevence vzniku agregátů (slepování částic).
5.5.3 Termolýza
Nanočástice mohou také vzniknout rozkladem pevných látek za vysokých teplot, látek
s kovovými kationy, molekulárními cibulemi nebo sloučeninami metalorganických látek.
Tento proces se nazývá termolýza. Např. malé částice lithia lze získat rozkladem lithium
nitridu - LiN3. Materiál se umístí do evakupvané křemenné trubičky a zahřeje se na 400°C
(Obr. 5.26). Při teplotě asi 370°C se začne LiN3 rozkládat, uniká plyn N2, který je pozorován
zvyšujícím se tlakem na vakuové měrce. Po několika minutách klesne tlak na původní nízkou
hodnotu, což ukazuje na to, že všechen dusík byl odstraněn. Zbývající atomy lithia se slučují
do malých částic koloidního kovu. Pomocí této metody je možné vytvořit částice menší než 5
nm. Pasivace se potom dosáhne působením vhodného plynu.
Obr. 5.26: Zařízení k výrobě kovových nanočástic teplotním rozkladem kovových kationtů a molekulových
aniontů nebo kovových organických pevných látek
a) b)
Obr. 5.27: Spektra paramagnetické rezonance elektronů při teplotě a) 300 K, b) 77 K. Pocházejí od vodivostních
elektronů v nanočásticích lithia, které vznikly tepelným rozkladem LiN3
Obr. 5.28: Zařízení na výrobu nanočástic stříbra, které používá pulsní laser k tvorbě horkých míst na povrchu
rotujícího disku (J.Singh, Mater. Today, 2, 10, 2001)
5.6 Závěr
Mimo to, že před vědci stojí výzva k pochopení nových vlastností, výsledky mají
enormní aplikační potenciál, protože umožňují dosáhnout nové vlastnosti materiálů pouhou
změnou velikosti částic.
Je zřejmé, že nanomateriály mohou tvořit základ nové třídy atomicky zpracovatelných a
opracovatelných materiálů.
6 Uhlíkové nanostruktury
Cíle kapitoly
Tématem této kapitoly budou různé typy uhlíkových nanostruktur, neboť uhlíková
vazba hraje významnou úlohu v organických molekulách. Rozmanitá povaha těchto vazeb
umožňuje, aby uhlík vytvářel některé z nejvýznamnějších nanostruktur - zejména uhlíkové
(karbonové) nanotrubičky. Tyto uhlíkové nanostruktury mají enormní aplikační potenciál –
podstatně větší než ostatní struktury. Proto je zde budeme podrobněji diskutovat.
Obr. 6.1: a) Zobrazení px, py a pz orbitálů atomu uhlíku. b) struktura metanu CH4, kdy předpokládáme, že
valenční orbitály uhlíku jsou čistě px, py a pz orbitály, c) skutečná struktura CH4 vysvětlovaná pomocí sp4
hybridizace
Avšak metan nemá tuto konfiguraci – ten má spíše tetraedrickou (čtyřstěnnou) strukturu
z Obr. 6.1c, kde uhlíkové vazby svírají spolu úhly 109°28´. Vysvětlení leží v konceptu
hybridizace. V atomu uhlíku je rozdíl energií mezi hladinami 2s a 2p velmi malý, a to umožní
smísit vlnové funkce 2s s jednou nebo více vlnovými funkcemi 2p. Nenormalizovaná vlnová
funkce Ψ ve valenčním stavu může být vyjádřena vztahem
Ψ = s + λp, (6.1)
kde p určuje směs pi orbitál. S touto hybridizací se směry p laloků a úhly mezi nimi mění.
Úhly budou záviset na relativní směsi λ p stavů se stavem s. V Tab. 6.1 je možné najít tři
druhy hybridizace, které ukazují vazební úhly pro různé možnosti (tj. 180°, 120° a 109°28´)
pro lineárně složený acetylen (H-C≡C-H), rovinně složený etylén (H2C=CH2) a čtyřstěnný
metan (CH4). Je možné říct, že ve většině vazeb uhlíku v organických molekulách existují
tyto vazební úhly. Např. úhel vazby uhlíku v diamantu je 109° a v grafitu a benzenu 120°.
Tab. 6.1: Typy spn hybridizace, výsledné vazební úhly. Příklady molekul
Typ hybridizace Digonální sp Trigonální sp2 Tetraedrální sp3
Orbitály pro vazbu s, px s, px, py s, px, py, pz
Příklad acetylen C2H2 etylen C2H4 metan CH4
Hodnota λ 1 21/2 31/2
Vazební úhel 180° 120° 109°28´
Uhlík v pevné fázi má dvě hlavní struktury – alotropní – které jsou stabilní při pokojové
teplotě: diamant a grafit.
Nanotechnologie 113
Diamant sestává z atomů uhlíku, které jsou vzájemně vázány tetraedrálně pomocí sp3
hybridní vazby, která tvoří 3D síť. Každý atom uhlíku má 4 nejbližší atomu uhlíku.
Grafit má strukturu vrstvy, z nichž každá vrstva je tvořena grafitovým listem, tvořený
šestiúhelníky atomů uhlíku, vázané sp2 hybridní vazbou, která vytváří 120° vazební úhly
s ostatními atomy. Každý atom uhlíku má 3 nejbližší sousední atomy uhlíku v planární vrstvě.
Jednotlivé hexagonální listy jsou drženy pospolu pomocí slabých van der Waalsových sil.
Obr. 6.2: a) Kuban C8H8 – kubická struktura uhlíku, b) 12stěnná struktura C20H20
Obr. 6.3: Hmotností spektrum uhlíkových klastrů. Výrazné píky jsou v případě C60 a C70
Obr. 6.5: Optické spektrum světla od hvězd. Maximum pro 5,6 eV je způsobeno absorpcí na C60 v
mezihvězdném prachu
Taková míčová molekula se váže v pevné fázi k dalším a vytváří krystalovou mřížku,
která má plošně centrovanou kubickou (krychlovou) strukturu (Obr. 6.7). V mřížce je
vzdálenost mezi středy molekul 1 nm a drží pospolu díky slabý van der Walsovým silám.
Protože je molekula C60 rozpustná v benzenu, je možné získat jednotlivé krystaly růstem
pomocí pomalého odpařování benzenového roztoku.
Obr. 6.7: Buňka krystalové mřížky molekuly C60 (velké koule) dotovaná alkalickými atomy (tmavé kuličky)
Nanotechnologie 117
Obr. 6.8: Závislost magnetizace na teplotě pro K3C60 Obr. 6.9: Závislost teploty přechodu A3C60
ukazuje přechod k supravodivému stavu na parametru mřížky, kde A je poloměr
alkalického atomu
118 FEKT Vysokého učení technického v Brně
Jak bylo řečeno výše, grafit sestává s rovnoběžných rovinných listů uhlíkových atomů.
Je možné vložit další atomy mezi tyto listy. Když se tam vloží sodíkové atomy, krystalický
grafit se stává supravodivým při extrémně nízkých teplotách několik desetin Kelvina.
Obr. 6.10: Zobrazení předpověděné struktury molekuly N20 vypočtené pomocí teorie hustoty
Možná nejzajímavější nanostruktury, které mají velký aplikační potenciál, jsou uhlíkové
nanotrubičky. Ty si je možné představit jako stočený arch grafitu do trubičky a na koncích
jsou vazby, které trubičku uzavřou.
Na Obr. 6.11a je struktura trubičky vzniklá stočením grafitového archu kolem osy
rovnoběžné s C-C vazbou. Jednovrstvová nanotrubička (single-walled nanotube – SWNT)
může mít průměr 2 nm a délku 100 μm – čímž vzniká 1-D struktura – nanodrátek.
Nanotechnologie 119
(d)
Obr. 6.11: Ukázka možných struktur uhlíkových nanotrubiček. Závisí na tom, jak jsou grafitové listy stočeny:
a) struktura lenošky (armchair), b) cikcak struktura, c) chirální struktura d) krystalová mřížka grafenu.
Tečkovaně jsou vyjádřeny slabé van der Waalsovy síly, které se snadno přeruší a oddělí se jednotlivé listy
6.3.1 Výroba
Uhlíkové nanotrubičky je možné vyrobit:
– laserovým odpařováním, – metodou uhlíkového oblouku, – depozicí chemických par
(chemical vapor deposition – CVD).
Na Obr. 6.12 je zařízení na výrobu uhlíkových nanotrubiček pomocí laserového
odpařování. Křemenná trubička obsahující argon a grafitový terčík jsou zahřáty na 1200°C.
V trubičce, ale dále od pece, je vodou chlazený měděný kolektor. Grafitový terčík obsahuje
malé množství kobaltu a niklu, které působí jako katalytické jádro pro tvoření trubiček.
Intenzivní laserový puls dopadá na terčík a odpařuje uhlík z grafitu. Argon odstraňuje
atomy uhlíku z horké zóny k měděnému kolektoru, na němž kondenzují do nanotrubiček
průměru 20 nm a délky 100 μm.
Obr. 6.12: Experimentální zařízení pro syntézu uhlíkových nanotrubiček laserovým odpařováním
120 FEKT Vysokého učení technického v Brně
6.3.2 Struktura
Existuje mnoho typů struktur uhlíkových nanotrubiček, a tyto struktury se vyznačují
různými vlastnostmi. Ačkoliv se uhlíkové nanotrubičky nevytvářejí srolováním listů grafitu,
je možné pomocí nich vysvětlit, jak mohou trubičky vznikat.
Nanotrubička může vzniknout srolování grafitového listu podél osy T (Obr. 6.14).
Vektor Ch – obvodový vektor, svírá s T pravý úhel. Tři příklady nanostruktur vzniklých
srolováním grafitového listu kolem vektoru T jsou na Obr. 6.11.
Je-li T rovnoběžné s vazbou C-C šestiúhelníků uhlíku, dostaneme strukturu
„lenoškovou – armchair – Obr. 6.11a. Jestliže T není rovnoběžné s vazbou C-C v rovině
grafitového listu, dostaneme strukturu cik-cak (Obr. 6.11b) nebo chirální strukturu
(Obr. 6.11c). Když se podíváme na chirální strukturu, můžeme vidět spirálovité stáčení řady
uhlíkových atomů. Obecně jsou trubičky uzavřeny na obou koncích, což zavádí
Nanotechnologie 121
Obr. 6.14: Na listu grafitu jsou zobrazeny základní vektory a1, a2 2D elementární buňky, vektor osy T, kolem
níž se list stáčí, aby vytvořil lenoškovou strukturu nanotrubičky z Obr. 6.11a a obvodový vektor Ch (kolmý k T).
Další orientace T (čárkovaně) vytvářejí další struktury nanotrubičky z Obr. 6.11b a Obr. 6.11c
Obr. 6.15: Závislost energie zakázaného pásu polovodivé chirální uhlíkové trubičky na převrácené hodnotě
jejího poloměru
122 FEKT Vysokého učení technického v Brně
Ukazuje, že s rostoucím průměrem trubičky klesá šířka zakázaného pásu. STM byla
použita k vyšetření elektronové struktury uhlíkových nanotrubiček. V tomto měření je poloha
hrotu sondy mikroskopu fixována nad nanotrubičkou a se vzorkem se skenuje a zaznamenává
se tunelový proud I. Měřená vodivost G = I/V je přímým měřením lokální hustoty stavů
elektronů. Hustota stavů (diskutovaná detailněji v kap. 4) je mírou jak blízko jsou energetické
hladiny od sebe.
V Obr. 6.16 jsou STM data – diferenciální vodivost (dI/dV)/(I/V) v závislosti na
použitém napětí mezi hrotem a uhlíkovou nanotrubičkou. Data jasně ukazují zakázaný
energetický pás v materiálu při hodnotách napětí, přičemž je pozorován velmi malý proud.
Šířka rozsahu napětí měří zakázaný pás, což pro měřený polovodičový materiál je 0,7 eV.
Obr. 6.16: Závislost normované diferenciální vodivosti (dI/dV)/(I/V) z měření pomocí STM mikroskopu
tunelového proudu a) kovových a b) polovodičových nanotrubiček. (C. Dekker, Phys. Today 22, květen 1999)
Při vyšších energiích jsou pozorovány ostré píky hustoty stavů – tzv. van Hooveovy
singularity, které jsou charakteristické pro malorozměrové vodivé materiály. Píky se objevují
na dně a na vrcholu četných subpásů.
Jak jsme diskutovali dříve, elektrony mohou být v kvantové teorii považovány za vlny.
Jestliže vlnová délka elektronu není násobkem obvodu trubičky, může destruktivně
interferovat sama se sebou, a tedy pouze vlnové délky elektronů, které jsou celistvými
násobky obvodu jsou povoleny. To tvrdě limituje stavy energie použitelné k vedení kolem
válce. Dominantní dráha vodivosti je proto ve směru osy trubičky. Taková uhlíková
nanotrubička funguje tedy jako 1D kvantový drátek. Elektronové stavy trubiček netvoří jeden
široký energetický pás, nýbrž se štěpí do 1D subpásů, jak je vidět na Obr. 6.16. Jak uvidíme
později, tyto stavy mohou být modelovány pomocí potenciálových jam, jejichž hloubka je
rovna délce nanotrubičky.
Transport elektronů byl měřen na jednotlivých SWNT. Měření probíhalo při teplotě
T = 0.001 K na jedné kovové nanotrubičce, které ležela přes dvě kovové elektrody. Ukázalo
stupňovité jevy ve I-V měření (Obr. 6.17).
Nanotechnologie 123
Obr. 6.17: V-A charakteristiky pro 2 různá napětí na hradle v případě přenosu elektronů jednoduchou kovovou
strukturou – vykazují stupňovitý průběh
Stupně se objeví při napětích, která závisejí na napětí na třetí elektrodě, která je
elektrostaticky spojena s nanotrubičkou. To se podobá FET tranzistoru z uhlíkové
nanotrubičky, která je diskutována dále a zobrazena na Obr. 6.21. Stupňovitý charakter I-V
křivky pochází od jednoelektronového tunelování a rezonančního tunelování přes
jednomolekulové orbitály. K jednoelektronovému tunelování dochází když kapacitance
nanotrubičky je tak malá, že přidání jednoho elektronu vyžaduje, aby energie
elektrostatického nabíjení byla větší než teplotní energie kBT. Transport elektronů je blokován
při nízkých napětích, což se nazývá Coulombova blokáda. Postupným zvyšováním napětí na
hradle mohou být elektrony přidávány k trubičce jeden po druhém. Transport elektronů
v trubičce nastává v trubičce pomocí tunelování elektronů přes diskrétní elektronové stavy.
Proud v každém stupni v Obr. 6.17 je způsoben jedním dodaným orbitálem molekuly. To
značí, že elektrony v nanotrubičce nejsou silně lokalizovány, ale jsou spíše prostorově
rozloženy podél celé trubičky. Obecně v 1D systémech přítomnost poruchy způsobuje
lokalizaci elektronů. Avšak porucha v nanotrubičce nezpůsobí lokalizaci, protože tento jev
bude zprůměrňován přes celý obvod trubičky v důsledku koblihového tvaru vlnové funkce
elektronu.
V kovovém stavu je vodivost nanotrubičky velmi vysoká (až 109 A/cm2). Měděný vodič
snese max. 106 A/cm2, kdy se začne měď tavit. Jedním z důvodů této vysoké vodivosti
uhlíkové nanotrubičky je fakt, že v ní je velmi málo poruch, které by způsobily rozptyl
elektronů a tedy velmi malou rezistivitu. Vyšší proudy nebudou ohřívat trubičky stejně jako
ohřívají měděný vodič. Nanotrubičky mají tedy velmi vysokou teplotní vodivost, téměř 2x
vyšší než diamant. To znamená, že jsou také velmi dobrými vodiči tepla.
Magnetorezistivita je jev, při němž rezistivita materiálu se mění přiložením DC
magnetického pole. Uhlíkové nanotrubičky vykazují magnetorezistivní jevy při nízkých
teplotách. Na Obr. 6.18 je závislost magnetického pole na změně rezistivity ΔR nanotrubičky
při 2,3 K a 0,35 K, porovnaná s jejich rezistivitou R při absenci magnetického pole. To je
záporný magnetorezisticní vliv, protože rezisticita klesá s rostoucím DC magnetickým polem,
tedy vodivost G = 1/R roste. To se objeví proto, že při přiložení magnetického pole na
nanotrubičky, získávají vodivostní elektrony nové energiové hladiny sdružené (spojené)
s jejich spirálovým pohybem kolem pole. To ukazuje že pro nanotrubičky leží tyto hladiny –
Landauovy hladiny velmi blízko k nejvýše zaplněným hladinám energie (Fermiho hladina).
124 FEKT Vysokého učení technického v Brně
Takto tedy existují vhodnější stavy pro elektrony, které umožňují zvýšit jejich energii a
dosáhnout vyšší vodivost materiálů.
Obr. 6.18: Vliv SS magnetického pole na rezistivitu nanotrubiček při teplotě 0,35 K a 2,3 K. (dle R.Saito, G.
Dresselhaus a M. S. Dresselhaus, Physical properties of nanotubes, Imperial College Press, 1998)
Frekvence těchto dvou modů jsou Ramanovsky aktivní a závisejí na poloměru trubičky.
Na Obr. 6.20 je závislost frekvence A1g modu jako funkce tohoto poloměru. Závislost této
frekvence na poloměru je nyní rutinně používaná k měření poloměru nanotrubiček.
Obr. 6.20: Závislost frekvence Ramanova A1g normálního vibračního modu na poloměru nanotrubičky
Když se uhlíková trubička ohne, je velmi pružná. Tyto trubičky se dají ohnout jako
stéblo, ale nezlomí se, a mohou se narovnat zpět bez poškození. Většina materiálů se zlomí
nebo ohne v důsledku poruch jako jsou dislokace nebo hranice zrn. Protože uhlíkové
nanotrubičky mají velmi málo vad ve struktuře stěn, nedochází k lomu. Další důvod, proč se
nezlomí je, že i když jsou velmi ohnuty, téměř šestiúhelníkové uhlíkové prstence ve stěnách
mění strukturu, ale nezlomí se. To je jedinečný výsledek faktu, že uhlík-uhlíkové vazby jsou
sp2 hybridy, ale tyto sp2 vazby mohou při ohybu rehybridizovat. Stupeň změny a suma s-p
směsi závisejí na stupni ohybu vazeb.
Pevnost není totéž co tuhost. Youngův modul je mírou tuhosti nebo pružnosti materiálu.
Pevnost v tahu je mírou součtu napětí potřebného k natažení materiálu. Pevnost v tahu
uhlíkových nanotrubiček je asi 4,5.1010 Pa. Ocelové slitiny o vysoké pevnosti se lámou při
2.109 Pa. Tedy uhlíkové trubičky jsou přibližně 20x pevnější než ocel. Zasunuté nanotrubičky
mají také zlepšené mechanické vlastnosti, ale nejsou tak dobré jako jednostěnné. Např.
MWNT o průměru 200 nm mají pružnost v tahu 7 GPa (7.106 Pa) a modul 0,6 TPa.
Počítače a elektronická zařízení, které budou součástí tohoto systému, potřebují být chráněny
proti zbraním, které vyzařují elektromagnetické impulsy.
6.4.2 Počítače
Realizovatelnost navrženého FET, přepínací součástky pro počítače, založené na
polovodivých uhlíkových nanotrubičkách, které spojují dvě zlaté elektrody, byla
demonstrována. Nákres zařízení je na Obr. 6.21.
Když je na hradlo (gate), tj. křemíkový substrát, přiloženo malé napětí, proud teče
nanotrubičkou mezi emitorem a kolektorem. Součástka je v režimu zapnuto, když proud teče,
a vypnuto, když neteče. Bylo nalezeno, že malé napětí na hradle může měnit vodivost
nanotrubičky asi 106×, což je srovnatelné s křemíkovým FET. Spínací doba této součástky je
velmi vysoká, umožní taktovací kmitočet v THz, což je 104 rychlejší než mají současné
procesory. Emitor a kolektor ze zlata jsou naneseny litograficky a spojovací nanodrátek má
průměr menší než nanometr. Tyto rozměry umožní instalovat na jeden čip mnohem víc
tranzistorů. Je možné zdůraznit, že tato zařízení byla vytvořena jen laboratorně a že bude
třeba vyvinout metodu pro masovou výrobu.
Hlavním cílem při vývoji počítačů je zvýšit počet přepínačů na čipu. Možným
přístupem je užití spojovacích vodičů o velmi malých průměrech a jejich zapakování těsněji
k čipu. Se současnými součástkami již není možné dále snižovat rozměry. Když průřez
kovového vodiče, např. měděného, klesá, rezistivita roste a vzrůstá teplo generované proudem
ve vodiči. Teplo může dosáhnout takových hodnot, že dojde k roztavení či odpaření vodiče.
Avšak uhlíkové nanotrubičky o průměru 2 nm mají extrémně nízkou rezistivitu a mohou být
tedy použity jako propojovací vodiče. Jejich velmi vysoké tepelná vodivost znamená, že
mohou být použity i jako chladiče pro rychlý odvod tepla z čipu.
Další myšlenkou je vytvoření celého počítače z uhlíkových nanotrubiček. Počítač by
mohl být maticí paralelních nanotrubiček na substrátu. Nad ní v malé vzdálenosti, ale bez
dotyku, by byla další matice nanotrubiček orientovaných kolmo k trubičkám na substrátu.
Každá trubička bude připojena ke kovové elektrodě. Na Obr. 6.22 je koncept tohoto zařízení.
Průsečíky reprezentují přepínače počítače. Když se trubičky vzájemně nedotýkají na
průsečíku, přepínač je vypnut, protože rezistivita je vysoká. Ve stavu zapnuto se trubičky
dotýkají a rezistivita je malá. Přepínání mezi zapnuto-vypnuto může být řízeno proudem
v trubičkách. Odhaduje se, že na jednom čipu by mohlo být až 1012 přepínačů, což je o 3 řády
vyšší než má současné Pentium. Přepínací doba může být 102 rychlejší než mají současné
Intel čipy. Ideálně by bylo mít polovodičové nanotrubičky dole a kovové nahoře. Při kontaktu
by přechod kov-polovodič umožnil tok proudu jen jedním směrem – tak dojde
usměrňovacímu jevu.
128 FEKT Vysokého učení technického v Brně
Obr. 6.22: Ilustrace konceptu počítačového přepínače z nanotrubiček (C. M. Lieber, Sci.Am., 59, září 2001)
Obr. 6.23: Elektrochemická buňka použitá k injektování vodíku do uhlíkových nanotrubiček. Buňka sestává
z elektrolytického roztoku KOH se zápornou elektrodou tvořenou listem z uhlíkových nanotrubiček. Přiložení
napětí na elektrody způsobí, že H+ iont je přitahován k záporné elektrodě
Nanotechnologie 129
Obr. 6.24: Ramanovské spektrum uhlíkových nanotrubiček s maximální intenzitou při 2667 cm-1, zaznamenané
před (nenabité) a po (nabité) zpracováním v elektrochemické buňce z Obr. 6.23
Obr. 6.25: V-A charakteristika pro FET z uhlíkových trubiček před (a) a po (b) expozici NO2. Data byla získána
při hradlovém napětí 4V
130 FEKT Vysokého učení technického v Brně
Na Obr. 6.25 je V-A charakteristika před a po použití NO2. Tato data byla získána
při napětí na hradlu Vg = 4 V. Jev nastává, protože když se NO2 váže na uhlíkovou
nanotrubičku, náboj je přenesen z trubičky do NO2, čímž roste koncentrace děr v uhlíkové
nanotrubičce a zvyšuje se vodivost.
Frekvence jednoho z normálních vibračních modů nanotrubiček, které dávají velmi
výraznou Ramanovu čáru, je velmi citlivá na přítomnost dalších molekul na povrchu trubiček.
Směr a velikost posuvu závisí na druhu molekuly na povrchu. Tento jev by také mohl být
základem senzorů plynů využívajících nanotrubiček.
6.4.5 Katalýza
Katalytické činidlo je materiál, typicky kov nebo slitina, který zvyšuje poměr reakcí
mezi chemikáliemi. Nanotrubičky mohou sloužit jako vhodný katalyzátor pro některé
chemické reakce. Např. zasunuté nanotrubičky s rutheniem vázaným na vnější stěně mají
značně větší katalytický účinek při vodíkové reakci cinnamaldehydu (C6H5CH=CHCHO)
v kapalné fázi, než při použití ruthenia vázaného na jiné uhlíkové substráty.
Chemické reakce mohou být také provedeny uvnitř nanotrubiček, jako je např. redukce
oxidu niklu NiO na kov Ni, či redukce AlCl3 na hliník Al. Proud vodíku H2 při 475 °C
částečně redukuje MoO3 na MoO2, přičemž se vytvoří vodní pára H2O uvnitř mnohostěnné
nanotrubičky. Krystal sirníku kadmia (CdS) byl vytvořen uvnitř trubičky při reakci krystalu
oxidu kadmia (CdO) s plynem H2S při 400 °C.
což je hlavní složka oceli, takže by se mohla zvýšit pevnost v tahu oceli. Na Obr. 6.26 je
výsledek výpočtu pevnosti v tahu oceli τi v závislosti na objemovém podílu SWNT o průměru
10 nm a délce 100 μm při použité tzv. Kellyho-Tysonovy rovnice:
1 ⎛D⎞
τ i = σ (l c ). ⎜ ⎟, (6.6)
2 ⎝ lc ⎠
kde lc je kritická délka ve které dojde ke lomu, σ - plošné napětí a D délka trubičky.
Výpočty ukazují, že pevnost oceli bylo mohla vzrůst 7×, kdyby v oceli bylo
30 váhových procent vhodně orientovaných nanotrubiček. Jak již bylo řečeno dříve, musí se
zvládnout metody, jak vhodně vložit nanotrubičky do plastů a kovů a jak najít laciné výrobní
procesy pro masovou výrobu.
Obr. 6.26: Pevnost v tahu v závislosti na % objemu uhlíkových nanotrubiček vůči oceli, vypočtená dle Kellyho-
Tysonova vzorce Rozměr nanotrubiček - délka 100 μm, průměr 10 nm
7 Objemový materiál
Cíle kapitoly
V této kapitole budeme diskutovat vlastnosti objemových materiálů s nanostrukturami.
Objemové nanostrukturované materiály jsou pevné látky, které mají nanometrické
mikrosktruktury. Tedy základní jednotky, které tvoří pevnou látku, jsou nanočástice.
Nanočástice mohou být
- vůči sobě navzájem neuspořádané,
- jejich osy symetrie jsou náhodně orientované a
- jejich prostorové rozložení nevykazuje žádnou symetrii.
Částice také mohou být uspořádány ve mřížce s určitou symetrií. V Obr. 7.1a je hypotetická
uspořádaná 2D mřížka Al12 nanočástic a v Obr. 7.1b 2D neuspořádaná nanostruktura týchž
nanočástic.
132 FEKT Vysokého učení technického v Brně
(a) (b)
Obr. 7.1: (a) Hypotetická uspořádaná 2D mřížka Al12 nanočástic, (b) 2D neuspořádaná nanostruktura týchž
nanočástic
Obr. 7.2: Rozložení velikostí Fe-Cu nanočástic vyrobených horkou kompaktní metodou
Nanotechnologie 133
Obr. 7.3: Závislost napětí na poměrném prodloužení pro kompaktní Fe-Cu nanostrukturovaný materiál vykazuje
lom při napětí 2,8 GPa
Na Obr. 7.3 je znázorněna závislost napětí na poměrném prodloužení pro tento případ.
Youngův modul materiálu, což je směrnice křivky v lineární oblasti, je podobný Youngovu
modulu konvenčního železa. Odchylka od lineárního tvaru ukazuje, že před lomem se
objevuje oblast protažení. K lomu dojde při napětí 2,8 GPa, což je asi 5× vyšší hodnota než
pro železo s většími zrny (50-150 μm). .Podstatné změny mechanických vlastností
neuspořádaného objemového materiálu s nanozrnky je jedním z nejdůležitějších znaků
takových materiálů. Tzn., pokud se povede vyrobit materiály s nahozeny, zvýší se napětí, což
může být velmi výhodné např. v automobilovém či leteckém průmyslu. Důvody, proč dochází
ke změnám mechanických vlastností nanostrukturovaných materiálů budou diskutovány
v dalších oddílech.
Nanostrukturované materiály mohou být vyrobeny i rychlým tuhnutím. Jednou z metod
je metoda „chlazení tavenina na rotujícím bubnu“ (Obr. 7.4).
Obr. 7.4: Ilustrace metody „chlazení taveniny na rotujícím bubnu“ na výrobu nanostruktorovaných materiálů
pomocí rychlým tuhnutím na rotujícím bubnu. (z I. Chang, Handbook of Nanostructured Materiále and
Nanotechnology, H.S. Nalwa (Ed.), Academic Press, San Diego, 2000, vol. 1, Chapter 11, p. 501)
Cívka pro radiofrekvenční ohřev rozpustí kov, který je potom hnán tryskou a vytváří
proud kapaliny. Tento proud je v atmosféře inertního plynu kontinuálně stříkán na povrch
134 FEKT Vysokého učení technického v Brně
rotujícího kovového bubnu. Proces vytváří proužky nebo pásky o tloušťce 10-100 μm.
Parametry, které ovlivňují nanostrukturu materiálu jsou velikost trysky, tlak nástřiku
taveniny, rychlost otáček kovového bubnu. Potřeba materiálů s nízkou hmotností a vysokou
pevností vedla k použití 85-94% slitiny hliníku s dalšími materiály – Y, Ni a Fe, které byly
připraveny touto metodou. Roztavená směs Al-Y-Ni-Fe, získána na rotačním bubnu, která
obsahuje 10-30 nm hliníkové částice zabudovaných do matrice, může dosáhnout pevnosti
v tahu až 1,2 GPa. Takto vysoká hodnota je přisuzována přítomnosti nanočástic hliníku bez
defektů. V jiné metodě pro výrobu nanostrukturovaných materiálů, atomizaci plynů, dopadá
svazek inertního plynu velkou rychlostí na roztavený kov. Zařízení je na Obr. 7.5.
Obr. 7.5: Zařízení na výrobu kapiček kovových nanočástic atomizací plynu. (z I. Chang, Handbook of
Nanostructured Materiále and Nanotechnology, H.S. Nalwa (Ed.), Academic Press, San Dieogo, 2000, vol. 1,
Chapter 11, p. 501)
Nárazy plynu se vytvoří jemná disperze kovových kapiček, které přenášejí kinetickou
energii k roztavenému kovu. Pomocí této metody je možné vyrobit velké množství
nanostrukturovaných prášků, které potom mohou být stlačeny tak, aby z nich vznikly
objemové vzorky.
Nanostrukturované materiály je také možné vyrobit pomocí elektrodepozice. Např. je
možné vyrobit list nanostrukturované mědi tak, že vložíme dvě elektrody do elektrolytu
CuSO4 a přiložíme k nim napětí. Vrstva nanostrukturované mědi se vytvoří na záporné
titanové elektrodě. Je možné dosáhnout tloušťky až 2 mm, s průměrnou velikostí zrn 27 nm a
se zesílenou pevností v tahu 119 MPa.
Dalším typem vad materiálu je přechod od křehkého k tažnému stavu, kde průběh
křivky závislosti napětí na poměrném prodloužení není lineární (Obr. 7.3). V této oblasti se
materiál nevratně prodlužuje před lomem. Když napětí přestane působit po přechodu od
křehkého ke tažnému stavu, materiál se již nevrátí do původní délky. Tento přechod je
výsledkem jiného typu defektu mřížky, zvaného dislokace. Na Obr. 7.7je hranová dislokace
v 2D mřížce.
Obr. 7.8: Závislost poměru Youngova modulu nanostrukturovaného železa E a objemového železa E0,
v závislosti na velikosti zrnek
Mez v kluzu σy materiálu s normální velikostí zrnek závisí na velikosti zrn Hallovým-
Petchovým vztahem
σ y = σ 0 + Kd (7.1)
kde σ0 je napětí vzniklé třením proti pohybu dislokace, K je konstanta a d je velikost zrnka
v nanometrech. Tvrdost může být popsána podobným vztahem. Na Obr. 7.9 je závislost
měřené meze v kluzu slitiny Fe-Co na 1/ d , která potvrzuje lineární chování plynoucí ze
vztahu (7.1).
Obr. 7.9: Závislost meze v kluzu slitiny Fe-Co na 1/ d . d je velikost zrnka. (Dle C.H. Slang et al, J.
Mater.Res. 15, 835, 2000)
Obr. 7.10: Křivka závislosti napětí na relativním prodloužení pro nanostrukturovanou měď připravenou
depozicí. (L.Lu et al, J. Mater. Res., 15, 270, 2000)
Obr. 7.11: Závislost tvrdosti TiN/NbN multivrstev na tloušťce vrstev. (Dle B.M.Clemens, MRS Bulletin,
Feb.1999, p.20.)
Obr. 7.12: Průřez litograficky vyrobeným zařízením pro měření vodivosti v 2D poli zlatých nanočástic
spojených navzájem organickými molekulami. (R.P.Anders et al, Handbook of Nanostructured Materials and
Nanotechnology, H.S.Nalwa (Ed.), Academic Press, San diego, 2000, vol. 3, Chapter 4, 217)
Nanotechnologie 139
V Obr. 7.13 je výsledek měření volt-ampérové závislosti takového pole při pokojové
teplotě pro řetězec bez (čára a) a se spojením (čára b) zlatých nanočástic konjugovanou
molekulou.
Obr. 7.13: Volt-ampérová charakteristika 2D pole klastru zlata při pokojové teplotě: bez spojení částic (čára a) a
pro částice spojené pomocí (CN)2C18H12 molekul (čára b). (Dle D.James et al. Superpart. Microstruct. 18, 275,
1995)
Obr. 7.14: Měřená volt-ampérová charakteristika 2D pole spojeného klastru při teplotě 85, 140 a 180 K. (Dle
D.James et al. Superpart. Microstruct. 18, 275, 1995.)
Na Obr. 7.14 je výsledek téhož měření jako v Obr. 7.13 pro různé teploty. Vodivost
G = I/V je převrácenou hodnotou odporu R = V/I = 1/G. Z data v Obr. 6.13 plyne, že
spojením zlatých nanočástic podstatně vzroste vodivost. Teplotní závislost nízkonapěťové
vodivosti je
⎛ E ⎞
G = G0 exp ⎜ − ⎟, (7.2)
⎝ kBT ⎠
kde E je aktivační energie. Proces vodivosti pro tento systém může být modelován
šestiúhelníkovou maticí jednokrystalových klastrů zlata spojených rezistory, což jsou
molekuly, jak je vidět na Obr. 7.15.
140 FEKT Vysokého učení technického v Brně
Obr. 7.15: Nákres modelu, který vysvětluje elektrickou vodivost v ideálním šestiúhelníkovém poli
jednokrystalových atomových klastrů s homogenními spoji mezi klastry modelované rezistory spojenými
molekulami. (R.P.Anders et al, Handbook of Nanostructured Materials and Nanotechnology, H.S.Nalwa (Ed.),
Academic Press, San Diego, 2000, vol. 3, Chapter 4, 221.)
Obr. 7.16: (a) Přechod kov-nevodič-kov; (b) hustota stavů obsazených hladin a Fermiho hladina před přiložením
napětí na přechod; (c) hustota stavů a Fermiho hladina po přiložení napětí. V obr. (b) a (c) je energie na svislé
ose a hustota stavů na vodorovné ose. Hladiny nad Fermiho hladinou neobsahují elektronu a nejsou na obrázku
znázorněné
Tunelování je kvantově-mechanický jev, při němž elektron může projít bariérou, která
je vyšší než je kinetická energie elektronu. Tedy, jestliže se vytvoří sendvičová struktura ze
dvou podobných kovů, oddělená tenkou nevodivou vrstvou (Obr. 7.16a), může elektron projít
za určitých podmínek z jednoho kovu do druhého. Pro elektron, který tuneluje z jedné strany
přechodu na druhou, musí být na druhé straně přechodu k dispozici neobsazené stavy
elektronu. Pro dva stejné kovy při T = 0 K budou Fermiho energie stejné, tudíž nejsou volné
stavy k dispozici (Obr. 7.16b) a k tunelování nedojde. Je tedy nutné přiložit předpětí na
přechod, což zvýší energii elektronu jednoho kovu vzhledem k druhému, protože dojde
k vzájemnému posuvu Fermiho hladin. Počet elektronů, které potom mohou tunelovat zleva
doprava (Obr. 7.16c) v intervalu energie dE, je úměrný počtu obsazených stavů vlevo a počtu
neobsazených stavů vpravo, což je
N1 ( E − eV ) f ( E − eV ) [ N 2 ( E )(1 − f ( E )) ] , (7.3)
kde N1 je hustota stavů v kovu 1, N2 je hustota stavů v kovu 2 a f(E) je Fermiho-Diracovo
rozdělení stavů. Čistý tok proud I napříč přechodem je roven rozdílu toků doprava a doleva,
Nanotechnologie 141
Obr. 7.17: Absorpční spektrum zlatých nanočástic o rozměrech 20-80 nm rozptýlených ve skle. (Dle F. Gondola
et al. Handbook of Nanostructured Materials and Nanotechnology, H.S.Nalwa (Ed.), Academic Press, San
Diego, 2000, vol. 4, Chapter 2, 85.)
Proto se začaly používat metody jako iontová implantace – svazek iontů, který obsahuje
kovové částice, které se mají implementovat, má energii 10 keV – 100 MeV. Dochází
k výměně iontů, která umožní zabudovat kovové částice do skla. Na Obr. 7.18 je znázorněno
experimentální zařízení výměny iontů pro implementaci částic stříbra do skla. Jednovalenční
povrchové atomy, např. sodík, které se nacházejí v blízkosti povrchu všech skel, jsou
nahrazeny jinými ionty – zde stříbra. Skleněný substrát je umístěn do tavící solné lázně
s elektrodami a substrátem prochází proud. Ionty sodíku difundují na povrch skla směrem
k záporné elektrodě, a stříbro difunduje ze stříbrného elektrolytu do povrchu skla.
Obr. 7.18: Iontová implantace inotů kovu (zde Ag+) do skleněného substrátu (dle G. De Marci et al., J. Non-
Cryst. Solids, 196, 79, 1996.)
Obr. 7.19: SEM obraz leptaného povrchu křemíku. Mikrometrické póry jsou tmavé oblasti. (C.Levy-Clement et
al. J. Electrochem. Soc. 141, 958, 1994.)
Tento křemík se nazývá porézní křemík (PoSi). Řízeným výrobním procesem je možné
dosáhnout manometrických rozměrů pórů. Zájem o tento materiál se datuje od 1990, kdy bylo
objeveno, že je fluorescenčním materiálem při pokojové teplotě. Luminiscence se vztahuje
k absorpci energie hmotou, jejíž znovuvyzáření probíhá ve viditelné a blízké IČ oblasti.
Jestliže tento děj proběhne v čase kratším jak 10-8 s, hovoříme o fluorescenci, při delším čas o
144 FEKT Vysokého učení technického v Brně
Obr. 7.20: Spektrum fotoluminiscence porézního křemíku pro dvě různé doby leptání. (L.T. Camham, Appl.
Phys. Lett., 57, 1046, 1990.)
Obr. 7.21: Schéma zařízení pro leptání pórů v křemíkové destičce v kyselině fluorovodíkové (HF). (D.F.Thomas
et al., Handbook of Nanostructured Materials and Nanotechnology, H.S.Nalwa (Ed.), Academic Press, San
Diego, 2000, vol. 4, Chapter 3, 173.)
Na Obr. 7.21 je metoda leptání křemíku. Křemíková destička leží na hliníku, který tvoří
dno teflonové nádoby, která chemicky nereaguje s roztokem kyseliny fluorovodíkové (HF).
Proud teče mezi platinovou elektrodou a křemíkovou destičkou (kladná elektroda). Parametry,
které ovlivňují povahu pórů jsou koncentrace HF kyseliny v elektrolytu nebo leptacím
Nanotechnologie 145
Obr. 7.22: Dvacetistěnový klastr bóru B12. Tento klastr je základní buňkou několika dalších mřížek bóru
Obr. 7.23: Možná prostorově centrovaná struktura mřížky nanočástic Al13 (uvnitř) a draslíku (velké kroužky).
(N.S. Khanna, P. Jena, Phys. Rev., 51, 13705, 1995)
Obr. 7.24: Schéma klastru v pórech zeolitu. Obr. 7.25: Dlouhé paralelní kanálky v krystalu
(S.G.Romanov et al., Handbook of Nanostructured modernitu, což je ortorombická varieta zeolitu
Materials and Nanotechnology, H.S.Nalwa (Ed.), (Ca,Na2,K2)(Al2Si10)O24.7H2O. (S.G.Romanov et al.,
Academic Press, San Diego, 2000, vol. 4, Chapter 4, 236.) totéž, str. 238.)
Obr. 7.26: Optické spektrum absorpce řetězce atomů selenu v mordenitu (spojitá křivka Se–M) a
v krystalickém selenu (čárkovaně, t–Se) vykazuje posuv maxima absorpce a změnu tvaru (V.N.Bogomolov,
Solid State Commun., 47, 181, 1983)
Obr. 7.27: Závislost rovnic stavů (čárkovaně) na frakci polystyrenových kuliček o průměru 720 nm v 3-mM
solném roztoku. Konstanta N0 je Avogadrovo číslo. (A.P.Gast, W.B.Russell, Phys. Today, Dec. 1998.)
V Obr. 7.28 je fázový diagram systému měkkých kulových částic. Nepřístupný objem je
objem, do kterého nemůže částice vstoupit, protože jej již obsazen jinými částicemi. Vhodnou
volbou počtu částic je možné nastavit přechod mezi fcc a bcc strukturami. Částice mohou také
mít kladný potenciál. Pro případ nabitých částic ve vodním roztoku je možné toho dosáhnout
přidáním elektrolytu k roztoku. Potom dojde k prudkému nárůstu agregátů.
Obr. 7.28: Fázový diagram pro měkké kulové částice v suspenzi ukazuje kapalný stav, prostorově centrovanou
(bcc) a stěnově centrovanou (fcc) fázi. Na svislé ose je objem, který je nedostupný pro jednu částici, protože jsou
v něm další částice. Tento nedostupný objem je krychle o hraně odpovídající Debyeově skríníngové délce, která
charakterizuje rozsah interakce (A.P.Gast, W.B.Russell, Phys. Today, Dec. 1998.)
kde V je objem pevné látky, hybnost p = ħk, k = 2π/λ. V modelu s téměř volným elektronem
jsou valenční a vodivostní elektrony považovány za neinteragující volné elektrony, které se
pohybují v periodickém potenciálu, který pochází od kladně nabitých iontů jádra.
Na Obr. 7.29 je závislost energie na vlnovém vektoru pro 1D mřížku identických iontů.
Energie je úměrná čtverci vlnového vektoru E = h2k2/8π2m, vyjma v blízkosti hrany pásu, kde
k = ± π/a. Důležitým výsledkem je, že existuje zakázaný pás energií o šířce Eg, což značí, že
zde jsou určité vlnové délky či vlnové vektory, které se v mřížce nemohou šířit. To je
důsledek Braggových odrazů. Uvažujme řadu paralelních rovin v mřížce o vzdálenosti d,
v nichž jsou umístěny atomy mřížky.Dráhový rozdíl vln odražených od dvou sousedních
rovin je δ = 2d sin Θ , kde Θ je úhel dopadu vln na roviny. Je-li tento dráhový rozdíl roven
λ/2, budou odražené vlny interferovat destruktivně a nemohou se šířit v mřížce, tedy vzniká
zakázané pásmo energií. To je výsledek periodicity mřížky a vlnové povahy elektronů.
V r. 1987 Yablonovich a John navrhli, že by bylo možné vytvořit mřížku o takových
vzdálenostech, že by se světlo mohlo chovat dle Braggova odrazu v mřížce. Pro viditelné
světlo jsou rozměry mřížky přibližně 500 nm. To je 1000× větší než vzdálenost v atomových
krystalech, ale 100 menší něž tloušťka lidského vlasu. Takové krystaly je možné vyrobit
uměle pomocí elektronové nebo rentgenové litografie.
Fotonické krystaly (Obr. 7.30) jsou periodické struktury dielektrických částic
vzdálených od sebe asi 500 nm. Materiály jsou uzpůsobeny tak, aby měly symetrii a
periodicitu v dielektrické konstantě (tj. permitivitě). První krystaly byly vyrobeny pro
mikrovlnnou oblast.
Obr. 7.31: 2D fotonický krystal zhotovený z dlouhých dielektrických válečků ve čtvercové mřížce
Tuto rovnici je možné řešit exaktně pro světlo ve fotonické krystalu zejména proto, že
interakce mezi fotony je velmi malá, a za druhé je možné velmi přesně předpovědět, jak bude
vypadat disperzní vztah. Disperzní vztah je závislost frekvence nebo energie na vlnové délce
nebo vlnovém vektoru. V Obr. 7.32 je závislost disperzního vztahu hliníkových válečků
(Al2O3, ε = 8,9) z Obr. 7.31, tj. průměr válečku 0,37 nm a výška 100 nm pro příčné
magnetické módy TM. To odpovídá kmitům vektoru intenzity magnetického pole H
z elektromagnetické vlny. Vzdálenost středů válečků je 1,87 nm. Tato mřížky je navržena pro
mikrovlnnou oblast, ale její obecné vlastnosti platí i pro menší rozměry pro viditelnou
optickou oblast. Značky Γ a X se vztahují ke speciálním bodům symetrie v k prostoru
čtvercové matice. Výsledky ukazují, že v krystalu existují fotonické zakázané pásy, které
zahrnují oblast frekvencí, s nimiž se elektromagnetické vlny nemohou v mřížce šířit. Světelný
výkon je značný pod tímto pásem, a a analogicky s valenčním a vodivostním pásem se tato
oblast nazývá dielektrický pás. Nad zakázaným pásem je světelný výkon malý a oblast se
proto nazývá vzdušný pás.
Obr. 7.32: Část disperzního vztahu TM módu fotonického krystalu vytvořeného ze čtvercové mřížky
hliníkových válečků. Na svislé ose je frekvence f násobena mřížkovým parametrem a dělená rychlostí světla c.
(J.D. Joannopoulos, Nature, 386, 143, 1997)
Uvažujme nyní, co se stane, když jsme do materiálu zavedli lineární poruchu tím, že
odstraníme jednu řadu válečků. Tato prázdná oblast teď bude působit jako vlnovod, a
152 FEKT Vysokého učení technického v Brně
Obr. 7.33: Vliv odstranění jedné řady válečků ze čtvercové mřížky fotonického krystalu, který zavádí hladinu
(vedený mód) v zakázaném pásu. Na svislé ose je frekvence f násobena mřížkovým parametrem a dělená
rychlostí světla c. (J.D. Joannopoulos, Nature, 386, 143, 1997)
Rezonanční dutina může být vytvořena ve fotonickém krystalu tak, že se odstraní jeden
váleček, nebo se změní jeho poloměr. To také způsobí, že se energetická hladina nachází
uvnitř zakázaného pásu. Plyne z toho, že frekvence této hladiny energie závisí na poloměru
válečku (Obr. 7.34). Na obrázku jsou vyznačena i vzduchová a dielektrická pásma, která
jsme diskutovali výše. Ukazuje to na možnost ladění frekvence dutiny. Tato možnost ladit
světlo a koncentrovat je do velmi malé oblasti způsobuje, že fotonické krystaly mohou být
použity jako filtry nebo vazební členy v laserech. Spontánní emise je emise světla, ke které
dochází tehdy, když elektron přechází náhodně z excitovaného stavu do stavu s nižší energií.
Schopnost kontroly spontánní emise je nezbytnou podmínkou dosažení laserového
stimulovaného záření.
Obr. 7.34: Závislost frekvence lokalizovaných stavů v zakázaném pásu vytvořených na poloměru r jednoho
válečku ze čtvercové mřížky. Na svislé ose je frekvence f násobena mřížkovým parametrem a dělená rychlostí
světla c. (J.D. Joannopoulos, Nature, 386, 143, 1997)
Nanotechnologie 153
V této kapitole se budeme zabývat všemi třemi způsoby zmenšování. Jestliže jsou 1-3
rozměry dostatečně zmenšeny, projeví se vliv rozměrů na vlastnosti materiálů. Zejména se
budeme zajímat o to, jak se s rozměry mění elektrické vlastnosti struktur.
Obr. 8.1: a) GaAs kvantová jáma na substrátu, b) kvantový drátek a kvantová tečka na substrátu
Obr. 8.2: Postup přípravy kvantového drátku nebo kvantové tečky pomocí litografie elektronovým svazkem:
a) původní kvantová jáma na substrátu je překryta rezistem, b) ozáření materiálu přes kryt, c) konfigurace po
rozpuštění ozářené části rezistu, d) vyplnění mezery leptací maskou, e) sestava po odstranění zbývajícího rezistu,
f) konfigurace po odleptání nežádoucího materiálu kvantové jámy, g) finální nanostruktura po odstranění leptací
masky (T. P. Sidili a C.M. S Torres, in Nalwa (2000) Vol. 3, Chapter 5, p. 250)
Kromě nejčastěji používané elektronové litografie používají další metody např. svazek
neutrálních atomů (Li, Na, K, Rb, Cs), iontové svazky (Ga+), nebo elektromagnetické záření
v oblasti viditelné, UV, paprsků X. Při použití laseru, je nutné také využít zařízení pro
generaci druhé či čtvrté harmonické frekvence, abychom se dostali do oblasti (λ ≈ 150 nm),
která je vhodná pro tvorbu kvantových teček. Jestliže povrch aktivujeme světlem laseru, je
možné použít fotochemické leptání.
156 FEKT Vysokého učení technického v Brně
Obr. 8.3: Čtyři vrstvy materiálu kvantové jámy jsou naneseny na substrátu a překryty rezistem. Šablona pro
litografii je nad vzorkem
Obr. 8.4: Výsledek litografického leptání více kvantových teček z Obr. 8.3. Tato sestava 24násobné kvantové
jámy sestává ze 6 sloupečků, na nichž jsou 4 kvantové tečky
Obr. 8.5: Spektrum fotoluminiscence sestavy kvantových teček o průměru 60 nm, vytvořených litografií,
porovnávané se spektrem původní rostlé násobné kvantové jámy. Intenzivní pík v 0,7654 eV je přisuzován
lokalizovanému excitonu (LE) v supermřížce (SL). (T. P. Sidili a C.M. S Torres, in Nalwa (2000) Vol. 3,
Chapter 5, p. 251)
Pomocí leptací masky se vytvoří systém 24násobné kvantové jámy, který sestává ze
šesti sloupečků, na nichž jsou 4 kvantové tečky (Obr. 8.4). Taková sestava s násobnými
kvantovými tečkami je experimentálně vhodná k značnému zesílení fotoluminiscence na
Nanotechnologie 157
Tab. 8.1: Počet atomů nacházejících se na povrchu Ns, v objemu Nv a procentní podíl atomů Ns/Nv na povrchu
nanočástice
Velikost na Celkový počet Počet atomů Procentuální podíl
n
(nm) atomů na povrchu atomů na povrchu
2 1,13 94 48 51,1
3 1,70 279 108 38,7
4 2,26 620 192 31,0
5 2,83 1165 300 25,8
6 3,39 1962 432 22,0
10 5,65 8630 1200 13,9
15 8,48 2,84.104 2700 9,5
25 14,1 1,29.105 7500 5,8
50 28,3 1,02.106 3,0.104 2,9
100 56,5 8,06.106 1,2.105 1,5
(Nanočástice má strukturu mřížky diamantu, tj. krychli o n elementárních buňkách na
jedné stěně, z nichž každá má rozměr a. Sloupec 2 je vztažen na GaAs, kde a = 0,565 nm.)
V Tab. 8.1 jsou tabelovány hodnoty NS, NT, d a procentuální část atomů na povrchu
NS/NT pro různé hodnoty n. Velký podíl atomů na povrchu pro malá n je jedním ze základních
faktorů, které vyjadřují odlišnost vlastností nanostruktur od objemového materiálu.
Analogické vztahy platí i pro válcové struktury.
Porovnáme-li tuto tabulku pro diamantovou strukturu nanočástic s Tab. 3.1. pro stěnově
centrované kubické nanočástice s přibližně kulovým tvarem, vidíme, že výsledky sou velmi
podobné. Z tohoto srovnání plyne, že fcc nanočástice má pro stejný celkový počet atomů větší
procento atomů na povrchu. To se dalo, vzhledem ke způsobu výpočtu, očekávat, protože
pouze jeden typ atomů (ze dvou) ve struktuře GaAs přispívá k povrchu.
Nositel náboje ve vodiči či polovodiči se pohybuje směrem vpřed v přiloženém
elektrickém poli, které je pravidelně přerušováno srážkami fononů a defektů. Elektron nebo
díra, které se pohybují driftovou rychlostí v se srazí po τ sekundách s dalšími po uběhnutí
střední volné dráhy mezi srážkami
l = vτ. (8.4)
To se nazývá rozptyl uvnitř pásu (intraband scattering), protože nositel náboje zůstává
po srážce uvnitř pásu, totéž platí pro díry ve valenčním pásu. Střední volná dráha v kovech
závisí silně na koncentraci příměsí, a v normálních kovech může dosáhnout hodnotu 2-50 nm.
Ve velmi čistých kovech však bude podstatně větší. Odpor polykrystalického vodiče či
polovodiče, složeného z mikrokrystalků o rozměrech větších než je střední volná dráha, se
podobá odporu sítě propojených rezistorů, ale když se rozměry mikrokrystalků blíží l, začne
odpor záviset zejména na hranicích rozptylu mezi krystalky. Oba typy kovových nanostruktur
jsou běžné.
Různé typy poruch v mřížce mohou přerušit pohyb vodivostních elektronů vpřed a
omezit tak střední volnou dráhu. Příkladem bezrozměrných (0D) defektů jsou chybějící atomy
(vakance) a nadbytečné atomy (intersticiály), které se nacházejí mezi standardními polohami
mřížky. Pár vakance-inersticiál se nazývá Frenkelova porucha. Příkladem 1D dislokace je
porucha mřížky na hraně nebo částečně chybějící řetězec atomů. Obvyklé 2D poruchy jsou
Nanotechnologie 159
hranice mezi zrny, či stohovací chyby pocházející z náhlých změn nakupení těsně vázaných
rovin. Prázdný prostor (pór), tj. klastr vakancí, a precipitát druhé fáze jsou příkladem 3D
poruch.Všechny mohou vzniknout při srážkách elektronů a tedy limitují elektrickou vodivost.
Některé nanostruktury jsou však příliš malé na to, aby v nich vznikaly vnitřní poruchy.
Další závislost na velikosti pochází z množství příměsí v polovodiči. Pro typické
množství 1014-1018 donorů/cm3 obsahuje kvantová tečka tvaru krychle o hraně 100 nm asi
10-1-103 vodivostních elektronů/cm3. První hodnota (10-1) značí, že pouze jedna kvantová
tečka z deseti má jeden z těchto elektronů. Menší kvantová tečka o hraně 10 nm obsahuje
1 elektron na 1018 donorů. Podobná analýza může být provedena i pro kvantové drátky a
jámy. Výsledky v Tab. 8.2 demonstrují, že tyto kvantové struktury jsou typicky
charakterizovány velmi malým počtem nebo koncentrací elektronů, které mohou přenášet
proud. Tento výsledek v jevech jako je tunelování jednotlivých elektronů či Coulombovy
blokády budeme diskutovat dále.
Tab. 8.2: Počet vodivostních elektronů malých (vlevo) a velkých (vpravo) kvantových struktur, které mají
koncentraci donorů 1014-1018 cm3
Kvantová
Velikost Počet elektronů Velikost Počet elektronů
struktura
Objemový
- 1014-1018 cm-3 - 1014-1018 cm3
materiál
Kvantová jáma 10 nm tloušťka 1 -104 μm-2 100 nm tloušťka 10-105 μm-2
10×10 nm 100×100 nm
Kvantový drátek 10-2-102 μm-1 1-104 μm-1
průřez průřez
Kvantová tečka 10 nm strana 104-1 100 nm strana 10-1-103
rozměry, vykazuje silně omezenou pohyblivost ve všech třech směrech. Tedy zde neexistuje
delokalizace. V Tab. 8.3 jsou shrnuty tyto případy.
Obr. 8.6: Fermiho-Diracova distribuční (rozdělovací) funkce vykazuje stejnou hustotu v k-prostoru pro teploty
a) T = 0 K a b) T= 300 K
Tab. 8.4: Počet elektronů N a hustota stavů D(E) = dN(E)/dE jako funkce energie E pro elektrony vodivostního
pásu delokalizované v 1D, 2D a 3D rozměrech
Počet Dimenze
Hustota stavů D(E)
elektronů N delokalizace
N = K1E1/2 D(E) = 1/2. K1E-1/2 1
N = K2E D(E) = K2 2
N = K3E3/2 D(E) = 3/2. K3E1/2 3
Obr. 8.7: Závislost počtu elektronů N(E) na energii Obr. 8.8: Závislost hustoty stavů D(E) = dN(E)/dE
elektronů vodivostního pásu delokalizovaných v 1D na energii elektronů E vodivostního pásu
kvantovém drátku, 2D kvantové jámě a 3D nelokalizovaných v 1D kvantovém drátku, 2D
objemovém materiálu kvantové jámě a 3D objemovém materiálu
Vidíme, že hustota stavů klesá s rostoucí energií pro jeden rozměr, je konstantní pro dva
rozměry a klesá pro tři. Tedy hustota stavů se chová zcela odlišně v těchto třech případech.
Tyto rovnice a křivky jsou velmi důležité pro určení elektrických, teplotních a jiných
vlastností kovů a polovodičů a jasně ukazují, proč jsou tyto vlastnosti tak silně závislé na
rozměrech. Příklady, jak různé vlastnosti materiálů závisejí na hustotě stavů, budou
podrobněji zkoumány v kap. 8.2.6.
Obr. 8.9: Vlnové funkce pro první čtyři (nejnižší) energetické hladiny (n = 1-4) v 1D nekonečně hluboké
pravoúhlé jámě. Tvar vlnové funkce pro každou hladinu je vyjádřen vlevo, její parita (lichá, sudá) vpravo
Obr. 8.10: Nákres 1D pravoúhlé kvantové jámy konečné hloubky ukazuje, jak energetické hladiny En jámy
konečné hloubky (vpravo, spojité čáry) leží pod odpovídajícími hladinami nekonečně hluboké jámy (vlevo,
čárkovaně)
Obr. 8.11: Nákres 2D potenciálové jámy konečné Obr. 8.12: Nákres 1D parabolické potenciální jámy
hloubky kruhového průřezu. Jsou zobrazeny 3 s polohou čtyř nejnižších energetických hladin
energetické hladiny
Tab. 8.5: Závislost počtu elektronů N(E) a hustoty stavů D(E) = dN(E)/dE na energii i elektronů E vodivostního
pásu delokalizovaných/uvězněných v kvantové tečce, kvantovém drátku, kvantové jámě a objemovém materiálu
Počet elektronů Dimenze Dimenze
Typ Hustota stavů D(E)
N(E) delokalizované uvězněné
Tečka N(E) = K0 ΣdiΘ(E-Eiw) D(E) = K0 Σdiδ(E-Eiw)2 0 3
Drátek N(E) = K1 Σdi(E-Eiw)1/2 D(E) = ½ K1 Σdi(E-Eiw)-1/2 1 2
Jáma N(E) = K2 Σdi(E-Eiw) D(E) = K2 Σdi 2 1
Objem N(E) = K3 (E)3/2 D(E) =3/2. K3 (E)1/2 3 0
Poznámka: Degenerace di hladin uvězněných energií (pro pravoúhlé nebo parabolické jámy)
závisejí od dané hladiny. Heavisideova stupňová funkce Θ(x) je rovna nule pro x < 0 a
jedničce pro x >0. Delta funkce δ(x) = 0 pro x≠ 0, nekonečnu pro x = 0 a je integrována přes
jednotkovou plochu. Hodnoty konstant K1, K2 a K3 jsou tabelovány.
Obr. 8.13: Závislost elektronů N(E) a hustoty stavů D(E) na energii pro čtyři kvantové struktury v aproximaci
pravoúhlé jámy-Fermiho plynu
Nanotechnologie 167
Na Obr. 8.13 jsou závislosti N(E) a D(E) pro čtyři typy nanostruktur z Tab. 8.5. Vidíme,
že počet elektronů N(E) roste s rostoucí energií E, takže tyto čtyři typy nanostruktur se
odlišují navzájem jen kvalitativně. Avšak elektronové a jiné vlastnosti nanostruktur určuje
hustota stavů D(E) a ta je velmi odlišná v těchto případech. Tzn., že povaha dimenzionality a
uvěznění, spojená s určitou nanostrukturou má výrazný vliv na vlastnosti nanostruktur. Tyto
požadavky mohou být použity k předpovědi nanostruktur, a na druhou stranu je možné
identifikovat typ nanostruktury podle jejich vlastností.
8.3 Excitony
Excitony, které jsme zavedli v 3.3.3, se obvykle vyskytují v polovodičích. Když atom
v mřížce ztratí jeden elektron, nabije se kladně a vzniká díra. Jestliže díra zůstane
168 FEKT Vysokého učení technického v Brně
Diskutovali jsme již izolované kvantové tečky, drátky, jámy (viz Obr. 8.1 - Obr. 8.3).
Aby mohly být použitelné v praxi, je nutné je spojit s okolím, k sobě navzájem či
s elektrodami, které k nim mohou přidat či od nich odebrat elektrony. Na Obr. 8.14 je
izolovaná kvantová tečka nebo ostrůvek spojený tunelováním se zdrojem (emitorem), který
dodává elektrony a drénem (kolektorem), který odstraňuje elektrony, aby šly použít pro
vnější využití.
Obr. 8.14: Kvantová tečka spojená s vnějším Obr. 8.15: Kvantová tečka spojená přes emitor a
obvodem emitorem a kolektorem kolektor s vnějším obvodem obsahujícím zdroj
předpětí Vsd, kapacitor Cg, přes nějž napětí na gatu Vg
řídí odpor v elektricky aktivní oblasti
Po přiložení vnějšího napětí mezi Vsd (source-drain) teče v obvodu proud I = Vsd/R, a
elektrony tunelují do kvantové tečky a z ní. Hlavní podíl příspěvku k R pochází z procesu
tunelování elektronů mezi editorem a kolektorem.
Na Obr. 8.15 je k obvodu připojen rezistor Cg a zdroj napětí na gatu Vg. Řízením napětí
na gatu se reguluje rezistivita R aktivní oblasti kvantové tečky, a v důsledku toho i proud
mezi emitorem a kolektorem. Toto zařízení funguje napěťově řízený nebo polem řízený
Nanotechnologie 169
na jedné straně do řetězce, jím tuneluje podobně jako soliton. Kapacitance mezi částicemi je
Cmicro ≅ 10-18 F a rezistivita RT ≅ 100 MΩ.
Obr. 8.17: Řada ligandově stabilizovaných Au55 nanočástic. RT - rezistivita mezi částicemi, kapacitance Cmicro.
Hustota jednoelektronového tunelového proudu jy
8.5 Aplikace
8.5.1 IČ detektor
Infračervené přechody mezi energiovými hladinami v kvantových jamách (Obr. 8.10 a
Obr. 8.11) byly použity pro detektory IČ záření. Schéma čtyř typů těchto detektorů je
v Obr. 8.18. Vodivostní pás se nachází na nebo těsně pod vrškem obrázků, obsazené či
neobsazené energiové stavy jsou rozmístěny v jamách a IČ přechody jsou označeny šipkami.
Dopadající IČ záření vybudí elektrony do vodivostního pásu a výsledný elektrický proud je
mírou intenzity dopadajícího záření.
Obr. 8.18: Schéma přechodu elektronů do vodivostního pásu (označeného šrafovaně) pro: a) vázaný stav –
vázaný stav; b) vázaný stav – spojitý stav; c) vázaný stav – téměř vázaný stav; d) vázaný stav – minipás pro IČ
fotodetektor s kvantovou jámou (S.S.Li, M.Z.Tidrow, in Nalwa, Vol. 4, Chapter 9, p.563, 2000.)
Na Obr. 8.18a je přechod z diskrétní hladiny na diskrétní hladinu uvnitř kvantové jámy.
Obr. 8.18b ilustruje přechod z vázaného stavu do kontinua, Obr. 8.18c vyjadřuje, že spojitý
stav začíná hned nad jámou, tedy přechod je z vázaného do téměř vázaného stavu. Konečně
v Obr. 8.18d leží spojitý pás pod vrcholem jámy, tedy přechod je z vázaného stavu do
minipásu.
Reponsivita detektoru je vyjádřena elektrickým proudem (v ampérech) na 1 watt
dopadajícího záření. V Obr. 8.19 je závislost hustoty temného proudu (před ozářením) na
předpětí pro GaAS/AlGaAs fotodetektor (přechod vázaný stav- spojitý stav) a v Obr. 8.20 je
závislost této responsivity na vlnové délce pro kolmý dopad a dopad pod 45°. Responsivita
má maximum pro λ = 9,4 nm.
Nanotechnologie 171
Obr. 8.19: Závislost hustoty temného proudu na předpětí pro Obr. 8.20: Závislost maximální odezvy na vlnové délce
GaAs/GaAlAs detektor s kvantovými tečkami pracující ve při předpětí 2 V a T = 77 K pro kolmý dopad a dopad
vzdálené IČ oblasti pro tři různé teploty. Čárkovaně je pod úhlem 45°. (M.Z.Tidrow, J.C.Chiang, S.S.Li, K.
označen proud pozadí (BG) při T = 300 K. (M.Z.Tidrow, Bacher, Appl. Phys. Lett.,70, 859, 1997)
J.C.Chiang, S.S.Li, K. Bachor, Appl. Phys. Lett.,70, 859,
1997)
Obr. 8.21: Závislost maximální odezvy na předpětí při T = 77 K pro kolmý dopad a dopad pod úhlem 45°.
(M.Z.Tidrow, J.C.Chiang, S.S.Li, K. Bacher, Appl. Phys. Lett.,70, 859, 1997)
drátkem také samozřejmě využívají stejného jevu přechodu stimulované emise. Tato zařízení
mají vodivostní elektrony, pro něž uvěznění a lokalizace v diskrétních hladinách energie
existuje v jednom nebo v dvou rozměrech. Byly postaveny i lasery, které využívají tečky
v jámě, např. kvantové tečky InAs v InGaAs kvantové jámě, či kvantové InAs čárečky, což
jsou velmi krátké drátky nebo v jednom směru protažené kvantové tečky. Zde se budeme
zabývat lasery s kvantovými tečkami, v nichž dochází k uvěznění ve všech třech směrech.
Laser ke své činnosti vyžaduje přítomnost aktivního prostředí, v němž atomy mají
diskrétní energiové stavy, aby mohlo dojít ke stimulované emisi záření mezi nimi. Navíc, je
třeba tzv. inverze populace, kdy vyšší energiový stav má více volných elektronů než nižší.
V He-Ne laseru jsou aktivním prostředím atomy neonu smíchané s héliem, v pevnofázovém
Nd-YAG laseru jsou aktivní ionty neodymu (∼ 1019 cm-3) krystalu ytrium-hliník-granát.
V lasery s kvantovými tečkami jsou tečky aktivním prostředím.
Na Obr. 8.22 je schéma laserové diody s kvantovými tečkami, které vyrostly na n-
dotovaném GaAs substrátu.
Obr. 8.22: Schéma laseru vyzařujícího z hrany v blízké IČ oblasti s kvantovými tečkami. Spodní výřez
zobrazuje detaily 190 nm široké oblasti vlnovodné struktury (Al0,85Ga0,15As), která obsahuje 12 monovrstev
In0,5Ga0,5As kvantových teček (QD), které mohou zářit
Horní p-kovová vrstva má kontaktní vrstvu GaAs těsně pod sebou. Mezi touto horní
kontaktní vrstvou a GaAs substrátem je pár Al0,85Ga0,15As vrstev o tloušťce 2 μm, který
obklopuje 190 nm široký vlnovod z Al0,05Ga0,95As. Vlnovod přenáší vyzařované světlo k
hraně struktury. Uprostřed struktury je 30 nm vrstva GaAs, která obsahuje 12 monovrstev
In0,5Ga0,5A kvantových teček (QD), které mohou zářit. Detail vpravo dole představuje
vlnovodnou oblast. Délka Lc (1-5 mm) a šířka W (4-60 μm) se mění případ od případu. Čelní
plošky dutiny jsou pokryty vysoce odraznou vrstvičkou ZnSe/MgF2, která odráží až 95%
světla zpět do dutiny, čímž se zvyšuje intenzita stimulované emise. Laser pak vyzařuje ne
směrem nahoru, nýbrž z boční hrany.
Na Obr. 8.23 je závislost výstupního výkonu kontinuálně vyzařujícího laseru (při
pokojové teplotě) na proudu pro délku dutiny laseru Lc = 1,02 nm a W = 9 μm. Signál
v blízké IČ oblasti λ = 1,32 μm pro proud těsně nad prahovou hodnotou 4,1 mA (označený
Nanotechnologie 173
jako (a) je znázorněn ve výřezu. Hustota prahového proudu ostře roste s teplotou nad 200 K
(pro pulsní režim laseru Obr. 8.24)
Obr. 8.23: Závislost výstupního výkonu v blízké IČ na Obr. 8.24: Teplotní závislost hustoty prahového proudu
proudu pro z hrany vyzařující laserovou diodu pro z hrany vyzařující laserovou diodu s kvantovými
s kvantovými tečkami (kontinuální režim, pokojová tečkami (pulsní režim) z Obr. 8.22
teplota) z Obr. 8.22
8.6 Supravodivost
Tab. 8.6: Teplota přechodu Tc, koherenční délka ξ, penetrační hloubka λ některých typických supravodičů
Materiál Typ Tc (K) ξ (nm) λ (nm)
Cd I 0,56 760 110
In I 3,4 360 40
Pb I 7,2 82 39
Pb-In slitina II 7,0 30 150
Nb-N slitina II 16 5 200
PbMo6S8 II 15 2 200
V3Si II 16 3 60
Nb3Ge II 23 3 90
K3C60 II 19 2,6 240
V tabulce je i teplota přechodu Tc, pod níž je materiál supravodivý, tzn. má nulovou
rezistivitu. Většina hodnot ξ a λ se nachází kolem 200 nm, ale některé z nich jsou pod 6 nm.
Penetrační hloubka λ je míra vzdálenosti, do níž může proniknout vnější magnetické pole Napp
do čistého supravodiče typu I. Magnetický tok, tj. pole B, nemůže proniknout do objemového
174 FEKT Vysokého učení technického v Brně
supravodiče typu I, a magnetické pole větší než kritické Bc způsobí, že supravodič se vrací
zpět mezi normální kovy. Supravodivost je přítomna v materiálu, když páry elektronů
kondenzují do vázaného stavu zvaného Cooperův pár, jehož velikost je přibližně rovna
koherenční délce ξ. Proto možné se na Cooperovy páry, základní nositele nábojů, dívat jako
na nanočástice.
Polovodič typu II má dolní i horní kritické hodnoty magnetické pole Bc1 < Bc2, a tři
oblasti chování v použitém magnetickém poli Bapp. Pro nízká pole Bapp < Bc1 se materiál
chová jako supravodič typu I a nepřipustí magnetický tok, pro vysoká pole Bapp > Bc2 je
materiál normální. Uprostřed, mezi kritickými hodnotami Bapp <Bapp < Bc2, proniká
magnetické pole do objemového materiálu ve formě trubiček magnetického pole, z nichž
každá obsahuje jeno kvantum toku Φ0
h
Φ0 = = 2, 0678.10−15 Tm 2 , (8.11)
2e
Každý vortex má poloměr jádra ξ, v němž je magnetické pole zcela konstantní a vnější
oblast o poloměru λ, v níž magnetické pole radiálně klesá s vzdálenosti r od jádra a ve
velkých vzdálenostech klesá exponenciálně- jako exp(-r/λ). Délka vortexu je tloušťka
vzorku, tj. centimetry. Vortexy, které tvoří 2D šestiúhelníkové mřížky jsou v Obr. 8.25. Jádra
jsou od sebe vzdálena d což je v případě, kdy magnetické pole je rovno dolní kritické
hodnotě, přibližně rovno penetrační hloubce λ, a v případě, kdy je magnetické pole rovno
horní kritické hodnotě, přibližně rovno koherentní délce ξ. Na vortexy můžeme nahlížet jako
na magnetické analogy kvantových drátků v tom smyslu, že uvězňují kvantovou jednotku
magnetického toku v příčném směru, ale v podélném směru nemají žádné omezení. Příčné
rozměry jejich jádra jsou nanometrové, ale jejich délka je makroskopická.
Obr. 8.25: 2D šestiúhelníková mřížka vortexových jader. (C.P.Poole, Jr, H.A.Farach, R.J. Creswick,
Superconductivity, Academic Press, Boston, 1995, p. 227.)
Obr. 8.26: Coulombova schodovitá struktura vyjadřující závislost proudu I a derivaci dI/dV na předpětí V na
Josephsonově přechodu vytvořeném vrstvou zrnitého olova. Je zřejmé, že odezva na první derivaci poskytne
mnohem lepší rozlišení (K. A. McGreer, J-C. Wan, N. Nand, A.M. Goldman, Phys. Rev. B39 12260, 1989)