ASML 野史

几十年前在上海进入芯片制造业， 那时这个行业很小众。公司名字叫飞利浦半导体公司，别人一
听就会说“哦，做收音机的”。当时收音机叫半导体收音机简称半导体。这几年美国打压中兴华为
时，芯片制造业突然变成了热门话题，ASML 也成了网红公司。网上也流传着很多 ASML 故事但真
假难辨。作为一个有着 20 多年经验的老光刻， 我来讲讲我知道的 ASML 故事。随口乱讲姑且听
之， 谓野史。

• 步进光刻(stepper)到扫描(scanner)光刻， ASML 变软肋为强项跻身三强，魏蜀吴大势初定

作为一家飞利浦自产自销光刻机生产“车间”， ASML 起点很低。Moore 定律到了亚微米阶段，

ASML 落后更多了。原因是竞争对手尼康佳能都是光学出身，镜头质量高。ASML 和蔡司合作用蔡
司的光学镜头。 但光刻机只占蔡司很小一部分收入，对蔡司来讲可有可无，蔡司没有把技术力量
放在光刻机上。这使得 ASML 很早就开始 scanner 的研究。下面图显示了步进光刻和扫描光刻对镜
头的要求。蓝色的园代表镜头，灰色区域代表用到的镜头区域,橙色方块代表芯片上曝光区域，可
以看出扫描光刻利用的镜头区域明显小很多，使的镜头的质量更容易提高。当其他光刻机生产商
还在他们舒适区缓慢进步时，ASML 已成功弯道超车，变软肋为强项。当扫描光刻成为行业主流
时，ASML 就跻身光刻机三强，位列尼康佳能之后。

• 单工台变双工台(twinscan)，12 英寸机型异军突起，ASML 超越佳能，由蜀变吴

一个小科普， 过去几十年芯片制造业一直沿着两个方向发展， 一个是线宽越来越窄，这就是通常

说的 28nm(纳米)，20nm, 14nm, 10nm, 7nm, 到 5nm 工艺。 原理是随着线宽变窄， 在单位面积的
硅片上可以生成更多的晶体管，使得芯片运行更快功能更强大耗能更低，这就是摩尔(Moore)定
律。

另一方面芯片的尺寸越来越大。 从 3 inch(英寸), 4 inch, 5 inch, 6 inch, 8 inch 到 12 inch。原因是出

光刻之外的芯片制造工艺大多数都是以芯片甚至整盒芯片为单位进行的。 将芯片放在化学液体或
气体之中进行一定时间的化学反应。大面积的芯片更有效率成本更低。

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当时间来到 20 世纪末， 芯片制造业开始从 8 英寸到 12 英寸的进化。但对 ASML 来说， 却如临绝
境。还是那句话， ASML 出身于飞利浦的光刻机“车间”，即使独立后也是今天只想明天，也不知能
活多久， 所以 90 年代 ASML 的主打机型 PAS 系列只是 5 寸到 8 寸兼容，根本就没准备 12 英寸
的机型。 而竞争对手尼康和佳能的主要机型可是从 5 寸到 12 寸无缝兼容， 花一天时间换几个零
件 8 寸机就立马变成 12 寸机。

ASML 必须重新设计机体。既然要重新设计那 ASML 就打破常规推出了惊艳全行业的双工台机型

(twinscan). 随着光刻工艺精度提高，曝光前的测量要求越来越高，从以前一片芯片测几点十几
点，到 12inch 芯片已经需要上百点，测量的时间已经和曝光的时间相当。这时 ASML 的双工台的
twinscan 立马显示其优越性。因为一个工台测量一个工台曝光同时进行，把机台的效率提高了百
分之 30 到 40。 记住，光刻机吐出来的都是白花花的银子，twinscan 成了行内抢手货 ASML 也顺
势超越佳能坐上光刻机供应商的第二把交椅。

• 干式到浸没式(immersion)，ASML 华丽升级成为行业老大，三国之中魏称霸

当芯片工艺来到 90 纳米时，全行业遇到巨大的挑战 Moore 定律终结论也时常出现在各种论坛。

此时光刻机用的 193 纳米波长的 ArF 激光器， 在原理上它的物理极限大概就在 90 纳米。如何进
军 60 纳米？两个方向。一个是按传统继续寻找短波长的光源，潜在的候选器件是波长为 157 纳
米的 F2 激光器。另一个方向改变思路，在光学镜头和芯片之间充满水（即“浸没式 immersion），
利用水的高折射率，相当于把 193 纳米的波长“转变”为远低于 157 纳米。第一个方向是通常思
路，摩尔定律过去 30 年就是这样进化的，但它的潜在风险也高，因为要依靠激光产业研发大功率
稳定的激光器，玻璃行业生产出大尺寸 157 纳米高透玻璃以及全新的光刻胶，而激光和玻璃需要
其他行业的配合不是光刻机公司自己可以完全掌控的。相对而言浸没式则比较简单，现成的激光
光源，光学镜头光刻胶， 需要解决的问题如何控制浸没罩水膜均匀没有气泡，水膜和光刻胶之间
不会产生颗粒以及干湿快速转换，这些技术都在光刻机公司可控范围之内。

实际发展情况是尼康选择了第一条路径 ASML 则选择第二条。结果大家都知道了，ASML 赢了。

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网上流传的故事是浸没式是台积电最先提出的，因为 ASML 和台积电关系好所以选择浸没式。这
个想法确实是台积电工程师先提出的，但当整个行业都在冲击摩尔定律的时候，成功是各个公司
追求的终极目标，“关系”在这里哪里会这么重要？这淡扯的有点大了。

真正的原因在于 ASML 的双工台。曝光用的是 193 纳米的激光， 但测量用的却是不同的光源，从

530 纳米的绿光到红光再到近红外远红外。ASML 的是双工台，测量工台是干式没有改变，只需要
集中全司之力将曝光工台变成湿台。而尼康是单工台，要把几乎是全波段的系统转变成湿工台而
且范围要大的多（测量系统在曝光镜头的外围）几乎是件不可能完成的任务，即使成功，整个机
器的速度质量也会比 ASML 的差得多。明白自己的先天缺陷，尼康只能把赌注压在 F2 激光上。事
实上直到今天 F2 激光也没有达到工业生产的级别。

当 ASML 的浸没式机型成功到达大规模生产的水平，这场历时 20 年的光刻机霸主之争事实上已经

结束。ASML 市场份额超过了 60%并继续提高。

• EUV 纪元，ASML 一骑绝尘，一统天下。

浸没式光刻机保证摩尔定律稳定地推进到 10 纳米的工艺。再往下则需要另一场革命。环顾四周
ASML 发现已经没有对手了只能孤军奋战挑战自我。

EUV 对于 ASML 甚至整个光刻行业都是一个全新的挑战。过去几十年曝光的光源无论是汞灯还是

KrF/ArF 激光器都是成熟的标准化产品，光刻机公司拿来用就可以了，芯片制造厂也可以自己选择
不同公司的激光器产品。但 EUV 光源是如此的复杂必须几家公司通力合作才能做出来。为了推进
EUV 的研发进程 ASML 不惜重金买下了美国的 CYMER 公司（这增加了美国公司在 AMSL 技术中的
份额可以让美国对 AMSL 发出禁运令）。

通常的问题是为什么 ASML 在 EUV 领域一家独大尼康佳能不投资 EUV 呢? 答案非常简单，太烧钱

了。过去十年 ASML 每年投入超过 10 亿欧元（100 亿人民币）在研发上，这可能已经相当于它的
竞争对手的年收入了。即使如此 EUV 的研发还是远远落后于行业的期待（或者说是摩尔定律的预
测），而且在 2005 到 2015 年间甚至一直在黑暗中摸索居然看不到一点光明的前途。以至于
ASML 在绝望之中差点放弃 EUV。 芯片制造三巨头（英特尔台积电三星）不干了，你退出了让咱
哥们还活不活了？这就是行业共同体，缺少任何一个环节整个供应链就断了。于是三家一起出资

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哄着 AMSL 继续往前拱。三巨头不仅出资还出力，原始机型不管好用不好用，拿过来咱哥们帮你
试用共同改进。

终于在 2016 年左右 EUV 取得了突破达到了量产的水平。于是 AMSL 的 EUV 光刻机立刻成了行业

的网红，每个人都在谈论 EUV，所有产品都被抢购一空以至 AMSL 不得不一再扩充产能。

• 孤独求败，ASML 称霸行业还能多久

人无千日好花无百日红。这些年我们经历过摩托罗拉诺基亚柯达，看着他们起高楼看着他们宴宾
客看着他们楼塌了。所以 ASML 人都有同一个问题，ASML 还能称霸行业多久？自从进入 EUV 世
代，摩尔定律的推进速度已经明显放慢，从以前的 18 个月翻一番到两年甚至三年翻一番，而且越
来越慢，按照现在的技术路径，接下来 10 年 EUV 将还是芯片厂家的宠儿。只要 EUV 还当红，
ASML 就还会一直称大。尼康佳能不可能再打入 EUV 市场，原因很简单，EUV 的需求量每年就那
几十台，新进者的收入将会远远抵不上他们的研发经费。

那么 ASML 就永世太平了？还是看看摩托罗拉诺基亚柯达，ASML 未来的颠覆者或者还在大学的研

究室或者还是几个人的初创公司或者一个现在完全不搭界的公司，总之那将是一个完全不同的黑
科技。

ASML 一方面拼尽全力扛着整个芯片行业沿着摩尔定律前进，另一方面用望远镜加显微镜在寻找
潜在的颠覆者。

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