POLIARIZACIJOS PLOKTUMOS SUKIMO TYRIMAS

Darb atliko: Merkis Mantvydas

Grup: EBE-4

Data: 2015-05-06

Dstytojas: V. Minialga

Darbo uduotis. Eksperimentikai itirti poliarizacijos ploktumos sukimo kampo priklausomyb nuo optikai
aktyvaus tirpalo koncentracijos bei nustatyti: inomos koncentracijos tirpalo specifin sukim; tos mediagos
neinomo tirpalo koncentracij.

Teorin dalis. Kai kurios mediagos pasuka jomis sklindanios tiesiai poliarizuotos viesos poliarizacijos
ploktum. Tokios mediagos vadinamos optikai aktyviomis. Tiesiai poliarizuotai viesai sklindant optikai aktyviu
tirpalu, poliarizacijos ploktumos sukimo kampas

 = l c.

(1)

ia - tirpalo specifinis sukimas; l viesos sklidimo tirpale kelio ilgis; c masin trin aktyviosios mediagos
koncentracija tirpale (kg/m3). I (1) lygybs matyti, jog tirpalo specifinis sukimas skaitine savo verte lygus
natralaus poliarizacijos ploktumos sukimo kampui, nusklidus tiesiai poliarizuotai viesai tirpalo vienetin ilg,
esant 1 kg/m3 mediagos koncentracijai. priklauso nuo optikai aktyvios mediagos ir tirpiklio chemins
prigimties, temperatros ir viesos bangos ilgio.

Mediagos, kurios nepasuka poliarizacijos ploktumos, vadinamos optikai neaktyviomis.

Poliarizacijos ploktumos sukimo kryptis priklauso nuo mediagos prigimties.

Natralaus sukimo kampas apskaiiuojamas pagal formul:

 = i0 i00

(2)

10

8
7
6
5

Aparatra ir darbo metodas CM-2 tipo poliarimetro optin schema pavaizduota 2 paveiksle. J sudaro:
lempa 1, viesos filtras 2, kondensorius 3, poliarizatorius 4, chromatin fazin ploktel 5, analizatorius 6,
objektyvas 7, okuliaras 8, du liai 9 ir kiuvet 10. Lempos skleidiama viesa, prajusi viesos filtr, kondensori,
poliarizatoriaus tiesiai poliarizuojama.
Poliarimetre panaudotas regjimo lauko padalijimo dvi dalis viesum sulyginimo principas. Regjimo lauko
padalijimas dalis atliekamas, vedant poliarimetro optin sistem chromatin fazin ploktel. Lyginamj lauk
viesumas sulyginamas, esant visikam regjimo lauko utemdymui (3 pav.).
I poliarizatoriaus ijusio viesos pluotelio viena dalis praeina per chromatin fazin ploktel, kiuvet (joje ir
sukama viesos poliarizacijos ploktuma) ir analizatori, o kita pluotelio dalis tik per kiuvet ir analizatori. Tada
poliarimetro regjimo laukas atrodo taip (4 pav.). Sukant analizatori, sulyginamas abiej lyginamj lauk
viesumas (r. 3 pav.).
Tarp analizatoriaus ir poliarizatoriaus djus kiuvet su optikai
aktyviu tirpalu, lyginamieji laukai ne vienodo viesumo (4 pav.).
Abiej lauk viesum galima vl sulyginti, pasukus analizatori
kampu, kuriuo tirpalas pasuko viesos poliarizacijos ploktum.
Regjimo lauk stebime ironu, kur sudaro objektyvas 7 ir
okuliaras 8.
Iorinis poliarimetro vaizdas parodytas 5 paveiksle. ia 1
2 pav.
3 pav.
ironas, 2 limbo (kartu su objektyv nonijumi) skal, 3
analizatoriaus rankenl, 4 poliarimetro dangtis. Sukimo kampai atskaitomi limbo ir nonijaus skalse.
4

4 pav.

Darbo rezultatai
c, %

1 lentel. Matavim rezultatai

i0, laipsniai
, laipsniai

3,15

2,8

5,45

5,1

12,45

12,1

12

18,5

18,15

8,9

8,55

Kampas, kai koncentracija c=0 %, i00=0,35o

Kiuvets ilgis l=0,2 m.

c
1000
100
10 c
108
=
=
=86,96 kg /m3
8 % tirpalo masin trin koncentracija (kg/m3): c=
c
c
8
1
1
1
100
100
100

(3)

5 pav. = f(c) grafikas

20
15

, laipsniai

10
5
0

10

12

14

c, %
8 % tirpalo specifinis sukimas: = /(cl)=12,1/(86,96*0,2)=0,7 om2/kg
Neinomojo tirpalo koncentracija cx=5,5%.

(4)

Ivados: I = f(c) grafiko galime teigti, jog poliarizacijos ploktumos sukimo kampas didjant optikai
aktyvaus tirpalo koncentracijai, tiesikai didja. I grafiko nustatyta neinomojo tirpalo koncentracija
cx=5,5%. Apskaiiuotas 8 % tirpalo specifinis sukimas: =0,7 om2/kg.
Literatra:
1. Javorskis B., Detlafas A. Fizikos kursas. - Vilnius: Mintis, 1975. - T.3. - P.165 180 ir 190
- 193.
2.
http://ktu.edu/fizika/turinys/mechanikos-ir-elektromagnetizmo-laboratoriniai-darbai.
irta 2015-05-01.