Professional Documents
Culture Documents
Šerardiziranje
Šerardiziranje (engl. sherardizing) je difuzijski
postupak stvaranja površinskog sloja intermetalnog
spoja željezo-cink na čeličnim predmetima u inertnom
mediju i smjesi praha (90 % cinka i 10 % cinkovog
oksida). Čelični predmeti se stavljaju u zatvorene
rotirajuće bubnjeve (brzine rotacije 4 o/min) na
temperaturi od 320-500°C u trajanju od 3 do 4 sata.
Rezultirajuća prevlaka legure željezo-cink je
pasivizirana i mat sive boje površine.
Alitiranje
Alitiranje (engl. calorising) je termokemijski proces difuzijskog obogaćivanja površinskog
sloja niskougljičnog čelika i lijevanog željeza (sivog lijeva) aluminijem u smjesi praha
aluminija i aluminijevog oksida. Alitiranjem se dijelovi u čeličnim kutijama zatrpaju
smjesom praha (49% FeAl + 49% Al2O3 + 2% NH4Cl amonijevog klorida) i žare na
temperaturi od 950 do 1050°C u trajanju od 3 do 12 sati. Alitriranjem se stvaraju slojevi
intermetalnog spoja željezo-aluminij na površini predmeta.
KRETANJE ATOMA U MATERIJALIMA
Kromiranje
6 Kromiranjem (engl. chromising) se zaštičuje željezo od
korozije u vrućim plinovima, vodi vlažnoj atmosferi itd.
Kromiranje je termokemijski proces difuzijskog
obogaćivanja površinskog sloja niskougljeničnih i alatnih
čelika kromom zagrijavanjem u odgovarajućoj sredini.
Ovim postupkom se dobije površinski sloj čelika visoke
tvrdoće, otpornosti na trošenje, toplinsku postojanost i
otpornost na koroziju u sredinama kao što je morska
voda ili dušična kiselina.
Siliciranje
Siliciranje (engl. siliconising) je termokemijski proces difuzijskog obogaćivanja
površinskog sloja srednjeugljičnih čelika silicijom. Cilj procesa siliciranja čelika je
dobivanje visoke otpornosti na koroziju (u morskoj vodi, dušičnoj, sumpornoj i solnoj
kiselini) i povećanje otpornosti prema oksidaciji do 700°C, i uz relativno malo
povećanje otpornosti prema habanju. Obično se obavlja na dijelovima uređaja u
kemijskoj industriji i proizvodnji nafte. Siliciranje se izvodi obično u plinovitoj sredini
razlaganjem para SiCl4 na 950–1050°C u trajanju 2–5 sati. Struktura siliciranog sloja
je čvrst rastvor silicija u α–Fe. Dubina sloja iznosi 0,3–1 mm, a tvrdoća 200–300 HV.
Postoje dva važna mehanizma difuzije atoma
1. Difuzija vakancija
Vakancija odsutnos atoma u
kristalnoj rešetci
7
1. Rast zrna
2. Difuzijsko spajanje
3. Sintriranje
DIFUZIJA I PROCESI PROIZVODNJE MATERIJALA
Rast zrna
Materijal sastavljen od mnogo zrna sadrži veliki broj granica zrna.
10
Granica zrna predstavlja površinu velike energije u materijalu, zbog
neefikasnog rasporeda atoma.
Potrebna je difuzija atoma preko granica zrna.
Rast zrna je u odnosu s aktivacijskom energijom, koja je potrebna da bi
jedan atom preskočio preko granice zrna.
Visoke temperature ili niska energija aktivacije povećavaju veličine
zrna. Mnoge toplinske obrade, koje se izvode na visokim temperaturama,
moraju biti pažljivo kontrolirane da bi se izbjegao pretjeran rast zrna.