기획특집 유량계의 전망과 산업의 적용

질량유량계(MFC)와 Control v/v,

Evaporation System
장 양 돈 / 영 흥 산 업 (주 ) 영 업 3 팀 장
yhc@youngheung.com

개요 ③ 응답성 : Flow 조절 시 반응이 빨라야 한다.

질량유량계(Mass Flow Controller : MFC)는
현재 많이 사용하는 약어를 MFC라 칭하여 사용한
다.
기존의 MFC는 반도체 공정의 정밀유량조절기
로써 주로 사용되었으나 수 년 전부터 각 연구소,
실험실 및 산업플랜트 등으로 확산되어 현재는 산
업 전분야에 걸쳐 Air, O2를 비롯한 모든 GAS 플
랜트의 유량지시 및 유량제어의 목적으로 사용된
다. 또한 기존의 Control v/v에 의존하던 소각로,
매립지나 대형반응가스에 적용 가능한 대용량의
MFC들이 출시됨에 따라 편리성과 높은 정밀도,
저렴한 가격으로 점점 Control v/v의 시장을 잠식
해 가는 추세이며, 질량유량계의 구조와 원리는 언
급된 바가 있기 때문에 생략하기로 한다.
④ 조절범위 : 사용범위의 최소와 최대는 단1%
라도 그 오차의 범위는 크다.
추가적으로 주의할 점은 사용압력과 온도 등을
미리 체크하여야 한다는 것이다.
(1) MFC란 무엇인가?
Mass Flow Controller의 약자이며, 말 그대로
질량유량계이다. Mass(질량)란 압력과 온도에 의
한 편차가 없기 때문에 사용자들이 변하지 않는 질
량을 이용하여 체적단위로 이 단위를 표시한다. 이

질량유량계 선정 시 주의점

사용자의 입장에서 유량계 선정 시 가장 주의할

점 몇 가지를 살펴보자.
① A/S : 언제 어디서든 완벽하고 신속한 A/S
가 필수여야 하며 외국 제품이지만 국내에서
수리 및 모든 작업이 가능하여야 한다.
② 정밀도 : Data가 완벽해야 한다. 그림 1
 질 량 유 량 계(MFC)와 C o n t r o l v / v , E v a p o r a t i o n S y s t e m

체적단위를 표시하는 기준은 2가지가 사용된다.

•0℃ 1기압 시의 체적유량
•20℃ 1기압 시의 체적유량

물론 사용자는 사용할 MFC가 어떤 조건인지 반

드시 알아야 하며, 이 온도차에 의한 체적의 변화를
%로 나타낸다면 7.5% 정도의 차가 있다는 것을
명심해야 한다.
다시 한 번 요약한다면 변하지 않는 질량을 일정
한 조건을 기준으로 체적으로 표시하여 그 유량을
그림 2
원하는 Flow로 조절한다는 뜻이다. 질량표시 및 조
절은 어떤 기체나 액체 모두 가능하기 때문에 미소
유량계에서 시작하여 현재는 대용량인 Control 미터링Pump나 실린지Pump의 미세한 흔들림까지
v/v의 위치 또한 바꾸어 놓고 있다. 도 보완하여 분당 0.1g의 유량조절 시에도 전혀 흔
•기 체 MFC유 량 범 위 : 0.006 들림이 없이 완벽하게 감지하고 맥동이 전혀 없이
SCCM~16,000 ls/m 조절할 수 있기 때문에 가장 각광받고 있다. V.O.C
의 ppm농도를 맞추기 위해 최근에 아주 광범위하
(2) LFC(Liquid Mass Flow Controller) 게 사용되고 있으며, 반도체 분야에서도 MOCVD
액 체 용 Flow Controller로 써 장비의 액체를 기화하기 위한 Evaporizer 시스템
0.001g/m~5kg/m 까지 액체용 LFC는 기존의 과 함께 많은 인기를 얻고 있다.

“CEM”-System, Controlled Evaporation Mixing Classical Bubbler System

A liquid/gas mass flow

controlled mixing
system
with subsequent
evaporation into
almospheric,
pressurized
or vacuum processes

그림 3

LIQUI GAS

기화된 FLOW

그림 4
 기획특집 유량계의 전망과 산업의 적용

다.

TM
Mixing Evaporation System이란
valve

TEO
고전적으로 사용하던 버블링
Reactor
시스템을 현대화하였으며
TMS
MFC
Liquid MFC에서 Flow를 조
LIQUI-FLOW
절 한 후 Carrier Gas와
그림 5. Monomer control in planarization processes Mixture된 후 Evaporator에
with
subsequwnt evaporation(CVD, MOCVD 적용사례)
들어간다.
Evaporator에 들어간 액체
Process Technique Fiuid
는 분사되면서 Control Box의
Planarization BPSG
Steam Oxidation Thermal Decomposition
TEOS, Tomcats, TMP, TMB
H2O
Tem 조절기를 통해 온도를
Metal Deposition MOCVD Liquid Precursorsi : Ti, Al, Pb
Metal Compound MOCVD Liquid Precursorsi : CupraSelectTM
Setting하면 즉시 기화된 후
Deposition Etching Thermal Decompositions Trichioroethane, TransLC
High-Temperature Suger CVD H2O 배출구로 나온다.
Conductors Thermal Decompositions TiCi, SiCl, VaCl
Hardening CVD HMDS, TEOS etc,
Thin Film Silicon Layers(optical) CVD TiCl4, TDEAT
Surface Treatement 중요한 것은 그 기화된 양이
그림 6. CVD(Chemical Vapour Deposition, CVD, MOCVD 적용사례) 일정하다는 것이다.
그렇기 때문에 그 동안 수없
이 V.O.C 농도를 체크하려던
(3) Evaporation System
많은 사용자에게 각광을 받기 시작했으며 반도체
본고에서는 영흥산업이 취급하는 제품인
MOCVD 및 MVD 장비 및 다른 응용분야에서도
BRONKHOST Hi-Tec(네덜란드) 제품을 소개한
이 성능에 놀라워 하고 있다.

Defined Humidification of Gases

The“CEM”system is ideally suited to the accurate adjustment of dew or
Gas H2O
moisture. The intrinsic charateristics of large dynamic range and high
accuracy ensure that the moisture level can be controlled with great
flexibility from only a few ppm up to virtually 100%, whilst also CEM
maintaining a very high stability in dew-point. Full functionality is
retained
reactor
with operating pressures as high as 64 bar. Chamber
cell

그림 7. V.O.C 및 연료전지 시스템 적용사례

Calibration of Gas Chromatographs, Mass Spectrometers

and Gas Sensor
N2
Throung the combination of LIQUI-FLOWⓇ Mass Flow Controllers MFC
and the“CEM”System, gas phase concentrations can be produced as
CO CEM
desired. MFC
Thus Mass Spectrometers or Gas Chromatographs can be calibrated
as the reference stream from the CEM is both highly reproducible CO2 gas Chromatographs,
MFC Mass Spectrometers
and highly Mixing gases
or Gas Sensors

accurate due to the direct action of the Mass Flow Controllers.

그림 8. G.C Calibrators 적용사례