Mở Đầu

Trong đời sống của công nghiệp hóa - hiện đại hóa thì ứng dụng của
truyền nhiệt trong công nghiệp là điều không thể thiếu ở mỗi quốc gia,
đặc biệt là quốc gia đã và đang phát triển.
Truyền nhiệt là quá trình truyền nhiệt giữa các vật có nhiệt độ khác
nhau khi chúng tiếp xúc với nhau. Theo định luật nhiệt động II, nhiệt ở
đây chỉ có thể dẫn từ vật có nhiệt độ cao hơn tới vật có nhiệt độ thấp
hơn. Quá trình truyền nhiệt bằng dẫn nhiệt có thể xảy ra trong vật rắn,
chất lỏng và chất khí. Nhưng lưu ý rằng trong vật rắn sẽ xảy ra sự dẫn
nhiệt thuần túy, còn trong chất lỏng và chất khí ngoài truyền nhiệt bằng
dẫn nhiệt sẽ còn có truyền nhiệt bằng đối lưu hay bức xạ.
Từ những tính chất vật lí truyền nhiệt đã áp dụng vào những ngành
công nghiệp như : ngành công nhiệp vô cơ - hữu cơ, sản xuất gốm sứ,
hóa dầu, polymer, phân hóa học, chất nổ, nước hoa và hương vị,... Và để
hoàn thiện công việc trong các ngành công nghiệp thì truyền nhiệt được
đưa vào trong các quy trình hoạt động sản xuất, một trong số những quy
trình cực kì quan trọng và bám sát với chủ đề của truyền nhiệt ta phải kể
tới quy trình cô đặc.
II. Nghiên cứu quy trình truyền nhiệt trong quy trình cô đặc
2.1) các thiết bị TDN trong quy trình cô đặc điển hình
- Thiết bị trao đổi nhiệt :
Quá trình truyền nhiệt giữa các lưu chất với nhau thông qua các thiết bị
đã được con người sử dụng từ rất lâu để ứng dụng vào các quá trình sản
xuất. Do thông thường, nhiệt có thể tồn tại ở các trạng thái không mong
muốn nên cần phải được chuyển đổi thành các trạng thái phù hợp với
mục đích sử dụng. Từ đây, các thiết bị trao đổi nhiệt ra đời với nhiều
chủng loại khác nhau, phù hợp với từng quá trình sản xuất.

Có thể hiểu đơn giản thiết bị trao đổi nhiệt là một thiết bị dùng để
truyền nhiệt từ một nơi, một chất, một môi trường này sang một nơi,
một chất, một môi trường khác. Tùy vào các mục đích khác nhau mà quá
trình có thể là làm lạnh hoặc làm nóng.
- cách thức trao đổi nhiệt :
 Dựa trên cách thức trao đổi nhiệt, thiết bị trao đổi nhiệt có thể chia làm
hai loại là trao đổi trực tiếp hay gián tiếp. Trực tiếp có thể là các quá
trình làm mát nước bằng không khí, nơi mà hai hệ tương tác trực tiếp
với nhau. Gián tiếp có thể là các quá trình trao đổi nhiệt thông qua bề
mặt kim loại, nơi mà hai hệ không tiếp xúc trực tiếp với nhau.
Trong đó thì quá trình trao đổi nhiệt gián tiếp thông qua bề mặt kim
loại là phổ biến hơn vì chúng phòng tránh được sự nhiễm bẩn giữa hai
môi trường, từ đó làm cho quá trình trở nên hiệu quả hơn.
Hiện nay, quá trình công nghiệp hóa – hiện đại hóa diễn ra với tốc độ
chóng mặt đòi hỏi các quá trình truyền nhiệt cũng phải được cải tiến
theo để phù hợp với các ứng dụng mới và đặc thù. Các thiết bị trao đổi
nhiệt cũng vì đó mà phải luôn được cải tiến, làm mới để các quá trình
diễn ra nhanh hơn, an toàn hơn và hiệu quả hơn.

- Các thiết bị trao đổi nhiệt :

Các thiết bị trao đổi nhiệt ngày càng được ứng dụng nhiều hơn trong
ngành thực phẩm là vì nhu cầu ngày một cao của con người về các sản
phẩm chất lượng. Thực phẩm và đồ uống nếu được xử lý nhiệt một cách
triệt để sẽ loại bỏ đi được các vi khuẩn, vi sinh vật có hại, từ đó sẽ kéo
dài thời gian bảo quản sản phẩm cũng như làm gia tăng chất lượng của
chúng.
Bên cạnh đó, các quá trình truyền nhiệt cũng cần phải nhanh chóng và
hiệu quả để hạn chế tối đa các ảnh hưởng đến chất lượng dinh dưỡng và
mặt cảm quan của sản phẩm, đồng thời cũng giảm thiểu được chi phí
nhiên liệu và tiết kiệm thời gian.
Trong ngành thực phẩm và đồ uống, có rất nhiều dạng thiết bị trao đổi
nhiệt được sử dụng, tiêu biểu là 3 dòng thiết bị sau đây:
+ Thiết bị trao đổi nhiệt dạng lồng ống
 Là dạng thiết bị cơ bản nhất trong các quá trình trao đổi nhiệt. Thiết bị
trao đổi nhiệt ống lồng ống được thiết kế bao gồm một ống nhỏ được
định vị đồng tâm và đặt bên trong một ống lớn hơn. Thiết kế ống kép
như vậy cho phép dòng lưu chất chảy không hạn chế, rất phù hợp để
ứng dụng cho các sản phẩm có độ nhớt cao. Trong ngành thực phẩm, nó
được ứng dụng để trao đổi nhiệt cho các sản phẩm như mật ong, mứt,
bánh kẹo.
+ Thiết bị trao đổi nhiệt dạng ống trùm

Là một trong những dạng phổ biến và thường gặp trong ngành chế biến
thực phẩm. Nó có cấu tạo gồm nhiều ống nhỏ được bó với nhau thành
một chùm ống và được bọc bên trong một vỏ ống lớn. Với thiết kế như
vậy sẽ làm gia tăng hiệu quả trao đổi nhiệt giữa hai lưu chất. Dạng thiết
bị này được sử dụng rất nhiều trong ngành chế biến sữa, nó được dùng
để thanh trùng hay tiệt trùng sữa. Ngoài ra, thiết bị này còn được dùng
để làm nóng các dạng thực phẩm khác như tương cà, tương ớt,
chocolate,  dầu thực vật,…
+ Thiết bị trao đổi nhiệt dạng tấm
 Là dạng thiết bị trao đổi nhiệt cũng khá phổ biến trong ngành chế biến
thực phẩm, được sử dụng rất nhiều trong các hệ cô đặc nhiều nồi. Đặc
điểm lớn nhất của thiết bị dạng này là có diện tích bề mặt truyền nhiệt
lớn. Từ đó cho ra hiệu suất trao đổi nhiệt cao, cũng như kích thước nhỏ
gọn hơn rất nhiều so với dạng ống chùm. Thiết bị trao đổi nhiệt dạng
tấm phù hợp với ứng dụng trao đổi nhiệt của các chất lỏng với áp suất
thấp, độ nhớt thấp. Tuy nhiên, nó cũng có nhược điểm là sẽ cần phải vệ
sinh thường xuyên nếu trao đổi nhiệt cho các lưu chất có chứa chất xơ,
cặn, dễ bám dính trong các khe hở của tấm trao đổi nhiệt như sữa dừa,
nước cốt dừa…
2.2) phân tích quá trình truyền nhiệt
- Truyền nhiệt qua vách phẳng:
Vách phẳng là vách có chiều dài a, chiều rộng b lớn hơn nhiều dày δ rất
nhiều a,b >> δ. Lúc này ta có thể bỏ qua nhiệt dẫn theo chiều y và z vì
diện tích bề mặt theo chiều x với diện tích Fx = aδ ≈ 0; Fz =bδ ≈ 0. Chỉ còn
nhiệt dẫn theo chiều x với diện tích Fx = a.b . Vậy từ trường nhiệt độ ổn
định 3 chiều trở nên một chiều t = f(x).
Ta tìm quy luật phân bố nhiệt độ và lượng nhiệt dẫn qua vách với điều
kiện loại 1, nghĩa là với điều kiện cho biết nhiệt độ bề mặt vách.
+ Dẫn nhiệt qua vách phẳng một lớp

Giả sử có 1 vách phẳng dày, làm bằng vật liệu đồng chất và đẳng hướng
có hệ số dẫn nhiệt λ = const, nhiệt độ của các bề mặt vách tương ứng là
tw1 và tw2 biết trước và không đổi, giả thiết tw1>tw2.
 Trong trường hợp này như đã phân tích ở trên nhiệt độ chỉ thay đổi
theo hướng x và t = f(x).
Các mặt đẳng nhiệt sẽ là các mặt phẳng song song vuông góc với trục x,
∂t dt
nên ∂ n = dx
Tại vị trí x, ta tách hai mặt phẳng đẳng nhiệt cách nhau một khoảng dx.
Áp dụng định luật Fourier cho dx, ta có :
∂t dt
q = -λ ∂ n = -λ dx
q
Hay dt = - λ dx
Với λ = const và với vách phẳng vì diện tích bề mặt F có giá trị như nhau
nên q = const, tích phân hai vế ta được :
q
t = - λx + C
Hằng số tích phân C được xác định từ điều kiện biên loại 1 :
Khi x = 0, t = tw1 = C. Do đó :
q
t = tw1 - λ x
Mật độ dòng điện qua vách phẳng 1 lớp được xác định như sau :
Khi x = δ và t = tw2 , ta có :
q
tw2 = tw1 - λ δ
Ta rút ra :
λ
q = δ (tw1 - tw2); W/m2
δ
Kí hiệu R = λ gọi là nhiệt trở dẫn nhiệt của vách phẳng, m2K/W.
Khi đó mật độ dòng điện có thể xác định theo công thức :
t w 1−t w 2
∆t
q= δ = R ; W/m2
λ
Ta có dòng nhiệt Q và Qr qua vách :
Q = F.q, W
Qr = τ . F . q , J

Phân bố nhiệt động trong vách phẳng trong các trường hợp β=0 .
β >0 và β <0 được biểu diễn như sau :
+ Dẫn nhiệt qua vách phẳng nhiều lớp
Vách phẳng nhiều lớp là vách phẳng gồm nhiều lớp ghép chặt với nhau.
Ví dụ tường nhà ba lớp : lớp vữa bên trong, lớp gạch và lớp vữa bên
ngoài.
Giả sử có một vách phẳng ba lớp :

Các lớp làm bằng vật liệu đồng chất và đẳng hướng có hệ số dẫn nhiệt
tương ứng λ1, λ2, λ3 và chiều dày tương ứng δ 1, δ 2, δ 3. Nhiệt độ các bề mặt
ngoài là tw1, tw4 không đổi. Các lớp ép rất sát nhau, nhiệt độ bề mặt tiếp
xúc giữa các lớp là tw2,tw3, các nhiệt độ này là chưa biết.
Ta cần xác định mật độ dòng nhiệt truyền qua vách và sự phân bố nhiệt
độ trong vách và nhiệt độ bề mặt tiếp xúc tw2,tw3.
Công thức tính mật độ dòng nhiệt qua vách phẳng 1 lớp đối với từng
lớp, ta có :
λ1
Với lớp 1 : q1 = δ 1 (tw1 - tw2)
λ2
Với lớp 2 : q2 = δ 2 (tw2 - tw3)
λ3
Với lớp 3 : q3 = δ 3 (tw3 - tw4)
Giải hệ phương trình này với điều kiện trường nhiệt độ q = q1 = q2 = q3 =
const :
t w 1−t w 2
t w 1−t w 2
q = λ 1 + λ 2 + λ 3 = R 1+ R 2+ R 3
δ1 δ2 δ3
 Đối với vách phẳng gồm n lớp :
t w 1−t w (n+1) t w 1−t w (n+1)
n n
q= δi =
∑ λi ∑ Ri
t t

Nếu hệ số dẫn nhiệt của các lớp là không đổi thì quy luật thay đổi nhiệt
độ ở từng lớp giống như ở vách phẳng một lớp và đường biểu diễn sự
thay đổi nhiệt độ của vách phẳng nhiều lớp sẽ là một đường gấp khúc.

- Truyền nhiệt qua vách trụ

+ dẫn nhiệt qua vách trụ 1 lớp
Giả sử có một vách trụ làm bằng vật liệu đồng chất và đẳng hướng có
hệ số dẫn nhiệt λ = const

Chiều dài 1 vách lớn hơn rất nhiều chiều dày δ của vách 1 >> δ = r2 - r1,
bán kính và đường kính của vách trụ tương ứng là r1, d1, r2, d2. Với Gỉa
thiết trên cho phép ta bỏ qua nhiệt dẫn theo trục z và chỉ còn nhiệt dẫn
theo trục x,y.
Tuy nhiên ở vách trụ mặt cắt x,y là đường tròn và ta có thể thay điểm
biểu diễn theo x,y bằng hướng bán kính r. từ đó ta có với trường nhiệt
độ ổn định :
∂t dt
t = f(x,y,z) ≈ f(x,y) = f(r) và ∂ n = dr
Tại bán kính r nào đó ta tách hai mặt đẳng nhiệt cách nhau 1 khoảng dr.
Theo định luật Fourier, dòng nhiệt truyền qua bề mặt vách trụ bán kính r
và chiều dài l sẽ là :
∂t dt
q = -λ ∂ n = -λ dr
dt
Q = F.q = 2 π .r . l. q = -λ.2 π .r . l. dr
Tách biến ta có :
Q dr
dt = - 2 πλl r
Tích phân 2 vế với chú ý Q = const và λ = const, ta được:
Q
t = - 2 π λl ln r + C
 Hằng số tích phân C được xác định từ điều kiện biên như sau :
Q
Khi r = r1, t = tw1 = - 2 π λl ln r1 + C
Dòng nhiệt Q được xác định như sau :
Q r2
Khi r = r1, t = tw2 = tw1 - 2 π λl ln r 1
+ Dẫn nhiệt qua vách trụ nhiều lớp
Giả sử có một vách trụ 3 lớp

Các lớp làm bằng vật liệu đồng chất và đẳng hướng cố hệ số dẫn nhiệt
là λ1,λ2,λ3. Đường kính của các lớp là d1, d2, d3,d4. Nhiệt độ bề mặt trong và
ngoài cùng của vách trự tw1, tw4 không đổi.
Các lớp ép rất sát với nhau. Nhiệt độ bề mặt tiếp xúc giữa các lớp là tw2,
tw3 chưa biết.
Vì quá trình dẫn nhiệt là ổn định và một chiều nên ta có:
Q = const, q1 = const
Q
q1 = F 1 ≠ const, F1= π d1l < F2 = π d2l,...
Q Q lq 1 q1 q1
q1 = F 1 = πd 1l = πd 1l = πd 1 ; q1 = πd 1 ,...
Mặt khác ta có :
Với lớp 1:
t w 1 −t w 2
q1 = 1 ln d 2
2 π λ1 d1
Với lớp 2:
t w 2 −t w 3
q2 = 1 ln d 3
2 π λ2 d2
Với lớp 3:
t w 3 −t w 4
q3 = 1 ln d 4
2 π λ3 d 3
Giải các phương trình này ở điều kiện ổn định nhiệt ql=ql1=ql2=ql3 ta tìm
được giá trị ql và nhiệt độ tiếp xúc giữa các lớp tw2, tw3.
t w 1 −t w 4
q1 = 1 ln d 2 + 1 ln d 3 + 1 ln d 4 ; W/m
2 π λ1 d1 2π λ2 d2 2 π λ3 d 3
 Sự thay đổi nhiệt độ trong vách trụ nhiều lớp được biểu diễn bằng các
đường song song logarit.
Nếu vách trụ gồm n lớp, ta có thể viết :
t w 1− t w (n+1) t w 1 −t w(n+ 1)
n n
ql = 1 d i+ 1 = ; W/m
ln
∑ 2 πλi di ∑ Rn
l l