НАЦІОНАЛЬНИЙ ТЕХНІЧНИЙ УНІВЕРСИТЕТ УКРАЇНИ

«КИЇВСЬКИЙ ПОЛІТЕХНІЧНИЙ ІНСТИТУТ ІМЕНІ ІГОРЯ

СІКОРСЬКОГО»
Інститут матеріалознавства та зварювання ім. Є.О. Патона
Кафедра високотемпературних матеріалів та порошкової металургії

ЛАБОРАТОРНА РОБОТА №3
“БУДОВА І РОБОТА ПЛАЗМОВИХ УСТАНОВОК”
з курсу: «Технології нанесення покриттів та їх властивості»

Виконав:
студент гр. ФН-91
Михаліченко В. В.
Перевірив:
доц. Білик І. І.

Київ 2023
 БУДОВА І РОБОТА ПЛАЗМОВИХ УСТАНОВОК

Мета роботи – вивчити будову і принцип роботи установок для

плазмового нанесення покриттів

ТЕОРЕТИЧНІ ВІДОМОСТІ

Принцип роботи установок плазмового напилення такий: в плазмотроні

між катодом і анодом, які охолоджуються водою і ізольовані один від одного
запалюється дуга. Збудження дуги в плазмотроні проводиться замкненням
відстані анод катод тоненьким дротом (0,6…0,8 мм) або з допомогою
високочастотного високовольтного розряду, який утворюється між катодом і
анодом з допомогою спеціального приладу – осцилятора. Осцилятор – це
високочастотний генератор, який формує високочастотні (200…400 Гц) імпульси
напругою 1000…10000В при потужності до 100Вт.

Утворена електрична дуга горить в потоці плазмоутворюючих газів.

Частина електричної енергії дуги (60…85%) іде на нагрівання і іонізацію
плазмоутворюючого газу. В результаті формується високотемпературний потік –
плазмовий струмінь, який виходить з сопла-аноду. Напилюваний матеріал
вводиться в струмінь, нагрівається в ньому, плавиться, розпилюється і в вигляді
двофазного потоку направляється на напилювану поверхню.

Установка металізаційна плазмова УМП-6 одна з перших установок для

промислового використання при напиленні захисних і зносостійких покриттів з
порошкових і дротових матеріалів. Вона складається з плазмотрону, дозатору
порошку, пульта керування, системи живлення, комплекту з’єднуючих кабелів і
системи подачі матеріалів і плазмоутворюючого газу.

Плазмотрон установки має оригінальну конструкцію і відноситься до

плазмотронів “сухого” типу. Іншою особливістю є контактна система збудження
дуги. Електромагнітом до катоду подається дріт діаметром 0,08 мм. Основний
робочий газ – азот. Дозволяється використання аргону і інших газів, а також їх
сумішей.
 Дозатор порошку дискового типу забезпечує високу стабільність подачі
порошку, яка складає 5…7%.На панелі пульта керування змонтовані прилади, які
використовуються для контролю і регулювання технічних параметрів процесу.

В якості джерела живлення раніше використовували машинні генератори

для дугового зварювання ПСО-300. В теперішній час установку УМП-6
комплектують тиристорним джерелом живлення для плазмової різки АПР-402.

Універсальна плазмова установка УПУ-3Д призначена для нанесення

захисних, зносостійких, фрикційних і інших типів покриттів. Універсальність
установки полягає в можливості як порошкового, так і дротового напилення.
При дротовому напиленні процес може вестися по схемам “дріт нейтральний” і
“дріт – анод”.

В комплект установки УПУ-3Д входять порошковий (ПП-25) і дротовий

(ПМ-25) плазмотрони, порошковий дозатор і механізм подачі дроту, шафа
керування, джерело живлення ИПН-160/600.

Напилювані порошки вводяться в плазмотрон ПП-25 при допомозі

транспортуючого газу з порошкового роторного дозатора. Швидкість подачі
порошку регулюється зміною швидкості обертання ротора дозатора, який
захоплює порошок з бункеру і переносить його в прийомну камеру. Для
розширення технологічних можливостей плазмотрону передбачено три
конструкції сопел: для роботи на аргоні з воднем, для роботи на азоті і його
сумішах з іншими газами, для напилення дрібнодисперсних порошків (фракція –
20 мкм).

Дріт, що розпилюється, вводиться в плазмотрон ПМ-25 з допомогою

механізму подачі, який складається з електродвигуна Д-25Л, комбінованого
редуктора з роликами, що подають дріт, катушки для дроту і з’єднувального
боудена (довжина 1400 мм), який забезпечує можливість переміщення
плазмотрона при ручному і механізованому напиленні. Робочим газом для
плазмотрону ПМ-25 є аргон. На відміну від плазмотрону установки УМП-6
збудження дуги в плазмотронах установки УПУ-3Д відбувається за допомогою
осцилятору шляхом пробою міжелектродного проміжку (зазор катод – анод)
високочастотним дуговим розрядом.

Шафа керування забезпечує живлення плазмотронів газами, водою і

електроенергією від джерела ИПН-160/600. Передбачено ручне або автоматичне
керування електроприводами дозатора і механізму подачі дроту. Крім цього, в
режимі “Настройка” оператор має можливість впевнитись в нормальній роботі
осцилятора і встановити потрібні витрати газів. Шафа має ротаметри для зміни і
встановлення витрат газів, а також амперметр і вольтметр для вимірювання
робочих електричних параметрів плазмотрону.

Джерело живлення ИПН-160/600 являє собою напівпровідниковий

випрямляч з падаючою зовнішньою вольт-амперною характери-стикою. Джерело
складається з трьохфазного силового транс-форматору; випрямляючого блоку,
зібраного на кремнієвих діодах В-320 ( струм до 320 А і напруга 500 В) по
трьохфазній мостовій схемі; блоку сигнальної, пускової і регулюючої апаратури,
розташованої в одній стійці. Принцип регулювання робочого струму в ИПН-
160/600 оснований на переміщенні магнітних шунтів, при якому змінюється доля
магнітного потоку, утвореного первинною обмоткою трансформатора і
відгалуджуючогося в магнітний шунт.

Для створення різних напруг холостого ходу первинна обмотка

трансформатору поділена на три секції. Дві секції розташовані над вторинною
обмоткою на одній і тій же частині магнітопроводу. Третя секція розташована по
інший бік шунта. Ступені перемикають переносом перемички на вивідній панелі
трансформатору. Джерело живлення при цьому повинно бути відключено від
мережі.
 ПОРЯДОК ВИКОНАННЯ РОБОТИ

1. Перед початком роботи ознайомитися з правилами техніки безпеки і

впевнитися в готовності обладнання до роботи (наявність заземлення,
потрібний тиск газів в балонах, води, ефективність вентиляції, наявність
індивідуальних засобів захисту).

2. Ознайомитися з блок-схемою плазмової установки, будовою і роботою

кожного вузла установки.

3. Вивчити інструкцію по експлуатації установки.

4. Відповідно інструкції в присутності викладача увімкнути установку.

5. Провести напилення зразків по заданим режимам.

6. Дослідити мікроструктуру отриманих покриттів.

7. Обговорити отримані результати і зробити висновки.

КОНТРОЛЬНІ ПИТАННЯ

Типи промислових установок для плазмового напилення і їх коротка

характеристика.

2. Особливості конструкції плазмотрону установки УМП-6.

3. Комплектація універсальної плазмової установки УПУ-3.

4. Як здійснюється запуск плазмотрону установки УПУ-3?

5. Основні вузли плазмотрону і їх призначення.

6. Особливості конструкції плазмотрона ПУН-1.

 ВИКОНАННЯ ЛАБОРАТОРНОЇ РОБОТИ

1. Типи промислових установок для плазмового напилення і їх коротка

характеристика.

Типи промислових установок для плазмового напилення можна поділити

наступним чином:

- за станом матеріалу напилення:

а) дріт (Плазмовий розпилювач ПМ-25);
б) порошок (Плазмовий розпилювач ПП-25).

- за способом введення матеріалу напилення:

а) через зріз сопла (Плазмотрони 3МВ, ПУН-1, F4MB-XL,
TriplexPro-210);
б) напряму в різні ділянки потоку плазми (УМП-6).

- за способом збудження дуги в плазмотроні:

а) замкненням відстані анод катод тоненьким дротом (Плазмотрон
УМП-6);
б) високочастотним високовольтним розрядом (Плазмотрон УПУ-3).

Установка металізаційна плазмова УМП-6 одна з перших установок для

промислового використання при напиленні захисних і зносостійких покриттів з
порошкових і дротових матеріалів.

Універсальна плазмова установка УПУ-3Д призначена для нанесення

захисних, зносостійких, фрикційних і інших типів покриттів. Універсальність
установки полягає в можливості як порошкового, так і дротового напилення.

Установка плазмового напилення ПУН-1 призначена для плазмового

різання та при певній модифікації для нанесення покриттів.

Установка плазмового напилення F4MB-XL призначена для нанесення

покриттів із двокомпонентної суміші.

Установка плазмового напилення TriplexPro-210 призначена для нанесення

покриттів із трикомпонентної суміші.

Установка плазмового напилення Київ-7 предназначена для напилення

покриттів з різних металів, сплавів і сполук.

2. Особливості конструкції плазмотрону установки УМП-6.

Конструкція плазмотрону установки УМП-6 складається з плазмотрону,

дозатору порошку, пульта керування, системи живлення, комплекту з’єднуючих
кабелів і системи подачі матеріалів і плазмоутворюючого газу. Особливістю
конструкції плазмотрону УМП-6 є контактна система збудження дуги, яка
полягає в тому, що за допомогою тонкого дроту закорочувався катод і анод, дріт
плавився і за допомогою цієї пари запалювалась дуга.

3. Комплектація універсальної плазмової установки УПУ-3.

Комплектація універсальної плазмової установки УПУ-3 складається з

порошкового (ПП-25) і дротового (ПМ-25) плазмотронів, порошкового дозатора
і механізму подачі дроту, шафи керування та джерела живлення ИПН-160/600.

У плазмотроні ПП-25 (див.рис.1) ввденння напилюваних порошків

відбувається при допомозі транспортуючого газу з порошкового роторного
дозатора. Швидкість подачі порошку регулюється зміною швидкості обертання
ротора дозатора, який захоплює порошок з бункеру і переносить його в
прийомну камеру. Для розширення технологічних можливостей плазмотрону
передбачено три конструкції сопел: для роботи на аргоні з воднем, для роботи на
азоті і його сумішах з іншими газами, для напилення дрібнодисперсних
порошків.
 1 – анод-сопло; 2 – корпус анодного вузла; 3 – катод; 4 – ізолятор; 5 – корпус

катодного вузла; 6 – рукоятка; 7 – штуцер для подавання води охолодження; 8 –

штуцер для подавання газу; 9 – штуцер для відведення води; 10 – отвір для

штуцера, по якому подається порошок або дріт.

Рисунок 1 – Плазмовий розпилювач ПП-25

У плазмотроні ПМ-25 введення дроту, що напилюється, відбувається при

допомозі механізму подачі, який складається з електродвигуна Д-25Л,
комбінованого редуктора з роликами, що подають дріт, катушки для дроту і
з’єднувального боудена, який забезпечує можливість переміщення плазмотрона
при ручному і механізованому напиленні. Робочим газом для плазмотрону ПМ-
25 є аргон.

Збудження дуги в плазмотронах установки УПУ-3Д відбувається за

допомогою осцилятору шляхом пробою міжелектродного проміжку
високочастотним дуговим розрядом.

Шафа керування забезпечує живлення плазмотронів газами, водою і

електроенергією. Передбачено ручне або автоматичне керування
електроприводами дозатора і механізму подачі дроту. Шафа має ротаметри для
зміни і встановлення витрат газів, а також амперметр і вольтметр для
вимірювання робочих електричних параметрів плазмотрону.

Джерело живлення ИПН-160/600 являє собою напівпровідниковий

випрямляч з падаючою зовнішньою вольт-амперною характеристикою. Джерело
складається з трифазного силового трансформатору; випрямляючого блоку;
блоку сигнальної, пускової і регулюючої апаратури, розташованої в одній стійці.

4. Як здійснюється запуск плазмотрону установки УПУ-3?

Запуск плазмотрону установки УПУ-3 відбувається наступним чином:

1) Підключення установки УПУ-3 до джерела електроенергії;

2) Подача газу і води;
3) Створення дежурної дуги високочастотним зарядом осцилятора;
4) Очікування збудження робочої дуги (1-2 секунди);
5) Установка на пульті потрібного режиму роботи;
6) Запуск двигуна подачі порошку/дроту.

Відключення плазмотрону установки УПУ-3 відбувається наступним

чином:

1) Відключення дуги плазмотрона від джерела електроенергії;

2) Очікування;
3) Відключення подачі газу;
4) Відключення подачі води.

5. Основні вузли плазмотрону і їх призначення.

До основних загальних вузлів плазмотрону можна віднести:

- анодний блок;
- катодний блок;
- електричний ізолятор між ними;
 - система охолодження;
- канал сопла;
- система подачі порошку і газу.

Конструкція сопла-анода плазмотрона визначає довжину дуги,

стабільність її горіння і ефективний коефіцієнт корисної дії процесу нагрівання
розпилюваного порошку.

Анодний і катодний блоки інтенсивно охолоджуються. Через електричний

ізолятор в робочу розрядну камеру подається плазмотворний газ.

В електродугових плазмотронах із саморегулюючою довжиною

електричної дуги канал сопла гладкий і має довжину в районі 10-30 мм. Для
деякого ступеню фіксації довжини електричної дуги канал сопла виготовляють із
уступом. Для жорсткої фіксації положення електричної дуги використовують
секційні сопла із міжелектродними вставками (див.рис.2).

Рисунок 2 - Схеми конструкцій каналів сопла в плазмотронах:

а) гладке циліндричне сопло; б) сопло із уступом;
в) сопло із міжелектродними вставками;

Подача розпилюваного порошкового матеріалу відбувається або через зріз

сопла, або напряму в різні ділянки потоку плазми. Ефективність нагріву
порошкового матеріалу в плазмотроні і рівномірність його розподілення по
поверхні напилення напряму залежать від схеми введення порошку в плазмовий
потік (див.рис.3).
 Рисунок 3 - Схеми введення порошку в плазмовий потік

Принципова схема плазмотрона зображена на рисунку 4.

1 – штуцер для подавання матеріалу, що напилюється; 2 – анод; 3 – рукоятка;

4 – ізолятор; 5 – катод; 6 – цанга; 7 – гвинт регулювання

Рисунок 4 – Принципова схема плазмового розпилювача

 6. Особливості конструкції плазмотрона ПУН-1.

Конструкція плазмотрона ПУН-1 (див.рис.5) складається із: штуцера для

подавання порошку, корпуса анодного вузла, анода, системи подавання порошку
в канал, міжелектродної вставки, катода, завихрювача газу, дефлектора та
ізолятора.

1 – штуцер для подавання порошку; 2 – корпус анодного вузла; 3 – анод; 4 –

система подавання порошку в канал; 5 – міжелектродна вставка; 6 – катод; 7 –
завихрювач газу; 8 - дефлектор; 9 – ізолятор

Рисунок 5 – Схема плазмотрона ПУН – 1

Конструкція анодного вузла плазмотрона ПУН-1 складається з штуцера

для подавання порошку, накидної гайки, штуцера системи охолодження,
корпуса, електрода, ізолятора, ущільнення та сопла.
 1 – штуцер для подавання порошку; 2 – накидна гайка; 3 – штуцер системи
охолодження; 4 - корпус; 5 - електрод; 6 - ізолятор; 7 - ущільнення; 8 – сопло

Рисунок 6 – Схема анодного вузла плазмотрона ПУН – 1

Особливістю конструкції плазмотрона ПУН – 1 є послідовне охолодження

катодного вузла і вузла міжелктродної вставки та окрема незалежна система
охолодження анодного вузла.

Також у ПУН-1 використовується вихрове подавання плазмотворного газу

через систему аксіально – тангенціальних каналів. Частина газу відбирається з
дугової камери і по отворам у тілі міжелктродної вставки подається у зазор між
міжелктродною вставкою і анодом через апарат для вентиляції зазору і
пригнічення попереднього закручування основного плазмо утворювального газу.
 ВИСНОВКИ

Під час виконання лабораторної роботи було вивчено будову і принцип

роботи установок для плазмового нанесення покриттів.

Проаналізувавши отриману теоретичну інформацію можна дійти висновку,

що плазмова технологія нанесення покриттів має ряд переваг:

- швидкість частинок напилюваних речовин в 2-3 рази вища, ніж при

інших методах напилення;
- покращуються умови для взаємодіффузії між покриттям і підложкою
і підвищення адгезії;
- при нанесенні покриттів відсутні реакційні гази, які можуть
приводити до окислення металів, погіршення зчеплення і
сколювання кераміки;
- склад покриття на деталях повністю відповідає складу початкового
матеріалу для покриття;
- високий відсоток використання матеріалів для покриття;
- найбільш висока точність контролю складу покриття, ніж при будь-
якому іншому процесі;

Також проаналізувавши отриману теоретичну інформацію було

встановлено певні переваги та недоліки, які вирізняють деякі установки для
плазмового нанесення покриттів серед інших.

До недоліків установки УМП-6 відносяться нестабільність режимів

плазмотрона на кінцевому етапі гарантованого ресурсу, внаслідок зміни
конфігурації електродів і недостатньо надійна система підпалювання дугового
разряду.

До переваг установки УПУ-3 можна віднести високу універсальність, яка

дозволяє легко змінювати тип матеріалу напилення із порошкового до дротового
і навпаки.

До переваг установки Київ-7 можна віднести те, що всі комунікації, які

живлять плазмотрон і механізми маніпулятора знаходяться зовні камери. При
цьому немає необхідності захисту комунікацій від перегріву і запиленості.

До переваг установки F4MB-XL та TriplexPro-210 слід віднести

можливість використання двох- та трьохкомпонентної суміші порошків для
напилення відповідно.