Nhóm: 01 Lớp: CN563E01

Họ tên các thành viên: MSSV:

1. Nguyễn Hà Sơn B2205739
2. Trần Thị Nhã Thư B2205743
3. Lê Văn Thịnh B2207436
4. Lê Hữu Danh B2207384
5. Phạm Phước Nguyên B2207412
6. Nguyễn Thanh Danh B2207385
7. Nguyễn Thị Ngọc Huỳnh B2205717

BÀI BÁO CÁO BÀI THỰC HÀNH 6.1 CHƯƠNG 6

BƯỚC 1. Xác định và trình bày vấn đề (1đ)
- Đối tượng thí nghiệm: quá trình sản xuất wafers
- Mục tiêu thí nghiệm: tìm ra quy trình sản xuất wafers tối ưu nhất
- Giả thuyết: tốc độ khắc wafers không phụ thuộc vào Gap, C2F6 flows, Power
+ Khoảng cách giữa các điện cực (Gap) không ảnh hưởng đến quá trình sản xuất
+ Tốc độ dòng chảy C2F6 (C2F6 flows) không ảnh hưởng đến quá trình sản xuất
+ Công suất (Power) không ảnh hưởng đến quá trình sản xuất
+ Sự tương tác giữa các yếu tố cũng không ảnh hưởng đến quá trình sản xuất
BƯỚC 2. Chọn yếu tố, số mức (1đ)
- Tên yếu tố thí nghiệm: Gap, C2F6 flows, Power
- Số mức: Mỗi yếu tố có 2 mức
- Giá trị mức:
Gap (cm) C2F6 flows (sccm) Power (W)
1 0.8 125 275
2 1.2 200 325

BƯỚC 3. Chọn biến đáp ứng (1đ)

- Tên biến đáp ứng: tốc độ khắc wafers
BƯỚC 4. Chọn thiết kế thí nghiệm
-
Tên phương pháp thiết kế (hoặc phân tích thí nghiệm): phân tích ANOVA cho
thiết kế giai thừa 2k
BƯỚC 5. Tiến hành thí nghiệm (1đ)
- Bảng kết quả thí nghiệm:
 Gap C2F6 flows Power Tốc độ khắc
0.8 125 275 550
1.2 125 275 669
0.8 200 275 633
1.2 200 275 64
0.8 125 325 1037
1.2 125 325 749
0.8 200 325 1075
1.2 200 325 729
0.8 125 275 604
1.2 125 275 650
0.8 200 275 501
1.2 200 275 635
0.8 125 325 1052
1.2 125 325 868
0.8 200 325 1063
1.2 200 325 860

BƯỚC 6. Phân tích dữ liệu (3đ)

- Kết quả phân tích:
- Factorial Regression: Tốc độ khắc versus Gap, Gas flow, Power

Analysis of Variance

Source DF Seq SS Contribution Adj SS Adj MS F-Value P-

Value
Model 7 513400 96.61% 513400 73343 32.56
0.000
Linear 3 416378 78.35% 416378 138793 61.62
0.000
Gap 1 41311 7.77% 41311 41311 18.34
0.003
Gas flow 1 218 0.04% 218 218 0.10
0.764
Power 1 374850 70.54% 374850 374850 166.41
0.000
2-Way Interactions 3 96896 18.23% 96896 32299 14.34 0.001
Gap*Gas flow 1 2475 0.47% 2475 2475 1.10 0.325
Gap*Power 1 94403 17.76% 94403 94403 41.91 0.000
Gas flow*Power 1 18 0.00% 18 18 0.01
0.931
3-Way Interactions 1 127 0.02% 127 127 0.06
0.819
Gap*Gas flow*Power 1 127 0.02% 127 127 0.06
0.819
Error 8 18021 3.39% 18021 2253
Total 15 531421 100.00%
Model Summary

S R-sq R-sq(adj) PRESS R-sq(pred)

47.4612 96.61% 93.64% 72082 86.44%

Coded Coefficients

Term Effect Coef SE Coef 95% CI T-Value P-Value

VIF
Constant 776.1 11.9 ( 748.7, 803.4) 65.41 0.000
Gap -101.6 -50.8 11.9 ( -78.2, -23.5) -4.28 0.003
1.00
Gas flow 7.4 3.7 11.9 ( -23.7, 31.0) 0.31 0.764
1.00
Power 306.1 153.1 11.9 ( 125.7, 180.4) 12.90 0.000
1.00
Gap*Gas flow -24.9 -12.4 11.9 ( -39.8, 14.9) -1.05 0.325
1.00
Gap*Power -153.6 -76.8 11.9 (-104.2, -49.5) -6.47 0.000
1.00
Gas flow*Power -2.1 -1.1 11.9 ( -28.4, 26.3) -0.09 0.931
1.00
Gap*Gas flow*Power 5.6 2.8 11.9 ( -24.5, 30.2) 0.24 0.819
1.00

Regression Equation in Uncoded Units

Tốc độ khắc = -6487 + 5355 Gap + 6.6 Gas flow + 24.1 Power - 6.2 Gap*Gas flow

- 17.8 Gap*Power - 0.0161 Gas flow*Power
+ 0.0150 Gap*Gas flow*Power

Alias Structure

Factor Name

A Gap
B Gas flow
C Power
Aliases

I
A
B
C
AB
AC
BC
ABC

Means

Fitted
Term Mean SE Mean
Gap
0.8 826.9 16.8
1.2 725.3 16.8
Gas flow
125 772.4 16.8
200 779.8 16.8
 Power
275 623.0 16.8
325 929.1 16.8
- Effects Pareto for Tốc độ khắc
- Residual Plots for Tốc độ khắc

Pareto Chart of the Standardized Effects

(response is Tốc độ khắc, α = 0.05)
Term 2.31
Factor Name
C A Gap
B Gas flow
C Power
AC

AB

ABC

BC

0 2 4 6 8 10 12 14
Standardized Effect

Residual Plots for Tốc độ khắc

Normal Probability Plot Versus Fits
99
50
90
25
Residual
Percent

50 0
-25
10
-50
1
-100 -50 0 50 100 600 700 800 900 1000
Residual Fitted Value

Histogram Versus Order

8
50
6
Frequency

25
Residual

4 0

-25
2
-50
0
-60 -40 -20 0 20 40 60 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16
Residual Observation Order

Factorial Regression: Tốc độ khắc versus Gap, Power

Analysis of Variance
Source DF Seq SS Contribution Adj SS Adj MS F-Value P-Value
Model 3 510563 96.08% 510563 170188 97.91 0.000
Linear 2 416161 78.31% 416161 208080 119.71 0.000
Gap 1 41311 7.77% 41311 41311 23.77 0.000
Power 1 374850 70.54% 374850 374850 215.66 0.000
2-Way Interactions 1 94403 17.76% 94403 94403 54.31 0.000
Gap*Power 1 94403 17.76% 94403 94403 54.31 0.000
Error 12 20858 3.92% 20858 1738
Lack-of-Fit 4 2837 0.53% 2837 709 0.31 0.860
Pure Error 8 18021 3.39% 18021 2253
Total 15 531421 100.00%

Model Summary

S R-sq R-sq(adj) PRESS R-sq(pred)

41.6911 96.08% 95.09% 37080.4 93.02%

Coded Coefficients

Term Effect Coef SE Coef 95% CI T-Value P-Value VIF

Constant 776.1 10.4 (753.4, 798.8) 74.46 0.000
Gap -101.6 -50.8 10.4 (-73.5, -28.1) -4.88 0.000 1.00
Power 306.1 153.1 10.4 (130.4, 175.8) 14.69 0.000 1.00
Gap*Power -153.6 -76.8 10.4 (-99.5, -54.1) -7.37 0.000 1.00

Regression Equation in Uncoded Units

Tốc độ khắc = -5415 + 4355 Gap + 21.49 Power - 15.36 Gap*Power

Alias Structure
Factor Name

A Gap
B Gas flow
C Power
Aliases

I
A
C
AC
Fits and Diagnostics for Unusual Observations

Tốc độ
Obs khắc Fit SE Fit 95% CI Resid Std Resid Del Resid HI Cook’s
D
8 729.0 801.5 20.8 (756.1, 846.9) -72.5 -2.01 -2.36 0.25
0.34

Obs DFITS
8 -1.36216 R

R Large residual
Means

Fitted
Term Mean SE Mean
Gap
0.8 826.9 14.7
1.2 725.3 14.7
Power
275 623.0 14.7
325 929.1 14.7
Effects Pareto for Tốc độ khắc
Residual Plots for Tốc độ khắc
Pareto Chart of the Standardized Effects
(response is Tốc độ khắc, α = 0.05)
Term 2.18
Factor Name
A Gap
B Gas flow
C C Power

AC

0 2 4 6 8 10 12 14 16
Standardized Effect

Residual Plots for Tốc độ khắc

Normal Probability Plot Versus Fits
99 80

90 40
Residual
Percent

50 0

10 -40

1 -80
-100 -50 0 50 100 600 700 800 900 1000
Residual Fitted Value

Histogram Versus Order

80
6.0

4.5 40
Frequency

Residual

3.0 0

1.5 -40

0.0 -80
-80 -60 -40 -20 0 20 40 60 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16
Residual Observation Order

BƯỚC 7. Kết luận (3đ)

- Kết luận rút ra (dựa vào cơ sở nào):
 Dựa vào biểu đồ Pareto cho ta thấy Gap, Power và tương tác giữa các yếu
tố có ảnh hưởng đến tốc độ của quá trình khắc Wafers
  Sự ảnh hưởng:
 Gap: P-value <α (0,003<0,05)  có sự ảnh hưởng của yếu tố Gap
trong quá trình sản xuất
 Power: P-value <α (0<0,05)  có sự ảnh hưởng của yếu tố Power
trong quá trình sản xuất (ảnh hưởng lớn nhất)
 Gap*Power: P-value<α (0<0,05) có sự ảnh hưởng của yếu tố
Gap*Power trong quá trình sản xuất
- So sánh 2 phương trình hồi quy: phương trình hồi quy khi được đưa yếu các giá trị
thực tế vào so với khi sử dụng giá trị mã hóa có tốc độ tính toán tiện hơn vì ta không cần
phải sử dụng phương trình hồi quy để thế vào các giá trị x mà thayvào đó ta sử dụng các
giá trị trong khoảng của các yếu tố ban đầu.
- Ý nghĩa thực tế:
+ Gap, Power có ảnh hưởng đến quá trình sản xuất Wafers
+ Tương tác giữa Gap và Power có ảnh hưởng đến quá trình sản xuất Wafers
+ C2F6 flows không ảnh hưởng đến quá trình khắc Wafers