Nhóm: 01 Lớp: CN563E01

Họ tên các thành viên: MSSV:

1. Nguyễn Hà Sơn B2205739
2. Trần Thị Nhã Thư B2205743
3. Lê Văn Thịnh B2207436
4. Lê Hữu Danh B2207384
5. Phạm Phước Nguyên B2207412
6. Nguyễn Thanh Danh B2207385
7. Nguyễn Thị Ngọc Huỳnh B2205717
BÀI BÁO CÁO BÀI THỰC HÀNH 4.2 CHƯƠNG 4
BƯỚC 1. Xác định và trình bày vấn đề (1đ)
- Đối tượng thí nghiệm: Công thức khắc Wafer.
- Mục tiêu thí nghiệm: Tìm ra được công thức đạt tốc độ khắc tối ưu nhất.
- Giả thuyết: 4 mức công suất có tốc độ giống nhau, các khối nguyên liệu không có sự khác biệt.

BƯỚC 2. Chọn yếu tố, số mức (1đ)

- Tên yếu tố thí nghiệm: Công suất nguồn.
- Số mức: 4.
- Giá trị mức: 160, 180, 200, 220.

BƯỚC 3. Chọn biến đáp ứng (1đ)

- Tên biến đáp ứng: Tốc độ khắc Wafer.

BƯỚC 4. Chọn thiết kế thí nghiệm

- Tên phương pháp thiết kế (hoặc phân tích thí nghiệm): thiết kế đóng khối

BƯỚC 5. Tiến hành thí nghiệm (1đ)

- Bảng kết quả thí nghiệm:
Công suất nguồn (W)

Wafer 160 180 200 220

1 575 565 600 725

2 542 593 651 700

3 530 590 610 715

4 539 579 637 685

5 570 610 629 710

BƯỚC 6. Phân tích dữ liệu (3đ)
- Kết quả phân tích:

ANOVA: Tốc độ khắc versus Công suất nguồn (W). Wafer

Factor Type Levels Values

Công suất nguồn (W) fixed 4 160. 180. 200. 220

Wafer fixed 5 1. 2. 3. 4. 5

Analysis of Variance for Tốc độ khắc

Source DF SS MS F P

Công suất nguồn (W) 3 66870,6 22290,2 62,37 0,000

Wafer 4 1050,5 262,6 0,73 0,586

Error 12 4288,7 357,4

Total 19 72209,8

S = 18,9048 R-Sq = 94,06% R-Sq(adj) = 90,60%

Residual Plots for Tốc độ khắc

óKết quả phân tích thí nghiệm có 1 yếu tố làm phiền

ANOVA: Tốc độ khắc versus Công suất nguồn (W)

Factor Type Levels Values

Công suất nguồn (W) fixed 4 160. 180. 200. 220

Analysis of Variance for Tốc độ khắc

Source DF SS MS F P

Công suất nguồn (W) 3 66871 22290 66,80 0,000

Error 16 5339 334

Total 19 72210

S = 18,2675 R-Sq = 92,61% R-Sq(adj) = 91,22%

Residual Plots for Tốc độ khắc

óKết quả phân tích thí nghiệm không có yếu tố làm phiền
Fisher Pairwise Comparisons
Grouping Information Using the Fisher LSD Method and 95% Confidence

Công suất nguồn

(W) N Mean Grouping

220 5 707,00 A

200 5 625,40 B

180 5 587,40 C

160 5 551,20 D

Means that do not share a letter are significantly different.

Fisher Individual Tests for Differences of Means

Difference Difference SE of Adjusted

of Levels of Means Difference 95% CI T-Value P-Value

180 - 160 36,2 11,6 ( 11,7. 60,7) 3,13 0,006

200 - 160 74,2 11,6 ( 49,7. 98,7) 6,42 0,000

220 - 160 155,8 11,6 (131,3. 180,3) 13,49 0,000

200 - 180 38,0 11,6 ( 13,5. 62,5) 3,29 0,005

220 - 180 119,6 11,6 ( 95,1. 144,1) 10,35 0,000

220 - 200 81,6 11,6 ( 57,1. 106,1) 7,06 0,000

Simultaneous confidence level = 81,11%

Biểu đồ Residual for Tốc độ khắc dựa vào 1 yếu tố làm phiền
 Biểu đồ Residual for Tốc độ khắc không có yếu tố làm phiền

BƯỚC 7. Kết luận (3đ)

-Kết luận rút ra:

●P- value < α ( 0,000 < 0,05) => Phủ định giả thuyết Ho => Có sự khác biệt giữa 4 mức công suất.
●Giữa các khối nguyên liệu: P- value > α ( 0,586 > 0,05 ) => Giả thuyết Ho đúng
-Kết quả so sánh:
• 180 – 160: P- value < α ( 0,006 < 0,05 ) => 2 mức công suất có tốc độ khác nhau.
• 200 – 160: P- value < α ( 0,000 < 0,05 ) => 2 mức công suất có tốc độ khác nhau.
• 220 – 160: P- value < α ( 0,000 < 0,05 ) => 2 mức công suất có tốc độ khác nhau.
• 200 – 180: P- value < α ( 0,005 < 0,05 ) => 2 mức công suất có tốc độ khác nhau.
• 220 – 180: P- value < α ( 0,000 < 0,05 ) => 2 mức công suất có tốc độ khác nhau.
• 220 – 200: P- value < α ( 0,000 < 0,05 ) => 2 mức công suất có tốc độ khác nhau.
-Ý nghĩa thực tế:
•Tốc độ khắc của 4 mức công suất có sự khác biệt.
•Các khối nguyên liệu không làm ảnh hưởng tới kết quả thí nghiệm.
•Dựa vào kết quả so sánh: Tốc độ khắc tăng dần theo thứ tự các mức công suất: 160 – 180 – 200 – 220.
Mức 220 có tốc độ khắc cao nhất.