II.

Khí make up

1. Khái niệm

- Khí make up (make up gas) thường là He và N 2, là một dòng khí tốc độ cao được
đưa vào từ phía sau cột sắc ký để tăng độ nhạy.

2. Vai trò

- Khí make up làm giảm nồng độ của khí ra khỏi cột và làm tăng nhiệt độ của ngọn
lửa ion hoá, giúp tăng độ nhạy của detector. Muốn tối ưu hóa khí make up để có độ
nhạy tối đa cần bơm một lượng thành phần cố định và sử dụng các luồng khí make up
khác nhau tùy theo chất phân tích và detector.

- Làm sạch, độ lặp lại tốt hơn, tăng tuổi thọ của detector.
- Các tín hiệu của các máy dò phản ứng dòng chảy khối lượng (như FID) (flam
ionization detecter - Máy dò ion hóa ngọn lửa) không bị ảnh hưởng bởi khí make up,
trong khi các máy dò phản ứng dòng chảy nồng độ (như TCD) (thermal conductivity
detector - Đầu dò dẫn nhiệt) xuất hiện tín hiệu của sự pha loãng khí. Do đó, các loại
máy dò TCD cần giảm thiểu khí make up.

3. Các lựa chọn khí make up

- Nên chọn khí make up không làm ảnh hưởng đến sự cân bằng nhiên liệu, chất oxy
hóa và trơ với máy dò để không ảnh hưởng đến các dữ liệu về nồng độ của các chất
cần đo.

- Đối với ECD (Electron Capture Detector - Detector cộng kết điện từ) dùng khí mang
là He thì phải dùng khí make up là N 2, và cần loại bỏ triệt để O 2 nếu không sẽ giảm độ
nhạy do O2 sẽ lấy bớt điện tử làm tăng tín hệu nền.

- Tỷ lệ khí make up tối ưu cho detector FID thường là H 2:N2:KK = 1:1:10 theo thể
tích.

- Ngày nay, N2 ngày càng được sử dụng phổ biến hơn He do

+ He đắt tiền, nguồn cung cấp phụ thuộc vào nhà sản xuất và các yếu tố cung-cầu của
các quốc gia.
+ N2 ít tốn kém hơn, N2 dễ dàng được cung cấp từ việc tách không khí (có thể tạo ra
trong phòng thí nghiệm hoặc nhà máy tạo khí), N 2 cũng giúp xác định rõ hơn hình
dạng của ngọn lửa trong máy dò FID.

Nguồn:

https://blog.restek.com/why-use-make-up-gas-in-gc/#:~:text=%E2%80%9CMake
%20up%E2%80%9D%20gas%20is%20a,improve%20sensitivity%3A%20check
%20the%20manuf.

https://www.labmanager.com/laboratory-technology/selecting-makeup-gas-for-gc-
with-fid-20781

https://www.parker.com/literature/Balston%20Filter/AGS/AGS%20Technical
%20Articles/PDFs/N2_Makeup_Gas_WP.pdf