低温恒温器及制冷技术研究进展

1 1 1 1*
汪杰 王帅 刘鸿俊 方应翠
(1.合肥工业大学真空与过程装备系，合肥，230009；
2. 武汉嘉仪通科技有限公司，武汉，430206）

Research progress of cryostat and refrigeration technology

WANG Jie1, WANG Shuai1, Liu Hongjun1 FANG Yingcui1 *

(1. School of Mechanical Engineering, Hefei University of Technology, Hefei 230009, China;
2. Wuhan Jouleyacht Technology Co., Ltd., Wuhan 430206, China)

Abstract Cryostat is a device that provides a stable low-temperature environment through refrigeration technol-
ogy and is widely used in many fields. This paper introduces the structure, classification and cryogenic refrigera-
tion technology of cryostats, summarizes the performance and characteristics of the main products on the market
and the relevant problems in the development of cryostats, and finally a kind of low-temperature instrument de-
signed by our company used to test the thin-film resistance was introduced.

Keywords Cryostat, Refrigerator, Refrigeration Technology

摘要 低温恒温器是一种通过制冷技术提供稳定低温环境的装置，在很多领域有广泛应用。本文介绍低温恒温器的结构、分
类和低温制冷技术，总结了目前市场上主要产品的性能、特点和低温恒温器发展中存在的相关问题，最后介绍了我们自己设
计的一款低温薄膜电阻测试仪器。
关键词 低温恒温器 制冷机 制冷技术


基金项目：
*联系人：E-mail：ycfang@hfut.edu.cn

1
 低温是我们熟悉的环境，如家用冰箱冷藏或冷
冻食物；医院里的冷冻冷藏血液、细胞；某些材料
在低温下会失去电阻发生超导现象等。随着科技发
展，低温技术得到快速发展，广泛应用在医学、物
理学、材料学、天文学和化学等领域中
如磁共振成像系统中需要使用制冷机、液氦以
及液氮对磁体冷屏和超导线圈等进行预冷 ，以满
足临床应用需求。超高真空扫面隧道显微镜与低温
[6]
恒温器耦合 ，能够在温度低于 20 K 的情况下，
对紧密堆积的金属表面进行原子分辨率分析。低温
[7]
恒温器与太赫兹脉冲光谱仪结合 ，可测量宽温区
内光学各向异性介质的偏振敏感光谱。CUORE 低
[8]
温恒温器 能够将 1 立方米的实验空间冷却到 8 m
K，同时在 15 mK 下稳定运行，从而将吨级探测器
冷却到几 mK 温度，为中微子的双 β 衰变的探索提
供了条件。在 Herschel 太空天文台上，外差光谱仪
的焦平面单元安装在超流氦低温恒温器内 ，其寿
命由低温恒温器的维持时间决定。Quantum Design
[10,11]
公司的低温物理特性测量系统
ysical Property Measurement System)、SQUID(Sup
er-conducting Quantum Interference Devices)等产
品，广泛应用于物理、化学、材料科学和纳米技术
等领域，能够提供 1.8-400 K 的温度环境，可兼容
电学测量、磁学测量、热测量以及光学测量等。中
科院高能物理研究所为中国散裂中子源（CSNS）
设计制造了多种低温恒温器[12]，为样品的中子散射
谱仪提供了 0.3-300 K 的变温环境。
无论哪种应用都要求低温环境温度稳定，低温
恒温器是获得稳定低温环境的基本设备，因此，低
温恒温器的发展对低温技术及与其他设备联用具
有重大意义。目前获得低温的方式主要有制冷剂、
基于机械制冷的制冷机，此外，还有磁制冷、光学
制冷以及半导体制冷等制冷机。磁制冷[13]基于磁热
效应，利用磁热材料在强磁场中放出热量，在绝热
退磁的过程中吸收热量进行制冷。但是目前的磁制
冷受限于磁热材料和磁场的原因，制冷功率不高，
一般用于低温下进行更深层次的制冷，室温下的磁
制冷发展还不能替代传统的低温恒温器。光学制冷
[14]
将调谐的激光入射材料内部，光子与材料原子碰
撞，抵消分子本身动能，降低分子热运动，从而降
低材料温度，是唯一可以提供无振动冷却的制冷机。
目前基于全固态材料的光学制冷已经能够冷却到
90 K[15]。半导体制冷[16]利用半导体材料的 Peltier
效应，
P 型半导体与 N 型半导体联 结组成 P-N 结，
通入直流电，载流子由低能级向高能级运动时需要
向外界吸收能量，在 P-N 结的接头处温度会下降，
[1-4]
。 进而实现制冷。通过对电流的调节[17]，可以控制温
度变化。以上三种制冷方式均有其独特的优点，但
[5]
是制冷温差小，制冷效率较低，且受制于材料一直
没有非常大的突破。所以在低温恒温器的发展中仍
以制冷剂和机械制冷提供冷量为主。
本文基于制冷剂和机械制冷的制冷方式，针对
典型的低温恒温器和一些高性能商用产品进行分
析介绍，总结了低温恒温器的发展方向和当前研究
的主要问题，为国内低温设备的发展提供思路。
1.低温恒温器的类型和结构
低温恒温器是利用制冷剂或制冷机等方法来
提供稳定低温环境，并能测量样品物理量的装置。
[9]
根据工作方法的不同，分为贮液式低温恒温器、连
续流动式低温恒温器以及闭循环低温恒温器。
，包括 PPMS(Ph 1.1 贮液式低温恒温器
如图 1a 所示，贮液式低温恒温器早期利用杜
瓦容器 1（一种双层玻璃或金属容器，中间夹层抽
真空）储存制冷剂 2，样品 3 固定在样品台 4 上，
浸没在制冷剂里，使样品得到冷却。
图 1 贮液式低温恒温器示意图（a:液浴式 b:连接冷台 1.杜
瓦容器 2.制冷剂 3.样品 4.样品台 5.冷头 6.真空室）
Fig.1 Schematic diagram of storage liquid cryostat (a:liquid
bath type b:connection cold stage 1. Dewar container 2.
Refrigerant 3. Sample 4. Sample stage 5. Cold head 6.
Vacuum chamber)
工作温度一般在制冷剂的沸点到三相点（物质
气相、液相、固相共存的温度值）之间，如需高于
制冷剂沸点之上的温度，则需要设置加热装置，由
冷热对冲来维持样品温度。由于将样品直接浸没在
2
制冷剂中进行测试，对样品材料有很大限制，同时 闭循环低温恒温器消耗相对大量的电力，但不
不适用于低温光学、热学等特性测试，后来逐渐被 需要重新填充氦气，并且可以长时间连续运行，但
淘汰，转而利用杜瓦容器冷却样品台结构，如图 1b 相较于使用制冷剂的恒温器而言，降温所需时间较
所示。杜瓦容器 1 中储存制冷剂 2，样品 3 固定在 长，另外由于制冷机内运动部件的工作，引入了机
样品台 4 上，样品台固定在杜瓦容器下方的冷头 5 械振动。
上，制冷剂通过冷头传热冷却样品台，从而冷却固
定在样品台上的样品。杜瓦容器和样品台均置于真
空室 6 内。
贮液式恒温器可以快速冷却样品，温度波动相
对较小，但是制冷剂的消耗非常大。
1.2 连续流动式低温恒温器
如图 2 所示，连续流动式低温恒温器由存储在
杜瓦容器 1 中的制冷剂冷却。制冷剂经由输液管 2
进入恒温器内部的蒸发器 3，经过蒸发器蒸传递冷
量冷却样品台 4，蒸发器和样品台都在真空室 5 内。
图 3 GM 制冷机的低温恒温器（1.一级冷头 2.二级冷头 3.冷
蒸发器中有加热装置，通过控制蒸发器中加热装置 屏 4.样品台 5.压缩机）
的功率以及制冷剂的流量实现对样品的控温，蒸发 Fig. 3 Cryostat of GM refrigerator (1. Primary cold head 2.
后的气体进入气体回收装置 6 中，对废气进行回收 Secondary cold head 3. Cold shield 4. Sample stage 5.
利用。 Compressor)

连续流动式恒温器因杜瓦容器在真空室外，所
以体积相对小巧，更易联用，但输液管传输制冷剂 综上，贮液式低温恒温器结构简单，价格便宜，
时也会损耗制冷剂，同时制冷剂的蒸发会产生两相 升降温速度快；但使用时会消耗大量制冷剂，使用
流，影响温度的稳定性。 成本高，低温维持时间较短。连续流动式低温恒温
器体积小巧，与其他设备联用方便，低温维持时间
相对较长，升降温速度快；但使用成本高，输液管
也会损耗制冷剂。闭循环低温恒温器不需要制冷剂，
节省了使用成本，可以长时间维持低温；缺点是升
降温速度慢，压缩机会带来振动影响温度稳定性。
2.低温恒温器和相关制冷技术的发展
图 2 连续流动式低温恒温器示意图（1.杜瓦容器 2.输液管 1893 年，Dewar 首次报道了双层玻璃结构的低
3.蒸发器 4.样品台 5.真空室 6.气体回收装置） 温恒温器，后来被称为杜瓦瓶，这也是最早的贮液
Fig.2 Schematic diagram of continuous flow cryostat (1. Dewar 式低温恒温器，低温恒温器由此进入了快速发展的
container 2. Transfer tube 3. Evaporator 4. Sample stage Onnes 发明了连续流低温恒温器[18]，
阶段。1917 年，
5. Vacuum chamber 6. Gas recovery device) 通过控制液氢流量能够实现 27-55 K 之间温度稳定，
误差控制在±0.01 K，大大提高了低温维持时间。
1.3 闭循环低温恒温器 1960 年，Gifford 和 McMahon 设计了一种结构简单
利用机械制冷机来代替制冷剂提供冷量，并实 的小型制冷机（G-M 制冷机）[19]，利用西蒙绝热膨
现温度控制，图 3 所示为 G-M 制冷机（Gifford 和 胀的原理提供稳定的冷源，可以长时间的维持低温
McMahon 发明的利用绝热膨胀原理进行制冷的制 环境，且不需要消耗制冷剂，大大降低了低温恒温
冷机）
，一级冷头 1 可以冷却到 65-80 K，二级冷头 器的使用成本。
2 冷却到 2-10 K，通过冷屏 3 屏蔽冷头之间的热辐 由制冷剂作为冷源的低温恒温器，发展早，已
射，二级冷头传递冷量给与之相连的样品台 4。外 经具有稳定的结构性能，成熟的商业化应用，虽然
部连接压缩机 5 对气体进行压缩。

3
成本高，但是制冷剂带来的温度稳定性好，无振动， 可以持续地提供低至几 mK 的低温[28]。2002 年，
有许多应用[20,21]是其他方法无法完全替代的。以制 Uhling[29]利用两级脉冲管制冷机进行预冷，设计了
冷机为冷源的闭循环低温恒温器[22,23]，可以长期稳 一款稀释制冷机，可以连续提供毫开尔文低温，最
定的提供冷量，在实验室及大科学装置中占据重要 低温度能到 15 mK。
地位。 目前制冷机能够达到的最低温度是通过磁制
制冷机制冷的恒温器中，除 G-M 制冷机外， 冷中的绝热核消磁——核制冷机（NR）来实现的，
还有斯特林制冷机和脉冲管制冷机，都是基于气体 通过施加大磁场使适当的顺磁性金属中的核自旋
循环膨胀进行制冷的回热式制冷机，制冷效率高。 极化，然后去除磁化热，由于 NR 中的电子直接耦
其中脉冲管制冷机在低温下没有活动部件，能够提 合到核自旋上，退磁可以非常有效的降低 NR 上纳
[24]
供波动更小的低温 。但是由于回热式制冷机的原 米电子设备中的电子温度。Sarsby M [30]等人在湿式
理限制，在 3 K 以下，很难获得有效制冷，所以人 稀释制冷机中，以铟为 NR 材料，最低冷却温度可
们将目光转向复合制冷机，利用回热式制冷机进行 低至 421 μK，并在 700 μK 以下保持了 85 个小时。
预冷，再利用其他制冷方式进行更低层次的制冷。 2022 年，瑞士的研究者[31]在脉冲管制冷机上利用
如 Zhang[25]等人使用四级脉冲管制冷机和焦耳-汤 NR 材料的样品盒包围样品，抑制振动的同时提供
姆逊制冷机组成了一款复合式制冷机，在 1.0 K 时 了能在 27 小时内保持在 300 μK 以下的温度，最低
实现 14.7 mW 的冷却功率。 温度能够达到约 160 μK。
1 K 以下的制冷被称为压开尔文制冷，主要有 3. 当前液氦温区商用低温恒温器的主要产
三种技术可以实现。第一种是蒸发冷却，但是 He 4
品
的最低温度限制在 700 mK 左右，3He 大概在 230 目前商业低温恒温器的发展已经较为成熟，各
[26]
mK 左右 。第二种是磁制冷方式，利用材料的磁 种类型的低温恒温器在市场上均有丰富的产品，制
[27]
热效应实现制冷的固态制冷方式。1957 年 ，Daunt 冷方式、温度范围、冷却时间等也不尽相同，针对
J G 通过磁制冷循环冷却的方法，获得了可以连续 不同应用领域的测试需求也有着不同的设计。这里
保持低于 1 K 的温度（低至 200 mK）。第三种是稀 按照制冷方式来简单介绍产品。
释制冷技术，在 1960-1965 年期间逐渐发展成型， 3.1 制冷剂为冷源的低温恒温器
3 4
利用 He- He 混合溶液的 特性来进 行制冷， 在 以制冷剂为冷源的低温恒温器可以快速且稳
3 4 3
He- He 混合溶液中根据 He 的浓度分为浓相和稀 定的获得低温环境，其中连续流恒温器因为装置重
相，浓相密度较小，浮在混合溶液的上方，通过外 量轻、体积小，能够支持更长时间的实验，对液氦
3
部抽吸泵将溶液下方稀相中的 He 抽走，此时为了 的消耗相对较小，且容易与各种测量仪器搭配在一
3
维持浓度平衡， He 原子会从焓值高的浓相进入焓 起，所以更加受科研人员的青睐。表 1 中给出了几
3
值低的稀相，在这个过程中由于 He 能量不足，需 款性能优越的液氦连续流制冷恒温器产品及其主
要从周围环境中吸收热量，实现对周围环境的制冷。 要参数。
表 1 商用液氦连续流低温恒温器相关参数
Tab.1 Related parameters of commercial liquid helium continuous flow cryostat
生产公司和型号 液氦消耗速度 温度范围 冷却时间(到 4.2 K) 温度稳定性
Oxford CF-V <0.55 L/h 2.3-500 K 10 min ±100 mK
Oxford CF-X <0.55 L/h 4.2-500 K 25 min ±100 mK
Janis ST-100 0.6 L/h 2-500 K 15 min ±50 mK
Janis ST-200 0.6 L/h 2.5-500 K 15 min ±50 mK
ARS LT3 0.7 L/h 4.2-350 K 20 min ＜2 mK
ARS LT4 —— 4.2-350 K 20 min ＜100 mK
CIA RC110 0.75 L/h 1.8-300 K 10 min ±5 mK
CIA RC102 0.55 L/h 1.8-300 K 10 min ±50 mK

4
 英国 Oxford 公司生产的 Optistat CF-X[32]，
其中， 压力和温度下降，从而让中心管内的液氦过冷，防
从室温降到 4.2 K 需要 25 分钟，其液氦消耗速度是 止产生氦气，温度稳定在±2 mK 以内，但也因此
市场上最低的，小于 0.55 L/h，减压降温后消耗速 增加了液氦消耗速度。冷却到 4.2 K 需要 20 分钟。
度会增大到 0.65 L/h。其产品结构如图 4(a)所示， 美国 Cryo Industries of America 公司[34]生产的
样品通过样品杆从顶部装载，装载完成后，样品杆 RC102 连续流低温恒温器如图 4(c)所示，RC102 型
可垂直移动 32 mm，移动精度 0.5 mm，也可以旋转， 低温恒温器的液氦消耗速度为 0.55 L/h，温度稳定
可以很好的满足光学性能测试。此外还配置了高温 在±50 mk。RC110 型在 RC102 的基础上增加设置
选件，温度可达 500 K，但温度稳定性相对较低， 了一个分相器，可以将液氦中蒸发的氦气和液氦分
在±100 mK 以内。 离，从而消除了温度波动，温度稳定在±5 mK，但
[33]
美国 ARS 公司 生产的 LT3 型液氦恒温器如 液氦消耗速度增加到 0.75 L/h。二者的冷却时间都
图 4(b)所示，采用了同轴屏蔽传输线结构，同轴屏 是 10 分钟，温度最低能够达到 1.8 K。
蔽线的入口设有一个喷嘴，喷嘴可以使屏蔽流中的

图 4 不同公司生产的连续流液氦恒温器示意图（a）Oxford 公司的 Optistat CF-X 型恒温器（b）ARS 公司的 LT3 型恒温器（c）

CIA 公司的 RC102 型恒温器
Fig.4 Schematic diagram of continuous flow liquid helium cryostats produced by different companies (a) Optistat CF-X cryostat
from Oxford Company (b) LT3 cryostat from ARS Company (c) RC102 cryostat from CIA Company

3.2 制冷机制冷的低温恒温器 究人员开始以机械制冷机为冷源搭建低温平台。表

相比于制冷剂作为冷源，制冷机制冷的低温恒 2 中收集了一些市面上常见的制冷机制冷的恒温器，
温器受结构、材料等因素的限制更小，可以针对性 不同公司的产品均有其独特的设计和特点。
的进行设计，从而应用到更多领域，越来越多的研
表 2 商用制冷机制冷的低温恒温器相关参数
Tab.2 Related parameters of commercial refrigerator-cooled cryostats
生产公司和型号 制冷量 最低温度 冷却时间(到 4.2 K) 温度稳定性
Cryomech ≥0.5 W@4.2K 3.2 K 4h ±5 mK
Oxford DryBLV 0.2 W@4.2K ＜3 k 2.5 h ±100 mK
Oxford DryTLEX 0.16 W@4.2K ＜4 K 6h ±100 mK
ARS DE-202SE 0.1 W@4.2K <4.2 K 1.5 h ±100 mK
ARS DE-204SE 0.2 W@4.2K <4.2 K 1.5 h ±100 mK
Janis SHI-4-10 1.0 W@4.2K ＜4 K 1h ±50 mK
Janis SHI-4-18 1.8 W@4.2K ＜4 K 1h ±50 mK

5
 美 国 Cryomech 公 司 的 ULTRA W。
LOW-VIBRATION 4K CRYOSTAT 产品如图 5(a)所 英国 Oxford 的一款闭循环恒温器 DryTLEX[[32]
示[35]，由于采用了液氦储存层的设计，积累的液氦 如图 5(c)，从顶部插入样品杆，更换样品仅需要五
增加热惯性，使其具有±5 mK 的超高稳定性。该产 分钟，并且整个恒温器装置可以在光具座上固定，
品 4.2 K 时能提供 0.5 W 的制冷量，最低温度能够达 更换样品后无需重新对准，可直接进行测量，适用
到 3.2 K，从室温冷却到 4.2 K 需要 4 个小时。 于多个样品的测试。但制冷时间需要 6 h。
[33]
ARS 公司 的 DS-CS204AF-DMX-20-R5 闭循 此外，美国 Janis[36]的闭循环制冷机恒温器种类
环恒温器结构如图 5(b)所示，使用 204SE 制冷机。 丰富，制冷机在 4.2 K 的制冷量从 0.2 到 2.0 W 可供
通过橡胶波纹管减小了振动，并通过二级冷台与样 选择，同时冷却时间只需要 1h，是市面上降温时间
品台之间的氦气交换空间，大大减少了传递给样品 最短的产品。
的振动，振动幅度能够抑制在 3-5 nm 的极低水平，
但也因此降低了传热效率，4.2 K 时制冷量仅有 0.2

图 5 不同公司的闭循环低温恒温器（a）Cryomech 公司的低振动闭循环恒温器 b）ARS 公司的低振动闭循环恒温器（c）Oxford

公司的闭循环低温恒温器
Fig. 5 Closed-cycle cryostats from different companies (a) Low-vibration closed-cycle cryostat from Cryomech b) Low-vibration
closed-cycle cryostat from ARS (c) Closed-cycle cryostat from Oxford

4. 国内低温恒温器及相关技术进展 庚[40]等人设计了一款贮液式的液氦恒温器，用于低
国内的低温研究工作是在上世纪 50 年代开始 温下的超导重力仪，温度稳定在<5 mK 内，稳态工
[37]
的。1966 年，周洁 等人使用贮液式低温恒温器， 作时，液氦蒸发量约为 0.8 L/h。2022 年，上海技物
在样品周围套一个黄铜管作为加热电源，控制温度， 所[41]使用四级脉冲管预冷 J-T 循环进行制冷，最低
实现了 20-300 K 之间的电学测量。1979 年，中科院 端温度降至 1.8 K，能够连续运行 360 h 保证温度波
[38]
物理研究所研制成功氦连续流动恒温器 ，通过控 动<6 mK；中国电子科技集团[42]使用两级脉冲管预
制样品架上加热丝电流大小控制样品温度，可以在 冷 J-T 循环，在最低端温度达到 2 K 以下的同时将
4.2-300 K 宽温度范围内实现±0.1 K 的精度。1990 整机重量控制在 45 kg 以内。
[39]
年，合肥低温电子研究所郭良珠等人 利用自行研 国内其他很多公司也积极自主开发新产品，应
制的 G-M 制冷机搭建了一款闭循环恒温器，能够在 用于科研和工业。如中船重工鹏力（南京）超低温
4.4 K 温度下连续运行 30.5 小时，制冷温度范围 技术有限公司[43]公开的一种带有被动式控温结构的
3.7-4.5 K 可调，制冷量≥1.8 W，降温时间小于 3.75 低温恒温器，通过被动式控温结构，能抑制低温制
h。2013 年，中国电子科技集团第十六研究所丁先 冷机本身产生的温度波动，提高冷头的温度稳定性。

6
但由于国内的低温设备发展起步较晚，产品性能有 统，液氮室，电阻率测试系统以及温控系统组成，
待于提高，应用场景也相对较少。在一些对精度要 如图 6（a）所示。该恒温器使用液氮制冷，液氮室
求较高的实验环境中，科研工作者们往往会青睐于 下方冷头上设有温度传感器和加热棒，温控仪通过
国外进口产品，这也导致国内产品的发展受到一定 冷头上的温度传感器测量冷头上的温度，然后控制
的影响。下面介绍我们自主研发的一款国产低温四 冷头上加热棒的加热功率，利用冷热对冲实现温度
探针电阻仪，以展示低温恒温器与其他设备联用的 稳定，将稳定的温度传递到与冷头连接的样品台上。
场景。 样品台置于真空室内，通过真空系统提供一个稳定
基于液氮恒温器，设计了一款可以实现从 100 的真空环境，减少热传导和对流换热从而减小冷量
K-700 K 测量薄膜方阻的四探针测试仪，由真空系 损失。

图 6 武汉嘉仪通低温四探针测试仪系统与样品台结构示意图（a）系统整体示意图（b）样品台示意图
Fig.6 Schematic diagram of the low-temperature four-probe tester system and sample stage of Wuhan jouleyacht Company (a) Sche-
matic diagram of the overall system (b) Schematic diagram of the sample stage

本设计的主要特点在于不仅可适用于低温区的 出，将样品卡取出即可更换样品。此外，样品台上
测量，也适用于高温区的测量；使用弹簧压紧的方 可以外接温度传感器对测试时样品的温度进行测量。
式将探针直接压紧在待测薄膜样品上实现电接触， 5.总结和展望
避免了制作电极对薄膜样品的损坏，并可通过向外 本文综述了低温恒温器的发展历程和相关应用，
拉出弹簧去除样品卡从而实现样品的快速更换。样 对比分析了几种恒温器的结构。经过一百多年的发
品台的具体结构如图 6（b）所示，由样品架、样品 展，由制冷剂作为冷源的低温恒温器已经具有稳定
卡、探针台、限位螺柱、弹簧、探针等组成。探针 的结构性能，成熟的商业化应用，尽管使用制冷剂
固定在探针台上，探针台由探针卡槽和探针压板组 进行冷却成本高，同时液氦资源稀缺，但有些场景
成，使用氧化铝陶瓷材料的探针台在高温下不会发 下制冷剂制冷是其他方法不能代替的。制冷机制冷
生形变，保证四根探针间距不变，从而满足直排四 自出现就得到了长足的发展和应用，已经能够满足
探针法测量的要求。样品卡置于样品台、样品架形 大部分测试需求，目前主要还存在的问题是抑制振
成的空腔内，待测试的薄膜样品置于样品卡中；探 动和降低热负荷。针对制冷机振动，主要的解决办
针台通过限位螺柱与样品架连接；限位螺柱上套有 法是通过设计减震结构[44]、特殊样品架[45]以及安装
弹簧；探针固定在探针台上，在弹簧的作用下直接 波纹管[46]等方法来抑制传递到样品上的振动，目前
与薄膜样品表面接触；测试完成时，将弹簧向外拉 已经能够将振动抑制到 10 nm[47]。另一方面，为了

7
降低热负荷，主要采用设计安装冷屏结构[48]、优化
[49] [50]
电流导线设计 以及设置多层辐射屏蔽层 等方
法。
在各个研究领域需求的促进下，各种低温恒温
器也得到了商业化应用，各个公司的产品均有其独
特的优点，被广泛应用于各种测试之中，丰富了对
材料进行表征的方法。基于此，本文设计了一款能
够从低温到高温对薄膜电阻率进行测量的低温四探
针仪，能够快速方便的进行样品更换。
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