03

사진과 식각 공정 장비구성 및 동작원리
반도체 제조 공정 개발 part 2
학습내용
•사진 공정 장비의 구성 및 동작원리

•식각 공정 장비의 구성 및 동작원리
학습목표
•공정 장비 핵심 구성 부품 동작 원리를 숙지하여

이상 상황 발생 시 문제를 해결할 수 있다.
•공정 장비의 효율적인 운영을 위해 장비에
연결된 설비시설의 인자를 확인할 수 있다.
2
사진 공정 장비의 구성 및 동작원리
개요
기술 발전 방향
다양한 초미세 구조 IC 소자들의 대량생산 요구 급증
• 로직(Logic), DRAM 메모리 소자 포함
사진 공정의 단차에 의한 초점, 공정 마진의 협소 문제는
평탄화(CMP) 기술 발전으로 극복
반도체 소자의 소형화는 노광 장비의 해상력 역할이 매우
중요
• 설계된 마스크 상의 복잡하고 다양한 패턴을 웨이퍼
에 정확하게 전사해야 함
노광 장비의 해상력
노광 광원의 파장에 반비례
현재 대량생산은 248㎚ (KrF Excimer Laser) 파장의 DUV
광원까지 확장
주요 구성 모듈 요소
높은 구경수(Numerical Aperture, NA)을 갖는 렌즈,
1 하드웨어(Hardware)
2 마스크와 웨이퍼의 정교한 이동을 위한 스테이지(Stage)
3 오차 없는 정렬(Alignment) 시스템
4 안정화된 광원의 파장
3
노광 장비의 분류
광원 종류에 따른 분류
MUV(Middle Ultra-Violet)
• 노광기 내부에 장착되는 램프를 광원으로 사용
파장(㎚) 표현 CD해상도(㎛)
436 g-line 0.5
405 h-line 0.4
365 i-line 0.35
DUV(Deep Ultra-Violet)
• 외부에서 레이저 발진기를 사용해 단색광원을 사용
파장(㎚) 표현 CD해상도(㎛)
248 KrF 0.25
193 ArF 0.18
157 F2 0.13
4
노광 방식에 따른 분류
스텝퍼(Stepper)
• 레티클 스테이지는 고정, 웨이퍼 스테이지만 이동하여
일괄 노광하는 방식
광원 레티클 고정
렌즈
웨이퍼 이동 웨이퍼 이동
스텝퍼(Stepper)
스캐너(Scanner)
• 레티클 스테이지, 웨이퍼 스테이지가 동시에 이동하여
노광 과정 실행
레티클 이동
웨이퍼 이동 웨이퍼 이동
스캐너(Scanner)
5
웨이퍼 상의 샷(Shot)의 형태
스텝퍼(Stepper)
• 레티클이 고정된 상태에서 웨이퍼만 상하, 우좌 일렬
로 이동하면서 샷이 이루어짐
2
26 11
7
40 28 25 12 10
41 39 29 24 13 9 1
42 38 30 23 14 8 2
43 37 31 22 15 7 3
44 36 32 21 16 6 4
+ Scan
35 33 20 17 5
- Scan
34 19 18
스텝퍼 샷 이동방식
스캐너(Scanner)
• 웨이퍼는 좌우로, 레티클은 상하로 이동하면서 샷이 이루어짐

• 스캔(Scan) 방향은 플러스(+)와 마이너스(-) 부호가 레티클의 상하로
이동 방향을 나타냄
2
26 11
7
40 28 25 12 10
41 39 29 24 13 9 1
42 38 30 23 14 8 2
43 37 31 22 15 7 3
44 36 32 21 16 6 4
+ Scan
35 33 20 17 5
- Scan
34 19 18
스텝퍼 샷 이동방식
6
스텝퍼 노광 장비 모듈
스텝퍼(Stepper) 동작 순서
1 감광막이 도포된 웨이퍼가 웨이퍼 스테이지에 고정되어 위치
2 레티클이 레티클 스테이지에 정렬
3 조명 광학계에서 마스크에 노광 광원이 입사
입사된 광원은 축소 투영 렌즈를 통과하여 웨이퍼 렌즈

4 중심에서 셔터에 구동으로 첫 번째 샷을 전사
웨이퍼 스테이지가 좌우, 상하로 움직이면서 주어진

5 웨이퍼에 모든 샷을 완성
7
스텝퍼(Stepper) 구성도
8
스텝퍼(Stepper) 구성도
감광막이 도포된 웨이퍼가 웨이퍼 스테이지에

1
고정되어 위치
2 레티클이 레티클 스테이지에 정렬
3 조명 광학계에서 마스크에 노광 광원이 입사
입사된 광원은 축소 투영 렌즈를 통과하여 웨이퍼

4 렌즈 중심에서 셔터에 구동으로 첫 번째 샷을 전사
웨이퍼 스테이지가 좌우로 이동하고, 레티클 스테이지가

5 상하로 이동하면서 주어진 웨이퍼에 모든 샷을 완성
스캐너 구성도
9
노광 부품 구성과 웨이퍼 스테이지
일반 조명 광학계
균일한 조도가 요구되는 투사용 퀼러(Kohler) 조명
• 현미경과 같이 좁은 영역에서 강한 빛이 요구됨
노광 공정에서 일반적으로 균일한 조도 칩 내부의 균일한
선 폭을 제공해 줄 수 있는 방법 사용
퀄러(Kohler) 조명법
유효광원에서 출발한 빛이 축소 투영 렌즈의 입사동(Entrance
Pupil)에 상이 맺힘
레티클이 있는 면에서는 균일한 조도를 얻어낼 수 있음
유효광원이 위치한 곳에는 여러 종류의 개구(Aperture)를 두어
마스크(Mask)층에 따라 최적의 노광 조건을 선택함
조명 변형 개구
광학 렌즈
레티클
-1 차광 +1 차광 0 차광 +1 차광
0 차광
축소 투영 렌즈
웨이퍼
일반 조명 광학계 변형 조명 광학계
10
변형 조명 광학계
변형 조명
• 개구(Aperture)가 원형이면 축소 투영 렌즈에 동일
한 모양으로 상이 생기면서 노광
• 레티클에 입사되는 빛이 경사지게 입사
동작원리
1 사 입사 조명
• 레티클에 있는 패턴을 전사하려면
1 차항(패턴의 정보를 담고 있음)이 가능한 렌즈 내부
로 많이 들어가도록 구성
2 레티클 정보를 렌즈에 넣기
• 0 차광을 레티클에 대해 경사지게 입사 시켜 레티클에
의한 회절각이 커져도 1 차광이 렌즈 속으로 들어가도록
구성
조명 변형 개구
광학 렌즈
레티클
0 차광 +1 차광
축소 투영 렌즈
웨이퍼
11
변형 조명계 구성
• 변형 조명의 광학계 개구의 모형으로 조정
• 흰색 부분 : 광이 통하는 부분
<일반조명> <2분할> <4분할>
개구 방식
광학계 부품 구성
반사 타원 거울 • 램프의 광을 집광
디크로익
• 집광된 광을 직각으로 반사
(Dichroic) 거울
교정 렌즈 • 평형광을 집중시킴
간섭 필터 • 램프 광원 중 특정 파장만 통과시킴
12
INPUT 렌즈 • 집광된 단일 파장의 빛을 평행 광속으로

조정
Fly Eye 렌즈 • 타원 거울 조명의 균일도 조정
제1 릴레이 렌즈 • Fly Eye 렌즈로부터의 광을 레티클 블라인

드에 결상시킴
레티클 블라인드 • 레티클 상에 조사되는 광의 면적을 조정
제2 릴레이 렌즈 • 레티클 블라인드를 통과한 광을 평행광으

로 만듦
집광 렌즈 • 각각의 Fly Eye 렌즈의 상을 레티클에 결상
시킴
적산기(ISS) • 노광되는 광량을 측정하고, 적산노광을 자동

으로 수행
반 투과 거울 • 광원을 이원화하여 보내는 광의 정보를 얻

을 수 있도록 하는 거울
13
조명계 광학 구성도
웨이퍼 스테이지 요구 조건
웨이퍼의 정확한 이동이 요구되는 정교한 모터와 이동거리

1 센터가 필요함
기울임(Leveling)이 없는 평탄도가 매우 우수, 진동이 없는

2 적층이 되어야 함
14
웨이퍼 스테이지 구성
스테이지
• X- and Y- 축 스테이지 : X, Y 방향으로 평면 이동
• Z- 축 스테이지 : 상·하 방향으로 이동
• Θ- 축 스테이지 : 회전
맨 하단은 이들을 지지하는 평탄도 높은 정반이 위치
• 외부로부터 진동을 제거하기 위해 정반 아래에 평탄도
와 진동 흡수에 강한 재질의 제진대가 설치됨
웨이퍼 척
Leveling 스테이지
Θ-축 스테이지
Z-축 스테이지
Y-축 스테이지
X-축 스테이지
정반
스테이지의 적층 수직 구성도
15
Fiducial Mark Y-축 모터

Y-축 간섭계 이동경
X-축 간섭계 이동경

X-축 모터
웨이퍼
웨이퍼 척
조도 균일도 센서 램프 노광량 모니터
상면에서의 스테이지 구성도
축소투영렌즈(Projection Lens)와트랙(Track)장비
렌즈 문제 시 발생되는 현상
렌즈는 온도, 습도, 압력에 따라 초점과 배율이 변화
초점의 협소화로 공정 여유도 좁아지면, 이는 저수율로
직결됨
배율의 제어가 어려워지면 정렬도 문제가 유발됨
선행과 후행의 샷의 크기가 렌즈 배율의 변화에 의해
달라짐
동일 층에서도 배율변화에 의해 한번의 샷에 다중 칩이 형성되는
경우 중심과 가장자리 칩의 특성이 달라질 수 있음
• 초점의 경우 자동 초점 시스템을 통해 항상 관리해야 함
16
축소투영렌즈(ProjectionLens)와트랙(Track)장비
렌즈 열화 문제
렌즈에 조명이 입사하면 에너지가 포화될 때까지 축적
렌즈가 열화되고, 배율이 변함
포화될 때까지 초점 및 배율을 렌즈 제어기가 자동 보정
렌즈 내의 환경변화는 대기압, 광 조사량을 측정함으로써 알
수 있음
렌즈의 온도는 렌즈 온조(LLTC) 시스템을 이용
• 렌즈의 온도를 +/- 0.01℃로 제어 가능
렌즈 구성도
17
트랙(Track) 장비 동작 원리
1 표면처리
• 웨이퍼가 트랙 안에 들어오면 먼저 감광액과 박막표면
과의 접착력 증진
2 온도가 높은 곳에서 행해지는 표면처리 웨이퍼를
쿨링(Cooling)
표면처리 Cooling-1
로봇암
트랙(Track )
웨이퍼
웨이퍼카세트OUT
트랙 장비 구성도
18
트랙(Track) 장비 동작 원리
3 온도가 실온에 이르면 스핀 코터를 이용해 감광액을 도포
4 감광액 속의 화학증기를 날리기 위해 100℃ 근처에서
가벼운 베이크(Bake)
5 웨이퍼의 온도를 실온으로 하강시킨 후 노광기(스텝퍼,
스캐너)에 들어감
감광액 도
표면처리 Cooling-1 Soft Bake Cooling-2
포
로봇암
트랙(Track ) 노광기 노광
웨이퍼
웨이퍼 카세트 OUT
트랙 장비 구성도
19
식각 공정 장비의 구성 및 동작원리
식각 장비 시스템 구성
개요
습식 장비
• 화학조 안에서 화학용액을 사용
건식 장비
웨이퍼 상에
특정 막과 반응 챔버 안에 전원
기 형성된 마스크
하는 가스를 을 공급하여
패턴에 따라 특정
챔버 안에 공급 플라즈마 발생
지역 제거
• 플라즈마 : 가스들을 이온화 시키고, 다른 라디컬

(Radical) 종들을 만들고 이들 이온과 라디컬로
식각하는 방법
식각 장비 시스템의 7개 부분 단위 모듈
1 전원공급과 시스템 제어를 담당하는 제어부
2 메인 프레임을 구동시키는 구동부
3 메인 프레임 안에 속해 있으면서 공정이 이루어지는 공정 챔버
웨이퍼 척의 온도 조절하는 온도 조절부

4
(Temperature Control Unit, TCU)
20
식각 장비 시스템의 7개 부분 단위 모듈
5 부수적 모듈 성분
• 챔버의 진공과 배기가스 배출을 위한 펌프 모듈

• 펌프에서 나온 유해가스를 분해하는 스크러버(Scrubber) 모듈
• 플라즈마를 발생시키는 고주파 전원 발생장치(RF Generator)
등의 부수적 모듈
6 유틸리티(Utility) 부
• 모듈 간에 공급되는 가스, 물 등 외부에서 공급되는

물질들의 통로가 되는 배관 연결 부분
7 조절 기기
• 웨이퍼를 위치시키고, 공정 진행 동안 흔들리지 않도

록 잡아주는 웨이퍼 축
• 가스의 유량을 전기적으로 조절하는 MFC(Mass
Flow Controller) 등
21
모듈 배치
팹(FAB)은 3층으로 구성됨
메인 프레임
(3층, 클린룸)
전원과 가스공급
(2층,메자닌(Mezzanine))
진공펌프, 스크러버
(1층)
건식 식각 장비
가스
• 팹(FAB) 외부의 저장소에서 공급
• 메자닌(Mezzanine) 층에서 짧은 배관으로 직접 공급
• 직접 공급가스 : 유해한 독가스, 공정에 사용되는 가스
• 외부 공급가스 : 무해하고 다량으로 사용되는 질소, 산소
공정에서 부산물로 속출되는 가스들은 진공펌프가 배기,

스크러버가 정제하여 팹(FAB) 외부(대기중)으로 보냄
22
모듈 배치
클린룸
메인프레임
(MainFrame)
메자닌
제어/구동부 온도 전원부 공정 (Mezzanine)
질소
(AC rack) 조절부 (RF 가스부
GMB
(TCU) Rack) (GDB)
진공
펌프
스크러버 팹
(FAB)
팹(FAB) 내부 서브 팹 외부
구동 모듈(Main Frame)
제어부
• 교류, 직류 파워 등 기타 소스를 이용하여 웨이퍼의
반송 및 공정을 진행하는 모듈
로드 락(Load Lock)
• 웨이퍼 카세트를 올려놓고 로딩하는 부분
23
웨이퍼 이송 챔버
• 로드 락의 웨이퍼 카세트에서 한 장의 웨이퍼를 들여와 대
기하는 챔버
• 각각의 공정이 시작되고 끝나면 항상 거치는 정거장 같은
역할
공정 챔버 구성
• 식각이 실행되는 식각 챔버
• 식각이 끝나고 폴리머 등을 제거하는 스트립 챔버
• 공정에 따라 온도가 올라간 웨이퍼를 실온으로 낮추는 온
도 하강 챔버
• 웨이퍼가 장비의 척에 정확히 위치되기 위해 정렬을 시행
하는 웨이퍼 정렬 챔버
24
1
제어부
교류, 직류 파워 등 기타 소스를 이용하여

웨이퍼의 반송 및 공정을 진행하는 모듈
1 2
제어부 로드 락
(Load Lock)
웨이퍼 카세트를 올려놓고 로딩하는 부분
25
1 2 3
제어부 로드 락 웨이퍼
(Load Lock) 이송 챔버
• 로드 락의 웨이퍼 카세트에서 한 장의 웨이퍼를 들여와

대기하는 챔버
• 각각의 공정이 시작되고 끝나면 항상 거치는 정거장 같
은 역할
1 2 3 4
제어부 로드 락 웨이퍼 공정 챔버
(Load Lock) 이송 챔버 구성
• 식각이 실행되는 식각 챔버
• 식각이 끝나고 폴리머 등을 제거하는 스트립 챔버
• 공정에 따라 온도가 올라간 웨이퍼를 실온으로 낮추는
온도 하강 챔버
• 웨이퍼가 장비의 척에 정확히 위치되기 위해 정렬을
시행하는 웨이퍼 정렬 챔버
26
식각 공정 챔버
스트립
웨이퍼 (Strip 챔버)
이송 챔버
A B
웨이퍼 정렬 챔버
온도 하강 챔버
(Cool Down Chamber)
로드 락
(Load Rock Chamber)
식각 공정 장비 구성도
공정 챔버 웨이퍼
이송 챔버
로봇 암
(Robot Arm)
식각 공정 장비 챔버 구조
27
공정 챔버(Chamber)
외부로부터 가스, 파워 등을 공급 받아 주어진 온도와
압력 내에서 원하는 패턴을 식각하는 챔버
플라즈마의 생성 여부에 따라 유형이 다르게 구분
플라즈마
28
온도 제어부(Temperature Control Unit, TCU)
온도 제어장치의 역할
• 반도체용 온도 제어기, 통상 칠러(Chiller)이라고 함
• 반도체나 디스플레이 공정은 상당수 작업이 고온에서 이
루어짐
단계별 온도제어 필요
• 생산 공정 중간에 정확히 제어된 온도의 냉매를 공급하여
재료 및 장비를 다음 공정에 맞는 온도로 제어
• 온도제어 대상 : 이중구조(순환하는 냉매, 내부에 냉동사
이클 존재)
사용처
• 건식 식각 장치(Dry Etcher)에 사용
웨이퍼 상 식각 및 증착 공정 수행
• 진공 증착(Sputter), CVD 등의 공정에서 과도한 열을
식히기 위해 사용
동작 원리
압축, 응축, 팽창, 증발의
반도체 공정 과정을 거치는 냉동사이클
요구조건 만족
오토캐스케이드(Auto Cascade)
맞춤 장치 방식을 이용한 냉동사이클
칠러(Chiller)
냉각수를 이용한 냉수 냉각 사이클
29
동작 원리
Hot 영역
플라즈마
웨이퍼
웨이퍼 척
Cool 영역
냉각기 구성도
냉각기 구성도
30
동작 원리
• 온도의 안정은 시간에 따라 초기에는 초과도, 과도, 정상
상태의 순서로 설정온도에 이름
초과도 과도 정상
온도
설정
온도
시간
온도 안정화 단계
진공 펌프
역할
• 진공을 유지하여 공정 중에 필요 없는 외부 가스들의 입자
제거
• 필요한 가스들의 유입 시 펌핑(Pumping) 배기로 원하는 압
력 유지
• 사용되는 펌프 : 드라이 펌프, 터보 펌프, 부스터형 펌프
31
진공 펌프
펌프별 특징과 구성
1 드라이 펌프, 부스터 펌프
• 오일을 사용하지 않아 역류에 의한 배관 내 오염을
막을 수 있음
• 기어가 쌍을 이루며, 헬리클 회전을 하면서 흡기된
가스 배기
• 챔버의 진공을 배기하기 전 챔버까지 연결되어 선
배관(Fore-Line)속의 가스 배기
2 터보 펌프
• 여러 개의 회전날개가 고속회전 하면서 챔버 안에
가스를 밖으로 배기
• 역류해서 들어가는 가스는 존재할 수 없어 고진공,
챔버의 청정도 유지
흡기 배기
흡기
드라이 펌프
배기
터보 펌프
진공 펌프 구성도
32
RF(Radio Frequency) 발생기
범용적으로 무선주파수라고 부름
전자파를 이용한 무선 장비들의 총칭
역할
• 플라즈마를 발생시키기 위한 전력 공급기
• 상용주파수로 13.56MHz의 주파수 사용
• 손실 없이 챔버까지 도달하기 위해 정합 네트워크
또는 정합기 사용
플라즈마
RF 발생기
33
RF(Radio Frequency) 정합기(Matcher)
챔버의 가변적 저항의 특성을 고려하여 최대한
50ohm으로 맞추기 위한 일종의 어댑터(Adaptor)
챔버 임피던스를 자동으로 조절하는 장비
• RF 발생기에서 발생하는 고주파를 이용하여 챔버에
서 균일한 플라즈마가 발생할 수 있도록 함
RF 발생기의 출력 임피던스 = 부하 임피던스
RF 정합기
34
RF(Radio Frequency) 정합기(Matcher)
RF 정합 네트웤이 50ohm을 유지하는 이유
• 전자파 전력 전송 특성이 가장 좋은 임피던스 : 33ohm
• 신호파형의 왜곡이 가장 적은 임피던스 : 75ohm
• 중간 값 : 49ohm
• 계산의 편의성을 위해 50ohm으로 사용
정합 박스
로드(Load)와
RF로부터 바리콘
입력 위상(Phase)의 (Varicon)
발생 검출된 신호로 정합이 동작
되도록 함
검출된 출력이 0V가 되면 바리콘의 동작이 멈춤

임피던스의 값은 50ohm
정합 네트워크 사용 목적
RF 발생기에서 출력단의 임피던스가 50ohm으로 고정
공정 챔버의 임피던스는 공정 조건, 외부 환경에 따라 변화
변화를 보완하여 RF 발생기의 출력 임피던스, 부하
임피던스를 같게 만들어줌
35
정합 네트워크 사용 목적
50ohm
RF 발생기 50ohm 50ohm RF 공정

센서
50ohm 정합박스 챔버
와트 미터
(Watt
Meter) 가변저항기
바리콘
(Varicon)
RF 정합 네트워크
36
학습정리
1. 사진 공정 장비의 구성 및 동작원리
• 스텝퍼 노광 방식 : 레티클 스테이지를 고정시키고, 웨이퍼

스테이지만 이동하여 일괄 노광하는 방식
• 스캐너 노광 방식 : 레티클 스테이지와 웨이퍼 스테이지가 동시에

이동하여 노광 과정을 실행
• 변형조명
- 레티클에 입사되는 빛이 경사지게 입사하는 방식
- 다양한 개구를 사용하여 빛의 균일도와 강도를 조정
• 렌즈 : 온도, 습도, 압력에 따라 초점과 배율이 변화
• 트랙(Track) 장비 : 감광막 도포, 베이크, 쿨링, 현상을 한

시스템에서 수행
37
학습정리
2. 식각 공정 장비의 구성 및 동작원리
• 건식 식각 장비 : 특정 막과 반응하는 가스를 공정 챔버 안에 공급하고

그 챔버 안에 전원을 공급하여 플라즈마를 발생시켜 웨이퍼 상에 기
형성된 마스크 패턴에 따라 특정지역을 제거하는 시스템으로 구성
• 식각 장비 시스템 구성
- 제어부 : 전원공급과 시스템 제어를 담당
- 구동부 : 메인 프레임을 구동
- 공정 챔버 : 메인 프레임 안에 속해 있으면서 공정이 이루어지는 곳
- 온도조절부(Temperature Control Unit, TCU) : 웨이퍼 척의
온도를 조절
- 펌프 모듈 : 챔버의 진공과 배기가스 배출
- 유틸리티(Utility)부
- 기기부 : 가스의 유량을 조절하는 조절
• 공정 챔버 구성
- 식각 챔버 : 식각이 실행
- 스트립 챔버 : 식각이 끝나고 폴리머 등을 제거
- 온도 하강 챔버 : 공정에 따라 온도가 올라간 웨이퍼를 실온으로
낮춤
- 웨이퍼 정렬 챔버 : 웨이퍼가 장비의 척에 정확히 위치되기 위해
정렬을 시행
• RF가 손실 없이 챔버까지 도달하기 위해 정합 네트워크 또는 정합기를

사용
38

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사진과 식각 공정 장비구성 및 동작원리

•사진 공정 장비의 구성 및 동작원리

•공정 장비 핵심 구성 부품 동작 원리를 숙지하여

2 마스크와 웨이퍼의 정교한 이동을 위한 스테이지(Stage)

436 g-line 0.5

405 h-line 0.4

365 i-line 0.35

248 KrF 0.25

193 ArF 0.18

• 웨이퍼는 좌우로, 레티클은 상하로 이동하면서 샷이 이루어짐

1 감광막이 도포된 웨이퍼가 웨이퍼 스테이지에 고정되어 위치

2 레티클이 레티클 스테이지에 정렬

3 조명 광학계에서 마스크에 노광 광원이 입사

입사된 광원은 축소 투영 렌즈를 통과하여 웨이퍼 렌즈

웨이퍼 스테이지가 좌우, 상하로 움직이면서 주어진

감광막이 도포된 웨이퍼가 웨이퍼 스테이지에

2 레티클이 레티클 스테이지에 정렬

3 조명 광학계에서 마스크에 노광 광원이 입사

입사된 광원은 축소 투영 렌즈를 통과하여 웨이퍼

웨이퍼 스테이지가 좌우로 이동하고, 레티클 스테이지가

<일반조명> <2분할> <4분할>

INPUT 렌즈 • 집광된 단일 파장의 빛을 평행 광속으로

Fly Eye 렌즈 • 타원 거울 조명의 균일도 조정

제1 릴레이 렌즈 • Fly Eye 렌즈로부터의 광을 레티클 블라인

레티클 블라인드 • 레티클 상에 조사되는 광의 면적을 조정

제2 릴레이 렌즈 • 레티클 블라인드를 통과한 광을 평행광으

적산기(ISS) • 노광되는 광량을 측정하고, 적산노광을 자동

반 투과 거울 • 광원을 이원화하여 보내는 광의 정보를 얻

웨이퍼의 정확한 이동이 요구되는 정교한 모터와 이동거리

기울임(Leveling)이 없는 평탄도가 매우 우수, 진동이 없는

Fiducial Mark Y-축 모터

X-축 간섭계 이동경

조도 균일도 센서 램프 노광량 모니터

상면에서의 스테이지 구성도

웨이퍼 카세트 OUT

• 플라즈마 : 가스들을 이온화 시키고, 다른 라디컬

1 전원공급과 시스템 제어를 담당하는 제어부

2 메인 프레임을 구동시키는 구동부

3 메인 프레임 안에 속해 있으면서 공정이 이루어지는 공정 챔버

웨이퍼 척의 온도 조절하는 온도 조절부

• 챔버의 진공과 배기가스 배출을 위한 펌프 모듈

• 모듈 간에 공급되는 가스, 물 등 외부에서 공급되는

• 웨이퍼를 위치시키고, 공정 진행 동안 흔들리지 않도

공정에서 부산물로 속출되는 가스들은 진공펌프가 배기,

교류, 직류 파워 등 기타 소스를 이용하여

웨이퍼 카세트를 올려놓고 로딩하는 부분

• 로드 락의 웨이퍼 카세트에서 한 장의 웨이퍼를 들여와

검출된 출력이 0V가 되면 바리콘의 동작이 멈춤

RF 발생기 50ohm 50ohm RF 공정

• 스텝퍼 노광 방식 : 레티클 스테이지를 고정시키고, 웨이퍼

• 스캐너 노광 방식 : 레티클 스테이지와 웨이퍼 스테이지가 동시에

• 렌즈 : 온도, 습도, 압력에 따라 초점과 배율이 변화

• 트랙(Track) 장비 : 감광막 도포, 베이크, 쿨링, 현상을 한

• 건식 식각 장비 : 특정 막과 반응하는 가스를 공정 챔버 안에 공급하고

• RF가 손실 없이 챔버까지 도달하기 위해 정합 네트워크 또는 정합기를

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