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第 25 卷   第 2 期 液 晶 与 显 示 Vo

l.25,
No.2
2010 年 4 月 Ch
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文章编号:
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2010)
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全丝印后栅 犆犖犜
犉犈犇 仿真及器件研究
杨   雄,胡利勤,吴朝兴,陈   勇,林志龙,郭太良
(福州大学 物理与信息工程学院,福建 福州  350002,
Ema
il:
yangx
iong921@163.
com)

摘   要:模拟并制作了一种 基 于 丝 网 印 刷 技 术 的 后 栅 结 构 碳 纳 米 管 场 发 射 显 示 器。 采 用 有 限 元 分 析 软 件
ANSYS 对器件进行了电场模拟,优化 了 阴 极 宽 度、阴 极 厚 度、阴 极 间 隙、介 质 层 厚 度 等 结 构 参 数。 取 最 优 参
数制作了像素为 30×30,发光面积为 54mm×54mm 的单色显示屏。在阳压为 1500V、栅压为 300V 时,器
件发射电流密度达到 5μA/cm2 。该器件制作成本低,稳定性和均匀性良好,可矩阵寻址实现字符显示。
关   键   词:丝网印刷;后栅;
ANSYS;场发射显示器;仿真
中图分类号:TN873+ .
95    文献标识码:A


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三极结构 FED 可 分 为 前 栅 型 和 后 栅 型。 前 栅 结
1  引    言 构的优势在于栅 极 调 控 作 用 明 显,能 够 制 作 出 高
场发射显示器(
FED)是显示技术与真空 微电 亮度显示器件,但 其 工 艺 制 作 公 差 对 阴 极 发 射 特
子技术相结合的 产 物,被 认 为 是 最 有 可 能 真 正 与 性影响较大,特别是对介质层厚度、栅极开口尺寸
等离子体(
PDP)和液晶显示器件(
LCD)相竞争 的 和栅极对准精度 等 参 数 非 常 敏 感,在 厚 膜 工 艺 条

1]
平板显示器 。场发射显示器按有无栅极可 分为 件下,前栅结 构 很 难 实 现 大 面 积 均 匀 显 示。针 对
二极结构和三极结构。二极结构制作工艺简单但 前栅结构所存 在 的 问 题,
Samsung 公 司 提 出 了 后
需要较高的驱动电压,很难采用现成的集成电路, 栅三极结构。后栅结构中,栅极埋在阴极之下,利
使得驱 动 成 本 很 高。 三 极 结 构 由 于 增 加 了 栅 电 用栅极与阴极边 缘 的 强 电 场,使 阴 极 边 缘 的 场 发
极,可以采用较低驱动电压。按栅极位置的不同, 射源产生场致电子发射。此结构工艺制作公差对

   收稿日期:2009
09
08;修订日期:2009
10
27
   基金项目:国家“
863”计划平板显示重大专项( 2008AA03A313)
No.
作者简介:杨雄(
1984- ),男,湖南岳阳人,硕士研究生,主要研究纳米材料及场发射器件。
第2期 杨   雄,等:全丝印后栅 CNTFED 仿真及器件研究 1
 97

阴极发射特性影 响 较 小,可 全 部 采 用 丝 网 印 刷 工
艺实现,制作成本低,易实现大面积均匀显示[2,3]。 '()&$
$"
截止目前,国内外许多单位对后栅 FED 进行
#
了一些研究,但在 结 构 参 数 优 化 方 面 的 研 究 还 不
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够深入。本文采用有限元分析软件 ANSYS 对后
栅型场发射显示 器 进 行 了 电 场 模 拟,分 析 了 不 同 !"#$ "&

阴极 宽 度、阴 极 厚 度、阴 极 间 隙、介 质 层 厚 度 等 结 图 2  后栅型场发射显示器的静电场模型


构参数对阴极发射特性的影响。根据模拟结果选 F
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取最佳参数,采用 丝 网 印 刷 工 艺 制 作 了 后 栅 型 碳
纳米管场发 射 显 示 器 (
CNTFED)并 测 试 了 该 器 2  工作特性仿真
2.
件的场发射性能。 在场发射显示 器 中,阴 极 的 场 发 射 特 性 与 其
结构尺寸和电参 数 密 切 相 关,根 据 实 验 经 验 将 阴
2  器件仿真及制作 阳极间 距 犎 定 为 1000 μm,阳 极 电 压 犞a 定 为
1  仿真模型
2. 1500V,栅极电压 犞g 定 为 300 V,设 计 了 A、
B、
ANSYS 软 件 是 美 国 ANSYS 公 司 研 制 的 大 C、
D4 组单项 仿 真 实 验。如 表 1 所 示,每 组 实 验
型通 用 有 限 元 分 析 软 件,能 够 进 行 包 括 结 构、热、 只改变一个参数,在其他参数不变的情况下,分别
声、流体、电 磁 场 等 学 科 的 研 究。 本 文 利 用 AN 研究 了 阴 极 宽 度、阴 极 厚 度、阴 极 间 隙、介 质 层 厚
SYS 的电磁 场 分 析 功 能 对 后 栅 型 场 发 射 显 示 器 度等结构参数对 阴 极 表 面 电 场 分 布 的 影 响,不 同
的结构进行模拟 仿 真,后 栅 型 场 发 射 显 示 器 的 结 参数下的电场分布图如图 3 所示。
构如图 1 所示。根据实际结构的平面对称性创建 表 1 犃犖犛犢犛 实验模拟参数
了有限元二维模 型,如 图 2 所 示,其 中 犎 为 阴 阳 Tab
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极间距,
犠c 为阴极宽度,
犠 d 为阴极间距,
犜d 为介 犠c(
mm) 犜c(
mm) 犠 d(
编号 μm) 犜d(
μm)
犜c 为阴极厚度。
质层厚度,
A 1/1.
5/2 15 750 25
为了使问题简化,做以下假设:
B 100 10/15/20 750 25
1)各电极形状为长方体,电阻率为零;

C 100 10 0.
06~1.
2 25
2)忽略空间电荷对电场分布的影响;

D 100 10 800 20~70

3)介质层电阻为无穷大,无孔洞;

4)阴极表面无 CNT 等场发射材料。
由于阴极附 近 电 场 变 化 剧 烈,为 重 点 研 究 区 由仿真实验结果分析可知:
域,所以在有限元网络划分时,阴极附近区域网络 1)后栅型 FED 是 边 缘 型 场 发 射 器 件,阴 极

划分较密。远离阴极的区域,电位变化平缓,网格 表面的电场强度 由 电 极 中 间 向 边 缘 方 向 增 加,阴
划分较疏。利用 ANSYS 软件模拟出 不同 条件下 极边缘电场 最 强。 在 实 际 应 用 中,电 极 最 边 上 的
阴极表面电场的分布情况,得出模拟数据,最后将 点由于电场太强,可能造成瞬间电流过大,发热导
数据导入 Or
ign 软件画出电场分布图。
i 致材料脱落或烧毁,器件老炼一段时间后,最边上
的点可能成为无 效 发 射 点,故 在 研 究 各 项 参 数 对
!"#
$#% 阴极表面电场分布的影响时,不考虑最边缘的点,
$%& 这样得到的结果更接近实际情况。

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2)由图 3(
a)可知,在 设 定 参 数 范 围 内,随 着
'( 阴 极 宽 度 的 减 小,阴 极 表 面 电 场 整 体 逐 渐 提 高。
)*
结合当前丝印最小线宽为 100μm,故将阴 极宽度
+(
,"# 定为 100μm。
图 1  后栅型场发射显示器结构图 3)由图 3(
( b)可 知,阴 极 厚 度 对 阴 极 发 射 特

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teFED 性影响均较小,将阴极厚度定为 10μm,约 一次印

 98 液    晶    与    显    示 第 25 卷

刷的厚度。 mm,全屏显示面积为 54mm×54mm。



4)由图 3(
c)可知,在设定参数范围内随着阴 (
5)由 图 3(
d)可 知 ,介 质 层 厚 度 对 阴 极 发 射
极间隙增大,阴极表面电场整体逐渐提高。为研究 特 性 影 响 较 小 ,考 虑 到 介 质 层 的 实 际 耐 压 特 性 ,
方便,将阴极间隙参数定为 800μm,每根电极引线 将 介 质 层 厚 度 定 为 25 μm,约 为 印 刷 3 层 的
分叉引出两根阴极,每个像素面积为 1.
8mm×1.
8 厚度。

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图 3  器件参数对阴极表面电场分布的影响。(
a)阴极宽度对电场分布的影响;(
b)阴极厚度对电场分布的影响;(
c)阴 极
间隙对电场分布的影响;(
d)介质厚度对电场分布的影响 .

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3  器件制作
2. 射性能 [5]。前后基 板 对 准 封 接 后,对 显 示 屏 抽 真
根据上文 ANSYS 的 模 拟 结 果,取 阴 极 宽 度 空,在真空度约为 2×10-5 Pa 的条 件 下 封 离 排 气
为 100μm,阴 极 厚 度 为 10 μm,阴 极 间 隙 为 800 口,蒸散消气剂 [6]。

μm,介 质 层 厚 度 为 25 μm,阴 阳 极 间 距 为 1000


μm。根据显示 屏 结 构 参 数,制 作 了 像 素 为 30× ($)
30,发 光 面 积 为 54 mm×54 mm 的 单 色 显 示 屏 &' #$%
(图 4)。器 件 由 前 后 基 板 组 成,前 基 板 包 括 整 面
ITO 玻璃和荧光粉,后 基 板 包 括 栅 极、介 质 层、阴
极、
CNT 材料等。在器件 制 作 过 程 中,
CNT 材 料
的转移及其后处理尤为关键。本文首先采用酸化
及球磨工艺对单 壁 CNT 进 行 表 面 改 性 及 分 散 前 *+ !"

处理 [4],然 后 将 处 理 过 的 CNT 与 一 定 比 例 的 松
油醇和乙 基 纤 维 素 配 成 CNT 浆 料,通 过 丝 网 印
图 4  印刷型后栅 FED 实物图
刷转移到阴极表面。CNT 浆料经高 温烧结 后,采

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4 Pho
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f10cm×10cmunde
rga
teCNTFED
用胶带法 对 其 进 行 后 处 理,使 CNT 有 更 好 的 发
第2期 杨   雄,等:全丝印后栅 CNTFED 仿真及器件研究 1
 99

3  器件性能测试
图5为 制 作 完 后 的 显 示 屏 场 发 射 测 试 曲 线
图,在保持阳极电压 1500V 不变的情 况下,随着
栅极电压的 增 加,发 射 电 流 逐 渐 增 加。 栅 压 为 0
时没有发光亮点,随着栅极电压的升高,发射点密
度逐渐增加,发光亮度也明显提高,说明器件栅极
调控作用明显。当 栅 极 施 加 脉 宽 为 620μs、频 率
为 50 Hz、幅度为 300V 的扫描电压时,发射电 流
图 6  场发射测试发光图(
犞a =1500 V,
犞g =300 V,
犜=
达到 5μA/cm2 ,能实现整屏均匀显示。图 6 为器
18h)
件在阳压 1500V、栅压 30 条 件下 经 18h 测
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试对应的发光效果图,说明该器件稳定性良好。
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th犞a=1500V,
犞g=300V,
犜=18h.
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Anode)*8'&+( ! $##
voltage -
1500V
100
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1233(/' , !.

80
5# 4  结    论
60
6# 采用 ANSYS 软 件 对 丝 印 制 备 的 后 栅 CNT
Anode

40
7# FED 进行了电场模拟,分 析 了 各 结 构 参 数 对 电 场
20
"# 分布的影响,取 最 优 参 数 制 作 了 像 素 为 30×30、
发光面积为 54 mm×54 mm 的 单 色 显 示 屏。 阳
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!##
100 !$#
150 0#
"##
200 250 $#
"$# 300
4##
50 极施加固定 电 压 1500 V,栅 极 施 加 脉 宽 为 620
%&'( )*'&+( , -
Gate votage/V
图 5  丝网印刷后栅型 CNTFED 场发射测试曲线 μs、频率为 50 Hz、幅 度 为 300 V 的 扫 描 电 压 时,

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器件 有 较 好 的 显 示 效 果,发 射 电 流 达 到 5 μA/

Anodevo
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xeda 5kV)
t1. cm2 ,能实现整屏均匀显示,器件稳定性良好。

参   考   文   献:

[1 ]林志贤,徐胜,郭太良 .大屏幕低逸出功印刷型 VGA 级 FED 显示系统的研制 [


J].液晶与显示,2008,
23(
1):
58
62.
[2 ]Fenn
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犻犪狊,2008,
犾 17(
12):
2005
2009.
[3 ]Cho
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犻犪狊,
犾 2001,
10(
910):
1705
1708.
[4 ]陈秀云,叶芸,郭太良 .高 亮 度 碳 纳 米 管 背 光 源 的 制 备 及 特 性 研 究 [
J].福 州 大 学 报 (自 然 科 学 版 ),
2009,
37(
3):
372
375.
[5 ]Vi
nkTJ,
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ion [
J].
犃狆狆犾.犘犺狔.犔犲
狋狋.,
2003,
83(
17):
3552
3554.
[6 ]樊志琴,蔡根旺,王世建 .碳纳米管膜场发射三极管的制备及特性研究 [
J].液晶与显示,
2008,
23(
1):
30
34.

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