博士学位论文

微纳结构成像原理和方法研究

作者姓名： 王彦钦

指导教师： 罗先刚 研究员 光电技术研究所

学位类别： 工学博士

学科专业： 光学工程

研究所： 光电技术研究所

二○一五 年 五 月
Study on Principle and Methods of Imaging
with Micro-Nano Structures

By
Wang Yanqin

A Dissertation/Thesis Submitted to

University of Chinese Academy of Sciences

In partial fulfillment of the requirement

For the degree of

Doctor of Philosophy

Institute of Optics and Electronics

May, 2015
 本 人声 明



本人郑重声 明 ：
所 呈 交 的 学位 论 文 ，
是 本 人在 导 师 指 导 下 ，
独立



进 行研 究 工 作 所取 得 的 成 果 。 除文 中 已经注 明 引 用 的 内 容外 ，
本论 文



不 包 含 任 何 其 他人 或 集 体 已 经 发 表 或 撰 写 过 的 研 究 成 果 对 本 文 的 研

 。

究 做 出 重要 贡 献 的 个 人 和 集 体 ，
均 己 在 文 中 Ｗ 明 确 方 式标 明 。
本声 明



的 法律 责 任 由 本人 承 担 

。

作 者签名 ：
冬 诚］ 、
日 期 ；
月之 日



关 于学位论文 使用 授权 的 声 明



本 人 完 全 了 解 中 国 科 学 院 光 电 技 术 研 究所 有 关 保 留 使 用 学位 论

 、

文 的 规 定 同 意 中 国 科 学 院 光 电 技 术研 究 所 保 留 或 向 国 家 有 关 部 口 和
， 


机 构 送 交 论 文 的 复 印 件 和 电 子 版 允 许 论文 被 查 阅 和 借 阅 ，
； 同意中 国



科 学 院 光 电 技 术 研 究 所 将 本 学 位 论 文 加 入 中 国 优 秀 博硕 ± 学 位 论 文

 《

全文 数据库 》 和 《 中 国 知 识资 源总库 》 ，
或 编 入其 他 数 据 库 进 行部 分



或全文 检索 ；
本 人 授 权 中 国 科 学 院 光 电 技 术研 究 所 ，
可 Ｗ 采用 影 印 

、

缩 印 或 扫 描等 复 制手 段 保 存 、 汇 编 学 位 论文 

。

（ 保 密 学 位 论 文 在 解密 后 应 遵 守 此 规 定 

）



）

作 者签 名 ：
尔
心
导 师 签 名 ；




曰 親 〇＾ ３净 ／ 月 ／ 〇＾ 

曰
 致 谢

从 2011 年开始在中国科学院光电技术研究所攻读博士学位，至今已近 4 年。
在本论文完成之时，我要对各位老师、同事、同学和家人长期以来的关心和帮
助表示最真诚的感谢。
首先，我要感谢导师罗先刚研究员对我的悉心指导和无微不至的关怀。从
课题方向的选择，到理论工作的开展，再到实验研究与应用拓展，以及最后论
文的撰写与修改无不浸透着罗老师的心血。罗老师的理论水平深厚，科研态度
严谨，生活朴素，这些都是学生学习的好榜样，让我们终生受益。在此谨向罗
老师表示衷心的感谢和崇高的敬意！
其次，我要真诚地感谢王长涛研究员和赵泽宇高级工程师，你们的无私帮
助和耐心指导，使我在科学研究的大道上不断成长。我们还一起并肩作战，完
成一项项困难工作，共同分享了其中的酸甜苦辣，这些都是我难以忘记的人生
经历。
感谢陈旭南研究员、周崇喜研究员、邱传凯高级工程师、潘丽老师对我的
指导和支持。感谢胡承刚副研究员、黄成副研究员、蒲明博博士、马晓亮博士、
李雄博士在本论文研究和日常工作中给予我的大量无私帮助和支持。感谢微细
加工光学技术国家重点实验室中一起工作的同事和朋友们，他们是姚纳、高平、
李志炜、杨欢、崔建华、赵波、刘玲、方亮、刘凯鹏、罗云飞、刘莉芹、赵承
伟、王炯、王民、吴小雨、潘文波等等。感谢实验室杨磊磊女士、周秀英女士、
胡爱岽女士等在日常工作中的帮助。感谢研究生部的张淑华老师、廖俊莉老师、
庞艳、胡琛的关心与帮助。
最后感谢我的父母以及妻子潘思洁在背后对我默默的支持，是你们无私的
爱让我能够全身心投入到工作和学习中，你们的支持和鼓励是我前行最大的动
力。谨以此文献给他们！

王彦钦
2015 年 3 月
 摘 要

摘 要

微纳结构是指人为设计的、具有微米或纳米尺度特征尺寸、按照特定方式
排布的功能结构。随着第三代光学成像技术向集成化、轻量化、超大口径发展，
传统折反式光学系统面临着诸多瓶颈，而微纳结构光学元件具有重量轻、设计
自由度高、结构灵活等特点，在成像领域展现出显著优势。本文系统研究了平
面衍射透镜和超表面两种微纳结构的成像原理、宽带调控机理、设计方法和成
像实验，为下一代光学成像技术提供了全新的技术途径。主要研究工作包括：
1）基于平面衍射透镜的轻量化成像原理方法研究，针对衍射透镜色散严重
的问题，分析并建立了宽波段消色差模型；开展了基于平面衍射透镜的口径 5
米空间天文望远镜光学设计，采用离轴反射式结构避免了同轴系统的挡光效应，
利用多重位相衍射原理实现了连续光谱成像带宽，带宽覆盖可见光和红外全部
谱段；
2）提出了两种基于超表面的宽带位相和偏振调控原理，利用超表面色散调
控实现了 4 倍频程宽带位相和偏振转换，通过超薄空间变化和频谱设计的自旋
轨道作用，实现了电磁特征的虚拟位相整形；基于上述原理设计了透射和反射
式光天线阵列超表面新型成像器件，实现了可见光光学漩涡聚焦和红外成像，
其中反射式超表面能量利用效率超过 90%；
3）搭建了显微镜三维光场测试平台，解决了超表面成像面临的中间场成像
测试难题；研究获得了精度 20nm 非规则纳米结构和大矢高 32 台阶微纳结构制
备工艺；完成了平面衍射透镜宽波段成像实验，在可见光范围内获得衍射极限
像质，验证了宽带消色差原理。
本文重点完成了微纳结构成像原理及相关设计方法和实验工作。所取得的
成果包括：平面衍射透镜宽波段成像原理和设计方法、超表面宽带位相和偏振
调控机理、超表面成像器件设计、高精度微纳结构制备和成像实验验证。本文
研究成果为后续微纳结构成像研究和相关应用提供了理论指导及实验基础。

关键词：微纳结构，成像，衍射透镜，超表面，轻量化

I
 ABSTRACT

ABSTRACT

Micro-nano structures, which are made artificially and have micro and nano
characteristic dimension, have shown a lot of novel functions. As the development of
optical imaging field toward to lightweight, integrated and large aperture, the
traditional imaging technology was confronted with many bottleneck, meanwhile
micro-nano structure devices present significant advantage such as planar, high
design freedom, flexible, and so on. In this thesis, the imaging principle, design,
fabrication and experiment of planar diffractive lens and metasurfaces were
systematically researched. This dissertation includes the following parts:
1) Base on the Scalar diffraction theory, the principle and methods of imaging
with the lightweight planar diffractive lens were proposed. In order to solve the
serious dispersion, the achromatic model base on the Schupmann optical structure is
analyzed. Then the 5 meter aperture telescope with planar diffractive lens is designed,
by adopting the off-axis reflective system to avoid large vignetting. A broadband
system design covering visible and part of infrared was presented.
2) Two wide bandwidth phase and polarization manipulating principle were
represented. Using the metasurfaces, super-octave bandwidth in achromatic phase
and polarization conversion was obtained. Utilizing the spin-orbit interaction in
ultrathin space-variant and spectrally engineered metasurfaces, the electromagnetic
character of object was changed without modifying the geometrical shape. Base on
the principles above, two novel imaging devices respectively using transmittive and
reflective metasurfaces were designed. These devices can generate optical vortex or
image in infrared range.
3) The 3-dimension optical field testing stage for imaging middle field
measurement was developed. The irregular 20nm nano structures of metasurfaces
and 32 levels deep sag micro-nano structures were fabricated. The broadband
achromatic imaging result of planar diffractive lens is represented, in order to

II
 ABSTRACT

proving the validity of achromatic theory.

In conclusion, the dissertation discusses the principle and methods of imaging
with micro-nano structures. Several results are obtained, including achromatic
imaging theory, broadband phase and polarization manipulating principle, planar
diffractive lens and metasurfaces design methods, fabrication of precise micro-nano
structures, experiments at microwave and visible range. Obviously, these researches
will be helpful for the further explorations of micro-nano structures.

Key Words: Micro-nano structures, Imaging, Diffractive lens, Metasurfaces,

Lightweight

III
 目 录

目 录

致 谢............................................................................................................................ I

摘 要............................................................................................................................ I

ABSTRACT.................................................................................................................. II

目 录..........................................................................................................................IV

1 绪论............................................................................................................................1

1.1 选题背景及意义......................................................................................................1

1.2 微纳结构成像的研究进展......................................................................................2

1.2.1 基于衍射原理的微纳结构成像...........................................................................2

1.2.2 微纳结构超衍射成像.........................................................................................10

1.2.3 超表面成像.........................................................................................................14

1.2.4 其它微纳结构成像.............................................................................................18

1.3 论文主要研究内容及章节安排............................................................................20

2 微纳结构成像的理论基础......................................................................................23

2.1 引言........................................................................................................................23

2.2 标量衍射分析方法................................................................................................23

2.2.1 标量衍射理论.....................................................................................................23

2.2.2 光栅理论.............................................................................................................26

2.3 超表面分析方法....................................................................................................29

2.3.1 等效介质理论.....................................................................................................29

2.3.2 等效电路模型.....................................................................................................31

2.4 微纳结构成像的仿真计算方法............................................................................33

2.4.1 有限元法.............................................................................................................33

2.4.2 时域有限差分法.................................................................................................33

2.4.3 位相面光线追迹法.............................................................................................34
IV
 目 录

2.5 本章小结................................................................................................................36

3 平面衍射透镜成像原理和方法...............................................................................39

3.1 引言........................................................................................................................39

3.2 衍射透镜成像原理和特性....................................................................................39

3.2.1 成像原理.............................................................................................................39

3.2.2 色散特性.............................................................................................................44

3.2.3 两种平面衍射透镜.............................................................................................45

3.3 宽波段成像模型....................................................................................................47

3.4 基于平面衍射透镜的望远镜系统设计................................................................51

3.4.1 光学系统设计.....................................................................................................52

3.4.2 成像特性仿真分析.............................................................................................55

3.5 本章小结................................................................................................................59

4 超表面成像原理和方法...........................................................................................61

4.1 引言........................................................................................................................61

4.2 超表面宽带位相及偏振调制................................................................................61

4.2.1 基于色散调控的宽带位相和偏振调制.............................................................62

4.2.2 基于自旋轨道作用的宽带位相调制和整形.....................................................69

4.3 基于超表面的光学漩涡聚焦器件........................................................................74

4.3.1 单元微纳结构.....................................................................................................76

4.3.2 光学漩涡聚焦器件.............................................................................................77

4.4 超表面红外成像器件............................................................................................80

4.4.1 宽带高效单元微纳结构.....................................................................................80

4.4.2 局部设计及仿真验证.........................................................................................83

4.4.3 超表面红外成像器件及系统设计.....................................................................84

4.5 本章小结................................................................................................................87

5 微纳结构成像实验...................................................................................................89

5.1 引言........................................................................................................................89
V
 目 录

5.2 超表面聚焦器件成像实验....................................................................................89

5.2.1 纳米微纳结构制备工艺探索.............................................................................89

5.2.2 中间场成像测试方法和结果.............................................................................91

5.3 轻量化平面衍射透镜成像实验............................................................................95

5.3.1 成像实验系统设计.............................................................................................95

5.3.2 轻量化平面衍射透镜制备.................................................................................99

5.3.3 成像实验结果及分析.......................................................................................101

5.4 本章小结..............................................................................................................105

6 总结.........................................................................................................................107

参考文献....................................................................................................................109

作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果................................................ 117

VI
 1 绪论

1 绪论

1.1 选题背景及意义

成像是光学学科中最古老的方向，也是现代光学领域最活跃的研究阵地。
历史上，成像技术经历了两代技术飞跃，深刻地影响了人类文明发展。第一代
技术飞跃发生在 17 世纪几何光学研究初期，在这个时期建立了光的折射定律和
反射定律[1]，发明了望远镜和显微镜，极大促进了人类对客观世界的认知，也
为近代物理学发展提供了重要的实验手段。第二代技术飞跃起始于 20 世纪的第
三次工业革命，随着材料、力学、计算机、激光、自动控制和精密机械等技术
的发展，使光学成像元件第一次具有了精密制造和检测条件，从而迅速推动了
家用相机、工业相机、大型天文望远镜等领域的广泛进步。
目前，光学成像技术正处于第三代技术飞跃发展的前夕，表现出向集成化、
轻量化、超大口径发展的趋势。集成化的典型代表是由微型透镜、反射镜等成
像元件为主构成的光子计算机，其运算速度远胜电子计算机，将来有望成为人
类普遍的工具。曾经有科学家预言“光子技术将引起一场超过电子技术的产业
革命”。另一方面，常规的光学成像系统面临着轻量化问题，例如便携式数码相
机、头盔显示器、光学导引头等对成像系统的轻量化要求越来越高，重量轻、
体积小的镜头有利于大幅提高产品使用性和武器装备的作战效能。在更极端的
天文望远镜等大口径光学领域，增大光学系统口径、使其达到 10m 量级以上是
该领域的不断追求，更大的口径意味着能发现更遥远的星体甚至类地行星，探
索更多人类未知的世界，获得更加丰富的细节信息。
然而在过去几十年里，由于传统光学的原理性限制，很大程度上阻碍了成
像技术的进一步发展。传统折射和反射成像方法是建立在几何光学基础上，以
1621 年荷兰物理学家斯涅耳（Snell）提出的折射定律为理论依据。根据 Snell
折射定律，成像元件对光线传播的操控过程均可以用角度、方向矢量、距离等
几何量来表达和仿真计算，该原理在镜头整体优化设计中也得到体现。在这种
严格的几何关系限制下，传统光学成像不得不依赖表面形状和光学材料，导致
光学元件设计自由度低、体积重量大，严重制约了现代光学的集成化、轻量化
和大口径发展需求。例如，为同时满足视场、分辨率、像差等优化要求，透镜
组式成像镜头往往结构复杂、镜片数多，外观显得尤为笨重。纳米级折射透镜
元件在超大规模集成光路中的应用，将面临设计理论不精确、制造工艺困难、
微型化程度有限等难以逾越的问题。大口径反射式成像系统方面，笨重的反射
1
 微纳结构成像原理和方法研究

镜体相当程度上限制了口径的增大潜力，导致现有太空望远镜最大口径仅为哈
勃望远镜的 2.4 米[2]，在研的口径 6.5 米 James Webb 太空望远镜已逼近现有技
术极限[3,4]，之后反射式系统将面临严重的瓶颈，以传统成像原理增大口径的方
式将难以为继。因此，获得一种新的成像原理和方法并突破几何光学的理论限
制，对成像技术发展显得尤为重要。
微纳结构的出现为突破上述瓶颈带来了新的曙光。微纳结构是指人为设计
的、具有微米或纳米尺度特征尺寸、按照特定方式排布的功能结构。光栅是人
类最早发现和利用的微纳结构，在科学发展史上具有重要地位[5]。1818 年菲涅
耳提出了另一种著名的微纳结构——波带片[6]，并利用子波衍射解释了波带片
产生聚焦效果的物理根源。这些早期研究已表明微纳结构具有灵活的位相调控
特性，有望作为成像元件使用。近年来，随着微细加工和微观表征技术的快速
发展，亚波长尺度和纳米尺度的微纳结构激起了科研人员的极大兴趣。人们发
现了纳米小孔异常透射[8]、亚波长圆孔高效定向辐射[9]、负折射[10-12]等一系列传
统理论难以解释的奇异现象，表明在亚波长尺度下，微纳结构有可能突破几何
光学和标量衍射理论的限制。许多学者对微纳结构在位相调控和成像中的应用
开展了积极研究，取得了一系列突破性进展，例如基于衍射原理的微纳结构成
像[13-37]、超分辨率成像[38-56]、亚波长金属狭缝成像[57-62]、超表面位相调控及成
像[63-69]、微纳透镜阵列成像[70-78]、基于信息处理的微纳结构成像[79-95]等。与传
统光学元件相比，微纳结构光学器件具有调控自由度高、物理特性丰富、轻量
化和集成化程度高等显著优势，在光学成像以及与成像相关的许多交叉学科中
显示出巨大的应用前景。因此，对微纳结构成像原理和方法研究具有十分重要
的科学和现实意义，它将为以集成化、轻量化、超大口径为特征的第三代光学
成像技术发展提供全新原理和途径。
本章我们将首先介绍一下微纳结构在成像领域应用的代表性研究进展。在
此基础上阐明本论文的研究内容和基本思路，并介绍论文章节安排。

1.2 微纳结构成像的研究进展

本节主要围绕微纳结构的发展历史，对衍射成像、表面等离子体超衍射成
像、超表面成像、微纳透镜阵列成像以及基于信息处理的微纳结构成像等研究
进展作简要介绍。

1.2.1 基于衍射原理的微纳结构成像

微纳结构成像研究最早可追溯到十九世纪波动光学出现的年代。一百多年
前，菲涅耳首次使用波带片实现光波聚焦，标志着微纳结构的衍射效应被人们

2
 1 绪论

有目的的利用。菲涅耳波带片是一种变周期圆形光栅，具有不同于普通光栅的
物理特性。菲涅耳波带片可以产生类似于透镜的聚焦效果，但是与透镜的折射
成像原理不同，菲涅耳波带片是利用变周期结构的衍射效应。由于菲涅耳波带
片的透光半波环带可采用全透射方式，因此在难以选择合适透射材料的波段，
如极紫外到 X 射线波段，具有良好的成像聚焦效果，在表面科学、材料科学、
生命科学、微器件加工等领域已得到应用。

图 1. 1 菲涅耳波带片示意图

随着上世纪全息术（Holography）的发明，使衍射效应被更加深刻地认识，
并催生出计算全息（Computer Generated Hologram）和基诺图（Kinoform）等衍
射技术[7]，带来一系列成功应用，包括波前变换、激光束整形、辐射聚焦等。
上世纪 80 年代，计算机技术和微电子加工技术的发展，使衍射元件的设计和制
备取得了巨大进步。美国 MIT 林肯实验室在研究新型传感成像系统时，首次提
出了“二元光学”的概念[7]，即采用计算机辅助设计、通过微电子制作工艺实
现多台阶结构形貌的衍射元件。
衍射元件（DOE）真正用于光波段成像是在折衍混合成像技术中。折衍混
合成像原理是将折反射光学与衍射元件在物理上结合起来，说得更确切，就是
把二元或连续微纳结构制作在常规光学元件（透镜、棱镜、反射镜）上形成混
合成像系统。微纳光学表面波长量级的三维浮雕结构对光波进行调制、变换，
为光学设计提供更多的自由度，可有效消除色差和热差，并达到简化结构、减
小重量和体积、改善成像质量的目的。俄罗斯国家光学研究所研究表明使用衍
射元件可以使镜头片数减少 20%左右，而成像质量提高 15%～20%[16]。休斯公
司 研 制 和 生 产 的 供 美 国 陆 军 用 的 武 器 热 瞄 准 具 （ Thermal Weapon Sight
AN/PAS-13，如图 1.2 所示），是衍射光学元件在红外折衍混合成像系统的第一
次大规模应用[17]。
3
 微纳结构成像原理和方法研究

图 1. 2 美国陆军用的折衍混合武器热瞄准具（AN/PAS-13）及其成像效果[17]

此后，更多领域开始使用折衍混合成像技术，如英国赫特福德郡精密光学
工程中心（Precision Optical Engineering）研制“观测者”无人机（OBSERVER
UAV）上使用的双视场热像仪[18]，英国泰勒斯公司（Thales Optics）设计的在
坦克等装甲车上使用的双波段热像仪凯瑟琳 XP（Bi-spectral CATHERINE-XP）
[19]
（如图 1.3 所示），美国麻萨诸塞州威尔斯利工程和光束设计中心、加利福尼
亚大学自适应光学中心等单位设计了高分辨率远距离多波长紧凑型侦察系统[20]
等。

图 1. 3 英国折衍混合双波段热像仪凯瑟琳 XP[19]。(a)折衍混合成像光路示意图，DOE 为衍
射光学元件；(b)外观图；(c)长波红外成像效果；(d)中波红外成像效果

4
 1 绪论

尽管折衍混合在一定程度上减小了光学成像系统重量和体积，但没有形成
非常明显的优势，导致目前应用并不广泛。究其原因，折衍混合成像主要架构
仍然基于传统的几何光学元件，具有微纳结构的衍射元件仅作为折反式成像的
有益补充，无法从根本上解决传统光学系统的固有瓶颈。为此，更多的科学家
开始探索直接使用微纳结构衍射元件的成像原理方法。
Kipp 等人 2001 年在 Nature 上首次提出了光子筛的概念[21]，它以传统菲涅
耳波带片的结构为基础，将大量圆孔随机排列在透光环带上形成的微纳结构成
像元件，如图 1.4 所示。合理选择小孔直径可实现最大的焦面强度（如图 1.5 所
示）。提出光子筛的最初目的是解决 soft X 射线聚焦的材料和分辨率限制，其透
射结构本身可以避免固态材料的强烈吸收效应；通过合理的设计可以消除杂散
高次衍射和波带片边缘产生的震荡；透光小孔直径可以大于环带，从而降低了
最小加工尺寸的限制。

图 1. 4 Kipp 提出的光子筛成像示意图[21]

图 1. 5 光子筛小孔直径与焦面强度的关系[21]

5
 微纳结构成像原理和方法研究

Qing Cao 等人随后对光子筛的成像特性进行了分析，不仅从解析方法上推

导了单个小孔的远场聚焦效果[22]，还讨论了高数值孔径光子筛的非近轴光线成
像模式[23]。其结果与 Kipp 的数值计算非常接近，为光子筛的理论计算提供了一
种快捷的方式。
美国空军学院的 Geoff Andersen 小组进一步提出将光子筛应用到实际成像
系统中，并认为光子筛可以作为未来超大空间望远镜（>20 米）的主镜。他们
首先设计了各种类型的光子筛结构[25,26]，并对它的单片结构、单波长成像效果
进行了理论分析。在随后的实验中，设计了包括 4 个光学元件、带宽 40nm 的
成像系统（如图 1.6 所示），测试结果表明在光子筛成像可在一定带宽内实现衍
射极限像质[27]。这个结果激发了人们对直接利用微纳结构进行成像的不断探索。
该研究小组还进一步研究了光子筛的其他应用，包括光束整形与切趾、太阳空
间望远镜、任意波前变换、深紫外和 X 射线的成像与光刻、电子束和 THz 成像
等。

图 1. 6 美国空军学院提出的光子筛望远镜光路图及实验系统实测干涉图、分辨率靶图像[27]

在最近的进展中，美国空军学院已经利用光子筛薄膜主镜研制了口径
200mm、重量仅 5kg 的空间望远镜“猎鹰 7 号”[28,29] （如图 1.7 所示），用于
观测太阳的耀斑和黑子等现象，该望远镜预计于 2015 年搭载 Cubesat 卫星平台
发射。

6
 1 绪论

图 1. 7 基于光子筛主镜的太阳空间望远镜“猎鹰 7 号”[28,29]

美国 Lawrence Livermore 国家实验室（LLNL）的科学家 R.Hyde 提出了另

一种基于位相型菲涅耳衍射元件的轻量化大口径成像系统，该结构被命名为
Eyeglass，采用轻量化平面衍射透镜作为主镜，其后的 Eyepiece 次镜系统用于
校正主镜的色散，并最终得到高分辨像质。R.Hyde 对大口径微纳结构光学成像
系统的理论设计、加工和实施措施进行了研究[33,34]。在 Schumann 消色差模型
的基础上，分析了衍射光学元件消色差的原理和光学设计方法。凭借在微纳结
构光学元件加工和制作上的雄厚技术实力，完成了口径从 100mm 到 500mm 的
微结构元件制作，并用于消色差成像实验（如图 1.8 所示）。实验结果表明了微
纳结构衍射元件作为光学成像主镜的可行性，其结构色散完全可以通过后端校
正光路进行补偿，从而在一定波段内到达衍射极限的良好像质（如图 1.9 所示）。

图 1. 8 LLNL 制备的口径 500mm 平面衍射元件及搭建的成像实验光路[34]

7
 微纳结构成像原理和方法研究

图 1. 9 LLNL 口径 500mm 衍射成像系统星点测试结果[34]

另外，LLNL 针对 Eyeglass 在空间望远镜领域的应用，利用平面衍射光学

元件结构薄、重量轻、体积小的特点，开展了大口径衍射主镜的拼接与空间展
开方案研究，提出了基于类似折纸游戏的主镜折叠方案[35]（如图 1.10 所示），
可将口径 5 米衍射主镜压缩到 1 米口径左右，为解决 10 米以上超大口径光学主
镜的运输和发射问题提供了思路。

图 1. 10 LLNL 的衍射主镜折叠方案[35]

英国皇家天文台 20 世纪初也开始对微结构薄膜透镜作为主镜的望远镜光
学系统进行了研究[36]，并提出了口径为 30m 的红外到亚毫米波段微结构衍射光
学成像系统方案（如图 1.11 所示）。该系统采用厚度为 2.2mm 的聚乙烯作为主
镜基板，具有轻量化的优点，并设计了钛镍记忆合金折叠展开单元、防太阳光
照射的冷却单元以及卫星系统初步构想。
8
 1 绪论

图 1. 11 英国皇家天文台口径 30m 红外到亚毫米波衍射光学成像系统示意图[36]

法国科学家 Laurent Koechlin 小组提出利用二维金属菲涅耳微纳结构衍射

透镜实现超大口径空间干涉成像望远镜[37]。二维金属菲涅耳衍射透镜具有与圆
形菲涅耳透镜几乎一致的成像性能，但是可以产生略小的点扩散光斑（如图
1.12），并能在一定程度上放宽制备公差。通过合理设计，二维金属菲涅耳衍射
透镜可以采用无基底的透光金属薄膜构成，从而避免基底材料带来的重量和其
它问题。该小组设计了口径 200mm 的二维金属菲涅耳透镜，并实现分辨率靶成
像（如图 1.13）。基于二维金属菲涅耳微纳结构衍射透镜的干涉成像望远镜可用
于系外行星探索、星系拍摄等天文研究，目前已得到欧洲航天局（European Space
Agency，ESA）的重视和支持。

图 1. 12 法国 Laurent Koechlin 小组提出的二维金属菲涅耳微纳结构衍射透镜及 PSF（点扩

散函数）仿真结果[37]

9
 微纳结构成像原理和方法研究

[37]
图 1. 13 口径 200mm 二维金属菲涅耳透镜样品及分辨率靶成像结果

1.2.2 微纳结构超衍射成像

光学成像分辨率主要受到衍射极限理论的限制。衍射极限的物理根源来自
于光的波动本性，但衍射极限并非不可突破的瓶颈。研究表明，利用负折射材
料、超透镜等微纳结构，可在近场范围内实现超分辨成像效果。
2000 年，英国帝国理工学院的 J. B. Pendry 首次提出了基于负折射率材料
的“完美透镜”，并报道了超越衍射极限成像的理论分析结果[10]。所谓负折射材
料，是指介电常数、磁导率均为负值的材料。传统光学材料的电磁场、波矢量
方向满足右手法，而负折射率材料的电磁场行为则遵循左手法则，因此也被称
为左手材料。由于传统光学透镜无法操控倏逝波，造成了衍射极限，而负折射
率透镜利用倏逝波频谱的耦合传输实现超衍射成像。光频段负折射材料采用金
属杆周期阵列和金属谐振环阵列（SRR）等实现[38-40]，由于结构尺寸太小，加
工制备难度非常大，限制了负折射材料的发展。进一步研究表明，在某些简化
情况下，具有负介电常数的 Ag 层对 TM 光具有同样的超衍射传输和成像能力。
图 1.14 是一个 Ag 层透镜结构成像示意图，在物面放置于纳米物体，40nm 厚的
Ag 层通过激发表面等离子体，实现倏逝波放大，从而补偿倏逝波传输造成的衰
减，将纳米物体成像于像面。
基于微纳结构激发表面等离子体，并实现光波振幅、位相和成像调控的研
究，在国际上掀起了表面等离子体超衍射成像的研究热潮。根据成像观测端的
工作距范围，表面等离子体超衍射成像可分为近场超透镜（如 Superlens）和远
场超透镜（如 Hyperlens）。

10
 1 绪论

图 1. 14 (a)Ag 层透镜超衍射成像示意图；(b)物面纳米物体场强分布； (c) Ag 层透镜超衍

射成像结果[10]

加 州 大 学 伯 克 利 分 校 Zhang Xiang 研 究 小 组 在 2005 年 利 用 超 透 镜

（Superlens）微纳结构，实现了 365nm 波长照明下的超衍射成像[41]。图 1.15(a)
是超透镜的结构示意图，其中银膜为 35nm 厚，沉积在 40nm 厚 PMMA 层上，
其作用是激发表面等离子体。当 TM 偏振态光波经过掩模后，银膜所成的超衍
射像便记录在光刻胶中，这个成像记录过程与光刻类似。图 1.15(b)~(d)是实验
结果，图 1.15(b)是物掩模的 SEM 图像，该掩模采用聚焦离子束（FIB）加工，
图形线宽约 40nm，远小于 365nm 入射波长。图 1.15(c)和(d)给出了有银膜和无
银膜时记录的光刻图形。从图中可以明显看出，当使用超透镜时，记录的图形
线宽与掩模线宽非常接近，约为 90nm，突破了 365nm 波长照明下的衍射极限
分辨率。在不使用超透镜时，由于受到衍射极限限制，曝光线宽约为 360nm，
远超过物掩模线宽。

图 1. 15 Zhang Xiang 研究小组设计的超透镜[41]。

（a）超透镜结构示意图；
（b）实验中的物
掩模；（c）银层超衍射成像效果；（d）无银膜层的成像效果

新西兰坎特伯雷大学的 Blaikie 研究小组也研究了类似的现象，并实验获得

了近似的成像记录结果[42]。
11
 微纳结构成像原理和方法研究

2006 年，美国普林斯顿大学 Zubin Jacob 研究小组提出了 Hyperlens 成像原

理。Hyperlens 是将平面的多层金属-介质结构转变为弯曲的多层柱面结构，其
成像特点复合双曲色散关系[43]。在多层金属-介质膜层构成的 Superlens 中，内
层掩模所发出的光波，将逐渐沿着径向方向传输，在外层实现放大成像。
随后美国加州伯克利大学 Zhang Xiang 研究小组制备了光频段 Hyperlens，
在 365nm 波长下，利用显微镜在远场观测到了周期 150nm、线宽 35nm 的图形
[44]
，从而实验上验证了超分辨放大成像特性（如图 1.16 所示）。

图 1. 16 Hyperlens 成像示意图（左）和放大成像记录结果（右）[44]

更多的科学家开始研究表面等离子体的耦合传输模式。表面等离子体是入
射电磁波在金属微纳结构激发下形成的自由电子与光子的振荡，越来越多研究
表明，表面等离子体激发和倏逝波的耦合传输行为与微纳结构膜层以及照明光
场分布相关，因此人们开始研究光的时域规律[45]、带宽特性[46]、反射金属层[47]、
损耗特性[48]和膜层构造[49]等。
2010 年，美国伊利诺伊大学 Fang N 研究小组实验研究膜层厚度和粗糙度
对 Ag 层透镜的影响，其制备的厚度 15nm、粗糙度 RMS 约 0.8nm 的 Ag 层透镜
在 365nm 照明下，实现了线宽 30nm 的超衍射成像结果[50]。随后新加坡 A-STAR
的 Liu H 小组实验报道了线宽小于 50nm、深度达到 45nm 的超衍射成像结果，
其采用的 Ag 层透镜厚度 35nm、粗糙度 RMS 约 1.6nm[51]，与以往研究结果相
比，该 Ag 层超透镜的成像质量和分辨率有了显著提高。
在表面等离子体超衍射成像的启发下，人们还发现了更多的基于微纳结构
的超衍射成像原理和方法。
12
 1 绪论

2009 年，韩国浦项科技大学的 K. S. Kim 等人提出了分子自组装杯状纳米

透镜实现超分辨成像的原理方法，实验结果表明纳米透镜的分辨率可达到
200nm[52]。随后，英国曼切斯特大学 Wang Z. B 等人报道了基于 SiO2 小球的显
微成像技术实现 50nm 分辨率的实验结果[53]。实验中，通过均匀组装将直径 2~9
μm 的 SiO2 球固定在已制备好的纳米图形上，当平面波照射到小球上时，它将
光线汇聚在透镜下方的纳米节点上。纳米物体紧密接触小球底部时，由于曲率
非常大，SiO2 小球形成类似于透镜的作用，将纳米物理放大为虚像，最终在显
微镜观测下实现超衍射成像（如图 1.17-18 所示）。研究表明，小球的放大倍率
和分辨率与表面曲率有关，当曲率较大时，光束经过小球后弯曲程度更大，从
而虚像的放大倍率也更大。该方法的缺点在于小球视场通常较小，同时存在非
常明显的像差，但是作为微米尺度的透镜，有望在集成光学和超衍射显微成像
中得到应用。

图 1. 17 基于纳米小球的超衍射显微成像示意图[53]

图 1. 18 纳米小球超衍射显微成像实验结果[53]

13
 微纳结构成像原理和方法研究

2006 年，Berry 等人利用数学超振荡原理，提出了具有特定透过函数的光

栅能够实现亚波长尺度的聚焦效果，并给出了详细证明[54]。该原理通过一系列
低频振荡函数的叠加，构建具有高频成分振荡的光场分布。基于该原理，可在
局部区域实现小于衍射极限光斑的聚焦点，带来的不利影响是光斑旁瓣非常大。
随后，英国南安普顿大学 N. I. Zheludev 等人利用连续分布掩模，理论实现
了光学超振荡结果，掩模设计的关键是基于正交的长旋转椭球函数，合成超振
荡光场[55]。
2012 年，N. I. Zheludev 小组在工作波长 640nm 下，进一步实现了 250nm
的超振荡成像结果[56]。制备了类似于波带片的超振荡透镜，其结构是在 100nm
厚的 Al 膜上加工出的若干圆环结构，该结构是通过二元粒子算法优化的。成像
过程采用超衍射焦斑逐点扫描样品的方式，经过逐点收集光场信息实现了超衍
射成像。该方法在显微、望远、光刻等领域具有广泛的应用前景，但是仍需要
解决光斑压缩、视场拓展、旁瓣抑制等问题。

图 1. 19 (a)聚焦离子束加工的超振荡结构 SEM 图；
(b)仿真计算的超振荡成像焦面光场分布；
(c)在 640nm 波长激光照明下的超衍射聚焦光斑；(d)(e)单个狭缝的物和超振荡成像结果；
(f)(g)双缝物体和超振荡成像结果；(h)双缝物理在数值孔径 1.4 的显微镜下的成像结果[56]

1.2.3 超表面成像

作为微纳结构的最新研究方向，超表面（Metasurfaces）由于其特殊的电磁
特性和优异的界面操控能力，引起了学术界的极大关注。狭义的超表面是指特
征尺寸小于波长的二维微纳结构横向排布的人工表面。广义的超表面指厚度小
于波长的薄层材料。微纳光学开创者之一、普渡大学 V. M. Shalaev 教授认为

14
 1 绪论

“Metasurface is structured on the subwavelength scale in the lateral directions”

[108]
。美国两院院士、哈佛大学 F. Capasso 教授认为“Two kinds of metasurfaces：
based on optical scatterers, based on thin films”[109]。与天然材料或超材料调节三
维空间本征参数的原理不同，超表面通过操控边界条件实现电磁波调制，可以
是阵列排布的散射结构，也可以是超薄均匀膜层。
关于超表面成像最早的研究始于亚波长金属狭缝结构。2005 年，中科院光
电所 H. Shi 等人提出了基于纳米金属狭缝结构的微纳结构透镜[57]，亚波长结构
狭缝的金属/介质/金属构成了 SP 波导，SP 传输常数受到结构宽度的调制，不同
宽度出射光存在位相差异。多组不同宽度亚波长金属结构，调控 SP 传输波失、
位相延迟，构造人工可调的非均匀折射率分布结构。根据球面位相延迟方式设
计了亚波长结构的阵列排布，实现了球面位相波前，获得具有理想聚焦特性的
亚波长结构透镜（如图 1.20 所示）。

(a)

(b)
图 1. 20 基于纳米金属狭缝结构的微纳结构透镜[57]。(a)金属狭缝透镜示意图；(b)仿真结果

随后，T. Xu 等人建立了超表面结构的位相调控模型，设计了实现成像、聚
焦、偏折的亚波长金属狭缝光学元件[59,60]（如图 1.21 所示）
，它们具有波长级
口径，高折光能力（数值孔径高达 0.8，偏折角度范围-90°到 90°）、设计简单
（大数值孔径下无须矢量设计）、平板结构、易于集成等特点，可作为新型微纳
透镜用于光存储、直写、光集成等领域。
15
 微纳结构成像原理和方法研究

图 1. 21 亚波长金属狭缝偏振器件（左）[59]和亚波长金属狭缝成像器件（右）[60]

2009 年，美国斯坦福大学的 Shanhui Fan 等人报道了亚波长金属狭缝透镜

的实验验证结果[58]，利用变周期排布的纳米金属狭缝，按照球面聚焦位相函数，
设计了具有聚焦性能的纳米透镜。利用扫描探针显微镜（SNOM）对透镜成像
光场进行了探测，获得与理论仿真基本一致的光场分布（如图 1.22 所示）。

图 1. 22 亚波长金属狭缝透镜成像的仿真和实验结果[58]

2011 年，哈佛大学 Capasso 教授在 Science 上发表了基于超表面的光线传

播调控原理[63]，利用一种 V 形结构按照一定规则在表面排布，可实现任意偏折
角度调制。他认为这种方法改写了 Snell 折射定律，并提出一种修正的 Snell 折
射定律。一年后，Purdue 大学的 Xingjie Ni 小组在修正的 Snell 折射定律基础上，
设计并制备了宽带的光线偏折器件[64]，可在 1000~1900nm 波长范围内，实现特
定角度的折射和反射（如图 1.23 所示）。

16
 1 绪论

图 1. 23 宽带超表面光线偏折器件结构及实测结果[64]

由于光波偏振携带了除位相以外的更多信息，越来越多的研究将成像和偏
振位相调控综合在一起考虑。例如，伯明翰大学的 Xianzhong Chen 等人提出了
双偏振超表面成像透镜[66]，利用优化设计的表面微纳结构，实现圆偏振态聚焦
成像。通过控制入射光波偏振状态，成像的出射光波偏振态可以发生变化，从
而实现了双偏振成像模式。该透镜可工作在可见和红外波段，实验验证了透镜
的良好聚焦效果（如图 1.24 所示）。

图 1. 24 双偏振超表面透镜成像示意图及实验结果[66]

17
 微纳结构成像原理和方法研究

1.2.4 其它微纳结构成像

微透镜阵列是上世纪 80 年代发展起来的具有阵列透镜特点的微纳结构。人
们很早已认识到微透镜阵列与昆虫复眼的相似之处，因此不断探索以微透镜阵
列为基础的成像方法。
2004 年，德国 Fraunhofer 应用光学和精密工程研究所的 J. Duparre 小组提
出了人造同位复眼（Artificial apposition compound eye）概念[70]，采用了平面微
透镜阵列结构与光通道和图像传感器结合起来，以模拟昆虫复眼，实现大视场、
轻量化成像功能（如图 1.25 所示）。随后该小组又提出了基于啁啾微透镜阵列
的复眼成像方法[71]，其优点在于可对透镜阵列的光轴和孔径形状进行调整，修
正散光和场曲等像差，提高成像质量。

图 1. 25 人造同位复眼结构及成像实验结果[70]

瑞典 Dario Floreanoa 研究小组提出并制备了局部球状复眼成像系统[74]，得

益于微透镜阵列的阵列化位相调控特性，该系统具有非常紧凑的整体结构，已
经非常接近昆虫复眼的形状。复眼成像器件的制备结合了微电子制造工艺和微
光学加工技术，极大降低了器件的加工难度，保证了在高集成度下具有良好的
成像质量（如图 1.26 所示）。

图 1. 26 局部球状复眼成像系统[74]

随着微纳光学、信息学和图像处理技术的发展，逐渐形成一个新的交叉研
究方向——基于信息处理的微纳结构成像。通常微纳结构可单独作为透镜实现
18
 1 绪论

成像功能，但人们研究发现，利用微纳结构灵活的位相调制作用，结合事前或
事后信息处理，同样可以获得高分辨成像效果。
日本学者 Jun Tanida 于 2001 年首次提出了薄型集成光学成像模块（Thin
observation module by bound optics，TOMBO）[85] （如图 1.27 所示），基本原理
是采用微透镜阵列对有限距离（45mm）物体成像，每个单元微透镜产生一个低
分辨率图像，相邻子图像之间具有亚像元偏移，利用像元重排列法或者反投影
法重建高分辨率图像（如图 1.28 所示）。这种系统具有轻薄、硬件结构紧凑、
可单片集成的特点，原理上也能对无限远目标成像，形成平板望远成像系统。

图 1. 27 薄型集成光学成像模块示意图[85]

图 1. 28 薄型集成光学成像模块超分辨图像重建仿真结果[85]

2003 年，美国先进防御研究项目局 DARPA 专门成立 MONTAGE 项目（多

光学无冗余孔径通用传感器），目的是打破光学范例，用轻薄的、性能杰出的基
于信息处理的成像系统替换传统大型相机，并应用于无人飞机、战车、单兵装
备、隐形监控相机等军事领域[87]。他们的研究人员认为，现代许多技术都在进
行小型化和轻量化，其中显示技术已经发展到超薄领域，然而成像系统却还没
有实现真正意义的轻薄，因此有必要对此展开研究。MONTAGE 项目包括了众
多分项目，分别由圣地亚哥大学[80,81]、达拉斯 SMU 大学[88]、Duke 大学[89,90]、
19
 微纳结构成像原理和方法研究

海军研究所[92,93]等研究单位承担。其中 Duke 大学已经完成基于微透镜阵列的红

外计算传感平板成像系统的理论和实验，在厚度仅为传统镜头 1/5 的情况下，
获得高分辨率红外图像[89]（如图 1.29 所示）。

图 1. 29 Duke 大学制备的红外计算传感平板成像系统及成像结果[89]

达拉斯 SMU 大学开发的 PANOPTES 系统不仅充分利用了计算传感平板成

像原理，而且融入了模拟微反射镜技术，使得系统具有轻薄结构，而且还能实
时改变观测方向，以满足无人飞机对高分辨率、轻量化、智能侦察系统的要求
[88]
。另外，圣地亚哥大学提出了由折叠环反射镜构成平板成像结构，在入瞳端
加入位相调制光栅，并在成像后进行事后处理，获得更长焦深和更好的信噪比，
该系统整体厚度达到了传统光学系统的 1/20[80]。

1.3 论文主要研究内容及章节安排

通过国内外现状可以看出，微纳结构在成像应用领域中有着潜在的巨大优
势，国际上著名团队和研究机构在这个领域开展了许多前瞻性研究。比较有代
表性的是基于衍射原理的轻量化、大口径微纳结构成像，大幅提升分辨能力的
超衍射结构成像，集成度高、重量轻的超表面成像，以及基于微透镜阵列集成
的复眼成像等。
本论文重点针对基于衍射原理的微纳结构成像和超表面成像两个领域开展
研究。两种成像方式的共同特点是轻量化程度高（单层结构实现成像）、成像质
量好（达到或接近传统技术）、有望拓展到大口径领域。同时超表面还可用于构
造集成化光学器件，实现各种灵活的调制功能。
目前，在上述两个领域的研究还面临着一些关键问题需要解决。例如，衍
射透镜宽带成像原理和模型不完善，也缺乏合理的大口径系统设计方法；超表
面结构的位相调控存在工作带宽有限、效率普遍较低等难题，缺乏高分辨率超
表面成像器件设计模型和方法，成像实验验证的报道也非常少见。为此，本论

20
 1 绪论

文针对性设置了研究内容框架，通过平面衍射透镜成像原理和方法研究，建立
宽带成像模型，获得大口径衍射成像系统的合理设计，为未来超大口径空间天
文望远镜提供原理、模型和设计方法；通过超表面成像原理和方法研究，获得
提高带宽和效率的原理方法，完成超表面成像器件设计，为集成光子器件、轻
量化成像器件提供原理、模型和设计方法；通过微纳结构成像实验研究，完成
衍射透镜宽波段成像和超表面成像实验验证，为微纳结构成像器件研究提供制
备工艺、检测方法基础。
各章具体内容如下：
第 1 章：绪论。主要阐述本文的研究背景和意义，并介绍国内外相关研究
进展等；
第 2 章：微纳结构成像的理论基础。主要阐述标量衍射分析方法、超表面
的等效介质理论和等效电路模型、以及有限元法、时域有限差分法、位相面光
线追迹法等微纳结构成像的仿真计算方法。
第 3 章：阐述平面衍射透镜成像原理和特性，开展宽波段成像模型分析。
针对空间天文观测应用，设计基于平面衍射透镜的大口径望远镜系统，对系统
成像性能进行了仿真分析，并给出带宽拓展方法。
第 4 章：围绕超表面成像原理方法，阐述超表面宽带位相和偏振的调控机
理，深入分析拓展超表面电磁调制带宽的原理方法，验证宽带位相和偏振调控。
研究超表面器件成像原理，设计基于超表面的轨道角动量传输和聚焦器件、高
效宽带超表面红外成像器件，为超表面成像器件在集成光学和轻量化成像中的
应用奠定理论方法基础。
第 5 章：围绕超表面聚焦器件和轻量化平面衍射透镜成像实验，阐述实验
中涉及的中间场成像测试、微纳结构制备、实验平台搭建、成像实验结果等研
究工作。
第 6 章：总结。对现有工作进行总结，并根据存在的问题提出下一步研究
计划及前景展望。

21
微纳结构成像原理和方法研究

22
 2 微纳结构成像的理论基础

2 微纳结构成像的理论基础

2.1 引言

对于衍射元件、超表面等微纳结构，其成像特性分析是建立在光波衍射理
论基础上。根据微纳结构尺寸相对于波长的大小，以及求解精度和方式的不同，
一般将微纳结构分析理论分为标量衍射（Scalar diffraction theory）和矢量衍射
（Vector diffraction theory）两类理论。
当微纳结构尺寸远大于波长，电磁波作用距离也远大于口径大小时，可以
采用标量衍射理论分析。标量衍射理论建立了一种近似条件，将光波复振幅作
为标量来考虑，只处理电磁场其中一个横向分量，并假设其它分量也采用相同
的独立处理方式。而当微纳结构尺寸接近或小于波长，电磁波作用距离远小于
口径时，标量衍射理论的近似条件将不再成立，必须用麦克斯韦方程组进行严
格矢量求解。矢量衍射理论正是在这种情况下，用于分析微纳结构中不同电磁
分量相关作用下，产生的复杂电磁行为。
本章首先从标量衍射微纳结构的分析方法入手，进一步讨论超表面的两种
矢量分析方法，最后对微纳结构成像的仿真计算方法作简要介绍。

2.2 标量衍射分析方法

2.2.1 标量衍射理论

在标量衍射理论中，微纳结构元件通常采用复振幅透过函数来表示。
首先假设微纳结构入射面的复振幅分布为 A(x,y)，微纳结构元件复振幅透
过率函数为 T(x,y)，出射光场 U(x,y)可表示为：
U ( x, y )  A( x, y )  T ( x, y ) (2.1)

该公式表达了微纳结构出射后的光场复振幅分布，再利用标量衍射积分公
式，即可计算出任意空间点的光场分布。

23
 微纳结构成像原理和方法研究

图 2. 1 微纳结构标量衍射传播过程模型

为分析标量衍射的传播过程，建立如图 2.1 所示的直角坐标系，其中  和 

代表了微纳结构出射面和光波传输一段距离后的观察面。M 和 P 分别为微纳结
构面  ' 与观测面内任意一点。微纳结构入射面的复振幅分布为 A( , ) ，微纳结
构复振幅透过函数为 T ( , ) 。
观察面的光场分布可由“亥姆霍兹-基尔霍夫”公式给出[96]：
1 exp( jkr )
E ( P) 
j  '
A( , )  T ( , )
r
d ' (2.2)

式中，微纳结构元件透过率函数 T( , )=exp[j ( , )] ，幅角  ( , ) 代表了

微纳结构元件对光波位相的调制作用。
当观测距离远大于微纳结构口径，即满足 d 3  [( x   )2  ( y   )2 ]2 / 2 时，
可采用菲涅耳-基尔霍夫衍射积分公式进行近似计算，因此式(2.2)可进一步表示
为：
1  k 
j d 
E ( P)  A( , )  T ( , ) exp( jkd ) exp  j  ( x   )2  ( y   ) 2   d d
 2d 
'


1   x2  y 2   k 
 exp  jk  d    ' A( , )  T ( , ) exp  j ( 2   2 )   (2.3)
j d   2d    2d 
 k 
exp   j ( x  y )  d d
 d 

再考虑另一个更苛刻的近似条件，即观察距离满足 d  2( 2   2 ) /  ，此时

观察面位于符合夫琅和费衍射区，式(2.2)可以采用以下近似公式表达：
1   x2  y 2 
2d   '
E ( P)  exp  jk  d   A( , )  T ( , ) 
j d   (2.4)
 k 
exp   j ( x  y )  d d
 d 

24
 2 微纳结构成像的理论基础

式(2.3)和(2.4)中，都有一个复指数因子：
 k 
exp   j ( x  y )   exp[ j 2 ( f   f )]
 d 

式中
f  x /  d；f  y /  d (2.5)

这个复指数因子表示了一个二维空间频率为(f , f ) 的简谐波，从表达形式
上看，正好是二维傅里叶变换的变换核。因此利用二维傅里叶变换方法，可以
快速地计算微纳结构元件的衍射光场分布。
微纳结构衍射场的另一种标量衍射分析方法是平面波角谱理论[96]，通过对
电磁波函数的平面波分解，对每个平面波作傅里叶变换，并在传播一定距离后，
进行复振幅叠加。

图 2. 2 角谱理论分析模型

首先建立一个角谱理论分析模型（如图 2.2 所示）

，波长为 λ 的光波在 z=0
的起始面上光场分布为 u ( x, y, 0) ，传播到达坐标为 ( x, y, z ) 的 P 点时，光场分布
为 u ( x, y , z ) 。
假设光场函数 u 的二维傅里叶变换如下：

U 0 ( f x , f y )    u ( x, y, 0) exp[i 2 ( f x x  f y y)]dxdy (2.6)


可推导出逆变换如下：

u ( x, y, 0)    U 0 ( f x , f y ) exp[i 2 ( f x x  f y y )]df x df y (2.7)


进一步推出在 P 点传播、方向余弦为 ( ,  ,  ) 的单位振幅平面波方程为：

2
u0 ( x, y, z )  exp[i ( x   y   z )] (2.8)

因此，可以把初始平面的复指数函数 exp[i 2 ( f x x  f y y )] 认为是方向余弦为

25
 微纳结构成像原理和方法研究

   f x ,    f y ,   (1   2   2 )1 2 的 平 面 波 ， 其 复 振 幅 是 U 0 ( f x , f y )df x df y 在
 
( fx  , f y  ) 处 的 取 值 。 在 这 种 情 况 下 ， 函 数 U0 ( fx , f y ) 称 为 光 场 扰 动
 
u ( x, y, 0) 的角谱。

在角谱物理含义基础上，再简要分析角谱的传播理论。假设 U ( f x , f y ; z ) 表
示光场扰动 u ( x, y , z ) 的角谱，其表达式为：

U ( f x , f y ; z )    u ( x, y, z ) exp[i 2 ( f x x  f y y)]dxdy (2.9)


分析角谱传播问题的关键是找出 U ( f x , f y ; z ) 与 U 0 ( f x , f y ) 的关联。
P 点电场分布可由下式表达：

u ( x, y, z )    U ( f x , f y ; z ) exp[i 2 ( f x x  f y y )]df x df y (2.10)


另外 u ( x, y, z ) 还必须满足亥姆霍兹波动方程，因此可推导出 U ( f x , f y ; z ) 必
须满足微分方程：

d2
U ( f x , f y ; z )  (2 ) 2 [1   f x2  f y2 ]U ( f x , f y ; z )  0
2
2
(2.12)
dz

该方程其中一个基本解为：
1
U ( f x , f y ; z )  U 0 ( f x , f y ) exp[i 2 (1   f x2  f y2 ) 2 z ]
2
(2.13)

上述结果清楚的表示，当满足 ( f x )2  ( f y )2  1 时，从起始面传播到 z 仅
改 变 了 各 角 谱 分 量 的 相 对 位 相 。 如 果 ( f x )2  ( f y )2  1 ， 式 (2.13) 可 写 为
2 1
U ( f x , f y ; z )  U 0 ( f x , f y ) exp[  z ] ，其中   2 [ f x2  f y2  1  ] 2 。由于  是正实
数，因此波动能量随传播距离程指数衰减，这种角谱分量被称为倏逝波。在标
量衍射微纳结构中，由于作用距离较远，倏逝波迅速衰减，难以有效利用。但
在近场条件下，利用微纳结构激发和放大，可以有效操控倏逝波的传输和变换。

2.2.2 光栅理论

以菲涅耳波带片为基础的圆形微纳结构衍射元件，可以看作是轴对称变周
期光栅。波带片最早采用惠更斯子波法解释，随着波动光学的发展，逐渐采用
类似于光栅的分析方法。在很多情况下，光栅模型可以有效计算衍射元件的局
部位相函数、衍射效率、制备误差影响。因此，光栅理论是分析衍射元件的非
常有效的手段。
周期性光栅的衍射实际上是衍射和干涉的综合作用，是所有结构单元的衍
射效应的叠加干涉。
首先讨论单波长光在周期结构调制下产生的多级衍射情况。在两种媒质的

26
 2 微纳结构成像的理论基础

界面处，如果是光滑而无规则结构，光线将按照折射和反射定律传播。但是界
面存在规则、周期的光栅结构时，将产生衍射现象。
根据光程差理论，衍射角与入射角存在以下关联：

n2 sin   n1 sin i  m ，m  0，
 1，
2 (2.14)

式中  为光栅周期，m 为衍射级次。可以看出 0 级衍射光不产生附加光程，
光在界面处仍然满足 Snell 折射定律。随着光栅周期不断增大，不同级次之间的
衍射角间距变小，最大衍射级次和衍射光束数量均会提高。
对衍射元件而言，衍射效率是衡量器件性能非常重要的指标。通过光栅模
型简化分析，可作为衍射元件衍射效率的近似分析方法[7]。

图 2. 3 一维闪耀位相光栅模型

如图 2.3 所示，假设单位振幅平面波垂直入射到具有直角三角形轮廓的一
维闪耀位相光栅上。光栅的周期为 T，总深度为 d，基底材料的折射率为 n，入
射光波长为 λ。根据光程差计算出透射位相函数为：
x
t ( x)    (x  mT )* rect ( )ei 2 f0 x (2.15)
m T

其中 f 0  (n  1)d / T 。
由角谱理论可知， t ( x) 的傅立叶变换就是透射光角谱：
sin[ T ( f  f 0 )]
F t ( x)    ( f  mT ) (2.16)
m  T ( f  f0 )

可求出 m 级衍射的振幅为：
m
sin[ T (  f 0 )]
am  T (2.17)
m
 T (  f0 )
T
由于衍射效率可表达为： m  am am* 。
因此有

27
 微纳结构成像原理和方法研究

2
  n 1  
 sin  [ m  (  d )] 
m     (2.18)
 n  1 
 (m  d)
  

式(2.18)就是闪耀光栅的衍射效率表达式。当 m=1 、 d   (n  1) 时，闪耀

光栅衍射效率为 100%，即全部光束均发生 1 级衍射。然而在实际情况下，理想
的闪耀轮廓难以加工，在微纳结构工艺中，通常采用多台阶逼近锯齿形闪耀轮
廓。

图 2. 4 位相量化多台阶光栅模型

位相量化多台阶光栅如图 2.4 所示，为尽可能接近闪耀位相轮廓，显然要

求台阶数目愈多。这种位相量化的方法虽然有效，但是从物理表达上，光栅的
透射位相函数已发生变化，不再满足式(2.15)中的表达式，因此有必要对多台阶
光栅的位相函数进行分析。

假设多台阶中所有台阶高度一致，台阶总数 L  2 N ，K 是从左开始的台阶

L 1
x  KT / L
序号，此时光栅位相函数为  ei 2 Kt0T / L rect ( ) ，光栅透射函数由下式表
K 0 T /L

示：
 x  L 1 x  KT / L  
ts ( x)    (x  mT )* rect ( )   ei 2 Kt0T / L rect ( )  (2.19)
m  T  K 0 T /L 

可推出其角谱为：
sin( fT / L) L 1 i 2 K (T / L )( f0  f )
F t ( x)    ( f  mT )e  i 2 fT / L (1/ L) e (2.20)
m  fT / L K 0

因此 1 级衍射的衍射效率如下：
2
 sin( / L) 
 s1  as1 as*1     [sin c (1/ L)]2 (2.21)
  /L 

28
 2 微纳结构成像的理论基础

上式即为多台阶微纳结构衍射元件中，台阶数与衍射效率的关系。

2.3 超表面分析方法

2.3.1 等效介质理论

等效介质理论即参数反演法，该方法能够根据实测微纳结构的 S 参数，直
接获得微纳结构的振幅、位相、偏振等调控特性。微纳结构根据不同的电磁响
应，需采用针对性的等效介质理论（Effective medium theory，EMT）
。根据结构
形式不同，微纳结构可分为三维和二维结构，普遍来讲，三维结构尺寸通常大
于四分之一波长，二维结构尺寸通常小于十分之一波长，因此它们的电磁响应
截然不同。以下分别阐述了二维和三维结构的 S 参数反演法。
杜克大学的 D. R. Smith 于 2002 年提出了一种通过反射和透射系数，计算
材料等效介电常数和磁导率的数值反演方法[97]，可通过反射系数和透射系数获
得体材料的等效介电常数和磁导率。
我们首先假设一种均匀材料（如图 2.5 所示）
，与微纳结构的厚度、透射系
数和反射系数相同，在这种情况下，可以认为微纳结构的等效折射率与该均匀
材料一致。

图 2. 5 三维微纳结构的 S 参数反演原理

29
 微纳结构成像原理和方法研究

我们进一步利用计算或实验测试所得的反射系数 r、透射系数 t 等 S 参数，

推导微纳结构材料的等效磁导率和介电常数。
利用传输矩阵法可以进行严格的推导，在简单情况下，考虑一个厚度为 d
的三维等效微纳结构材料，已知其反射和透射系数为 r 和 t，通过边界条件求解，
推导出以下表达形式：
1  r   t 2 ,
2

z eink0 d  X  i 1  X 2 (2.22)

1  r   t 2
2

1 r2  t2
其中 z 为阻抗，n 为等效折射率，k0 为真空下的波矢量， X  。
2t

当 Re  z   0, Im  n   0 时，等效折射率 n 表达式如下：

n
k0 d

1  
    
Im  ln eink0 d   2m   i Re  ln eink0 d 

(2.23)

其中 m 是 Re(n)支路的整数。我们根据 n、z 值，利用   n z ,   nz 来计算

出等效磁导率 μ 和介电常数 ε。
在上述求解过程中，并没有特别的限制条件和近似条件，因此可以非常快
捷地求解阻抗 z。当然，对于折射率计算的支路问题，还需要考虑预置条件下，
求解过程的正确性。
该问题可以用下述方法进行快速判断和解决：当微纳结构不存在强烈共振
时，折射率不会在不同频点处突变，此时将极低频的支路 m 设置为零，随着频
率增大，折射率会发生连续变化，因此可判断出正确的支路数。
在二维情况下，由于微纳结构尺寸通常小于十分之一波长，等效介电常数
和磁导率的已不再适用，因此 M. Pu 等人提出了等效阻抗理论[98]。
该理论的核心在于，考虑表面微纳结构的电阻抗和磁阻抗，由于存在面内
电流和磁流，在表面结构边界条件下，可以推导出以下公式：
   
Ei  Er  Et  nˆ  jm
    (2.24)
H i  H r  H t  nˆ  je

其中 E、H 为电场和磁场，i、r、t 表示入射、反射和透射， n̂ 为法向矢量。

在考虑 Er、Ei、Hr、Hi 的关系后，可得出与 Z0 的表达式。此时表面电流密
度 je 和磁流密度 jm 分别将产生相应的电磁场，其值通过电导纳 Ye 和磁阻 Zm 推
导：
 1   
je  Eaverage  Ye Eaverage  Ye (1  r  t ) Ei / 2
Ze (2.25)
  
jm  Z m H average  Z m (1  r  t ) H i / 2

30
 2 微纳结构成像的理论基础

根据上述两个表达式，可推出以下公式：
1 r  t
Ye  2Y0
1 r  t
(2.26)
1 r  t
Z m  2Z0
1 r  t

1  2Y  Y Z  2 Z 0 
r  0 e m 
2  2Y0  Ye Z m  2Z 0 
(2.27)
1  2Y  Y Z  2 Z 0 
t  0 e m 
2  2Y0  Ye Z m  2Z 0 
2Y0Ye
je  Ei
2Y0  Ye
(2.28)
2Z 0 Z m
jm  Hi
Z m  2Z 0

当微纳结构 Zm = 0 时，其反射与透过率变化为：
1  2Y  Y 
r   0 e  1
2  2Y0  Ye 
(2.29)
1  2Y  Y 
t   0 e  1
2  2Y0  Ye 
进一步将公式简化为：
1 r  t
Ye  2Y0
1 r  t
(2.30)
Z 1 r  t
Ze  0
2 1 r  t

通过上式，二维表面微纳结构的等效阻抗便可求解。

2.3.2 等效电路模型

等效电路理论是另一种对表面微纳结构进行分析的理论方法，同样可以有
效解释表面微纳结构对电磁波位相的调控机制。
首先构造如图 2.6 所示的单元微纳结构的等效电路，可以将其看作在 XY
方向均等效为 LC 电容电感串联电路。微纳结构中电感 L 主要来源于金属线，
而结构之间的相互影响形成电容 C。

31
 微纳结构成像原理和方法研究

图 2. 6 各向异性超表面单元结构等效电路图

根据理论经验，金属线电感可由下式计算：


L  2l ln l  w  t    0.5   w  t  3l  (2.31)
其中金属线长、宽、厚分别由 l、w、t 表示，该式中采用的电感单位为纳
亨（nH）
。
进一步可推导相邻金属线的电容值：
s  lt
C  (2.32)
4 kd 4 kd

其中 d 为金属线间距。
在 LC 等效电路理论中，电磁波入射到表面结构的电磁特性可用传输矩阵
表示：
 1 0
 A B    1 Z0   1   1 Z0 
C D  0 1   j L  1  0 1 
 jC 
  1  2 1 
1  Z0  j L   2Z0  Z 0  j L   (2.33)
 j C   j C 

 1  1  
 j L  1  Z0  j L  
 j C  j C  

式中 Z0 为真空波阻抗，w 表示角频率。根据上式可推导出传输位相：
2
  arg( )
A  B Z0  CZ0  D
1 1
 arg( )  a tan( Z 0 (   L)) (2.34)
 1  C
2  2Z0  j L  
 jC 

可见，表面微纳结构中的传输位相与电感 L 和电容 C 密切关联。

当表面结构正交方向存在位相差时，即可形成偏振调控微纳结构。从电容、
电感表达式可以看出，当电场垂直分量的电容远大于电感时，其传输位相由电
容表示：
Z0
  a tan( ) (2.35)
C

而电磁平行分量的电感作用远大于电容，其传输位相由下式表示：
  a tan( Z 0 L) (2.36)
32
 2 微纳结构成像的理论基础

根据上述两式，两个正交电场分量的位相不同，并且存在位相差，这是产
生偏振调制的原因。因此，我们可以利用特殊的微纳结构，构造特定正交位相
差，实现所需偏振位相转换。

2.4 微纳结构成像的仿真计算方法

2.4.1 有限元法

有限元法（Finite Element Method）是一种近似求解边界问题的数值方法。

1943 年，Courant 首次提出了最小位能原理以及离散的分段插值形式，形成了
有限元的基本思想[99]。随后 Levy[100]、Clough[101]、P.P.Silvester[102]等人对有限元
法的求解方式和计算机算法进行了改进，并将有限元法首次应用于电磁波问题
分析。至今，有限元法已广泛应用于力学、电磁学、声学等各个领域，成为数
值计算的重要手段。
有限元法的基本思路是，将连续函数的封闭场划分为数量有限的小区域，
该连续函数可由偏微分方程表示。每个小区域被特定的近似函数代替，实现全
场域函数的离散化。然后对得到的近似方程组进行联合求解，计算出函数在该
场域内的近似值。有限元法可任意划分单元，非常适合在复杂边界条件下的物
理问题求解。同时每个划分的单元具有拉格朗日特性，因此十分容易处理边界
条件，实现物质界面跟踪。

2.4.2 时域有限差分法

时域有限差分法（Finite-Difference Time-Domain Method，FDTD）是一种

性能优异、适用性广、计算量少的数值计算方法，由 Kane S.Yee 在 1966 年首
次提出[103]。80 年代末，FDTD 成功实现了微波电路时域分析，此后又被用于计
算天线辐射、电磁兼容等问题。经过许多科学家的不断完善，时域有限差分法
也得到了更加广泛的应用。
时域有限差分法计算的前提是在全部相关电磁场域建立 Yee 氏网格，并通
过空间网格化，将电磁场域划分为有限单元区域。在这种情况下，会出现非物
理的反射现象，造成计算准确度严重下降。设置吸收边界条件可以有效地解决
该问题，使传播到边界的电磁波被完全吸收，从而避免了非物理反射的出现。
与其他数值计算方法相比，时域有限差分法有诸多优点：1）所需计算内存
和 CPU 处理时间与网格单元数量成正比，相比传统矩量法，极大减少了对计算
量的要求；2）适用于任何复杂物体，包括色散、非均匀、各向异性、非线性等
物质；3）可用直观的物理图象分析复杂的物理过程；4）利用傅里叶变换可获
得丰富的频域信息；5）非常适合并行计算，与现代计算机发展趋势吻合。
33
 微纳结构成像原理和方法研究

2.4.3 位相面光线追迹法

二元光学、衍射透镜、计算全息的成像均属于微纳结构成像。对其中光线
传播方向的调制作用可以按照几何光学光线追迹的办法。由于微纳结构元件不
具备光滑界面，无法直接用立体几何关系计算光线方向矢量。因此引入位相面，
通过位相的变化确定光线出射方向，使宏观条件下几何光学与微纳结构成像的
计算方法得到统一，为基于微纳结构的成像系统整体优化设计提供了条件。

图 2. 7 基于位相面的微纳结构成像光线追迹示意图

首先设置自由空间的直角坐标系，如图 2.7 所示，其中位相面为曲面，顶

点为坐标系原点 O，位相面在原点的切平面为 yz 面，顶点法线与 x 轴重合。位
相面上任意点 P ( ,  , l ) 的位相函数可由下式表达：
 
 ( , l )   Cij i l j (C00  0) (2.37)
i 0 j 0

其中 Cij 为位相系数。波长 λ 的入射光线 AP 与位相面相交于点 P ( ,  , l ) ，

位相面在 P 点的位相为  ( , l ) ， B ( x ', y ', z ') 是入射光线 AP 的 m 级衍射光线上
的一点。假设已知 AP 的方向余弦为 ( L, M , N ) ，位相面基面的面形由方程
   ( , l ) 决定。
根据光程差理论，当设计波长为 λ0 时，光线 APB 的光程函数 F 可以表示
为：
m
F  AP  PB   (2.38)
0

式中 AP 、 PB 为 AP、PB 距离。
根据费马原理，当光线从点 A 到点 B，无论中间的路径如何，AB 之间的
光程为最小值，因此可进一步得到：

34
 2 微纳结构成像的理论基础

F F
 0, 0 (2.39)
 l
结合式(2.38)与式(2.39)，可推导出第 m 级衍射光线方向余弦 ( L ', M ', N ') 与
AP 方向余弦 ( L, M , N ) 的关系：
F     
 ( M  M ' m )  ( L  L ' m ) 0 (2.40)
 0  0  

F     
 ( N  N ' m )  ( L  L ' m ) 0 (2.41)
l 0  0  l

其中
x  y  z l
L ,M   ,N  
AP AP AP

x '  y '  z ' l

L'  ,M '  ,N'
PB PB PB

AP  ( x   )2  ( y   ) 2  ( z  l ) 2

PB  ( x '  )2  ( y '  )2  ( z ' l ) 2

衍射光线方向余弦满足下式：

M ' 2  N '2  L '2  1 (2.42)

根据位相面基面方程    ( , l ) ，P 点的法线方向余弦 (cos  , cos  , cos  ) 可

表达为：
1
cos  
 2  2
1 ( ) ( )
 l



cos   
 2  2
1 ( ) ( )
 l


cos   l
 2  2
1 ( ) ( )
 l

当
L  L '  T cos  (2.43)
35
 微纳结构成像原理和方法研究


并且 0


式(2.40)和(2.41)则变为下式：
 
M  M ' m( )( )  T cos   0 (2.44)
0 

 
N  N ' m( )( )  T cos   0 (2.45)
0 l


设m   ，根据式(2.43)~(2.45)可推导出：
0

L '  L  T cos 

M '  M  T cos    (2.46)


N '  N  T cos   
l
其中
T  b  b 2  c
 
b  L cos   M cos   N cos    cos    cos  (2.47)
 l
   
c   2 [( ) 2  ( ) 2 ]  2 ( M N )
 l  l
式(2.46)表达形式非常简单，等号右边同时反映的位相面基面和位相调制对
光线的偏折作用。
在已知位相面基面方程    ( , l ) 以及入射光线方向余弦 ( L, M , N ) 情况
下，由式(2.46)和(2.47)可以求解衍射光线的方向余弦 ( L ', M ', N ') ，该方法与传
统折射面形光线追迹方法几乎一致，因此在通用光学优化设计软件中，使用位
相面光线求解公式，便能将微纳结构和传统光学元件的计算、设计和仿真方法
在一定程度上统一。

2.5 本章小结

本章围绕微纳结构成像所需理论，介绍了微纳结构分析常用的标量衍射理
论和矢量衍射理论，包括标量衍射积分公式和平面波角谱理论、闪耀光栅和量
化位相多台阶光栅理论、等效介质理论和等效电路模型等，为后续深入讨论微
纳结构成像原理和方法提供了理论基础。除此以外，还简单介绍了微纳结构成

36
 2 微纳结构成像的理论基础

像相关的有限元和 FDTD 数值计算方法，以及基于位相面的光线追迹计算方法，

为微纳结构成像器件设计和仿真奠定方法基础。

37
微纳结构成像原理和方法研究

38
 3 平面衍射透镜成像原理和方法

3 平面衍射透镜成像原理和方法

3.1 引言

微纳结构最早用于成像是在折衍混合成像技术中，其原理是在折射式光学
系统中加入 1~2 个衍射表面，利用衍射元件对位相灵活的调制特性，可降低系
统复杂程度、减少镜片数量和体积。然而，折衍混合成像的本质仍然是以透镜
为主，衍射表面制作在透镜基底上，未能从根本上解决传统光学系统重量体积
大的问题，在大多数设计中轻量化程度十分有限。因此，人们开始探索直接利
用平面衍射元件作透镜或主镜的成像方法。在这种构想中，衍射元件采用非常
薄的平面基底，只依赖于自身微纳结构的调制作用，而无需增加额外的体积重
量。平面衍射成像技术展现出的轻量化优势，引起了研究人员的极大关注，美
国空军学院、美国 LLNL 国家实验室、英国皇家天文台、欧洲航天局等研究机
构均开展了相关预研。但是由于衍射元件显著的结构色散，基于平面衍射元件
的成像系统面临着宽带成像难题。同时，以平面衍射透镜作为主镜的望远镜成
像系统光学设计方法尚不成熟，特别是在大口径衍射望远镜系统方面，至今未
见合理的设计结果。因此，基于平面衍射透镜的宽带成像原理以及设计方法，
是平面衍射成像技术面临的关键理论问题。
本章在详细分析平面衍射透镜成像原理和特性基础上，开展宽波段成像模
型分析和推导，并给出拓展带宽的方法。最后针对空间天文望远镜应用，设计
了基于平面衍射透镜的大口径望远镜系统，对系统成像性能进行了仿真分析。

3.2 衍射透镜成像原理和特性

3.2.1 成像原理

最早的衍射透镜可追溯到菲涅耳发明的波带片，其成像的基本思想和环带
设计方法以半波带法为基础。当时物理光学理论处于研究初期，很多衍射理论
尚不完善，半波带法将衍射场的积分运算变成非常简洁直接的求和公式。直到
今天，半波带法在解释以波带片为基础的全息元件、基诺图、二元光学等轴对
称衍射透镜的成像原理时，仍然具有十分准确的物理意义，也是求解理想聚焦
衍射透镜环带位置的可靠方法。因此，我们首先从理想聚焦波带片入射，分析
其成像原理，推导环带计算公式，并用于解释衍射透镜成像过程。
首先构建如图 3.1 所示的半波带法分析模型[6]，其中 S 为理想点源，  为
39
 微纳结构成像原理和方法研究

衍射屏，P 为观察点。  被划分为一系列同心圆环，相邻圆环到 P 点的光程差

相差半个波长，这些同心圆环被称为半波带。

图 3. 1 半波带法分析模型

每个半波带在 P 点产生的复振幅可表示为：
U ( P)  A ( P)ei1
1 1

U 2 ( P)  A2 ( P)ei (1  )

(3.1)
U ( P )  A ( P)ei (1  2 )
3 3


所有复振幅相加得到 P 点光场复振幅为：
U ( P)   A1 ( P)  A2 ( P)  A3 ( P)    (1) n 1 An ( P)  ei1 (3.2)

其幅值为：
A( P)  U ( P)  A1 ( P)  A2 ( P)  A3 ( P)    (1) n 1 An ( P) (3.3)

从上式可以看出，相邻半波带在 P 点处形成的振幅贡献正好相反，如果能
够把所有贡献一致的半波带参与光场传输，而相反贡献的所有半波带不透光，
则将产生最大的聚焦幅值。这就是菲涅耳波带片设计思路。

图 3. 2 菲涅耳波带片成像原理分析模型

40
 3 平面衍射透镜成像原理和方法

下面对菲涅耳波带片原理进行讨论。在图 3.2 中，设 r  b  k  / 2 ，    k ，

根据几何关系可以推导出：
 k2  r 2  b  R(1  cos  )
2

k 2
)  b  R(1  cos  ) 
2
 (b  (3.4)
2
 bk   R 2 (1  cos  ) 2  2bR(1  cos  )
由于有：
R 2  ( R  b) 2  r 2
cos  
2 R ( R  b)
k 2 2
2 R  2 Rb  b  b  bk  
2 2 2

 4 (3.5)
2 R ( R  b)
2 R 2  2 Rb  bk 

2 R ( R  b)
从而可得出：
bk 
1  cos   (3.6)
2 R ( R  b)

Rb
k  k   k 1 (3.7)
Rb

Rb
1  (3.8)
Rb

进一步有：
1 1 k
  (3.9)
R b  k2

假设：

 k2 12
f   (3.10)
k 

则可得：
1 1 1
  (3.11)
R b f

从上式可以看出，点源 S 经过波带片传输到 P 点的公式描述，与透镜成像

公式非常相似，因此可以认为菲涅耳波带片就是一种衍射透镜。但是从式(3.10)
可以看出，菲涅耳波带片焦距与波长成反比，说明其存在严重的色散，在自然

41
 微纳结构成像原理和方法研究

光照明下，无法实现所有谱段理想聚焦。但是经过特殊的消色差校正模型，可
以使波带片色散得到完全消除。关于波带片色散特性以及宽波段消色差机理，
将在本章后文中阐述。另外，对于菲涅耳波带片，我们也可以把它看作一种特
殊的变周期、圆对称振幅型光栅，其零级衍射不改变入射光的位相，其它级次
的衍射则将产生多个实焦点和虚焦点，分别位于 f，f/3，f/5，……以及-f，-f/3，
-f/5，……。当式(3.4)中 R 为无穷大时，点源 S 位于无穷远，此时波带片为平面。
在这种情况下，可以使用平板玻璃甚至薄膜作为平面衍射透镜的基底，在大幅
提高轻量化和小型化程度的同时，降低了微纳结构加工难度。因此对平面衍射
透镜进行研究具有重要价值。
上面讨论了理想聚焦波带片和衍射透镜的成像原理和环带计算方法，然而
在大多数情况下，衍射透镜并非直接聚焦成一个点，而是作为位相面，对光束
进行自由度非常高的位相调制。衍射透镜的高自由度位相函数为光学成像系统
设计提供了非常直接的优化参量，是衍射透镜最突出的优势。下面对平面衍射
透镜的一般成像原理和位相表达式进行分析，并给出圆形环带的通用设计方法，
为后续平面衍射透镜成像特性分析奠定理论基础。
平面衍射透镜可以看作折射率无限大的薄透镜，利用这种薄透镜模型，可
直接运用标量衍射相关理论对其成像规律和特性进行研究。在该模型中，不考
虑多级衍射级次共存的情况，只针对+1 级衍射级次进行分析。
旋转对称的平面衍射透镜平面衍射透镜位相函数可表示为：
 ( r )  A1r 2  A2 r 4  A3 r 6  A4 r 8   (3.12)

式中：r 为半径坐标；Ak 是位相系数，A1 决定该元件的光焦度，一般用来

校正系统的色差；A2、A3 等用来校正系统的高级像差。在衍射透镜和系统设计
中，所有位相系数均可作为优化变量进行优化。
在某些情况下，衍射透镜位相函数也可表示为：
 (r )  a1  2  a2  4  a3  6  a4  8   (3.13)

其中 a1 、 a2 、 a3 ……为系数，  为归一化半径。
进一步讨论平面衍射透镜的位相函数与环带径向半径的关系，为微纳结构
设计提供理论基础。衍射透镜作为位相调控元件，环带定义与半波带相同，即
相邻圆环到出射光程差相差半个波长。因此环带径向半径与光程差正好满足位
相函数的曲线关系，对位相函数曲线进行量化即可得到半径值，而无须复杂的
计算。
对于连续位相函数，如果按照 2π 位相进行量化，得到新的位相函数如下：
 '(r )   (r )  int  (r ) / 2   2 (3.14)

42
 3 平面衍射透镜成像原理和方法

从上式可以看出，量化后的位相函数  '(r ) 被限制在[0，2π]之间。

以下是一个位相函数量化实例。图 3.3 显示了一个具有高次非球面位相分
 '(r )
布的衍射透镜位相函数，以光程差 OPD(r ) 表示，其中 OPD(r )  。从图中
2
可以看出，最大光程差为 591 个波长，该位相分布可以用于校正高级。

600

CGH光程差（波长） 500

400

300

200

100

0
0 0.2 0.4 0.6 0.8 1
归一化半径坐标

图 3. 3 平面衍射透镜位相（光程差）函数曲线图

进一步对平面衍射透镜的位相函数进行编码，并转化为实际的浮雕轮廓面
形参数。这里以类似于波带片的两台阶位相型衍射透镜为例。由于整个面形是
轴对称的，因此由一个截面的矢高方程就可以决定全部面形。各个环带浮雕面
形的计算是基于式(3.14)的位相函数，通过寻找位相函数的值正好为 2π 的整数
倍时的坐标值作为环带边界径向半径，并寻找位相函数正好为 π。的坐标值作
为环带的另一个边界，因此得到环带浮雕轮廓图形如图 3.4 所示。环带最小特
征尺寸出现在边缘部分，其值为 11μm。基面为熔融石英玻璃，其对 0.6328μm
波长的折射率为 1.4570，根据 2π 位相求出环带台阶的刻蚀深度为 0.692μm。
-4
x 10
10

6
刻蚀深度(mm)

-2
0 5 10 15 20 25 30 35 40
半径坐标(mm)

图 3. 4 平面衍射透镜截面图形

43
 微纳结构成像原理和方法研究

3.2.2 色散特性

色散是材料的常见特性，光波段的大部分玻璃材料都存在色散，其折射率
随波长增大而减小，导致玻璃材料构成的光学透镜光焦度也随波长变化。在波
长为 λ、玻璃材料折射率为 n(λ)的情况下，传统薄透镜的光焦度可表示为：
1
 ( )   [n( )  1]C0 (3.15)
f ( )

式中 C0 是薄透镜的两表面曲率差值。
从前面的讨论中可以看出，衍射透镜也具有类似薄透镜的成像表达式。在
1 
理论聚焦情况下，根据式(3.10)可得  D ( )   2 ；在一般情况下，根据式
f ( ) 1

(3.12)可得  D ( )  2 A1m 。无论在哪种情况下，衍射透镜的光焦度都是与波长

成反比。令  D ( )  K  ，从而有：

f ( ) d
 (3.16)
fd 

如果将衍射透镜的光焦度与薄透镜进行类比，可求出在波长 λ 时的衍射透
镜等效折射率：
1 
nDeff ( )  1   1 (3.17)
C0 f ( ) C0 f d d

在传统光学材料中，色散通常用阿贝数 VD 表示：
nd  1
Vd  (3.18)
nF  nC

其中 λF、λd、λC 分别为 F、d、C 光波长，对应 0.4861μm、0.5876μm、0.6563μm，

nd、nF、nC 分别为 F、d、C 光对应的折射率。
根据式(3.16)~(3.18)可得衍射透镜的等效阿贝数为：
d
VdDOE   3.452 (3.19)
F  C

同样可推导出衍射透镜的部分色散。传统折射透镜与衍射透镜色散特性的
比较如表 3.1 所示[7]。

44
 3 平面衍射透镜成像原理和方法

表 3. 1 传统折射透镜与衍射透镜色散特性比较

特性 传统折射透镜 衍射透镜

光焦度  ( )  [n( )  1]C0  D ( )  K 

nd  1 d
阿贝数 Vd  0 VdDOE  0
nF  nC F  C

nF  nd d  F
部分色散 Pd  PdDOE 
nF  nC C  F

由上述分析可以看出：
1）衍射透镜色散仅与波长相关，与基底玻璃材料无关，这是与传统折射透
镜的最大区别；
2）衍射透镜阿贝数的符号同传统玻璃相反，且绝对值小得多，表明衍射透
镜色散非常大；
3）衍射透镜的部分色散与传统玻璃材料区别较大，在同样波长间隔下，绝
大部分玻璃材料在蓝光波段末端表现出较大部分色散，而衍射透镜情况恰好相
反，有利于校正二级光谱。

3.2.3 两种平面衍射透镜

目前人们比较关注的两种平面衍射透镜分别是多台阶位相型衍射透镜和光
子筛衍射透镜。下面对这两种衍射透镜的特点以及优缺点作简要分析。
（1）多台阶位相型衍射透镜
连续位相面形衍射元件理论上具有 100%衍射效率，但是在实际应用中，连
续位相面形难以加工，为尽可能逼近连续位相面形，通常采用多台阶方式近似
代替连续面形，构成所谓的二元光学元件，其位相函数由下式表达：
2    '(r )   '(r )     '(r )  
 'N (r )   int    int     2  int   (3.20)
N   2 / N  2 / N    2 / N  

其中，N=2k，k=0，±1，±2，……
图 3.5 是一个典型的衍射透镜中心区域轮廓，以玻璃介质为基底，具有正
光焦度，因此中心轮廓表现出凸面形状。

图 3. 5 多台阶位相型衍射透镜中心区域

45
 微纳结构成像原理和方法研究

根据物理光学理论推导出多台阶位相型衍射透镜的衍射效率取决于设计波
长和工作波长、位相的阶数和衍射级次，其衍射效率由下式给出：
2
  
2
 sin[ ( 0  m)] 
 sin( / N )  
    (3.16)
  / N    ( 0  m)  
  

式中，λ 为工作波长，λ0 为设计波长，N 为台阶数量，m 为衍射级次。

从式(3.16)可以看出，多台阶位相型衍射透镜的衍射效率随量化阶数而增
加，对于有具有 2 个台阶数的衍射光学元件，衍射效率为 40%；4 台阶衍射光
学元件衍射效率为 81%；而 8 台阶衍射光学元件衍射效率为 95%；当台阶数为
16 时，衍射效率几乎可以达到 99%。通过增加台阶数量，可以有效克服因多级
像而造成的光能损失和杂散光。
多台阶位相型衍射透镜与所有衍射元件一样，具有灵活的位相设计自由度，
在指定波长很容易获得衍射极限设计结果。另外，多台阶位相型衍射透镜还能
够通过提高位相深度，利用多重位相特性平衡衍射色差过大的问题，在特定光
路中可实现带宽拓展，该原理将在后续内容中阐述。利用无机和有机薄型基底
都能够制作多台阶位相型衍射透镜，可在光学成像系统作为超轻量化的主镜使
用，并根据不同任务需求，选择不同基底材料。加工方法方面，可采用光刻、
直写等常规微细加工手段。
（2）光子筛衍射透镜
光子筛衍射透镜是以菲涅耳波带片为基础的衍射元件，其本质是将大量小
孔按一定规则或随机分布在波带片的透光环带上，以实现振幅型衍射聚焦功能。
合理地设计小孔角度分布以及径向半径坐标，光子筛能消除由于元件的矩形边
缘位相特征引起的边缘震荡效应以及其它衍射级次引入的杂散衍射，从而获得
优于波带片的成像效果。

图 3. 6 光子筛衍射透镜示意图

46
 3 平面衍射透镜成像原理和方法

光子筛透镜同样能够达到衍射极限像质，但是由于小孔随机分布特性，其
成像过程会带来一定背景噪声，从而影响到系统焦面成像的对比度以及调制传
递函数。此外，光子筛是振幅型衍射元件，无法提高位相深度、实现多重位相
衍射特性。利用物理光学理论和标量衍射方法，可以推导出光子筛的衍射效率
在 0.5%~5%之间。将光子筛衍射透镜作为大口径主镜的最大好处是，利用单片
金属膜加工光子筛，其微细图形连续无间断，不需要额外连接部件，为大幅降
低主镜重量和复杂度提供了有效途径。而且光子筛可选材料非常广泛，从有机
不透明材料到金属和无机材料，只要能够满足一定热力学性能并且能够制作成
薄型基底，都可以应用在光子筛上。光子筛的特征尺寸相对波带片提高了 1.5
倍甚至更高，因此放宽了对微细加工的要求，采用光刻、直写甚至机械加工方
法，都有可能制作大口径光子筛衍射透镜。
根据上述分析可知，多台阶位相型衍射透镜与光子筛衍射透镜均有可能应
用在轻量化成像系统中，成为光学主镜的基本结构。但是具体选择需要考虑多
方面因素，例如像质要求、效率、环境适应性、制造工艺难度、成像波段等。

3.3 宽波段成像模型

平面衍射透镜成像最主要问题是具有严重的色散特性，它的成像焦距与波
长成反比。结合像差理论和平面衍射透镜的光学参数计算公式，可以推导出平
面衍射元件单独作为透镜使用时的带宽如下[33]：
 
 f number (3.17)
 D

式中 f number 和 D 分别为衍射透镜的 F 数和通光口径。对于一个 F/100 衍射

透镜，在可见光波段其带宽仅为万分之一纳米量级。如此小的带宽在宽波段系
统中无法成像，因此单片衍射透镜通常都应用于单色光系统。
为了达到宽波段成像的目的，必须使用色差校正方法平衡微结构光学透镜
的色散。我们首先从目前已有的两种消色差模型入手，分析每种消色差方法的
优劣，以及在平面衍射成像中应用的可行性。最后进一步给出了拓展带宽的原
理和理论模型，为实际光学设计提供指导。
目前有消色差模型包括两种：第一种是双薄透镜消色差模型，第二种是
Schupmann 消色差模型[33]。第一种消色差模型常用于传统光学成像系统中，在
平行光管、望远镜、显微镜物镜、目镜等光学透镜部件设计中应用广泛；第二
种消色差模型很早便由 Schupmann 提出，但是由于校正色差的两个元件在光路
中相距较远，因此在实际应用中使用较少。以下对两种模型进行理论分析。
（1）双薄透镜消色差模型
47
 微纳结构成像原理和方法研究

首先讨论理想薄透镜组系统的消色差条件。对于具有一定间隔的薄透镜组
系统，光线在不同透镜上的高度不等，其色散特性（阿贝数）和光焦度分配公
式如下所示：
i
h i
i
2

i
0 (3.18)

 h i
i i  h1 (3.19)

式中 hi 代表第一近轴光线（即从轴上物点出发、过入瞳边缘的光线）在第
i 个薄透镜上的高度， i 和 i 分别表示第 i 个薄透镜的光焦度和阿贝色散常数，
 是薄透镜组总光焦度。

图 3. 7 双薄透镜消色差模型

我们可以用图 3.7 来表示双薄透镜消色差模型。在胶合或紧密相接的双薄

透镜中，根据式(3.18)和(3.19)可得到以下公式：
1 2  2
h12 h 0
1 2  2 (3.20)
h11  h22  h1

由于 h1  h2 ，式(3.20)可进一步写为：
1 2
 0
1  2 (3.21)
1  2  

根据上节对平面衍射透镜的色散特性分析可知，衍射透镜阿贝数为负，为
满足式(3.21)，另一个薄透镜阿贝数必须为正，从所有光学元件来看，只有玻璃
透镜能够满足。因此，在双胶合薄透镜组合消色差模型中，必须是传统透镜与
衍射元件的组合。上述理论即为折衍混合的基本思路，在这种情况下，衍射元
件仅作为透镜元件优化设计使用，仍然未能发挥其轻薄的特点。
（2）Schupmann 消色差模型

48
 3 平面衍射透镜成像原理和方法

Schupmann 消色差模型基本思路是：第一个透镜的色散由后端光路中的透
镜校正，其中第一个透镜通过中继透镜与校正透镜共轭，经过校正透镜后的光
束即为消色差发散光束，再经过一个会聚透镜实现聚焦。Schupmann 消色差模
型本用于折射透镜组系统消色差，但是由于存在透镜分散、光路长等问题，很
少用于实际应用。然而 Schupmann 消色差模型理论上可在非常宽的波段内消色
差，同时色差校正元件口径可小于第一个透镜，这些优点正好适用于平面衍射
透镜的色差校正。衍射透镜作为第一个成像元件情况下，依靠自身并不能实现
色差补偿，如果将色差校正放置在后端光路正好可以满足非胶合消色差要求。
采用 Schupmann 色差校正模式的平面衍射透镜成像模型示意图如下：

图 3. 8 平面衍射透镜 Schupmann 模型示意图

从图中可以看出，当光线从平面衍射透镜（Diffractive Lens，DL）的某一
点离开后，由于 DL 色散特性，不同波长的光将以不同的角度会聚。此时从该
点出发的光线不仅存在色散，而且在空间上相互分离，这两种效应都需要后面
的元件进行补偿。首先由中继透镜将平面衍射透镜成像到衍射校正器所在平面，
使得从主镜一点出发的空间分离的光线重新会聚在衍射校正器的对应共轭点
上。此时光线虽然会聚到一点，但是不同波长光线的发散角仍然不同。利用衍
射校正器可以解决这个问题。它是一个与主镜光焦度相反的衍射透镜，不同波
长光线经过校正器后发散角都相同，从而消除了色散现象。色差校正后的光波
是一束发散光，再通过一个聚焦透镜将所有的光线聚焦到焦面上。
下面从从几何光学和衍射透镜原理出发，推导 Schupmann 消色差模式的基
本条件。
h
假设经过每个元件的光线由矩阵   表示，其中 h 为光线在元件表面上的
 

坐标，θ 为光线入射到元件上的方向角，则上述光路模型可由下式表示：

49
 微纳结构成像原理和方法研究

 hi  1 L4   11 12   1 0   v11 v12   1 0   h1 

   0 1     
22    DC ( ) 1  v21 v22    DL ( ) 1  1 
    (3.22)
 i    21

h  h 
其中  1  和  i  分别为光线在衍射透镜和焦面的坐标，  DL ( ) 和  DC ( ) 分
1  i 

别为衍射透镜和衍射校正器的光焦度，  为波长（ 0 为设计波长），而矩阵

 v11 v12   11 12 

v 和 22 
则分别表示从衍射透镜经过中继透镜到衍射校正器、以
 21 v22    21

及从衍射校正器经过聚焦透镜的过程。
由于模型最终可以消色差聚集，因此 hi  0 ，并且根据纵向和轴向消色差要
求，与波长相关的部分应全部包含在以下公式中：
 k11 k12   1 0   v11 v12   1 0
k       
 21 k22    DC ( ) 1   v21 v22    DL ( ) 1 
(3.23)
 v11  v12 DL ( ) v12 
 
v21  v22 DL ( )  v11 DC ( )  v12 DL ( ) DC ( ) v22  v12 DC ( ) 
显然，为保证 k 矩阵是消色差的，必须 v12  0 ，因此上式可简化为：
 k11 k12   v11 0
k  (3.24)
 21 k22  v21  v22 DL ( )  v11 DC ( ) v22 


可以看出上式中只有 k21 与波长相关，为使其与波长无关，可推导出：

v22 v k
 DC ( )    DL ( )  21 21 (3.25)
v11 v11

因此衍射校正器的光焦度包含了与波长相关和无关的部分。假设与波长无
关的部分合并到聚焦透镜矩阵 μ 中，令 v11 为衍射透镜与衍射校正器共轭的纵向

1 1
放大倍率  ，则根据传输矩阵为单位矩阵的属性，可推导出 v22    ，从
v11 

而可得：
1
 DC ( )    DL ( ) (3.26)
2

可见，只要满足式(3.26)即为 Schupmann 模型的消色差条件。

根据上述分析，进一步可推导出光路中其他几何尺寸和光学参数关系。假
#
设平面衍射透镜的口径、F 数分别表示为 DDL 、FDL ，中继透镜的通光口径为 DRL ，
#
衍射校正器的口径、F 数分别表示为 DDC 、 FDC ，主镜到中继透镜间距为 L1 ，中
50
 3 平面衍射透镜成像原理和方法

继透镜到衍射校正器间距为 L2 。根据衍射透镜与衍射校正器共轭，可得：
DDC   DDL (3.27)

#
FDC   FDL
#
(3.28)

以及三个元件之间距离的关系：
1
L1  (3.29)
 DC (0 )

L2   L1 (3.30)
由上述公式可得：
L2  FDC
#
DDL (3.31)

以上关系表明，衍射校正器与平面衍射透镜的光焦度符号相反，即衍射透
镜为正透镜，而校正器为负透镜。在实际应用中，可以将平面衍射透镜作为系
统主镜，具有较大口径，而后端所有光学系统作为次镜，用于校正主镜色散并
聚焦成像。由于衍射校正器出射的光线已经消色差，因此校正器与聚焦透镜之
间的间距已无关紧要，为获得紧凑距离和较小的口径，聚焦透镜与校正器尽可
能接近。

3.4 基于平面衍射透镜的望远镜系统设计

本节针对天文领域所需的超大口径太空望远镜需求，提出利用平面衍射透
镜作为主镜构建成像系统，给出了系统光学设计方法、带宽拓展方法以及实用
化的无遮拦系统设计。该设计结果不仅有望为未来太空天文望远镜提供新的技
术途径，同时还可能用于空间光通信、空间能量收集和传输等领域。
空间天文望远镜是光学成像系统的一个重要应用，它主要依靠航天器上携
带的大口径成像系统以及各个谱段的传感器，探测来自宇宙天体的微弱光线和
信息，以研究宇宙的起源和演变、黑洞秘密等，已成为人类了解宇宙的最重要
的手段之一。20 世纪 90 年代发射的哈勃空间望远镜使观测宇宙的深度和细节
大大提高，极大地丰富了人类对宇宙的认识。它的反射镜主镜口径为 2.4 米，
可以观测 28 等暗星，角分辨率 0.007 角秒，能看到 150 亿光年的河外星系[2]。
然而传统反射式成像系统由于重量体积大，导致太空望远镜口径难以大幅提高，
目前在研的口径 6.5 米 James Webb 太空望远镜已接近现有技术极限[3,4]，不仅耗
资巨大，而且还面临着面形控制难度大、研制周期长等问题。反射式系统面临
的瓶颈直接限制了天文学科的发展和进步，不仅使天体观测分辨率和微弱目标

51
 微纳结构成像原理和方法研究

探测能力难以提升，而且相当程度上阻碍了空间光通信、空间能量传输以及系
外行星探索等新兴研究领域发展，因此迫切需要探索一种新的轻量化成像方式。
基于平面衍射透镜的望远镜系统为超大口径、轻量化空间天文望远镜提供
了新的实现途径。这种新的光学原理和实现方案不仅能获得大于 5 米的主镜口
径，更重要的是能同时解决反射式光学系统面临的众多难题。根据平面衍射透
镜宽波段消色差原理，我们设计了口径 5 米天文望远镜，针对主镜后端同轴系
统挡光严重的问题，提出了采用离轴反射式后端光学系统的思路，并给出了光
学设计结果和成像性能仿真结果。由于中继反射镜口径有限，导致初始设计带
宽仅 40nm，针对这个问题我们也提出了基于多重位相衍射透镜的带宽拓展原理
方法，并实现了可见光全波段、兼顾部分红外波段的宽波段设计结果。该方法
可拓展到 10 米甚至更大口径天文望远镜系统设计。

3.4.1 光学系统设计

首先分析基于平面衍射透镜的空间天文望远镜设计思路。以通光口径 5 米
系统为例（如图 3.9 所示）
，考虑到平面衍射宽波段消色差成像光路较长，因此
系统由平面衍射主镜和后端光学系统两部分。为尽可能降低微纳结构加工难度、
拓宽主镜平面度公差、减少高阶像差，平面衍射主镜的 F 数应较大，综合考虑
后取 F 数为 100，其中设计波长为 500nm。此时平面衍射主镜和后端光学系统
相距 500 米。衍射主镜口径为 5 米，其作用是将光线会聚后端光学系统。后端
光学系统口径比主镜小得多，只有 0.4 米，是一个包含了中继反射镜组、反射
式衍射校正器和焦面图像传感器等元件和设备的混合系统。后端光学系统位于
主镜主焦面附近，它接收会聚过来的光线，并成像到传感器得到最终的目标图
像。其中反射式衍射校正器实际上已经兼顾了聚焦透镜的功能。

图 3. 9 基于平面衍射透镜的空间天文望远镜示意图

如果后端光学系统采用同轴结构，中心设计波长附近的光线将被中继反射
镜组的次镜完全遮挡，无法继续传播，计算表明，如果采用同轴结构，工作波
52
 3 平面衍射透镜成像原理和方法

段内 50%的波段被完全遮拦，其余光线被部分遮拦，总透光率不足 30%。这种
结构基本不能满足实际成像需求。因此，我们提出了离轴反射式后端光学系统，
避免了同轴情况下严重的挡光情况。
该系统还有一个显著特点，即较长的光路。由于主镜口径和 F 数非常大，
因此主镜与后端光学系统之间长达 500 米，实际应用中无法采用单个航天飞行
器实现，因此可以采用两个空间分离的航天飞行器，分别控制主镜和后端光学
系统。主镜航天飞行器为大口径衍射透镜提供支撑结构，使其保持正确的面形
和形状，并控制透镜指向天文目标。而后端光学系统航天飞行器则是一个可以
灵活控制的飞行器，它的口径和尺寸较小，主要功能是使光轴精确地对准主镜，
并保持与主镜之间的预定距离。
根据上一节研究，基于 Schupmann 消色差模式的衍射透镜成像系统原理上
讲是一个理想光学系统，对所有波长都理想成像。实际上，只有在中继透镜光
瞳以内并进入到后端光学系统的光线才能实现色差校正。不同波长的光线经过
平面衍射主镜后将以不同的发散角传播，到达后端光学系统的光瞳时，波长在
中心波长附近的光线能够进入到后端光学系统。而其他更长波长或者更短波长
的光线被阻挡在光瞳以外，因此形成一个特定的成像光谱窗口，其光谱范围与
主镜、后端系统通光口径有关。利用简单的几何知识，很容易推出光谱范围的
表达式。假设轴上光线的光谱范围为：

   (3.32)

如果这些光线全部进入到中继透镜的光瞳以内，则有：
DRL   DDL (3.33)

上式说明光谱范围为中继透镜和主镜通光口径之比，在离轴反射式中继镜
中，DRL 代表了中继镜的主镜口径。式(3.32)和(3.33)可以直接计算出成像光谱范
围与光学系统结构尺寸的关系。
在基本明确设计思路基础上，按照以下设计流程开展优化设计：
1）综合考虑加工精度、平面度公差、口径大小等，确定平面衍射主镜通光
口径和 F 数以及衍射校正器通光口径和 F 数。
2）计算系统的高斯光学参数，求解各元件之间的距离、中继反射镜组的焦
距以及反射式衍射校正器的焦距。
3）初步设计中继反射镜组、反射式衍射校正器的光学结构方案。
4）由成像系统光谱范围推出中继透镜的通光口径，并结合焦距给出中继透
镜的具体设计。
5）所有元件的初始结构综合在一起导入到光学设计软件 ZEMAXTM 中，得

53
 微纳结构成像原理和方法研究

到初始结构。其中平面衍射主镜用 Binary Optic2 表面类型，反射式衍射校正器

具有离轴量，因此采用 Zernike Fringe Phase 表面类型。
6）设置优化变量包括：反射式元件曲率半径、二次曲率参数、离轴量、元
件间距以及衍射校正器的位相系数。由于平面衍射透镜通光口径和焦距决定了
位相系数，因此不再作为变量进行优化，而是直接设置为常量固定不变。
7）设置光学系统像质评价函数，一般选择所有波长光线的波像差 RMS 值
作为评价函数，同时设定元件间距范围、曲率范围、系统 F 数等限制条件。
8）进行光学优化，并根据优化结果反复微量调整结构参数或者光学参量，
使系统在光学性能上达到最优。
优化后系统主要设计参数如表 3.2 所示，
系统各元件设计参数如表 3.3 所示。
表 3. 2 系统总体设计参数

参数 指标
通光口径 5000mm
光谱范围 480nm~520nm
中心波长 500nm
全视场角 0.02°
F/# 18
有效焦距 9017mm

表 3. 3 系统各元件设计参数

Surf Type Radius Thickness Glass Diameter Conic 备注

OBJ STANDARD Infinity Infinity 0 0
STO BINARY_2 Infinity 498000 5000 0
2 STANDARD Infinity 2000 391.2981 0
3 COORDBRK - 0 - - 离轴 215
4 STANDARD -4398.926 -1809.975 MIRROR 752.3323 -1.004605
5 STANDARD -1024.4 1809.975 MIRROR 152.8541 -2.678095
6 FZERNPHA -333.9554 -1809.975 MIRROR 108.5829 -0.4780719
IMA STANDARD Infinity 31.27336 0

后端光学系统光路图如图 5.10 所示，口径 0.4 米，总长度 2.4 米。

图 3. 10 后端光学系统光路图
54
 3 平面衍射透镜成像原理和方法

3.4.2 成像特性仿真分析

下面对系统成像性能进行仿真分析。图 3.11 显示了系统 MTF 仿真结果。

在天文观测应用时，通常焦面后还会设计一系列适配光路，以满足不同 F 数和
不同传感器探测需求，本设计取 F 数为 18，实际设计值可根据适配光路更改。
但是无论适配光路如何设计，主要性能仍然取决于主光学系统，MTF 是其像质
的重要评价标准。从图中可以看出，在不同视场下 MTF 基本接近衍射极限，
50lpmm 对应的 MTF 约为 0.3，满足像质要求。另外图 3.12 显示了不同视场对
应的全谱段 RMS 波像差，可以看出在 480nm~520nm 波段范围内接近衍射极限
像质。
TS Diff. Limit TS 0.0070, -0.0070 (deg) TS 0.0070, 0.0000 (deg) TS 0.0050, 0.0050 (deg)
TS -0.0070, -0.0070 (deg) TS -0.0070, 0.0000 (deg) TS -0.0050, 0.0050 (deg)
TS 0.0000, -0.0070 (deg) TS 0.0000, 0.0000 (deg) TS 0.0000, 0.0070 (deg)
1.0

0.9

0.8
Modulus of the OTF

0.7

0.6

0.5

0.4

0.3

0.2

0.1

0.0
0 12 24 36 48 60 72 84 96 108 120

Spatial Frequency in cycles per mm

图 3. 11 MTF 仿真结果

0.1

0.09
RMS Wavefront Error in Waves

0.08

Diffraction Limit
0.07

0.06

0.05

0.04

0.03

0.02

0.01

0
0.48 0.484 0.488 0.492 0.496 0.5 0.504 0.508 0.512 0.516 0.52

Wavelength in µm

图 3. 12 不同视场对应的全谱段 RMS 波像差

对于天文观测，另一个重要的评价标准是点扩散函数的 Strehl 比。根据衍

射极限判定标准，当 Strehl 比大于 0.8 时，才能满足天文观测中对两个相邻点状
星体的极限判别。图 3.13 给出了不同视场的 Strehl 比情况。可以看出中心视场
55
 微纳结构成像原理和方法研究

Strehl 比最大，达到 0.92；在（0°，-0.007°）和（-0.007°，0°）边缘视场

Strehl 比有所下降，但是仍然在衍射极限范围内。因此，系统像质能够满足天文
观测要求。

图 3. 13 不同视场点扩散函数。(a)(b)中心视场点扩散函数三维图和截面曲线，Strehl 比为
0.92；(c)(d)视场（0°，-0.007°）点扩散函数三维图和截面曲线，Strehl 比为 0.90；(e)(f)
视场（-0.007°，0°）点扩散函数三维图和截面曲线，Strehl 比为 0.82

离轴系统消除了全谱段内的挡光现象，但是由于中继反射镜主镜口径有限，
不同视场入射到中继镜上存在渐晕，同时中继镜次镜对入射光线也存在少量遮
拦。为此分析了口径设置对遮拦比的影响。这里定义面渐晕系数为实际成像到
焦面上的光线在衍射主镜上的投影面积与主镜通光面积之比，可以用于表征光
能透过率。图 3.14 是全波段内的面渐晕系数仿真结果，其中（0°，0°）和（0
°，0.007°）视场所有光线面渐晕系数均为 1，不存在挡光情况；（0.007°，
0.007°）视场时，480nm~508nm 波段面渐晕系数为 1，其余波段略有挡光。所
有视场下总透过率超过 96%，因此基本不影响光能。

56
 3 平面衍射透镜成像原理和方法

图 3. 14 全波段内的面渐晕系数

在以上的研究中，设计带宽只有 40nm，虽然能够满足太阳望远镜、恒星测
量望远镜等要求，但是无法满足覆盖可见光甚至红外波段的成像要求。为此，
利用多重位相衍射透镜的多波长衍射效应，实现 Schupmann 消色差模型的带宽
p
拓展。当衍射透镜具有 p 倍 2π 位相时，将在 0 多个波长点出产生相同的焦距，
n
其中衍射级次 n=1, 2, 3……。因此，根据平面衍射透镜消色差模型，可在这些
波长点附近形成多个谱段，通过参数选取决定谱段的宽度和间距，合理设计可
获得连续成像光谱。
基于波动光学理论，我们对上述口径 5 米衍射成像系统多重位相成像性能
进行了分析。采用一维菲涅耳积分和快速傅立叶变换，从第一个元件到焦面的
波面进行积分，并求取点扩散函数和调制传递函数。在此基础上分析了在宽波
段范围内的分辨率和效率，其中分辨率采用归一化量纲，其值等于仿真 MTF
截止频率与理论 MTF 截止频率之比，效率的值等于仿真点扩散函数中心强度与
理论点扩散函数中心强度之比。
首先设计了中心波长为 2μm 的多重位相衍射成像，根据计算可在 2μm、
1μm 、 667nm 、 500nm … … 产 生 相 同 的 焦 距 ， 因 此 在 可 见 光 到 近 红 外 之 间
（400nm~2μm）产生了 4 个通光窗口。图 3.15 是成像分辨率仿真结果，其中理
想分辨率曲线是根据 1 级衍射级次的最大有效光瞳口径计算得到的。从图中可
以看出，实际分辨率与理想分辨率非常吻合，表明影响分辨率的主要因素是色
散造成的有效光瞳口径减小，在这部分光谱范围内分辨率急剧下降。结果还表
明在 2μm、1μm、667nm、500nm 波长附近的有效波段内，分辨率达到衍射极
限，说明消色差模型非常有效，几乎可以完全校正主镜的色散。图 3.16 是成像
效率仿真结果，其中理想效率直接由多重位相衍射透镜在所在波长下的衍射效
率计算得到，曲线低谷说明该波长点在 n 衍射级次和 n+1 衍射级次具有相同的
衍射效率。但是在实际效率仿真结果中，该波长点效率大幅增加，这是因为 n

57
 微纳结构成像原理和方法研究

衍射级次和 n+1 衍射级次均有部分光线进入到有效光瞳内，分别在两个不同衍

射级次下校正色散，最终效果体现在焦面光斑能量增强。实际上，低谷附近的
谱段并不具备实用价值，主要成像谱段是衍射效率接近 100%、成像分辨率达到
1 的波段。

0.8
Resolution

0.6

0.4

0.2
Resolution
Ideal Resoluntion

0
0.46 0.5 0.6 0.7 0.8 0.9 1 2 2.2
wavelength (um)

图 3. 15 中心波长 2μm 的多光谱窗口成像分辨率

0.8
Efficiency

0.6

0.4

0.2
Efficiency
Ideal Efficiency

0
0.46 0.5 0.6 0.7 0.8 0.9 1 2 2.2
wavelength (um)

图 3. 16 中心波长 2μm 的多光谱窗口成像效率

光谱不连续的多窗口成像在天文领域难以应用，为此，进一步设计了中心
波长为 22μm 的多重位相衍射成像，可在 22μm、11μm、7.33μm、5.5μm、3.6μm、
3.14μm、……550nm、536nm、524nm、512nm、500nm……产生相同的焦距，
几乎可以实现覆盖从可见光到长波红外（400nm~12μm）全部成像谱段。实现
连续光谱成像的原理就是增加位相深度，使相邻衍射级次光谱窗口靠的更近，
从而形成光谱窗口无缝衔接甚至重叠， 图 3.17 和图 3.18
整体上达到全光谱效果。

58
 3 平面衍射透镜成像原理和方法

分别是成像分辨率和效率的仿真结果，表明通过多重位相衍射透镜可以大幅拓
展带宽，实现近全谱段成像效果，使基于平面衍射透镜的望远镜成像系统达到
真正意义的宽波段成像。

0.8
Resolution

0.6

0.4

Resolution
Ideal Resoluntion
0.2

0
0.4 0.5 0.6 0.8 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
wavelength (um)

图 3. 17 中心波长 22μm 的连续光谱成像效率

3.5 本章小结

本章系统分析了平面衍射透镜成像原理，对其色散特性进行了详细分析，
比较了多台阶位相型和光子筛两种不同衍射透镜的特点。针对衍射透镜色散严

59
 微纳结构成像原理和方法研究

重的问题，分析了基于 Schupmann 的宽波段消色差模型，并用于实现平面衍射

透镜色散校正。在此基础上，设计了口径 5 米基于平面衍射透镜的空间天文望
远镜光路，提出了采用离轴反射式后端光学系统避免同轴系统挡光效应的方法，
经过优化设计在 480nm~520nm 波段范围内成像质量达到衍射极限，并利用多重
位相衍射原理获得了连续光谱成像带宽，带宽覆盖可见光和大部分红外波段。
基于平面衍射透镜的成像原理方法为未来超大口径（大于 10 米）空间天文望远
镜提供了新的技术途径，我们给出的设计结果也可以直接放大到更大口径的系
统。

60
 4 超表面成像原理和方法

4 超表面成像原理和方法

4.1 引言

超表面是一种具有二维横向结构排布的超薄微纳结构平面，其特征尺寸小
于或远小于波长，在大量微观结构作用下表现出类似光滑表面的宏观属性，因
此也被称为人造表面或超构表面。与传统材料表面不同的是，超表面具有许多
奇异的电磁特性，可以实现电磁波位相、偏振和传输模式的灵活操控，因此具
有良好的应用前景。例如，由于超表面的结构尺寸和有效作用范围均小于波长，
可作为纳米尺度的集成光学元件，在光子回路中应用；超表面仅利用一层厚度
几百纳米的超薄结构实现光波调制，克服了传统透镜和反射镜利用曲面进行成
像的问题，有望发展成为超薄、超轻量化成像元件，在大多数成像领域具有广
泛的应用前景；另外，特殊的人工设计微纳结构可产生强烈的各向异性，使超
表面能够实现一般表面难以实现的任意偏振态调控，从而可在成像同时实现偏
振调制。
本章围绕超表面成像原理方法，从超表面对位相和偏振的调控入手，深入
分析拓展超表面电磁调制带宽的原理方法，并给出宽带位相和偏振调控验证结
果。在此基础上，开展若干超表面器件成像原理研究，完成基于超表面的轨道
角动量传输和聚焦器件、高效宽带超表面红外成像器件设计，为超表面成像器
件在集成光学和轻量化成像中的应用奠定理论方法基础。

4.2 超表面宽带位相及偏振调制

振幅、位相和偏振是电磁波的三个基本特性，其中位相和偏振信息是光学
成像获取目标信息的关键。光波位相携带着物体的空间几何尺寸、色彩和光线
传播方向等信息，无论从几何光学还是物理光学角度出发，对位相的操控和调
制是实现聚焦和映射成像的基本途径。偏振是获得物体信息的另一个要素，光
波的偏振态蕴含了丰富的拓扑结构信息，也是成像过程中扩展信息量的重要途
径。
超表面具有人工设计的微纳结构单元分布，可以有效灵活地调制位相和偏
振，是集成化、轻量化成像器件的潜在实现途径，近年来获得了人们的广泛关
注和研究。然而，在目前已有研究中，强色散特性导致其工作带宽局限在结构
的共振频率附近，难以满足宽带成像要求；同时，由于采用结构化表面设计，

61
 微纳结构成像原理和方法研究

光波调制效率较低，如何提高效率也是超表面成像研究尚待解决的难题。
本部分针对上述问题，我们首先开展了超表面的宽带、高效位相和偏振调
控研究，设计并实验验证了微波段超表面结构的位相和偏振调控性能。由于超
表面设计以结构化为主，受基底材料特性限制小，相关原理方法易扩展到不同
电磁频段，因此对可见光和红外波段超表面位相调控机理研究及相关器件设计
也具有重要指导意义。
本部分主要包含以下两方面研究：
（1）研究利用色散调控拓宽超表面位相调制带宽的方法。首先通过传输矩
阵法建立起人工电磁表面的阻抗与反射位相之间的联系，为色散调控提供理论
指导。其次设计特定的单元结构并利用超表面可裁剪的特点对其阻抗进行调节，
使其在不同的偏振方向满足期望的色散，最终实现工作带宽拓宽；
（2）利用自旋-轨道相互作用，实现宽带位相调控和虚拟整形，借助超表
面色散调控原理，拓展了位相调制带宽。

4.2.1 基于色散调控的宽带位相和偏振调制

由于超表面独特的结构特点和物理特性，使其在位相和偏振调制方面具有
良好的应用前景，许多学者开展了前瞻性研究[110,111]。然而，由于受限于共振特
性，同时获得高转换效率和超倍频程（倍频程指工作带宽的电磁波上下限频率
差与下限频率之比）工作带宽的超表面还未见实验报道。我们提出了利用超表
面的色散调控特性，通过调制不同偏振态的位相差，实现宽带位相和偏振调制
的原理方法。在该原理中，基于各向异性超表面优异的频率可调性能，获得了
超倍频程消色差带宽的位相和偏振转换，在 3.17GHz~16.9GHz 范围、4 倍频程
带宽中获得转换效率大于 87%消色差偏振转换，转换带矩形系数可以高达 0.94，
具有出色的频率选择性。通过微波波段超表面的数值仿真和实验测试，验证了
我们提出的原理方法。同时建立了等效电路（微观模型）和等效介质（宏观模
型）来解释运行原理。这种原理和设计方法可等比例放缩至光波、太赫兹等其
它波段，为更广泛的超表面研究提供指导。
本节我们利用特殊设计的各向异性超表面获得了优异的色散调控能力，因
此工作带宽被进一步拓展到 4 倍频程带宽。这种位相和偏振调控原理比以往的
方法更有效，仅采用了单层各向异性超表面就使工作带宽大幅提高。

62
 4 超表面成像原理和方法

图 4. 1 各向异性超表面的示意图，超表面由表层微纳结构、介质层以及金属反射层组成

首先介绍超表面的结构模型及其理论分析。如图 4.1 所示，超表面由被介

质层隔开的各向异性表层微纳结构和金属反射层组成。平面波正入射到超表面
上。在介质层和周围空间中，电磁场由向前和向后的行波组成。为利用转移矩
阵法，反射层上前行波的电场振幅被设为 1，反射系数为 rm 。入射电场振幅为 a，
整个超表面反射系数为 S11 。根据 Maxwell 方程组，正入射时超表面的边界条件
可由下式表示（U 表示超表面的上界面，L 表示超表面的下界面）
：
a  aS11  EU  E L  exp(ikd )  rm exp(ikd )
Y0 (a  aS11 )  H U  H L  Y1 (exp(ikd )  rm exp(ikd ))  J (4.1)
J  Ys EU ( L )  Ys (a  aS11 )
其中 Y0 ， Ys ， Y1  1Y0 和 Ym   m Y0 分别是真空、超表面、介质层和金属
的本征电导，ε1 和 εm 是介质和金属的介电常数。k0 和 k = ε1k0 分别是电磁波在真
空和介质中的波矢。rm = (Y1-Ym)/(Y1+Ym)是厚金属层的反射系数。J 是超表面中
的电流通量，a 是入射电场振幅。在式(4.1)中消去 a，得到超表面的电导和超表
面的反射系数：
1  S11 exp(ikd )  rm exp(ikd )
Ys  1/ Z s  Y0  Y1 (4.2)
1  S11 exp(ikd )  rm exp(ikd )

2rm exp(2ikd )  Z 0 (1  rm exp(2ikd )) / Z s

S 11  (4.3)
2  Z 0 (1  rm exp(2ikd )) / Z s

为简便起见，设介质层为自由空间，介电常数1 = 1，又且因为m  1 从
而 rm  -1。因此式(4.2)和式(4.3)可以变为：
Z0
Z s  R  jX  (4.4)
1  S11 exp(ikd )  exp(ikd )

1  S11 exp(ikd )  exp(ikd )

 Z 0 / Z s  ( Z 0 / Z s  2) exp(2ikd )
S 11  (4.5)
2  Z 0 (1  exp(2ikd )) / Z s

对各向异性超表面，Zs 和 S11 分别由 Zs, x、S11, x 和 Zs, y,、S11, y 替换。为了实

现从左旋圆偏振（LCP）到右旋圆偏振（RCP）的偏振转换，反射位相必须满
63
 微纳结构成像原理和方法研究

足： = y – x = angle(S11, y) – angle(S11, x) = π。一般而言，位相差与频率有关，

并且位相调制的工作带宽较窄。
进一步通过降低超表面品质因子（Q 因子）
，讨论了拓展工作带宽的可行性。
从式(4.3)可知，介质层厚度对反射位相有重要影响。对不同厚度的介质层，位
相改变的物理机制也不同。当 d 位于深亚波长区域（即 d < λ/4）
，在超表面和基
面之间的强磁耦合引起的高 Q 因子共振，是造成工作带宽较窄的主要原因。为
了拓宽工作带宽，应该强烈抑制磁耦合的 Q 因子，其中最直接方法是增加介质
层的厚度。在上述设计中，介质层的厚度设为 7mm，对应于 10.7 GHz 的四分
之一波长。虽然低 Q 因子的共振有助于拓展工作带宽。但是，仅仅依赖于低 Q
因子，超表面并不能实现超宽带偏振转换，所以应该进一步调制超表面的阻抗
Zs, x 和 Zs, y 。
我们瞄准了利用色散调控实现工作带宽拓展的原理方法。超表面的电磁特
性由特殊的几何形貌以及表面微纳结构排布决定的，因而在调控电磁参数（即
介电常数和磁导率 μ）方法具有显著优势。然而难以避免的是，由于必须遵循
Kramers-Kronig 关系，无法任意地操纵电磁参数。因此，所需要的色散特性在
实际应用中有可能无法实现。尽管如此，需要尽可能接近理想电磁参数。电感-
电容共振通常被用于构建各向异性等效折射率和波阻抗，利用这种方法可以获
得所需各向异性透射系数，具体而言可以通过调制由 Lorentzian 色散给出的 LC
共振色散特性来实现。
n ip2
 eff ( )  1   (4.6)
i 1   i  i i
2

其中 i  2 fi  2 ( Li Ci ) 1/ 2 ，ip  ( 0 Li t ) 1/ 2 和  i  Ri / Li 表示第 i 级共振的

共振、等离子体和 dimpling 频率。所有电路元件由超表面的几何参数所决定。
对金属超表面，有效电感 L 和电容 C 分别由薄的长金属线以及它们之间的间隙
构造，而等效阻抗 R 则对应于超表面中的电磁损耗。

64
 4 超表面成像原理和方法

图 4. 2 在两个方向上共振数的增加和超表面的调控有可能把工作带宽从 2 倍频程拓展至超
倍频程

如图 4.2(a)所示，在原有设计中，超表面在 x 方向上的阻抗是固定的，因此
可以通过调控超表面在 y 方向上的阻抗（即 Zs, y）
，从 y 方向获取所需色散，该
结论可以从式(4.4)、(4.5)中得出。但是受限于单 LC 共振的色散调控能力，偏振
转换只能在 2 倍频程带宽中实现。显然增加共振数将带来更强的色散调控能力。
此外，如图 4.2(b)所示，在 x 和 y 方向上都应该使色散调控尽可能接近理想色散，
从而有助于将工作带宽拓展至超倍频程。基于上述考虑，我们提出了一个在 x
和 y 方向上都有多级 LC 共振的特殊结构，如图 4.3 所示，这个结构由两个背靠
背的开口环组成。开口环结构是在完美电磁吸收器件中被首次提出的。由于在
单层超表面中可以激发多级共振，因此这种结构对超宽带位相和偏振调制具有
很强的色散调控能力。

图 4. 3 特殊结构设计的超表面(a)透视图和(b)俯视图

对上述超表面进行了数值仿真，仿真位相和偏振调制特性如图 4.4(a)所示，

65
 微纳结构成像原理和方法研究

在 3.17GHz~16.9GHz 频率范围内，从 LCP 到 RCP 的转换效率高于 87%，并且

工作带宽大于 4 倍频程带宽。图中阴影区域表示超宽带转换具有非常陡直的截
止边缘。转换带的矩形系数高至 0.94，其定义为高转换效率（80%）和低转换
效率（20%）带宽的比值。这些特性可进一步由 TE 和 TM 偏振入射下的反射位
相来证实。在图 4.4(b)中的反射位相被分成两个区域：平缓的色散斜率区域和
陡直的色散斜率区域。在平缓色散斜率区域，两个正交偏振的位相以相同梯度
变化。因此，位相差约为常数 π，这是获得超宽带调制的原因。在陡峭色散斜
率区域，位相差从 π 到 0 或 2π 发生急剧变化。因此这种位相条件在非常窄的频
率范围内迅速失效，这是转换带具有陡直边缘的原因。

图 4. 4 (a)LCP 偏振平面波入射到超表面的反射；(b)不同线偏振平面波下超表面的反射位相

根据以上分析，超宽带色散调控能力来源于多级 LC 共振。为了分析出该
超表面的等效电路，研究了不同频率下超表面的表面电流。图 4.5(a)~(c)和图
4.6(a)~(c)分别显示了 TE 和 TM 偏振下不同频率时的表面电流。根据表面电流
方向和强度，构造出了等效电路并将其与表面电流叠加。对每种偏振有三个不
同的等效电路（一个串联电路和两个并联电路）
。这些电路与宽带范围内的入射
电磁波相互作用，显示了很强的色散调控能力。各向异性超表面可以当做不同
的电路组合来处理，其沿 x 和 y 方向的阻抗可以如下表示：
Z x  1/(1/( R11  j L11 )  2 jC11 )  1/ jC12  j L21  1/ jC21
(4.7)
+1/(1/(R31 +2j L31 )+jC31 )+j L32

Z y  j L41  1/ jC41  1/(1/( R51  2 j L51 )  jC51 )

(4.8)
+1/(1/( R61  2 j L61 )  jC61 )

通过不断调整 x 和 y 方向上的阻抗，消色差位相差（偏振转换）的带宽达
到 4 倍频程。

66
 4 超表面成像原理和方法

图 4. 5 TE 偏振入射下不同频率的表面电流。(a)5.64GHz，(b)13.93GHz 和(c)19.26GHz

图 4. 6 TM 偏振入射下不同频率的表面电流。(a)6.46GHz，(b)17.67GHz 和(c)19.33 GHz

实际上，上述等效阻抗也可以用宏观模型来解释。在以往研究中，通常整
个超表面也可以被看作用奇异介电常数和磁导率表征的均匀材料。但是当超表
面厚度远小于波长时，等效介电常数和磁导率的物理意义变得不明确。此外，
我们提出的超表面由于不是均匀的，而且在传播方向上呈现周期性，因而不能
完全满足等效均匀介质的假设。因此，我们利用已经建立的式(4.4)来探索超表
面的阻抗。其结果在图 4.7(a)和 4.7(b)中以实线表示。为了考察等效电路模型和
宏观模型的均匀性，电路参数必须从 S 参数的结果中拟合出来。经计算，我们
67
 微纳结构成像原理和方法研究

发现当这些电路参数满足(L11, C11, R11, C12) = (15.2 nH, 26.2 fF, 3.82 Ω), (L21,
C21) = (1 nH, 1 nF), (L31, C31, R31, L32) = (0.2 nH, 0.17 pF, 0.032 Ω, 4 nH), (L41,
C41) = (0.1 nH, 0.1 pF), (L51, C51, R51) = (1.06 nH, 38.5 fF, 6 Ω), 和(L61, C61,
R61) = (175 pH, 0.19 pF, 0.24 Ω)时，等效电路模型和宏观模型的阻抗可有效匹
配。根据阻抗随频率变化的规律，我们还可以决定 LC 电路的数量和类型。

图 4. 7 宏观模型和等效电路模型的(a)TE 和(b)TM 偏振等效阻抗。其中罗马数字对应图 4.5

和图 4.6 中的 LC 电路

我们实验验证了上述仿真结果。基于优化参数，采用印刷电路板技术加工
了外尺寸为 400  400 mm 的样品，如图 4.8(a)所示。实验在微波暗室中进行，
转换特性由自由空间反射测量表征。两个标准的线偏振（电场平行于 x 轴）角
天线与矢量网络分析仪 R&S ZVA40 的两个接口相连，入射角设为 5°，近似正
入射条件。样品相对于 x 轴旋转 45°，以便 x 偏振转化为 y 偏振。测试结果表
明该超表面可以以大于 82%的效率完成宽带位相和偏振转换，比理论仿真结果
略低。测量和仿真结果之间的差异主要来源于测量角天线交叉偏振的匹配误差。

图 4. 8 (a)加工的样品的照片；(b)从 x 偏振入射到 y 偏振入射的测量和仿真反射对比

综上所述，我们提出了一种具有简单构造和多种共振模式的各向异性超表
面。由于其优异的色散调控特性，实现了 4 倍频程带宽的位相和偏振调制。由
于色散模型必须遵循 Kramers-Kronig 关系，因此无法任意地操纵电磁参数，造

68
 4 超表面成像原理和方法

成在特定色散特性下带宽存在极限值。由于 Lorentz 形式只是精确模拟理想位相

片的一种色散类型，因此进一步通过优化色散调控可能获得更大的带宽。另外，
借鉴吸波材料突破 Kramers-Kronig 关系下的带宽-厚度极限的思路[112]，同样有
望大幅拓展带宽。

4.2.2 基于自旋轨道作用的宽带位相调制和整形

光束位相整形是光学成像、亚波长聚焦和全息技术等领域的基础。过去十
年，借助于新兴的超表面和变换光学研究，实现了许多新型位相调制器件。在
这些形形色色的应用中，折射率随空间变化分布电磁 Cloaks 位相伪装引起了微
波和光学领域广泛关注。但是由于电磁 Cloaks 中带宽限制，只能在特殊偏振态
情况下实现非常窄的工作带宽。另一种更可行的方法利用了超表面上位相的不
连续性来调制光波行为。得益于超薄的厚度，超表面具有传统体块光学元件无
法比拟的优势。原理上，位相的突变伴随着线偏振或圆偏振到它们的交叉偏振
态的偏振转换。由于圆偏振和自旋的等价性，后者通常被称为光子自旋轨道相
互作用（Photonic Spin-Orbit Interaction，PSOI）
。
本节利用超表面微纳结构中的宽带偏振转化，结合自旋-轨道相互作用，实
现了对电磁波的宽带高效位相调制和整形。我们将位相整形方法在目标的虚拟
电磁外形调控中验证，通过超薄空间变化和频谱设计的超表面的自旋轨道相互
作用，产生了消色差相移，在不改变物体几何外形的情况下改变其电磁特性。
传统光束整形直接作用在光上，通过调制位相改变光束波前或光场形状等。这
里位相整形是通过光束照射到物体外形上的位相调制，改变原有的反射特征，
因此与物体外形形状密切相关。我们在 600-2800nm 光波波段和 8-16GHz 微波
频率完成了虚拟位相整形设计，并完成了微波段实验验证。仿真和实验结果均
表明，虚拟位相整形可以有效达到改变目标电磁特征的目的，使全频段内反射
率小于 10%。由于这种方法的基本原理是位相调制，所以相关原理方法可促进
平板光学和电磁学的发展，用于超表面位相衍射成像、宽带和共形伪装等领域。
电磁外形的调制依赖于超表面结构上反射波的位相调制。根据广义 Snell
定律，反射光束方向由反射位相的调制所决定。如图 4.9(a)所示，我们设计了一
个覆盖可见光和近红外波段的反射半波片超表面，电磁波入射到具有梯度位相
的半波片平面上被反射到其他方向。用几何位相来表示其中的位相调制过程，
几何位相是一种空间变化各向异性材料中由 PSOI 引起的普遍特性，但是目前
对它的应用非常少见。如图 4.9(b)所示，圆偏振照明下反射半波片的反射位相
可以简单地写成 Ф(x, y) = 2σζ(x, y)，
这里 σ = ±1 分别表示左右手圆偏振
（LCP and
RCP）
，ζ 定义了半波片的方位角。显然几何位相独立于工作波长，因而消色差
半波片将具有宽带性能。
69
 微纳结构成像原理和方法研究

图 4. 9 虚拟电磁外形调控原理。(a)电磁波入射到具有梯度位相的平面上被反射到其他方
向；(b)自旋-轨道相互作用中位相与倾角的关系；(c)等效锥形的散射示意图；(d)k-空间散
射示意图

为评虚拟电磁外形调控性能，我们借鉴了雷达截面（RCS）的概念。通过
对 LCP 和 RCP 入射电磁波的多重傅里叶变换，可以求得 RCS 减少所需的位相
函数。这里列举了一个简单例子，设计中假设线性平面位相分布 Ф(r) = σkrr，
其中 r 和 kr 是半径和沿半径方向的波矢。在这种条件下，虚拟外形变成一个如
图 4.9(c)所示的轴锥体，在 k 空间内随散射波矢环状延展（如图 4.9(d)所示）
。

图 4. 10 多层超表面结构超宽带偏振转换。(a)结构示意图，上下两层金属长轴彼此正交；
(b)仿真的共偏振和交叉偏振反射谱；(c)等效电路模型；(d)等效电路模型预测的反射谱

70
 4 超表面成像原理和方法

上述宽带半波片的单元结构由两层级联的超表面结构组成，这两个超表面
被硅介质隔开，如图 4.10(a)所示。两个级联层之间的金属条（铝）以具有 C6
对称性的六角晶格排列，从而增强偏振特性。利用等效电感和电容调控超表面
的频谱色散，所获得的消色差特性如下：
Z u1  1/ jCu1
Z v1  1/ jCv1
(4.9)
Z u 2  j Lu 2  1/ jCu 2
Z v 2  j Lv 2  1/ jCv 2

式中 L 和 C 是电感和电容，u 和 v 代表半波片的正交主轴，1 和 2 表示层

数。
色散特性也被广泛用于其它一些超表面器件，比如滤波器和完美吸收材料。
由于器件原理相似，半波片的厚度-带宽比与吸收材料类似，本应具有极限值。
早在 1906 年，Planck 就已经揭示了电磁吸收材料的厚度应该比极限值大很多，
之后 Rozanov 根据因果律和 Kramers-Kronig 关系进一步阐明了厚度-带宽的极限
公式。我们利用超表面波的短波长和高色散特性来突破这个极限。
在我们的仿真中，每个单元结构的反射在 CST Microwave StudioTM 中使用
周期边界条件计算。对圆偏振入射，图 4.10(b)显示了交叉偏振和共偏振分量。
优化后的几何参数为：p = 320 nm, l1 = 295 nm, l2 = 80 nm, w1 = 70 nm, w2 = 50
nm, d1 = 120 nm, d2 = 120 nm。对不同的方向角，所有几何参数均与 ζ = 0°时的
优化保持一致，这种方法导致转换效率略微有所降低。但是共偏振反射的平均
值在覆盖可见光和近红外波段的 λ = 600 nm 到 λ = 2800 nm 波长范围内小于
0.1。由于吸收增强作用，在波长 750nm 左右交叉偏振反射的减少与铝的带内转
换相一致。在图 4.10(c)(d)中，等效电路模型预测的反射谱与仿真结果良好匹配。
进一步在线偏振光正入射情况下，对 kr = 1.57×106 rad/m、尺寸大小 8 μm ×
8 μm 的全模型（如图 4.11(a)所示）进行了数值仿真。可以看出，对 TE 和 TM
偏振，单点 RCS 在 0.6~2.8μm 的缩减量比金属平板大 10dB（如图 4.11(b)所示）
。
可以通过优化单元结构和位相调制进一步减小 RCS。

71
 微纳结构成像原理和方法研究

图 4. 11 虚拟外形 RCS 缩减的全模仿真。(a)全模示意图；(b)两种偏振下 RCS 缩减；(c)不

同波长、不同尺寸条件下的 k 空间 RCS 分布

通过分析两个独立的圆偏振态可以解释 RCS 减少的原因。对于正入射线偏

振光，反射光可以写成 Jones 矩阵形式：
 Ex  1  ikr r 1  ikr r  1  
E    e    e    (4.10)
 y 2 i   i  

式中 x 和 y 偏振入射分别选择±号。式(4.10)右边第一项和第二项分别代表
左旋和右旋圆偏振（RCP and LCP）的贡献。显然，RCS 减少效应对 RCP 和 LCP
都是相似的，因此我们的结构可以作为非偏振相关情况来处理，这与一般情况
下各向异性材料的认识有所不同。
为了更好地理解虚拟位相整形，在 λ = 600 nm 和 2800 nm、x 偏振照明条
件下，利用矢量衍射理论对金属平板（8 × 8 μm2）、两个超表面模型（尺寸分别
为 8 × 8 μm2 和 40 × 40 μm2）的远场衍射图形进行计算，结果如图 4.11(c)所示。
较大的超表面模型（40 × 40 μm2）的衍射图案在 k 空间中心显示出清晰的强度
奇点，这意味着上述设计方法对各种尺寸大小都有效。
虽然上述原理方法可扩展到任意频段，但为了降低加工难度，我们在微波
72
 4 超表面成像原理和方法

波段对上述原理作了实验验证。在 8-16 GHz 微波波段测试器件性能，对偏振转

换而言只需要一层超表面。介质层为 FR4，其介电常数约 4.4(1+0.025i)，厚度
3mm。其它的几何参数为：p = 9 mm, l = 7.5 mm 以及 w = 1 mm。样品在覆盖
17μm 铜膜的 FR4 板涂上光刻胶，并通过激光直写加工。性能测试时在微波暗
室中进行，使用网络分析仪(R&S ZVA40)测量。测试过程中接收天线和样品的
布置如图 4.12(a)所示，入射和反射角固定在 10°以尽可能模拟正入射条件。TE
和 TM 偏振反射谱的测量结果如图 4.12(b)所示。

图 4. 12 微波段实验验证。(a)实验装置示意图；(b)实测结果；(c)(d)理论计算的反射电场复
振幅分布

为研究电磁波与空间不连续和频谱色散超表面之间的相互作用，我们计算
假设入射平面波沿 x 方向偏振，
了不同频率的散射电磁场。 而电场振幅为 1 V/m，
计算了超表面上 30mm 平面的总散射场 y 分量（如图 4.12(c)(d)所示）
，发现与
理论预期完全一致。
最后将虚拟位相整形的概念到曲面上。例如，一个圆柱在覆盖了上述超表
面后，RCS 会急剧减小（如图 4.13(a)所示）
。所用的金属圆柱半径 R = 90 mm，
高 h = 360 mm，超表面单元结构参数与上述设计完全相同。将超表面上的几何
位相分布设计为 Ф = kzz + kφφ, 其中 kz = kφ= 104.7 rad/m。图 4.13(b)显示了在 y
方向正入射条件下，TE 和 TM 偏振波的 RCS 减少量。从图中可以看出，圆柱
的 RCS 减少量比平面情况稍小，可能是由未经优化的位相曲线所致，而且圆柱
RCS 本身就比平面小。尽管如此，超表面为非平面物体虚拟位相整形提供了一
73
 微纳结构成像原理和方法研究

种新方法。

图 4. 13 曲面目标 RCS 缩减。(a)示意图；(b)仿真 RCS 缩减效果

总之，我们提出并演示了通过调整平面或曲面级联超表面上自旋轨道相互
作用的特性，对可见光、红外和微波波段实现了宽带虚拟外形整形概念。这种
方法解决了宽带虚拟位相调制和整形，以及消色差半波片设计和多重傅里叶变
换设计等问题，借助超表面色散调控原理，极大拓展了位相调制带宽。尽管只
分析了 Bessel 型位相分布，然而在原理上，虚拟位相整形可以通过超表面实现
更复杂、更灵活的位相分布设计。该原理方法为平面衍射成像位相调控、激光
束整形、3D 显示以及共形伪装等应用提供了新的途径。

4.3 基于超表面的光学漩涡聚焦器件

1992 年，L.Allen 提出了光学漩涡的概念[104]。光学漩涡是指携带轨道角动

量的光场，其垂直于传播方向的截面电场分布表现为中空的螺旋线型结构，类
似于漩涡形状，因此被称为光学漩涡。光学漩涡对应的光场中包含有 exp(ilΦ)
的位相分布，其中 l 被称为拓扑荷数，Φ 是空间方位角。漩涡光场的每个光子
携带的轨道角动量的值可以表征为 lħ（ħ=h/2π, h 是普朗克常量）
。其包含的轨道
角动量信息可以极大增加光场信息量，并且由于漩涡光场的奇异电场分布形式，

74
 4 超表面成像原理和方法

使其在生物显微成像[105]、超分辨成像[106]、微观光学操控[107]等领域受到广泛关
注。
产生光学漩涡的传统方法是利用空间光调制器、螺旋位相片、环形光栅等
光学器件，将入射的线/圆偏振光上加载螺旋位相信息，从而获得携带轨道角动
量的光束，但是这些光学器件往往具有效率低、尺寸大、集成效率低等缺陷。
超表面是近年来提出的特殊微纳结构排布表面，其表现出对电磁波极其优异的
调制性能，可以实现自然界中天然材料所不具备的电磁性质，例如逆多普勒效
应、负折射率等。具有位相不连续性的超表面在电磁波调控方面有较高的应用
价值。例如“V”型的周期性光天线阵列可以实现对电磁波偏振特性的调制，
同时调节每个单元结构中“V”型结构的尺寸和张角大小，可以实现对入射电
磁波位相的调控，进而调节入射光波的辐射方向和偏振特性。此外，具有偶极
子结构的光天线可以将圆偏振光转换为其交叉旋向的圆偏振光。但是上述两种
光天线具有能量利用效率低的缺点，单层光天线阵列最大能量利用率小于 25%，
这是大部分光学系统所不能接受的。另外，由于其能量利用效率低的缘故，没
有被转换的共偏振分量同样存在于出射光场之中，需要在光学系统中加入滤波
器件将其滤除，导致光学系统更加复杂。
我们在对超表面电磁行为调制的研究基础上，结合相关数理模型，提出了
一种手性排布的光天线阵列超表面，在可见光波段实现将入射的圆偏振光转换
为携带轨道角动量光束，并通过对单元结构的位相分布进行调制，实现对出射
轨道角动量光束进行聚焦的功能。光天线阵列单元具有亚波长尺寸特征，基于
位相的不连续性调控实现对入射光场的位相分布和偏振特性调制。该亚波长结
构材料主要包含两大功能：一是实现入射的圆偏振光场到出射的轨道角动量光
场的转换，另一个功能是实现出射轨道角动量光束的聚焦。该偏振调制超表面
的总能量利用率超过 40%，并且在出射光场中，仅有包含轨道角动量的光场被
聚焦，而与入射圆偏振波相同的共偏振分量保持原有的传播方向不变，因此保
证了出射广场的纯净度。同时该超表面的厚度仅为波长的四分之一，因此适用
于在集成度较高的光学系统中作为聚焦成像器件使用。

75
 微纳结构成像原理和方法研究

4.3.1 单元微纳结构

图 4. 14 超表面单元结构示意图

该超表面单元结构形式如图 4.14 所示，由一个椭圆柱形金属结构以及由二

氧化硅介质基底组成。从单元结构来看，为各向异性超表面，对偏振方向在两
个正交方向上的电场表现出不同的位相调制水平，当两个正交方向上的传输位
相差值为 180°时，即可实现将入射的圆偏振光转换为相反旋向的圆偏振光。此
外，通过调节单元结构与 x 轴之间的夹角 φ，可以调制出射圆偏振光的传输位
相，传输位相大小等于 φ 的 2 倍，因此可以通过调节超表面的单元结构获得任
意调制的出射位相。
通过合理排布超表面的传输位相，使得每个单元结构的出射位相满足关系
式：
(r , )  k r 2  f 2  l
(4.11)
其中，Φ 为出射位相，k 为波矢，r 为极坐标下单元结构距离中心位置的半
径，f 为焦距，l 为转换后轨道角动量光场对应的拓扑荷数，θ 为单元结构所在
位置对应的方位角。 每个单元结构与 x 轴之间的夹角 φ 的值为 Φ/2。
根据该理论，
在圆偏振平面光场正入射情况下，该超表面的电磁性质可以利用电磁仿真
软件进行仿真计算。单元结构参数为：p=280nm，la=220 nm，lb=66 nm，t=180 nm。
如图 4.14(a)所示，两个端口分别设置在材料的上方和下方，作为光波的入射和
接收端口。仿真过程中在 x 和 y 方向采用周期性边界条件以减少计算量，同时
保证计算精度。

76
 4 超表面成像原理和方法

图 4. 15 超表面单元结构仿真结果

仿真结果如图 4.15 所示，图 4.15(a)为左旋圆偏振光入射到材料下表面后，

在上表面的端口接收到的左旋圆偏振和右旋圆偏振光场的透过率曲线。从图中
可以看出，交叉旋向的圆偏振透过率在 550nm-650nm 波长范围内均大于共偏振
的透过率，在 632nm 处达到最大，证明了超表面的偏振转换性能。从图 4.15(b)
中可以看出随着单元结构与 x 轴之间的夹角 φ 的变化，交叉圆偏振的位相满足
0-2π 的线性变化规律，而共偏振圆偏振光场的透过率则不发生变化。在夹角 φ
变化过程中，共偏振和交叉圆偏振的透过率几乎不随夹角 φ 变化。

4.3.2 光学漩涡聚焦器件

图 4. 16 手性排布的超表面结构示意图和实物照片

图 4.16 为按照固定的位相排布的超表面结构示意图和实物图照片。圆偏振
光场沿着 z 方向入射到材料表面，透过超表面的光场将转换为轨道角动量的聚
焦光束。图 4.16(b)为利用 FIB 刻蚀得到的超表面实物图照片。首先对全模的超
表面的偏振转换和聚焦功能进行仿真计算，计算结果如图 4.17 所示。

77
 微纳结构成像原理和方法研究

图 4. 17 光场通过超表面后的电场分布仿真结果

图 4.17 中第一排的电场分布为将圆偏振电磁波转换为拓扑荷数为 1 的轨道

角动量光束并实现聚焦的电场分布图。从图 4.17(a)中的 xz 截面电场分布可以明
显看出出射波束的聚焦效果。而图 4.17(b)~(d)中的 x 和 y 分量电场和电场的绝
对值分布都可以看出出射光场为携带拓扑荷数为 1 轨道角动量。第二排的仿真
结果为将圆偏振波转换为拓扑荷数为 2 的轨道角动量光场的仿真结果。仿真结
果同样证实了其偏振转换和波束聚焦功能。

图 4. 18 超表面实现偏振转换和光束聚焦实验测试系统和实验结果

图 4.18 为超表面的实验测试系统和实验结果。实验系统采用本实验室自行
研制的中间场电磁场测试实验平台，待测样品放置在样品台上，入射光束经过
准直和扩束之后，由一组半波片和四分之一波片转换为圆偏振光，然后通过样
品后，出射光场由一个高倍物镜接收并经过另一组半波片和四分之一波片转换，

78
 4 超表面成像原理和方法

末端由 CCD 接收并观测。图 4.18(b)~(d)中的测试结果显示了出射光场的聚焦效

果以及包含轨道角动量的绝对值分布，其表现为一个空心圆环分布，这是包含
轨道角动量光场的直接证明。实验测试的圆环直径比仿真结果稍大，主要是由
仿真和测试过程中的误差造成。

图 4. 19 超表面的偏振转换和波束准直仿真结果

理论上讲，该超表面可以看作一个聚焦透镜和偏振转换器件的综合体，因
此，根据光学可逆理论，该超表面同样可以将点源辐射的圆偏振光转换为携带
轨道角动量的准直光束。基于该设想，我们对上述设计的手性排布超表面进行
了理论仿真验证。我们在图 4.16 中的超表面的交点处放置一个辐射右旋圆偏振
光的点源，我们可以预测该点光源辐射的圆偏振光透过超表面的调制后，会转
换为携带轨道角动量的光束，轨道角动量的拓扑荷数为 l=2，同时入射的球面波
会被调制为平面波，即点光源辐射的发散光被转换为准直的平面波。与此同时，
透射光场中，与入射光圆偏振态相同的光场，由于不受超表面调制，继续沿着
发散的方向传播，从而与转换的携带轨道角动量的光场分离。
图 4.19 中仿真的电场分布证实了该超表面的波束准直效果。图 4.19(a)、(b)
分别为出射电场中的 x 和 y 分量。从这两幅图中可以看出，电场的 x 和 y 分量
均为包含两条旋臂的螺旋线状分布，证实了出射光场携带拓扑荷数为 2 的轨道
角动量。图 4.19(c)中的空心环状能量分布也同样证实了轨道角动量光场的激发。
图 4.19(d)所示侧面电场分布，明确显示了点光源的辐射场转换为准直波束的过

79
 微纳结构成像原理和方法研究

程。图 4.19(e)中的远场方向电场分布图显示了出射光场为空心的换转光场，并
且出射波束的衍射角度为 6°，表现出良好的准直效果。
这种多功能的超表面适用于微观和集成光学中的成像、聚集、传输以及操
控等领域，而这种基于不连续位相分布的超表面新型器件设计方法可以拓展到
红外、太赫兹、微波等其它频段。

4.4 超表面红外成像器件

前面我们提出了基于手性排布超表面的透射式聚焦成像原理方法，然而，
该方法仅能将 50%的入射圆偏振光波转换为正交圆偏振光，同时工作带宽也相
对较窄。为有效解决上述光学元件的缺陷，我们在超表面宽带位相调制特性研
究基础上，提出了反射式手性排布的红外光天线阵列超表面，在 8.5μm~13μm
波段内实现将入射的圆偏振光反射为正交圆偏振光，总能量利用效率超过 90%，
远大于透射式超表面的能量利用率。进一步设计了螺旋形位相分布对其局部结
构的聚焦效果进行验证。最后结合微纳结构消色差技术，利用该器件作为主镜，
设计了长波红外波段实现高分辨率的轻量化光学成像系统。该原理方法可用于
地面、机载和星载等各种轻量化成像系统设计。

4.4.1 宽带高效单元微纳结构

光天线阵列单元具有亚波长尺度微纳结构，基于位相的不连续性调控实现
对入射光场的偏振特性和位相分布的调制。单元结构包括手性排布的光天线阵
列、介质基底和反射金属板组成。该超表面的总能量利用率超过 90%，并且在
出射光场中，与入射圆偏振光偏振态相同的主偏振分量的能量接近 0，因此出
射光场的纯净度能够得以保证。
该超表面单元结构如图 4.20 所示，由介质基底（蓝色部分）
，以及沉积在
介质基底正反两面的金属结构（灰色部分）组成。介质基底正面的金属结构为
按照六边形排布的椭圆柱形结构组成，椭圆柱的长轴长度为 la=4.6μm，短轴的
长度是长轴长度的 0.3 倍，金属层厚度为 0.8μm，介质基底厚度为 0.9μm。在本
设计中，介质基底的材质为 ZnS，其折射率为 2.2，金属层采用的材质为银，由
于超表面的设计工作波长为 10μm，因此金属材料不能简单的等效为理想导体
（PEC）
，需要考虑金属材料损耗，因此仿真过程中银的介电常数采用 Drude 模
型在 10μm 处的参数。

80
 4 超表面成像原理和方法

图 4. 20 反射式超表面单元结构示意图

我们利用三维电磁仿真软件 CST 对该超表面进行仿真优化，在模型仿真过

程中，利用周期性边界条件来减少仿真优化的计算量，同时增加仿真的准确性。
仿真过程中，在单元结构正面设置一个波导端口，作为圆偏振光的激励源，同
时接收反射圆偏振光，并计算反射光场中左旋圆偏振光和右旋圆偏振光的反射
率。
设置宽带的左旋圆偏振光为激励源，沿着-z 方向正入射到超表面，端口接
收到反射场中归一化的左旋圆偏振和右旋圆偏振光的能量如图 4.21 所示。从图
中可以看出，在圆偏振光入射情况下，反射光场中交叉偏振光的反射率在
8.5-11.2μm 波长范围内均大于 95%，而共偏振光的反射率小于 10%。该结果说
明入射的左旋圆偏振光绝大部分被转换为交叉偏振光，在 10.75μm 波长处转换
效率达到最大，达到 100%。

图 4. 21 圆偏振光的反射率曲线

在圆偏振光反射过程中，如果以椭圆柱的中心为对称点，将椭圆柱形单元
81
 微纳结构成像原理和方法研究

结构绕 Z 轴旋转，则可以调节交叉圆偏振光的反射位相，反射位相的变化值为
旋转角度的 2 倍。
如图 4.22(a)所示，
椭圆柱绕其主轴旋转角度 θ 从 0°增加至 150°
时，对应的反射率在 8.5μm~13μm 范围内基本重合，说明单元结构的旋转对超
表面反射率没有影响。而从图 4.22(b)中所示的反射位相随旋转角度的变化曲线
可以看出，当旋转角度从 0°逐渐增加到 150°的时候，反射位相变化范围在波长
10μm 以上的范围内的变化达到 300°，并且变化率是旋转角度变化率的 2 倍。

(a) (b)
图 4. 22 反射率和反射位相随旋转角度变化曲线

图 4. 23 波长为 10μm 处左旋圆偏振和右旋圆偏振的反射率和反射位相曲线

对于我们关注的波长为 10μm 处的反射率和反射位相随旋转角度θ的变化

曲线如图 4.23 所示。从仿真结果可以看出，随着旋转角度的变化，反射光场中
的左旋圆偏振光的反射率接近 0，而右旋圆偏振光的反射率超过 96%，这两种
圆偏振光的反射率均与旋转角度的变化无关。而随着旋转角度的变化，右旋圆
偏振光的反射位相也线性地变化，其曲线的斜率为 2；而左旋圆偏振光的位相
曲线是一条水平的曲线，也就是说，左旋圆偏振光的反射位相不随旋转角度的
变化而发生改变。由此可以看出该超表面对入射光波具有良好的位相调制性能。
82
 4 超表面成像原理和方法

4.4.2 局部设计及仿真验证

该超表面优良的位相调制性能以及极高的能量利用率均适合用于构造新型
的光学成像器件，为验证其成像性能，我们设计了一个与上一节类似的轨道角
动量聚焦成像器件。
首先将这种超表面的单元结构按照一定的位相分布进行排布，使得其反射
位相面的空间分布满足式(4.11)。在平面波入射情况下，该超表面可将入射的圆
偏振光反射为携带轨道角动量的光束，得到的轨道角动量的拓扑荷数为 l；同时，
该超表面可以将反射的轨道角动量光束在超表面的法线方向，距离超表面 f 的
位置处聚焦，提高反射光束的能量密度。
根据式(4.11)中的位相分布要求，设计了能将入射的圆偏振光反射为拓扑荷
数 l=3 的轨道角动量光束，同时使光束在焦距 f=80μm 处聚焦的红外光学器件，
对应的位相调制超表面的结构示意图如图 4.24 所示。器件呈圆形分布，其直径
为 90μm。

图 4. 24 实现携带轨道角动量光束聚焦的超表面结构示意图

在圆偏振平面波照射下，超表面反射电场 y-z 面强度分布如图 4.25 所示。

从图中可以看出，出射电场在超表面法线方向有明显的聚焦效果，焦点出现在
距离超表面 75μm 处。

83
 微纳结构成像原理和方法研究

(a) (b) (c)

图 4. 25 手性排布超表面的反射场侧视图。(a)~(c)分别为频率为 29THz、30THz、31THz 处
的电场分布

在距离超表面 75μm 处的 xy 平面内，频率为 30THz（波长为 10μm）处的

反射电场的绝对值分布如图 4.26 所示。从该图中可以看出，聚焦光斑表现为一
个空心圆环状分布，这是反射光场为携带轨道角动量光场的直接证明。

图 4. 26 z=75μm 处 xy 截面内的电场绝对值分布

作为对比，仿真了没有加载手性排布超表面时。仿真结果表明，在圆偏振
光入射下，纯金属板的反射电场为近似平面波分布，没有波束聚焦效果。上述
结果可以验证该手性排布的光天线阵列超表面，具有高效的电磁波位相调制能
力和宽带特性。利用这种超表面的不连续位相调制能力，可实现任意位相调控，
从而为超表面成像器件和系统设计奠定了基础。

4.4.3 超表面红外成像器件及系统设计

以上述超表面成像器件为反射式主镜，设计了长波红外成像系统。系统主
要设计参数如表 4.1 所示。

84
 4 超表面成像原理和方法

表 4. 1 基于超表面的红外成像系统设计参数

参数 指标
通光口径 100mm
光谱范围 8~12μm
全视场角 0.8°
有效焦距 248.2mm
F/# 2.5
传函 0.3@20lpmm
光路长度 450mm
光学材料 锗，ZnSe

根据 Schupmann 消色差模型，结合锗和 ZnSe 构成的中继透镜和聚焦透镜，

设计了如图 4.27 所示的红外成像系统。

折转反射镜 中继透镜

光阑

色散校正器及 反射式超表面器件
聚焦透镜

焦面

图 4. 27 超表面红外成像系统光路图

利用著名的光学设计软件 ZEMAXTM 对上述系统进行了优化设计和仿真，

其中反射式超表面成像器件和色散校正器均用 Binary Optic2 表面类型，该类型
以极坐标径向半径和若干位相系数来表示微纳结构图形的位相函数。最终反射
式超表面成像器件位相参数如表 4.2 所示，在二维方向位相分布如图 4.28 所示。
根据该位相分布可求出所有超表面结果尺寸、方位角和坐标。
表 4. 2 反射式超表面成像器件位相系数

表面 归一化半径 A1 A2 A3 A4 A5

反射式超表面成像器件 100 -7853.982 122.718 -3.835 0.150 -7.055×10-3

85
 微纳结构成像原理和方法研究

图 4. 28 反射式超表面成像器件二维位相分布

图 4.29 给出了系统在 20lpmm（对应探测器像素尺寸 25μm）时的传函，可

以看出基本在 0.3 左右，满足高精度成像要求。图 4.30 是系统在 8~12μm 光谱
范围内的 RMS 波像差，显然在全波段接近衍射极限。因此，该设计具有很好的
像质，主镜色散也得到较好补偿，而且光路长度相对较短，有望用于轻量化红
外成像系统。
TS Diff. Limit TS 0.0000, 0.4000 (deg)
TS 0.0000, 0.0000 (deg)
TS 0.0000, 0.2800 (deg)
1.0

0.9

0.8
Modulus of the OTF

0.7

0.6

0.5

0.4

0.3

0.2

0.1

0.0
0 2 4 6 8 10 12 14 16 18 20

Spatial Frequency in cycles per mm

图 4. 29 系统在 20lpmm 的 MTF 曲线

86
 4 超表面成像原理和方法

图 4. 30 系统全波段 RMS 波像差

4.5 本章小结

本章从超表面成像原理出发，提出了两种宽带位相和偏振调控原理。利用
超表面色散调控实现了超倍频程消色差带宽的位相和偏振转换，在 4 倍频程带
宽中获得转换效率大于 87%消色差偏振转换，并在微波波段完成了实验验证。
提出了通过超薄空间变化和频谱设计的超表面自旋轨道相互作用，产生消色差
相移，从而实现物体电磁特性的虚拟整形，光波段和微波段仿真与实验结果均
表明，虚拟位相整形可以有效达到改变目标电磁特征的目的，使全频段内反射
率小于 10%。在上述调控机理基础上，开展了超表面成像器件设计。提出了一
种手性排布的光天线阵列超表面，在可见光波段实现将入射的圆偏振光转换为
携带轨道角动量光束，并通过对单元结构的位相分布进行调制，实现对出射轨
道角动量光束进行聚焦的功能，总能量利用率超过 40%。进一步提出了基于手
性排布超表面的反射式聚焦成像原理方法，有效提高了通光效率，总能量利用
效率超过 90%，远大于透射式超表面的能量利用率。以该超表面器件为主镜，
设计了长波红外成像系统，在 8~12μm 波段均达到衍射极限像质，为轻量化红
外成像系统设计提供了新的途径。

87
微纳结构成像原理和方法研究

88
 5 微纳结构成像实验

5 微纳结构成像实验

5.1 引言

微纳结构成像具有许多与传统成像不同的特性。对于原理和设计方法，前
述章节已经给出了详细的分析和阐述，但是在微纳结构实验方面，同样有诸多
特殊之处。比如在集成化微纳结构器件成像过程中，由于涉及到微观区域光场
测试，采用的方法和手段不再是传统成像检测方式。虽然发明了 SNOM 等点扫
描测试方法，但目前仍然缺乏类似传统光学成像的标准测试方法，对于中间场
等光场测试缺乏普适性手段。在平面衍射透镜消色差成像验证实验中，衍射透
镜的特殊性造成实验系统装配和调试手段与传统不同，同时由于光路相对反射
式系统较长，对实验测试造成相当大挑战。另外高精度微纳结构加工也是实验
中面临的关键技术问题，特别是与常规微细加工工艺相比，纳米非规则图形、
大矢高多台阶结构等加工难度更大。显然，对微纳结构成像实验开展探索研究
具有突出的意义，有望为微纳结构成像应用奠定重要基础。
本章将围绕超表面聚焦器件和轻量化平面衍射透镜成像实验，详细介绍了
实验中涉及的中间场成像测试、微纳结构制备、实验装调、实验平台搭建、实
验结果等，为相关研究提供了实验参考。

5.2 超表面聚焦器件成像实验

超表面成像器件作为当前学术界的研究热点，人们发现了超表面具有许多
传统成像器件难以实现的电磁特性，例如微观场聚焦、轻量化、偏振任意可调
等。然而由于特殊微纳结构设计和电磁特性，在现有技术条件下，要完成超表
面成像实验还面临着诸多挑战，最大的难点来自于纳米微纳结构加工和成像光
场精确表征。
我们对第四章设计的超表面光学漩涡聚焦成像器件进行了实验测试。该器
件是典型的集成化、微型化成像器件，口径仅 20μm、特征尺寸约 60nm、光场
作用距离 24μm，纳米结构加工和中间场成像表征是实验中面临的主要问题。我
们通过工艺探索和自制成像测试平台，成功完成了超表面光学漩涡聚焦成像器
件性能测试，为相关研究提供了重要工艺基础和测试手段。

5.2.1 纳米微纳结构制备工艺探索

超表面光学漩涡聚焦成像器件的特征尺寸仅 60nm，表面微纳结构形状为椭
89
 微纳结构成像原理和方法研究

圆柱形，根据位相调制区域的不同，椭圆柱形呈现出 0°~180°的旋转排布。
这种结构从微细加工角度讲，具有非常大的加工难度。首先，特征尺寸 60nm
是指椭圆结构的短轴长度，但是并不代表椭圆柱全部轮廓的加工精细程度。为
获得连续光滑的椭圆柱边缘，预计的加工精度应达到 10~20nm，这对加工能力
和工艺摸索提出了相当大的挑战。其次，现有微细加工技术对一维、二维周期
图形或者类似于集成电路的规则图形具有较好的工艺稳定性和兼容性，但是对
超表面这种非规则形状和排布的微纳结构，在工艺上遇到的挑战将更大。我们
利用实验室纳米加工平台条件，对上述问题进行了探索和解决，并制备出高质
量的超表面结构，为后续成像实验提供了核心器件。

图 5. 1 超表面制备工艺流程示意图

超表面纳米微纳结构的基本制备工艺流程如图 5.1 所示。首先是通过旋涂

的方式在二氧化硅基底（厚度 1mm，直径 1 英寸）上旋涂一层约 1µm 厚度的
光刻胶（AZ3100）
，置于 100°C 热板上，前烘 20min。然后采用接近/接触式光
刻机曝光并显影后获得标记图形，入射光强约 2mW/cm2，曝光时间 40s，显影
时间 40s。紧接着通过反应离子刻蚀将标记图形转移到二氧化硅基底上，刻蚀
深度约 200nm。制作标记图形的主要目的是便于聚焦离子束加工和光学检测的
定位。去除残胶后，在其表面沉积一层 135nm 厚的 Au 薄膜，采用磁控溅射的
方法在本底真空小于 5.0×10-4Pa 条件下沉积，Ar 气流量为 80SCCM，溅射功率
为 200W，沉积速率为 7Å/s。最后，通过聚焦离子束（Helios Nanolab 650, FEI
Company）在标记图形内加工超表面结构，离子束加速电压为 30kV，离子束束
流为 40pA，驻留时间为 10µs，循环次数为 26 次。
采用聚焦离子束刻蚀制备超表面结构，影响其精细程度及加工质量的因素
主要有：离子束束流、驻留时间、循环次数。由于此超表面结构是采用的位图
加工方法，根据加工的特征尺寸，离子束束流大小的选择主要由图形加工面积
90
 5 微纳结构成像实验

和像素点数决定。此图形面积为 40µm×40µm，像素点为 1938×1938，单个像素

点的尺寸约 20nm，选择离子束束流大小为 40pA。图 5.2 给出了在相同的离子
束加速电压和离子束束流条件下，不同驻留时间和循环次数的加工结果对比扫
描电子显微镜图片。图 5.2(a)为 0.2ms 驻留时间，1 次循环次数的加工结果，由
于再沉积效应的影响，图形的形状及特征尺寸与设计结果存在较大的误差。在
同样的离子束曝光剂量下，将驻留时间和循环次数分别调整为 1µs、200 次后，
规避了再沉积效应的影响，但还存在残余的 Au 薄膜未被刻蚀，如图 5.2(b)所示。
通过对上述实验结果的分析，及进一步的工艺摸索，获得了此超表面结构的最
优加工条件（离子束加速电压为 30kV，离子束束流为 40pA，驻留时间为 10µs，
循环次数为 26）
，优化加工结果如图 5.2(c)所示，椭圆柱结构的长轴方向特征尺
寸约 150nm，短轴方向特征尺寸约 70nm，并且结构特征形状与设计一致，边缘
精细程度较高，满足超表面微纳结构制备要求。

图 5. 2 离子束加速电压为 30kV，离子束束流为 40pA 条件下，不同驻留时间和循环次数的

加工结果。(a)驻留时间为 0.2ms，循环次数为 1；(b)驻留时间为 1µs，循环次数为 200；(c)
驻留时间为 10µs，循环次数为 26

5.2.2 中间场成像测试方法和结果

由于超表面成像器件类型和作用距离的不同，其测试方法也有所区别。不
同的超表面成像器件所激发出的场信号可以分为三种类型：近场、中间场和远
场。其中近场信号可以用 SNOM 来收集，但是 SNOM 探测仅局限于光的近场
91
 微纳结构成像原理和方法研究

范围内，对于中间场与远场的探测 SNOM 是无能为力的。远场信号虽然能够用

CCD 来收集，但是离超表面结构几十微米范围内的中间场单独用 CCD 是很难
精准探测到的。现有显微镜系统虽然能够探测几微米到几十微米的距离并且可
以用 CCD 接收样品信息，但是其光源不能激发超表面结构的表面等离子体，而
且外部空间很难放置成像实验所需的偏振片与波片元件。我们结合显微镜可以
探测中间场的优点，对显微镜结构做了一些改造，搭建了自制显微镜测试平台。
该平台不但可以探测中间场光场信号，而且采用并行成像方式收集光场的三维
信息，具有成像时间短、成像质量受外界干扰少、操作简单、成本低等优点，
极大弥补了 SNOM 测试的不足。利用该平台，对超表面光学漩涡聚焦成像器件
成像性能进行了测试。
图 5.3 所示为自制显微镜测试平台结构图，平台主要组成包括：
1）显微镜系统；
2）光源：将显微镜的内部荧光光源改换为外部激光光源，激光由显微镜内
部的 45°反射镜导入；
3）偏振片与波片，以及其插槽；
4）三维电动控制载物台；
5）基于 CCD 的场信息收集与导出系统。

图 5. 3 自制超表面成像测试平台

图 5.4 所示为超表面成像测试的流程图，超表面成像测试过程主要是由光
源的导入，超表面场激发与场信号收集以及信息处理组成。下面我们利用超表
面光学漩涡聚焦成像器件的测试过程以及测试结果图来介绍超表面成像测试方
法。
92
 5 微纳结构成像实验

图 5. 4 超表面成像测试流程

首先是光源的导入，产生聚焦轨道角动量的超表面所需要的光源是圆偏振
光，自制显微镜测试系统外部的激光光源由显微镜内部的 45°反射镜导入。由
于反射镜对偏振光的偏振度有影响，所以将线偏振片与四分之一波片依次放入
经反射镜之后的光路中，即自制测试系统特制的槽内，并调节偏振片与波片快
轴的夹角，达到产生圆偏振的条件。这样光源经过反射镜、偏振片与四分之一
波片之后不但能够产生圆偏振光，而且还能减少反射镜对光源偏振度的影响，
提高实验测试精度。
经过准直的圆偏振光入射到测试系统载物台上的样品表面，为了能够快速
找到超表面结构区域，在微纳结构加工的时候将超表面结构制作在特定的标记
区域内。超表面结构辐射出的具有轨道角动量的聚焦光束由 100 倍显微物镜接
收，经镜筒系统投射到显微镜上方 CCD 上。为得到聚焦轨道角动量光束 Z 轴
光场的精确分布，必须精确控制显微测试系统载物台上下移动，所以用电动平
移台代替手动控制来精确控制显微测试系统载物台的上下移动。设置电动平移
台上下移动的步长，使显微镜可以测得一系列 Z 轴的场分布图像。
超表面结构的出射光场由两部分组成，一部分是与入射光场偏振态相同的
共偏振，另一部分是与入射光偏振相反的交叉偏振光束。在实验中，需要测试
聚焦轨道角动量的交叉偏振部分，所以必须对出射光束进行滤波。为了减少共
偏振光的干扰，将四分之一波片与线偏振依次放入测试系统特制的可转槽内，
调节两者快轴的夹角滤掉共偏振波，达到消光的目的。
最后是光场信息的导出，用 CCD 将显微镜系统收集到的聚焦轨道角动量光
场信息导出，经过电脑处理得到聚焦轨道角动量光束 Z 轴光场分布。
在超表面成像测试实验中，关键技术是光束准直、圆偏振产生、光束对准、
后端滤波以及载物台 Z 轴移动的精确控制。其中光束准直是为了让光垂直入射
到样品表面，更好地激发超表面场，以及后端收集到更均匀的光场分布。在调
节准直时尽量让光斑打在物镜孔中央、目镜的十字叉丝中心以及 CCD 接口的中
央。圆偏振的产生需要偏振片的透光轴与四分之一波片的快轴夹角为 45°，利
用晶体的偏光干涉原理，将四分之一波片放在两个偏振方向相互平行的偏振片
中间，旋转四分之一波片，当通过后方的偏振片光强最小时，两者夹角达到 45°，
从而得到圆偏振光。光束对准主要是指光束照射到超表面结构区域，先水平移
动载物台通过低倍物镜中找到样品标记，然后依次换高倍物镜。在滤波时，将
93
 微纳结构成像原理和方法研究

四分之一波片快轴调节到与偏振片透光轴 45°方向。为了得到精确的光场分布
图，将电动平移台上下移动的步长设为 1μm，并且场信息的记录是从样品表面
在物镜中所呈的像开始，按步长无回程依次降低载物台。

图 5. 5 超表面成像测试光路简图

图 5.5 是超表面成像测试光路简图：主要由光源、偏振片、波片、样品、
显微测试系统以及 CCD 组成。第一组偏振片与波片的组合是为了产生圆偏振
光，偏振片的偏振方向与四分之一波片快轴的夹角为 45°。显微镜系统负责收
集由样片表面辐射的聚焦光束，在显微镜系统后面的四分之波片与线偏振片组
合起了滤波的作用。CCD 将收集到的场图像导出。
图 5.6~5.7 给出了利用自制显微镜测试平台，采集的超表面光学漩涡聚焦器
件成像光场实验结果。为了更清晰地看到场分布，我们对 CCD 得到的图片做了
一些处理。图 5.6 是从像点到聚焦点位置每隔 4μm 光强信息图。轨道角动量聚
焦的理论计算焦距是 20μm，而实验测得的焦距大约是 24μm，其中 4μm 的误差
是由显微镜以及光路还有样品引起的。从图中可以明显看出，通过载物台 Z 向
移动，可以准确扫描出三维光场的变化。

图 5. 6 从像点聚焦点位置每隔 4μm 场信息图

94
 5 微纳结构成像实验

图 5.7(a)是焦点处水平方向（x-y 平面）的场分布测试结果，图 5.7(b)(c)分

别是经处理后的实验测试 X-Z 截面光场分布和 Y-Z 截面光场分布。从图中可以
看出，经过超表面后产生了有明显的聚焦效果，聚焦光波尺寸与理论设计基本
一致，不仅验证了超表面成像器件理论和设计的正确性，也表明自制的显微镜
测试平台在中间场测试中具有较好的测试精度。

(a) (b) (c)

图 5. 7 (a)焦点位置的强度分布图；(b) X-Z 截面光场分布；(c) Y-Z 截面光场分布

5.3 轻量化平面衍射透镜成像实验

在第三章理论研究中，已经详细推导了基于 Schupmann 消色差模型的平面

衍射透镜成像原理。从理论上讲，平面衍射透镜消色差成像系统是一个理想光学
系统，在设计波段均理想成像。然而在实际成像过程中，光学设计残余像差、
微纳结构加工误差、光学元件像差、装调精度等都会对成像质量造成影响。为
考察各该理论在实际应用时的正确性以及成像效果是否满足实际要求，我们设
计了一个原理验证性实验。其通光口径为 100mm，光谱范围在大部分可见光波
段。实验主要是对微纳结构光学系统的像质进行鉴定，其结果将反映以上各个
因素对成像效果的影响。开展实验的另一个目的是提高复杂光路、长光路系统
调试能力，并从测试过程中总结光学理论设计经验和提高成像性能的环节。主
要内容包括：宽波段成像实验系统设计、轻量化基底微纳结构加工和成像实验
结果。

5.3.1 成像实验系统设计

我们在明确实验目的的基础上，充分考虑设计、元件加工、装调、实验平
台条件等，设计了平面衍射透镜望远镜成像光路（光路基本结构如图 5.8 所示）
。
主镜采用基于薄型玻璃基底的轻量化多台阶平面衍射透镜，衍射校正器采用四
台阶位相型衍射元件，中继透镜和聚焦透镜均采用双胶合透镜。

95
 微纳结构成像原理和方法研究

图 5. 8 平面衍射透镜成像实验系统光路示意图

由于该系统为长光路系统，上述示意图在长度方向进行了压缩处理。图中
红、绿、蓝色区域分别代表红、绿、蓝光的光束传播区域，根据平面衍射透镜
成像原理，绿光 532nm 为设计波长，焦点刚好设为中继透镜前表面，红光和蓝
光焦点分别在中继透镜前后。由于平面衍射透镜和衍射校正器关于中继透镜共
轭，因此在衍射校正器处，所有从主镜一点发散的光线再次会聚为一点，经过
衍射校正器的色散补偿，转变为无色差的光束。利用最后一个聚焦透镜将光束
聚焦到焦面上。系统总体参数如表 5.1 所示。
表 5. 1 平面衍射透镜成像实验系统总体参数

参数 指标
通光口径 100mm
光谱范围 450nm~650nm
全视场角 0.1°
有效焦距 4180.5mm
角分辨率 1.34″

利用光学设计软件 ZEMAXTM 对上述系统进行了优化设计和仿真，其中平

面衍射透镜和衍射校正器均用 Binary Optic2 表面类型。这里平面衍射透镜主镜
F 数选择为 41，主要目的是增大衍射极限聚焦光斑尺寸，便于用 CMOS 摄像机
直接拍摄出衍射光斑周围的衍射环。
最终设计的实验系统各元件参数如表 5.2 所示，其中平面衍射透镜和衍射
校正器的位相系数如表 5.3 所示。

96
 5 微纳结构成像实验

表 5. 2 平面衍射透镜成像实验系统各元件设计参数

Surf Type Radius Thickness Glass Diameter Conic

OBJ STANDARD Infinity Infinity 0 0
STO STANDARD Infinity 0.5 F_SILICA 120 0
2 BINARY_2 Infinity 1305 120 0
3 COORDBRK - 0 - -
4 STANDARD Infinity 0 MIRROR 100 0
5 COORDBRK - -3800 - -
6 COORDBRK - 0 - -
7 STANDARD Infinity 0 MIRROR 60 0
8 COORDBRK - 900 - -
9 STANDARD -265.2487 4 K9 50.8 0
10 STANDARD -128.3805 2 ZF1 50.8 0
11 STANDARD -164.4182 1204.943 50.8 0
12 STANDARD Infinity 3.5 F_SILICA 30 0
13 BINARY_2 Infinity 42.48247 30 0
14 STANDARD 253.7856 2.5 ZF1 25.4 0
15 STANDARD 98.17982 4 K9 25.4 0
16 STANDARD -134.9422 997.5413 25.4 0
IMA STANDARD Infinity 7.549988 0

表 5. 3 平面衍射透镜和衍射校正器的位相系数

表面 归一化半径 A1 A2 A3 A4 A5

平面衍射透镜 50 -2460.521 0.043 0 0 0

衍射校正器 10 -2439.057 108.481 -271.671 285.890 -108.894

设计中平面衍射透镜采用厚度仅为 0.5mm 的熔石英玻璃基底构成，实际上

由于衍射面在后表面，因此无论厚度和玻璃如何选择，都不会影响成像光路传
播路径。另外由于整体光路太长，需要加入两偏反射镜对光路进行折转，但不
会影响成像效果。

97
 微纳结构成像原理和方法研究

图 5.9~5.11 分别是实验系统的 MTF 仿真结果、所有视场的 RMS 波像差、

98
 5 微纳结构成像实验

所有波长的 RMS 波像差。从图中可以看出，实验系统在半视场 0°、0.02°、

0.035°和 0.05°下 MTF 均达到衍射极限，同时几乎全视场和全谱段下 RMS 波
像差均下于 λ/14 的衍射极限标准。因此设计结果具有非常良好的成像效果，像
质与传统光学系统基本一致，可以用星点检验或分辨率检验法得到非常清晰的
成像图像。

5.3.2 轻量化平面衍射透镜制备

根据前面的设计结果，利用多台阶衍射透镜设计方法，可得到平面衍射透
镜和衍射校正器的微纳结构参数。
其中平面衍射透镜参数：
 有效口径：Φ100mm；
 基底尺寸： 120mm×120mm×0.5mm；
 8 台阶微纳结构，最小线宽 7.5μm，单个台阶深度为 149.9nm。
衍射校正器参数：
 有效口径：Φ20mm；
 基底尺寸：Φ30×3.5mm；
 4 台阶微纳结构，最小线宽 3μm，单个台阶深度为 299.8nm。
我们采用光刻套刻方法，发展了在薄型玻璃基底上制备多台阶衍射元件的
工艺流程，并严格控制了对准误差、图形横向和纵向误差。其基本流程如下：
1）首先光刻工艺是将掩模版的图形曝光到基片上的光敏光刻胶，然后将光
刻胶图形再转印到基片材料上。
2）利用光刻工艺实现多次套刻，是制备多台阶衍射元件的基本思路。光刻
套刻是经过多次光刻曝光和刻蚀，完成三维多台阶浮雕结构的成形。以 8 台阶
平面衍射透镜三次套刻制备为例，流程图如图 5.12 所示。
3）通过显影过程，将曝光后光刻胶上获得的感光剂量转化为微浮雕图形。
显影过后得到与最终形貌相似的光刻胶浮雕图形。
4）采用反应离子刻蚀（RIE）实现对光刻胶的刻蚀，并将光刻胶微纳结构
图形转移到基片上，通过调节刻蚀速率和时间达到控制刻蚀深度的目的。最终
在基片上形成所需的多台阶结构。

99
 微纳结构成像原理和方法研究

(a)

(b)

(c)

图 5. 12 平面衍射透镜 8 台阶微纳结构套刻示意图，(a)(b)(c)分别是三次套刻及所制备形状
示意图

5）为满足应用要求，需要对加工后元件镀增透膜。由于多台阶微纳光学元
件在尺度上属于微米量级，因此可以镀传统光学膜系。对镀膜前后的元件透过
率测试分析表明，在微纳光学元件上镀的增透膜可见光透过率可达到 99%以上。
通过优化工艺，我们制备了实验所需的高精度 8 台阶衍射透镜，图 5.13 是
ZYGO 白光干涉仪测试的 8 台阶结构三维形貌。从图中可以看出，微纳结构图
形质量较好，没有明显的套刻误差，满足了实验样品制备要求。

100
 5 微纳结构成像实验

图 5. 13 制备的微纳结构三维形貌

我们进一步针对多重位相衍射透镜的制备开展了研究。多重位相衍射透镜
最大的特点是矢高较深，通常一般的衍射透镜矢高 1μm 左右，而多重位相衍射
透镜矢高可达到 5~20μm，因此制备难度较大，套刻误差、刻蚀深度误差、刻蚀
表面光洁度等比较难以保障。我们通过优化套刻对准精度，解决了在大矢高下
套刻对准问题，同时通过刻蚀气体配比选择和优化、刻蚀时间精确控制，使深
度方向的精度和光洁度得到明显改善。图 5.14 显示了制备的 32 台阶衍射透镜
局部显微照片和一维截面轮廓图。多重位相衍射透镜的制备工艺为带宽拓展成
像实验样品加工奠定了重要基础。

图 5. 14 制备的 32 台阶衍射透镜局部显微照片（左）和一维截面轮廓图（右）

5.3.3 成像实验结果及分析

在现有光学平台和实验条件的基础上，搭建了实验系统并完成装调。实验
系统实际像质由口径 200mm 的平行光管测试，并开展星点检验和分辨率检验。
实验光路和平面衍射透镜照片如图 5.15 所示。
其中平面衍射透镜厚度仅 0.5mm，
重量为相同口径透镜和反射镜的 1/20。

101
 微纳结构成像原理和方法研究

图 5. 15 实验光路（左）和平面衍射透镜照片（右）

平行光管作为光学系统像质的常用检测工具，在本实验中提供一个具有计
量标准的无穷远目标。这个目标的具体图形由检测内容以及放置在平行光管焦
最后用 CMOS 数字摄像机采集目标经过被测光学系统后的像，
面上的靶板决定。
以此来定性和定量分析系统像质。
成像实验系统搭建中最关键的环节是平面衍射透镜以及衍射校正器等非传
统光学元件的对心与精密装调。现有光学元件对心装校方法需要判读光学元件
的球心像，而衍射透镜表面具有微细结构，无法产生用于对心的球心像。因此，
现有对心装校方法不适用于衍射透镜的高精度对心装校。为此我们提出了一种
新的精密装配方法，目的是解决衍射透镜无法产生球心像的装校难题。其基本
思路是在衍射透镜微纳结构层的中心设计专用十字形对心标记（如图 5.16 所
示）
。标记的结构尺寸选择与对心装校方法密切相关。当对心仪在对心过程中使
衍射透镜旋转，后端对心显微镜采集到连续变化的十字对心标记中心位置，经
过处理后获得中心位置圆形轨迹的圆心，从而计算出偏心量，为元件调整提供
依据。利用这种方法可获得小于 10μm 的对心精度。

图 5. 16 平面衍射透镜对心标记设计

成像性能测试包括三个检测内容，即星点检验、分辨率检验、宽波段成像
性能检验。
102
 5 微纳结构成像实验

（1）星点检验
星点像不仅能够判断光学系统的像质好坏，还能进一步“诊断”光学系统
存在的主要像差性质和瑕疵种类，以及造成这些缺陷的原因，是衍射极限光学
系统常用检测方法。衍射极限理想光学系统星点检验的像为 Airy 斑形状，其中
心亮斑直径为：
F
DAiry  2.44 (5.1)
D
其中 λ 为中心波长，F 为系统焦距，D 为系统有效口径。
当光学系统到达衍射极限成像时，星点像光斑质量较好，能够明显区分中
心亮斑和一级衍射环。并且在焦面前后的星点像同样具有对称的光强分布。本
实验中，632.8nm 激光器单波长星点像的中心亮斑直径应达到 61.4μm，对应
CMOS 传感器中的 19 个像素。而白光中心波长设置为 532nm，则中心亮斑直径
应达到 51.6μm，对应 CMOS 传感器中的 16 个像素。

图 5. 17 星点检验实验结果：（左）632.8nm 单色光星点图和（右）白光星点图

从图 5.17 的实测星点图可以看出，632.8nm 单色光星点像的中心亮斑直径

为 60.5μm，光斑质量良好，形状对称并且能分辨出零级亮斑和一级衍射环，说
明在单波长时系统达到衍射极限。而白光星点图同样成像良好，亮斑直径
52.5μm，与理论计算一致，因此可以定性地说明系统像质达到了衍射极限。
（2）分辨率检验
分辨率检验通常能以确定数值评价被检系统的综合成像性能，从而直观地
判别像质好坏。本实验采用根据国家标准 JB/T9328-1999 分辨率靶作为测试物
体。根据对焦面所成的分辨率图像的判读结果，读出刚好能分辨出的条纹图案
单元号码，从平行光管换算表中查出条纹宽度。其图案分辨率可以角度值表示，
按下列公式计算：
2a
"  206265 (5.2)
f0 '

103
 微纳结构成像原理和方法研究

式中  " 为角分辨率，a 为可分辨的条纹宽度， f 0 ' 为平行光管实际焦距。

而望远镜成像系统的理论分辨率可以由瑞利判据计算出来：

  1.22 (5.3)
D
将实测分辨率数据与理论分辨率数据进行比较，不仅可以定性判读系统是
否达到衍射极限成像，而且也能获得定量的系统像质情况。

图 5. 18 分辨率 4#靶白光图像以及第 20 组图像放大图

实验中采用 4#分辨率靶，实测白光波段的分辨率图像如图 5.18 所示，最多

能读到第 20 组图像，并可以分辨出该组图像所有方向图案，因此为系统实测分
辨率。根据式(5.2)计算得到实测分辨率角值为 1.32″，与根据式(5.3)计算的理
论分辨率 1.34″几乎相同，由此可鉴定系统像质达到衍射极限。
（3）宽波段成像
衍射透镜具有严重色散，因此经过色散校正后的宽波段成像性能测试尤为
重要。上述测试给出了白光情况下的星点和分辨率靶测试结果，这里进一步通
过加入滤光片，分别测试红光、黄光、绿光和蓝光情况下，分辨率靶成像情况。

104
 5 微纳结构成像实验

图 5. 19 不同波段分辨率靶成像结果。(a)(b)(c)(d)中心波长分别为 630nm、560nm、500nm、
460nm

从图 5.19 成像结果可以看出，
无论在哪个波段均能实现衍射极限成像效果，
因此验证了 Schupmann 消色差模型的原理正确性，为后续成像实验研究奠定了
基础。

5.4 本章小结

本章在前面章节基础上，围绕微纳结构成像实验研究，首先开展了超表面
聚焦成像实验，针对非规则形状和排布的纳米级微纳结构开展了工艺探索和改
进，制备出口径 40µm×40µm、分辨率达到 20nm 的纳米超表面结构。针对 SNOM
测试方法的局限性，搭建了自制显微镜测试平台，实现了中间场光场三维信息
并行探测，具有成像时间短、成像质量受外界干扰少、操作简单、成本低等优
点，并利用该平台完成了超表面光学漩涡聚焦成像器件成像性能测试。为验证
平面衍射透镜宽波段成像性能，设计了口径 100mm 原理验证实验系统，工作波
段达到 450~650nm。在多台阶衍射透镜关键工艺方面开展了研究，制备了 8 台
阶衍射透镜和 32 台阶多重位相衍射透镜，为成像实验提供了关键器件。通过搭
建基于平行光管的成像性能测试平台，完成实验系统星点、分辨率靶和宽波段
105
 微纳结构成像原理和方法研究

成像性能检验，测试结果表明星点像能明显分辨出零级亮斑和一级衍射环，角
分辨率达到 1.32″，在红光、黄光、绿光和蓝光照明下均像质良好，验证了基
于平面衍射透镜的轻量化宽波段成像原理正确性。

106
 6 总结

6 总结

成像是光学领域最古老的学科，人类的文明进步与成像技术的发展密不可
分。不断探索新的成像原理方法，提升人类认识客观世界的能力，也是人们一
直努力的目标。目前，微纳结构与成像技术的结合是一个重要研究方向，利用
微纳结构优异的物理特性和平面化的结构特点，有望满足成像技术的轻量化、
集成化和大口径发展需求，并带来光学成像器件设计理念的变革，在未来的信
息、国防、航天、医学等众多领域具有广阔的应用前景。
本文在国家 973 项目、国家自然科学基金项目资助下，系统研究了平面衍
射透镜和超表面两种微纳结构的成像原理、宽带调控机理、设计方法和成像实
验。针对微纳结构的色散问题，提出了宽带消色差以及位相和偏振调控原理，
详细分析了在可见光、红外等波段的调制特性，并完成了在微波波段的位相和
偏振调控原理验证。在微纳结构成像实验方面取得重要进展，解决了非规则纳
米结构和大矢高多台阶微纳结构制备难题，搭建了中间场显微测试平台，完成
了超表面聚焦成像和平面衍射透镜成像实验。上述工作为进一步推动微纳结构
成像技术的发展以及实用化提供了原理和方法基础。取得的研究成果已经发表
在包括 Scientific Reports、Optics Express、Optics Communications 等在内的学术
期刊上。
论文的主要创新点包括：
1）针对大口径望远镜体积重量大、口径和分辨率难以进一步提升的难题，
提出了利用平面衍射透镜成像实现轻量化成像的原理，针对衍射透镜色散严重
的问题，系统分析并建立了宽波段消色差模型，为基于平面衍射透镜的望远镜
成像系统设计奠定了理论基础；
2）提出了基于平面衍射透镜的空间天文望远镜实用化设计方法，采用离轴
反射式后端光学系统避免同轴系统的挡光效应，通过优化设计获得了衍射极限
像质，并利用多重位相衍射原理实现了连续光谱成像带宽，带宽覆盖可见光和
红外全部谱段，该方法和设计结果为未来超大口径（大于 10 米）空间天文望远
镜设计提供了参考；
3）提出了两种基于超表面的宽带位相和偏振调控原理。利用超表面色散调
控实现了超倍频程消色差带宽的位相和偏振转换，在 4 倍频程带宽中获得转换
效率大于 87%消色差偏振转换；提出了通过超薄空间变化和频谱设计的超表面
自旋轨道相互作用，实现了电磁特性的虚拟位相整形，验证结果表明该方法可
使全频段内反射率小于 10%；
107
 微纳结构成像原理和方法研究

4）基于上述宽带位相和偏振调控原理，设计了两种新型超表面成像器件。
提出了一种手性排布的光天线阵列超表面，在可见光波段实现将入射的圆偏振
光转换为携带轨道角动量光束，并通过对单元结构的位相分布进行调制，实现
对出射轨道角动量光束进行聚焦的功能，总能量利用率超过 40%，有望用于集
成光学器件。进一步提出了基于手性排布超表面的反射式聚焦成像原理方法，
总能量利用效率超过 90%，以该超表面器件为主镜设计了长波红外成像系统，
在 8~12μm 波段均达到衍射极限像质，为轻量化红外成像系统设计提供了新的
途径；
5）搭建了显微镜三维光场测试平台，解决了超表面成像面临的中间场成像
测试难题；探索了非规则纳米微纳结构和大矢高多台阶微纳结构制备工艺，完
成精度 20nm 纳米结构和 32 台阶微纳结构加工；获得了平面衍射透镜宽波段成
像实验结果，验证了消色差原理的正确性。
微纳结构虽然出现于十九世纪，但是受限于原理、设计方法和加工能力，
一直以来在成像领域用途并不广泛。随着成像技术向集成化、轻量化、超大口
径发展，传统光学系统面临着诸多瓶颈，而微纳结构器件具有重量轻、设计自
由度高、结构灵活等特点，在成像领域展现出显著的优势，有望为第三代光学
成像技术提供全新的技术途径。本文通过系统研究获得了平面衍射透镜的宽波
段消色差原理，以及超表面的宽带位相调控和成像原理，为微纳结构成像研究
提供了理论和设计方法。然而，目前还有一些问题需要进一步研究。平面衍射
透镜成像宽波段消色差设计光路较长、视场较小，在普通成像领域还难以应用，
需要深入研究平面衍射透镜成像规律，探索更有效的光路模型，缩短光路长度
并增大视场。另外超表面的微纳结构设计可选性极为丰富，目前仅涉及到椭圆
柱形状和金属线形状，下一步需要探索更多结构形式，从中发现更多新奇电磁
现象。
总而言之，利用微纳结构成像具有许多优势，尽管当前研究还处于理论和
实验阶段，存在一些问题尚待解决，但是微纳结构成像展现出的轻量化、集成
化和大口径等特点，对促进未来成像领域发展具有重要意义。

108
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 作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果

作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果

作者简历：
1984 年 1 月 17 日出生于四川彭州。
2002 年 9 月——2006 年 7 月，在北京理工大学光电工程系获得学士学位。
2006 年 9 月——2008 年 7 月，在北京理工大学光电工程系获得硕士学位。
2011 年 9 月——2015 年 7 月，在中国科学院光电技术研究所攻读博士学位。
获奖情况：国家高技术 863 计划年度先进个人，中国科学院光电技术研究所
青年创新人才奖。
工作经历：2008 年 7 月-至今，在中国科学院光电技术研究所工作。

已发表（或正式接受）的学术论文：

就读博士学位期间，共发表 SCI 论文 25 篇。其中第一作者身份发表 SCI 论

文 4 篇（影响因子共计 15.119）
。
[1] Y. H. Guo*, Y. Q. Wang*, M. B. Pu*, Z. Y. Zhao, X. Y. Wu, X. L. Ma, C. T. Wang, L. S.
Yan, X. G. Luo. Dispersion management of anisotropic metamirror for super-octave
bandwidth polarization conversion[J]. Scientific Reports, 2015, 5(8434): 1~7.（并列第一作
者）【影响因子：5.078】
[2] M. B. Pu*, Z. Y. Zhao*, Y. Q. Wang*, X. Li, X. L. Ma, C. G. Hu, C. T. Wang, C. Huang,
and X. G. Luo. Spatially and spectrally engineered spin-orbit interaction for achromatic
virtual shaping[J]. Scientific Reports, 2015, 5(9822): 1~6.（并列第一作者）【影响因子：
5.078】
[3] Y. Q. Wang, X. L. Ma, M. B. Pu, X. Li, C. Huang, W. B. Pan, B. Zhao, J. H. Cui, X. G. Luo.
Transfer of orbital angular momentum through sub-wavelength waveguides[J]. Optics
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 参考文献

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OPTICS LETTERS, 2013, 38(15): 2783~2785

授权和申请的发明专利：

1、罗先刚，赵泽宇，王长涛，王彦钦，黄成，陶兴，杨欢，刘利芹，杨磊
磊，蒲明薄，一种纳米缝隙金属聚焦透镜的制备方法，授权日期：2015.04.22，
专利号：ZL201210365757.1。
2、罗先刚，王彦钦，杨欢，张鸶懿，衍射元件的计算机辅助对心装校装置
及方法，授权日期：2015.04.22，专利号：ZL201310033272.7。
119
 微纳结构成像原理和方法研究

3、罗先刚，王彦钦，王长涛，张鸶懿，无标记深浮雕微透镜阵列与探测器
的对准方法，授权日期：2015.01.07，专利号：ZL201310033860.0。
4、罗先刚，王彦钦，王长涛，赵泽宇，沈同圣，罗云飞，胡承刚，黄成，
杨磊磊，潘思洁，崔建华，赵波，一种纳米激光器激光合束器件的制备方法，申
请日期：2013.08.07，申请号：201310340691.5。
5、罗先刚，赵泽宇，王彦钦，王长涛，基于超构表面波各向异性色散的 XXX
方法，申请日期：2015.02.15，申请号：201518000736.4。
（国防专利）
6、罗先刚，王彦钦，赵泽宇，胡承刚，基于超构表面波改变 Snell 传播定律
的 XXX 器件，申请日期：2015.02.15，申请号：201518000732.6。
（国防专利）
7、罗先刚，王彦钦，赵泽宇，王长涛， 赵承伟，李志炜，大口径轻量化微
纳结构 XXX 系统，申请日期：2015.02.15，申请号：201518000748.7。
（国防专
利）
8、罗先刚，王彦钦，赵泽宇，王长涛， 赵承伟，李志炜，XXX 微纳结构
薄膜成像 XXX，申请日期：2015.02.15，申请号：201518000745.3。
（国防专利）
9、罗先刚，王彦钦，赵泽宇，赵承伟，李志炜，XXX 微纳结构薄膜光学主
镜，申请日期：2015.02.15，申请号：201518000746.8。
（国防专利）
10、罗先刚，赵泽宇，王彦钦，李志炜，赵承伟，XXX 均匀化方法，申请
日期：2015.02.15，申请号：201518000747.2。
（国防专利）
11、罗先刚，赵泽宇，王彦钦，李志炜，赵承伟，XXX 微纳结构光学元件
制备方法，申请日期：2015.02.15，申请号：201518000744.9。
（国防专利）

参加的研究项目及获奖情况：

1、作为骨干参与了国家 973 计划项目“波的衍射极限关键科学问题研究”

（编号 2013CBA01700，起止时间 2013/04-2017/08，在研）
，在项目中负责轻量
化微纳结构成像器件原理和设计方法研究。
2、作为骨干参与了国家 973 计划项目“表面等离子体超分辨成像光刻基础
（编号 2011CB301800，起止时间 2011/01-2013/03，已结题）
研究” ，在项目中负
责表面等离子体成像器件实验研究。
3、
承担了国家 863 计划国防项目
“折衍及 XXX 成像技术”
（编号 20XXX5046，
起止时间 2011/07-2016/03，在研）
，在项目中负责总体方案、微纳结构设计、光
学设计与实验。
4、作为骨干参与了国家 863 计划国防项目“轻量化微结构 XXX 成像技术”
（编号 20XXX5050，起止时间 2011/07-2016/03，在研）
，在项目中负责总体方案
和光学设计。
120
 参考文献

5、获国家高技术 863 计划 2012 年度先进个人。

6、获 2014 年中国科学院光电技术研究所青年创新人才奖。

121