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大截面溴化钾晶体生长工艺研究

郑东阳1, 崔亚军1, 李春1,2, 刘贺1, 王丹1, 林海1,2, 杨立楠2, 曾繁明1*, 刘景和1,2


(1. 长春理工大学,光电功能材料教育部工程研究中心,长春 130022;2. 长春长理光电技术有限公司,长春 130022)

m
co
摘要:对溴化钾原料进行纯化、成型与热处理,制备出φ 200mm×20mm的多晶料。采用电阻加热Czochralski法,在合理的温
场下生长出了φ 150mm×150mm的溴化钾单晶。为了有效解决了放肩过程中晶体表面裂纹等问题,采用了一控(水温)、双变(拉
速、转速)微提拉放肩新工艺生长晶体。XRD分析表明,生长的晶体为立方晶系的KBr,空间群Fm3m,晶格常数为a=0.6599 nm。

c.
分析了晶体中相互作用力及能量关系,认为溴化钾晶体质点间的相互作用不仅存在离子键的相互作用,同时还存在三体力及
Van der Waals力的作用。根据半经验公式计算出熔融状态下的溴化钾的配位数为 4。另外,晶体的透光性能测试表明,厚度

so
5mm的样品的透射率为 90%。

关键词:溴化钾单晶;多晶料;熔体与固体结构;配位数;微提拉晶体生长

cc
中图分类号:O782 文献标志码:A 文章编号:0454-5648(2015)01- -07
网络出版时间: 网络出版地址:

j
Growth Process of Large Section Crystal of Potassium Bromide

w.
ZHENG Dongyang1, CUI Yajun1, LI Chun1,2, LIU He1, WANG Dan1, LIN Hai1,2 , YANG Linan2, ZENG Fanming1 , LIU Jinghe1,2

ww
(1. Engineering Research Center of Photoelectric Functional Materials of Ministry of Education, Changchun University of Science
and Technology, Changchun 130022, China;
稿
2. Changchun Institute of Optoelectronic Technology Co., Ltd, Changchun 130022, China;)

Potassium bromide (KBr) polycrystalline material with the size of φ 200 mm×20mm was obtained after the KBr raw

Abstract:
material was purified, formed and annealed. The KBr single crystal with the size of φ 150mm×150mm was grown by a resistance

heating Czochralski (Cz) method. In order to efficiently eliminate the surface cracks in shoulder-expanding process, the crystal was
grown by using a “one controlled (water temperature) and double variety (pulling rate and rotation rate)” micro-pulling and

shoulder-expanding technique. According to the analysis by X-ray diffraction, KBr crystal grown belongs to a cubic crystal system
with the space group Fm3m and the lattice parameter (a) of 0.6599 nm. Also, the interaction between the crystals is due to an ionic

bond interaction, three body forces and van der Waals force. The coordination number of KBr in melt is 4 according to the
semi-empirical formula. The transmittance of the sample with the thickness of 5 mm is 90%.

Key words: potassium bromide single crystal; polycrystalline material; melt and solid structure; coordination number; micro pulling

crystal growth

溴化钾是典型的碱金属卤化物离子晶体,红外 目前,国外开展了对溴化钾掺杂改性的新功能

吸收系数为 1.0×10–7cm–1,透过波段为 0.3~34 μm, 研究,而国内以晶体生长和加工为主。虽然该晶体


红外透过率大于 90%,是优良的红外光学晶体,广 研究历史久远,但在科学和技术方面仍然存在很多

泛应用于激光器窗口材料。 问题需要解决,特别是晶格动力学理论、大截面晶

收稿日期:2014–04–26。 修订日期:2014–06–31。 Received date: 2014–04–26. Approved date: 2014–06–31.


基金项目:吉林省科技发展计划(20110803)资助项目。 First author: ZHENG Dongyang (1973–), male, Doctoral
第一作者:郑东阳(1973—),男,博士研究生。 candidate.

通信作者:曾繁明(1976—),男,博士,教授,博士研究 E-mail: jess6548@aliyun.com


生导师。 Correspondent author: ZENG Fanming(1976–), male, Ph.D.,
Professor.
E-mail: zengfm@126.com
体生长理论与技术、红外光学元件加工技术、性能 由图 1 可以确定坩锅的最佳位置在距离炉底
测试与评价等方面都需进行深入、系统、全面的研 400mm 处,熔体处于过热状态。生长完成后采用
究[1–3],这对提高溴化钾晶体的质量,扩大应用范围 KB-A1 型标准热电偶退火炉在 650~675 ℃退火,
具有重要意义。本实验采用电阻加热提拉法 降温速率为 5 ℃/h。
(Czochralski, CZ),提出了一控(水温)双变(拉速,转 1.3.2 水冷、拉速与转速微提拉放肩系统 单晶

m
速)微提拉放肩的新工艺,开展大截面晶体生长工艺 生长过程中采用水冷籽晶杆,通过控制循环冷却水

co
的研究。对生长的固态溴化钾结构和透光性能进行 的温度,使生长晶体及其生长界面处的温场不变,
分析,同时对熔融状态的溴化钾熔体结构、配位数 得到适当的过冷度,有利于保持晶体的平稳生长。

c.
等物相结构进行分析和讨论。 在缩颈、引晶、放肩等阶段通过调整晶体的转速和
拉速的变化,促进完整性高、应力小、截面大的晶
1 实 验

so
体表面长成,为大截面晶体的生长提供良好的基
1.1 原料选择与处理 础。最佳的工艺参数为:采用[100]生长方向,籽晶

cc
实验采用的溴化钾试剂是北京化工厂初始纯度 尺寸为φ 20 mm×40 mm,拉速为 1~4mm/h,转速为
为 99.0%的产品,在使用前需要对其进行纯化处理。 10~15r/min。生长的晶体如图 2 所示。

j
将试剂在去离子水中溶解,加入溴氢酸调节pH 值

w.
至 2~3。然后经过加热、过滤和浓缩,经两次结晶
后,在真空干燥箱中 100℃烘干,去掉CO 2 和一些有

ww
害杂质。将结晶后的细料,置于高温炉内再结晶,
然后将结晶透明的原料粉碎成 3~5 mm 颗粒待用。
溴化钾试剂原料,经过处理后,其纯度由 99%提高
稿
到 99.9%。
1.2 多晶料的制备 图 2 大尺寸 KBr 晶体照片

Fig. 2 Photographs of KBr crystals (Size: φ 150mm×150mm)


首先,对纯化后的溴化钾试剂在 120 ℃温度下
进行干燥处理[4]。然后用YE-2000A型压力试验机, 1.4 性能测试

在 3MPa下压制 10 min,压成φ 200 mm×20 mm的块 采用XRD UltimaIV Rigaku Corporation测试仪


料。最后将压制成型的块料在 300 ℃烧结 24 h,得 分析溴化钾样品的相组成,测试条件为管电压为 3

到生长晶体的多晶料[5]。 kV,管电流为 25 mA,扫描速率为 0.03(°)/s。采用


1.3 晶体生长 FTIR 8400S型号的红外光谱仪, 分别对厚度为 3.13、

1.3.1 温场设计 采用 KB-1 型大气单晶炉生长溴 5.12、7.24、9.13 和 12.96 mm的KBr晶体薄片的透


化钾晶体。进行生长前,调整锅位,使其处于水平 射率进行测试。

位置,以保证晶体与熔体液面垂直,得到一个对称
的晶体生长界面,获得一个合理的温场。通过多次 2 结果与讨论

实验,温场测试曲线见图 1。 2.1 一控双变微提拉工艺对晶体生长的影响


在 Cz 法晶体生长过程中,固–液界面附近的热

平衡如见图 3 所示。从图 3 可以看出,固–液界面


的热平衡条件为:

Q0 + QL =
QS (1)

式中:Q 0 =Lρ c vA为固–液界面处的热源,其中L为


结晶潜热;ρ c 为晶体密度;v为提拉速率;A为固–

液界面截面面积。Q L 为加热功率;Q S 为损耗功率。


图 1 晶体生长炉轴向温度梯度分布曲线
Fig. 1 Axial temperature gradient distribution curve of crystal
将Q 0 =Lρ c vA代入式(1)可得式(2):
growth furnace
L ρ c vA =
QS − QL =
∆Q (2)
由式(2)可得提拉速率与晶体直径关系,如式(3) 双变微提拉工艺,即为通过在缩颈、引晶、放
所示: 肩过程中的转速、拉速的改变,使晶体生长到所需
尺寸而不产生较大应力和缺陷。实验发现,与平放
肩系统相比较,微提拉系统生长出的晶体表面不易
产生裂纹。这是因为在平放肩过程中籽晶附近的热

m
量不能及时散发出去,在内部产生了较大的应力和

co
缺陷[6]。当晶体内的应力超过其屈服力时,会导致
晶体内部产生“开花”状裂纹,如图 5a所示。

c.
微提拉使得在整个晶体生长过程中无明显的
热扰动,缺陷可能萌生的几率较平放肩明显降低;

so
由于微量提拉,减少温场扰动,使温场更均匀。在
整个晶体生长过程中,晶体不被提出坩埚,处于热

cc
图 3 Cz 法晶体生长过程中固–液界面附近的热流分布 区,可以精确控制冷却速度,减少热应力[7],晶体
Fig. 3 Heat flux distribution of solid–liquid interface near in
表面裂纹密度较小,如图 5(b)所示。从而保证了晶

j
crystal growth process by Cz method
体生长的成品率。

w.
1
 ∆Q  2 − 12
D = 2  v (3)

ww
 π∆L ρ c 
式中:D 为晶体直径。
从式(3)可以看出,晶体的直径与提拉速率的平
稿
方根成反比。降低拉速将导致直径增大,由此,本
实验提出了一控双变(拉速、转速)微提拉放肩工艺。

一控:控制冷却水温。水冷是很关键的工艺条
件。过冷度是结晶的推动力,要使液界面产生过冷

(a) Dense flowering cracks by flat shoulder crystal


度,必须将结晶过程释放出来的潜热通过籽晶杆释
放出去。使晶体与熔体的接触面的温度低于凝固点

形成过冷度,而在液面以下的熔体仍处于过热状态,
在此小区域内的熔体就生长成晶体。图 4 为籽晶杆

中冷却水循环示意图。冷却水由变频水泵泵入进水
口,进入籽晶杆的外层管吸收热量后,由底部进入

籽晶杆的内管流回,由此完成冷却循环。循环水储
存在可调恒温水箱中,可以实时控制水温。在整个

实验过程中,水温控制在 25~30℃。 (b) Crystal surface cracks by micro-pulling shouldering


method

图 5 晶体内部应力照片
Fig. 5 Photograph of stress of crystal internal

工艺参数:放肩过程中水温保持在 25~30 ℃。
生长过程中,晶体直径为 0~50 mm时,控制拉速为

1mm/h,转速为 5 r/min;当晶体直径为 50~100 mm


时,控制拉速为 2 mm/h,转速为 10 r/min;当直径

为 100~150 mm时,拉速控制为 2 mm/h,转速 15


r/min;当直径达到 150mm后,保持拉速为 2 mm/h,
图 4 水冷装置示意图 转速为 15 r/min不变,直到晶体生长成需要尺寸。
Fig. 4 Schematic diagram of water-cooled equipment
2.2 样品 XRD 分析
图 6 为溴化钾晶体样品的X射线衍射(XRD)谱。 态KBr的配位数,已被应用于很多熔融碱金属卤化
采用MDI jade软件与标准卡片(JCPDS 04–0531)的对 物[12]。另外,还可以采用Monte Carlo(M.C)或分子
比,匹配率因数FOM值为 2.1[8],说明与标准卡片 动力学的计算机设计模拟技术,对碱金属卤化物的
的结构相符,从而确定测得样品为立方晶系的KBr, 熔体结构进行分析。两种方法所获得的结构性能是
空间群Fm3m。通过XRD分析发现,粉体、成型料、 一致的。

m
热处理料和晶体结构无变化,晶格常数为: 熔融状态KBr配位数(n 1 calc)的半经验计算公

co
α=β=γ=90°,a=b=c=0.659 9 nm。 式[13]如下:

c.
= n1 [Vm / Vm ][ r1 / r1 ]
calc S S L L S 3
n1 (6)

式中:V m S为固体体积; V m L为在熔点处的液体体

so
积;r 1 L为离子间最远距离;r 1 S为离子间最邻近距离;
n 1 S为KBr固体的配位数。

cc
在熔点处,V m L=55.79 cm3/mol,n 1 S=6,体积

j
改变量ΔV m /V m S= 0.166。在熔点处,V m S =47.85

w.
calc
cm3/mol,r 1 S =0.341nm,得到计算值 n1 =4.2[14]。

ww
图 6 KBr 晶体与标准卡片 XRD 谱 2.4 透光性能测试分析
Fig. 6 XRD patterns of KBr crystal and standard card
图 7 为不同厚度的 KBr 晶体样品的透过曲线。
稿
溴化钾离子半径比为 rK +
rBr = 0.68 , rK + < rBr - ,
-

r K +可以认为Br–离子形成球密堆积,K+处在Br–生成

的八面体中间,K+离子配位数是 6[9],以满足力学平
衡。

从溴化钾晶体结构组成来看,相互作用体系包

含远距离屏蔽 Coulomb 引力, Van der Waals 力和


三体力(K 原子核、Br 原子核及电子云重叠区域)的
(a) 3.13mm
相互作用。单位晶胞的晶格能Φ见式(4):

Φ = Φc + ΦR + ΦT + ΦV (4)
式中:Φ c 为长程库仑作用势能;Φ R 为电子云重叠区

域相互排斥势能;Φ T 为三体相互作用力;Φ V 为Van


der Waals力相互作用势能[10]。根据固体双原子模型,

作用力F和相互作用能Φ的关系,见式(5):
F = -▽Φ

(5)
从 5 式可以看出,KBr虽然是离子键相互作用
(b) 5.12mm

的化合物。同时,还具有Van der Waals力和三体相


互作用力。经过计算,溴化钾晶体的Madlung常数为

730.5,排斥力为-77.9 N,偶极距为 28.9 D,偶四


极距为 0.4 D,零点振动能-5.0 kJ/mol[11]。

2.3 熔融态物相结构分析
KBr、KCl、NaCl等简单的碱金属卤化物的熔体
结构,对于离子熔体结构和物理性能的分析是十分
重要的。采用XRD和中子的衍射方法,确定熔融状 (c) 7.24mm
[1] 徐烽晨,赵世平,徐福珍,等,坩埚下降法生长溴化钾
晶体[J]. 人工晶体学报, 1982, 10(2/3): 93.
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w.
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ww
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different thickness
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从图 7a 和图 7 b 可以看出,
厚度 3.13 mm 和 5.12 [8] ITOH N, STONEHAM A M. Materials Modification by
稿
mm 的样品,其透射率为 90%;由图 7c~图 7e 可见, Electronic Excitation[M]. Cambridge, U.K.: Cambridge
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样品厚度为 7.24、9.13、12.96 mm 的透过率在

[9] PANDEY A, PANDEY AN, UPADHYAYA K S. Lattice


70%~88%范围。根据溴化钾生长习性,认为合理的
dynamical studies of Ute, Bucharest, Roam[J]. J Phys, 2006, 51:
厚度为 3~5 mm,透过率大于 90%,才能满足设计

3-4.
要求。 [10] SRIVASTAVA U C, PANDEY R S, UPADAYAYA K S.
Lattice dynamic study of potassium bromide using
3 结论

theoretical approach[J]. Phys Sci, 2010, 5(7): 972-977.


[11] QI Lan, SONG Cuiying, GU Honggen. Electrolytic
1)采用电阻加热 CZ 法,以控制水温、改变拉

coloration and spectral properties of hydroxyl-doped


速和转速、微提拉放肩生长工艺生长了 KBr 晶体。 potassium bromide single crystals [J]. J Lumin, 2013,
合理的工艺参数为:拉速 1~4 mm/h,转速 10~15 134: 576-579.

r/min。生长出尺寸为φ150mm×150 mm 的 KBr 晶体。 [12] SRIVASTAVA U C. Lattice dynamical studies of

2)对固态和熔融态溴化钾的 XRD 分析表明,获 potassium halides [D]. Jaunpur UP, India: VBS

得了衍射强度曲线、晶格常数、配位数的实验值与 Purvanchal University, 2004.

理论值相符合。 [13] BANGARU S, MURALIDHARAN G, BRAHMA


-NANDHAN G M. Thermoluminescence and optical


3)通过半经验公式,计算了熔融状态下的碱金 studies on X-irradiated terbium-doped potassium bromide
属卤化物的配位数近似为 4,固态配位数为 6。 crystals[J]. J Lumin, 2009, 130(4): 618-622.

4)发现晶体厚度为 3~5 mm,透过率大于 90%, [14] JIBAN PODDER, FARHANA KHANUM. Structural and
optical properties of triglycine sulfate single crystals
才能满足设计要求。

doped with potassium bromide [J]. J Crystalliz Process


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参考文献:

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